JPS61250601A - 反射防止性を有する光学材料およびその製造方法 - Google Patents
反射防止性を有する光学材料およびその製造方法Info
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- JPS61250601A JPS61250601A JP60091009A JP9100985A JPS61250601A JP S61250601 A JPS61250601 A JP S61250601A JP 60091009 A JP60091009 A JP 60091009A JP 9100985 A JP9100985 A JP 9100985A JP S61250601 A JPS61250601 A JP S61250601A
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、反射防止性に優れ、かつ耐擦禍性を有するプ
ラスチック光透過板およびその製造方法に関する。ざら
に詳しくは、部分イオンビームアシスト法による前記プ
ラスチック光透過板およびその製造方法の技術を提供す
る。
ラスチック光透過板およびその製造方法に関する。ざら
に詳しくは、部分イオンビームアシスト法による前記プ
ラスチック光透過板およびその製造方法の技術を提供す
る。
オフィスオートメーション機器、例えばワードプロセッ
サー（以下ワープロという。）や各種のコンピュータな
どのディスプレイや、ゲーム器、テレビのブラウン管な
どは目に有害な光線が多量に発生しており、長期間見て
いると目が疲れ、健康を害する。このためディスプレー
の前面に光学フィルターを設置し、紫外線や他の有害な
光線を遮蔽することが行われている。
サー（以下ワープロという。）や各種のコンピュータな
どのディスプレイや、ゲーム器、テレビのブラウン管な
どは目に有害な光線が多量に発生しており、長期間見て
いると目が疲れ、健康を害する。このためディスプレー
の前面に光学フィルターを設置し、紫外線や他の有害な
光線を遮蔽することが行われている。
しかし従来技術の光学フィルターは、反射防止膜の密着
性が悪く、長期間使用すると層間剥離が生じ、耐久性に
問題があった。
性が悪く、長期間使用すると層間剥離が生じ、耐久性に
問題があった。
本発明に近い公知例としては、イオンボンバード処理、
高周波イオンプレーティング、真空蒸着などを組み合わ
せて反射防止膜を得る技術がある（特開昭５５−１１０
１２７号公報）。しかしかかる技術もコーテイング膜の
耐久性、再現安定性や多層反射防止加工の品質安定性に
劣るという欠点を有していた。
高周波イオンプレーティング、真空蒸着などを組み合わ
せて反射防止膜を得る技術がある（特開昭５５−１１０
１２７号公報）。しかしかかる技術もコーテイング膜の
耐久性、再現安定性や多層反射防止加工の品質安定性に
劣るという欠点を有していた。
ざらに他の光学材料である、眼鏡のレンズやプラスチッ
ク板ガラスなどにおいても、上記多層の反射防止膜を形
成しているが、同様に層間剥離の問題があった。
ク板ガラスなどにおいても、上記多層の反射防止膜を形
成しているが、同様に層間剥離の問題があった。
本発明は上記従来技術の欠点を改善する技術を提供する
。すなわちプラスチックの透明板に多層の反射防止膜を
、密着強度高く形成し、耐久性に侵れたものとする技術
を提供する。さらには、表面硬度の低いプラスチック材
料であっても、表面にシリカ層を設けて硬度を高め傷が
つきにくい特性を付与する技術を提供する。
。すなわちプラスチックの透明板に多層の反射防止膜を
、密着強度高く形成し、耐久性に侵れたものとする技術
を提供する。さらには、表面硬度の低いプラスチック材
料であっても、表面にシリカ層を設けて硬度を高め傷が
つきにくい特性を付与する技術を提供する。
上記目的を達成するため本発明は下記の構成を有する。
［（１） プラスチック基材の上に耐擦禍性を有する
ハードコート層を設け、その表層に複数層からなる反射
防止膜を設け、かつ該反射防止膜は最外層にＳｉＯ２層
を有し、前記複数層の少なくとも１層は界面がイオンビ
ームにより変性されてなることを特徴とする反射防止性
を有する光学材料。
ハードコート層を設け、その表層に複数層からなる反射
防止膜を設け、かつ該反射防止膜は最外層にＳｉＯ２層
を有し、前記複数層の少なくとも１層は界面がイオンビ
ームにより変性されてなることを特徴とする反射防止性
を有する光学材料。
（２）プラスチック基材の上に耐擦禍性を有するハード
コート層を設け、その表層に複数層からなる反射防止膜
を設け、かつ該反射防止膜の最外層として５ｉ０２層を
設けるに際し、前記複数層を真空蒸着法、または高周波
イオンプレーティング法で形成するとともに、前記複数
層のうち少なくとも１層を、真空蒸着、または高周波イ
オンプレーティングの初期にイオン銃を用いて部分イオ
ンビームアシストすることを特徴とする反射防止性を有
する光学材料の製造方法。」 本発明においては、プラスチック基材の上に耐擦禍性を
有するハードコート層を設けることがまず必要である。
コート層を設け、その表層に複数層からなる反射防止膜
を設け、かつ該反射防止膜の最外層として５ｉ０２層を
設けるに際し、前記複数層を真空蒸着法、または高周波
イオンプレーティング法で形成するとともに、前記複数
層のうち少なくとも１層を、真空蒸着、または高周波イ
オンプレーティングの初期にイオン銃を用いて部分イオ
ンビームアシストすることを特徴とする反射防止性を有
する光学材料の製造方法。」 本発明においては、プラスチック基材の上に耐擦禍性を
有するハードコート層を設けることがまず必要である。
ここでプラスチック基材とは、公知のいかなるものであ
ってもよい。
ってもよい。
ワープロなどのディスプレーの前面に使用するものにあ
っては、原着、または染色により可視光線透過率を２５
〜７０％としたものが好ましい。
っては、原着、または染色により可視光線透過率を２５
〜７０％としたものが好ましい。
目の疲労を減少するためである。
眼鏡用レンズにおいてはいかなる可視光線透過率であっ
てもよい。
てもよい。
また耐擦禍性を有するハードコート層とは、ポリオルガ
ノシロキサン、シリカ、アルミナなどの硬度の高いコー
ティング層、またはアクリル成分を含む層をいう。プラ
スチック製品の表面は一般に傷がつき易いので、これを
改良するためである。
ノシロキサン、シリカ、アルミナなどの硬度の高いコー
ティング層、またはアクリル成分を含む層をいう。プラ
スチック製品の表面は一般に傷がつき易いので、これを
改良するためである。
そして特に好ましくは、ハードコート層はメチルトリメ
トキシシラン、およびビニルトリエトキシシラン、また
はこれらの加水分解物をコーティングした後に加熱縮合
させたポリオルガノシロキサンでおる。
トキシシラン、およびビニルトリエトキシシラン、また
はこれらの加水分解物をコーティングした後に加熱縮合
させたポリオルガノシロキサンでおる。
またハードコート層の好ましい膜厚は、１〜１０ミクロ
ン程度である。
ン程度である。
またアクリル系ハードコート層とは、メタクリル酸など
のアクリル化合物と、ペンタエリスリトール、グリセリ
ンなどの多官能グリコールとのエステル化合物を架橋さ
せたものなどをいう。
のアクリル化合物と、ペンタエリスリトール、グリセリ
ンなどの多官能グリコールとのエステル化合物を架橋さ
せたものなどをいう。
次に本発明においては、前記のハードコート層の表層に
、複数層からなる反射防止膜を設ける。
、複数層からなる反射防止膜を設ける。
光の屈折率の違いを利用して干渉効果を起こし、光の反
射を防止するためである。そして最外層は８１０２層と
することが必要でおる。８１０２層は屈折率が低く、最
外層が低い屈折率のものとなると反射防止効果が最も顕
著なものとなるからである。
射を防止するためである。そして最外層は８１０２層と
することが必要でおる。８１０２層は屈折率が低く、最
外層が低い屈折率のものとなると反射防止効果が最も顕
著なものとなるからである。
前記の複数層からなる反射防止膜とは、反射防止果機能
を有する膜であればいかなるものでおってもよいが、主
成分がＹ２Ｏ３層、ＴｉＯ２層、ＳｉＯ２層の各層を順
次形成し、反射防止膜とする組み合わせは、優れた反射
防止効果を発揮する。
を有する膜であればいかなるものでおってもよいが、主
成分がＹ２Ｏ３層、ＴｉＯ２層、ＳｉＯ２層の各層を順
次形成し、反射防止膜とする組み合わせは、優れた反射
防止効果を発揮する。
そして反射防止効果があると目の障害となる光を有効に
防止する。また前記３層は主成分が前記のとおりであれ
ばよく、効果を大きく減退させない範囲で他に任意の成
分を加えてもよい。
防止する。また前記３層は主成分が前記のとおりであれ
ばよく、効果を大きく減退させない範囲で他に任意の成
分を加えてもよい。
そして前記少なくとも１層の界面がイオンビームにより
変性されていることが必要である。層間剥離を防止し、
界面の密着強度を高めるためである。ここで変性とは、
イオンビーム照射により層間の界面が一体不可分に変化
していることをいう。
変性されていることが必要である。層間剥離を防止し、
界面の密着強度を高めるためである。ここで変性とは、
イオンビーム照射により層間の界面が一体不可分に変化
していることをいう。
強力なイオン照射によっては層間の融合も起こり得る。
また最外層については界面のみをイオンビームの照射に
より処理することが必要で、全体をイオンビーム照射し
ては、表面が荒れて好ましくない。内部に存在する膜に
ついては、全体を照射してもよい。
より処理することが必要で、全体をイオンビーム照射し
ては、表面が荒れて好ましくない。内部に存在する膜に
ついては、全体を照射してもよい。
前記において、Ｙ２Ｏ３層、ＴｉＯ２層、３ｉ０２層の
各層の厚さは、反射防止効果を奏する程度であればいか
なる厚さでもよいが、かかる硬化を顕著に発揮するため
には、Ｙ２Ｏ３層が約λ／４、ＴｉＯ２層が約λ／２、
ＳｉＯ２層が約λ／４の厚さであることが好ましい。た
だしλは実用性から４５０〜６００ｎｍの範囲が好まし
い。
各層の厚さは、反射防止効果を奏する程度であればいか
なる厚さでもよいが、かかる硬化を顕著に発揮するため
には、Ｙ２Ｏ３層が約λ／４、ＴｉＯ２層が約λ／２、
ＳｉＯ２層が約λ／４の厚さであることが好ましい。た
だしλは実用性から４５０〜６００ｎｍの範囲が好まし
い。
次に本発明方法について説明する。
まずプラスチック基材の上に耐擦禍性を有するハードコ
ート層を設ける。ハード−コート層は前記したとおりの
成分を浸漬、刷毛ぬり、スプレー、蒸着法など公知の方
法でコーティングし、加熱手段などで硬化させる。
ート層を設ける。ハード−コート層は前記したとおりの
成分を浸漬、刷毛ぬり、スプレー、蒸着法など公知の方
法でコーティングし、加熱手段などで硬化させる。
次いでその表層に複数層からなる反射防止膜を設ける。
複数層からなる反射防止膜は真空蒸着法、または高周波
イオンプレーティング法で形成する。
イオンプレーティング法で形成する。
そして反射防止膜の最外層どして３ｉ０２層を設ける。
低屈折率による反射防止効果と耐擦禍性を発揮させるた
めである。
めである。
本発明方法においては、前記複数層のうち少なくとも１
層の真空蒸着、または高周波イオンプレーティングの初
期にイオン銃を用いて部分イオンビームアシストする。
層の真空蒸着、または高周波イオンプレーティングの初
期にイオン銃を用いて部分イオンビームアシストする。
イオンビームのエネルギーにより層間の密着強度を高め
るためである。イオンビームアシストは各層で行っても
よいことはもちろんである。
るためである。イオンビームアシストは各層で行っても
よいことはもちろんである。
また各層の表面の汚れを除去して次のコーティング層の
密着強度を更に向上するため、ハードコート層、反射防
止層の上にイオンビームを照射し、次いで真空蒸着、ま
たは高周波イオンプレーティングをじてもよい。
密着強度を更に向上するため、ハードコート層、反射防
止層の上にイオンビームを照射し、次いで真空蒸着、ま
たは高周波イオンプレーティングをじてもよい。
以下図面を用いて説明する。
第１図は本発明の好ましい反射防止性を有する光学材料
の１実施態様の断面を示す。
の１実施態様の断面を示す。
プラスチック基材１の上に耐擦禍性を有するハードコー
ト層２を設け、その表層にＹ２Ｏ３層３、ＴｉＯ２層４
．８１０２層５の各層を順次形成する。３’ 、４’
、５’ は各イオンを照射した部分である。
ト層２を設け、その表層にＹ２Ｏ３層３、ＴｉＯ２層４
．８１０２層５の各層を順次形成する。３’ 、４’
、５’ は各イオンを照射した部分である。
本発明においては、上記の積層をプラスチック基材の１
面または２面に設ける。
面または２面に設ける。
以下実施例により説明する。
実施例１
基材として市販のポリメタクリレート板（三菱レイヨン
株式会社製、商標“アクアライト”ＬＮ−０８４、グレ
ー原着、厚さ約２ｍｍ）を使用した。ハードコート用塗
料としては、特開昭５９−１１４５０１号公報の実施例
１の記載のとおり、ビニルトリエトキシシラン氷酢酸で
加水分解したものと、メチルトリエトキシシランを氷酢
酸で加水分解したものを混合して用いた。この混合溶解
物に硬化剤である酢酸ナトリウムを加え、さらにシリコ
ーン系表面平滑剤を加えて塗料とした。
株式会社製、商標“アクアライト”ＬＮ−０８４、グレ
ー原着、厚さ約２ｍｍ）を使用した。ハードコート用塗
料としては、特開昭５９−１１４５０１号公報の実施例
１の記載のとおり、ビニルトリエトキシシラン氷酢酸で
加水分解したものと、メチルトリエトキシシランを氷酢
酸で加水分解したものを混合して用いた。この混合溶解
物に硬化剤である酢酸ナトリウムを加え、さらにシリコ
ーン系表面平滑剤を加えて塗料とした。
この塗料を基材の表面に２ミクロンの厚さに塗はし、加
熱キュアした。
熱キュアした。
次いでこのハードコート層の上に、イオン銃を用いて、
２００Ｖ、３分間、アルゴンガス９０％、酸素１０％の
ガスでイオンビームクリーニングを行った。次に真空器
械工業株式会社製の真空蒸着装置（ＢＭＧ−８００Ｔ型
）を用いて、真空度５Ｘ１０−５Ｔｏｒｒ、温度９０℃
の条件で、Ｙ２Ｏ３層をλ／４（λ−５５０ｎｍ）の厚
さに蒸着した。
２００Ｖ、３分間、アルゴンガス９０％、酸素１０％の
ガスでイオンビームクリーニングを行った。次に真空器
械工業株式会社製の真空蒸着装置（ＢＭＧ−８００Ｔ型
）を用いて、真空度５Ｘ１０−５Ｔｏｒｒ、温度９０℃
の条件で、Ｙ２Ｏ３層をλ／４（λ−５５０ｎｍ）の厚
さに蒸着した。
次いで真空度を３ｘｌＯ−５Ｔｏｒｒとした以外は前記
と同一の条件でＴｉＯ２層をλ／２の厚さに蒸着した。
と同一の条件でＴｉＯ２層をλ／２の厚さに蒸着した。
蒸着時間は６分間であった。この時初期の１分間、５０
０Ｖの条件、アルゴンガス９０％、酸素１０％のガスで
イオンビームアシストを行なった。
０Ｖの条件、アルゴンガス９０％、酸素１０％のガスで
イオンビームアシストを行なった。
次いでＳｉＯ２層を真空度を１ Ｘ １０−”Ｔｏ ｒ
ｒ約λ／４の厚さに蒸着した。
ｒ約λ／４の厚さに蒸着した。
得られた反射防止性を有する光学材料を＃００００のス
チールウールで５００９の荷重下１．１０Ｏ回往復させ
て擦過テストを行ったが、傷はほとんどつかなかった。
チールウールで５００９の荷重下１．１０Ｏ回往復させ
て擦過テストを行ったが、傷はほとんどつかなかった。
また得られた反射防止性を有する光学材料をワープロ用
光学フィルターとして使用した結果、反射防止機能が優
れるうえ、長期間使用しても層間剥離や、傷がつかず耐
久性に優れたものであった。さらに両面を同じ処理した
ものは、特に好ましいものとなった。
光学フィルターとして使用した結果、反射防止機能が優
れるうえ、長期間使用しても層間剥離や、傷がつかず耐
久性に優れたものであった。さらに両面を同じ処理した
ものは、特に好ましいものとなった。
一方、前記イオンビームアシストをしなかったものはス
チールウールの擦過傷テストで著るしい傷が生じた。光
学フィルターとじの耐久性も好ましくなかった。
チールウールの擦過傷テストで著るしい傷が生じた。光
学フィルターとじの耐久性も好ましくなかった。
実施例２
ビスフェノールＡグリシジルエーテルタイプのレンズ（
ＯＲ−３９＞の表面に、実施例１のハードコート層を設
け、次に実施例１の装置を用いて、ＺｒＯ２層、Ｔａ２
０５層、ＳｉＯ２層の３層をこの順序で真空蒸着によっ
て設けた。Ｚｒｏｚ層は３ｘ１０−５Ｔｏｒｌ）条件で
、λ／４（λ＝５１０ｎｍ）の厚さとした。Ｔａ２０５
層は５Ｘ１０−５ＴＯｒｒの条件で、λ／４の厚さとし
た。Ｓｉｏ２層は１Ｘ１０ Ｔｏｒｒの条件で、λ／
４の厚さとした。ここで５／０２層の蒸着の際、１分３
０秒のうち、初期の３０秒間を５００Ｖの条件でイオン
ビーム照射し、部分アシストした。
ＯＲ−３９＞の表面に、実施例１のハードコート層を設
け、次に実施例１の装置を用いて、ＺｒＯ２層、Ｔａ２
０５層、ＳｉＯ２層の３層をこの順序で真空蒸着によっ
て設けた。Ｚｒｏｚ層は３ｘ１０−５Ｔｏｒｌ）条件で
、λ／４（λ＝５１０ｎｍ）の厚さとした。Ｔａ２０５
層は５Ｘ１０−５ＴＯｒｒの条件で、λ／４の厚さとし
た。Ｓｉｏ２層は１Ｘ１０ Ｔｏｒｒの条件で、λ／
４の厚さとした。ここで５／０２層の蒸着の際、１分３
０秒のうち、初期の３０秒間を５００Ｖの条件でイオン
ビーム照射し、部分アシストした。
得られたレンズは反射防止機能が優れるうえ、反射防止
膜の耐久性に優れ、擦過傷がつきにくいものとなったう
え、汗や化粧品などの付着によっても変質などが起らず
、耐薬品性に優れたものとなった。
膜の耐久性に優れ、擦過傷がつきにくいものとなったう
え、汗や化粧品などの付着によっても変質などが起らず
、耐薬品性に優れたものとなった。
一方イオンビームアシストをしなかったものは、擦過傷
がつき、また汗などに耐する抵抗が弱かった。
がつき、また汗などに耐する抵抗が弱かった。
実施例３
実施例１と同様にＰＭＭＡ板の表面にハードコート層を
設けた。次いでこのハードコート層の上に、高周波イオ
ンプレーティング装置を用いて、真空度１ ｘｌ ０’
Ｔｏ ｒ ｒ、温度９０℃、酸素雰囲気、高周波の振動
電場１３．５６ＭＨｚ、２００Ｗの条件で、導電層とし
てＩｎ２０３（酸化インジウム）とＳＳｎ０２Ｃ化スズ
）との混合物（ＩＴＯという。）をコーティングし、同
時に６００ｖに加速されたアルゴンと酸素の混合ガス（
混合比、アルゴン１０：酸素１）のイオンビームを用い
てイオン銃で照射し、７００人の膜厚のコーティング層
を得た。
設けた。次いでこのハードコート層の上に、高周波イオ
ンプレーティング装置を用いて、真空度１ ｘｌ ０’
Ｔｏ ｒ ｒ、温度９０℃、酸素雰囲気、高周波の振動
電場１３．５６ＭＨｚ、２００Ｗの条件で、導電層とし
てＩｎ２０３（酸化インジウム）とＳＳｎ０２Ｃ化スズ
）との混合物（ＩＴＯという。）をコーティングし、同
時に６００ｖに加速されたアルゴンと酸素の混合ガス（
混合比、アルゴン１０：酸素１）のイオンビームを用い
てイオン銃で照射し、７００人の膜厚のコーティング層
を得た。
次いで反射防止膜として、同装置で二酸化ケイ素膜を３
分間で形成した。このとき初期の１／４の時間をイオン
ビームアシストした。膜厚は９４０人であった。
分間で形成した。このとき初期の１／４の時間をイオン
ビームアシストした。膜厚は９４０人であった。
また基材の表面には、上記のハードコート層を設け、次
に酸化アルミニウム膜、および二酸化ケイ素膜を順次形
成して、表面の硬度化と反射防止機能を付与した。
に酸化アルミニウム膜、および二酸化ケイ素膜を順次形
成して、表面の硬度化と反射防止機能を付与した。
得られたコーティングされた光透過板は、ＩＴＯ層の密
着強度に優れ、長期間使用しても剥離などの問題は−切
なかった。また膜構造が常に一定のものとなり、透明性
、電気特性などの品質安定性に優れ、工業生産的に一定
品質のものを大量生産することができた。電気特性も周
波数１０ＧＨ７における電磁波の透過量は約１０分の１
に減衰することができた。さらにこれをワープロの光学
フィルターとして使用したところ、反射防止機能に優れ
、使用者の目が疲れない点において著るしい効果があっ
た。
着強度に優れ、長期間使用しても剥離などの問題は−切
なかった。また膜構造が常に一定のものとなり、透明性
、電気特性などの品質安定性に優れ、工業生産的に一定
品質のものを大量生産することができた。電気特性も周
波数１０ＧＨ７における電磁波の透過量は約１０分の１
に減衰することができた。さらにこれをワープロの光学
フィルターとして使用したところ、反射防止機能に優れ
、使用者の目が疲れない点において著るしい効果があっ
た。
また表面の硬度が高く、傷のつきにくいものであった。
本発明は上記のとおりの技術であるので、プラスチック
であっても、反射防止機能に優れ、かつ擦過や薬品に対
して強いものとすることができる。
であっても、反射防止機能に優れ、かつ擦過や薬品に対
して強いものとすることができる。
また長期間使用しても層間剥離などがなく、耐久性に優
れたものとすることができる。従って光学フィルターや
レンズ、パネル、プラスチック板ガラスなど、多くの用
途において有価値でおる。
れたものとすることができる。従って光学フィルターや
レンズ、パネル、プラスチック板ガラスなど、多くの用
途において有価値でおる。
第１図は本発明の好ましい反射防止性を有する光学材料
の１実施態様の断面を示す。 １；プラスチック基材、 ２；耐凍禍性を有するハードコート層、３：Ｙ２Ｏ３層
４：ＴｉＯ２層 ５；ＳｉＯ２層 ３’ 、４’ 、５’ は各々イオンを照射した部分。
の１実施態様の断面を示す。 １；プラスチック基材、 ２；耐凍禍性を有するハードコート層、３：Ｙ２Ｏ３層
４：ＴｉＯ２層 ５；ＳｉＯ２層 ３’ 、４’ 、５’ は各々イオンを照射した部分。
Claims (6)
- （１）プラスチック基材の上に耐擦禍性を有するハード
コート層を設け、その表層に複数層からなる反射防止膜
を設け、かつ該反射防止膜は最外層にＳｉＯ＿２層を有
し、前記複数層の少なくとも１層は界面がイオンビーム
により変性されてなることを特徴とする反射防止性を有
する光学材料。 - （２）複数層からなる反射防止膜が、主成分Ｙ＿２Ｏ＿
３層、ＴｉＯ＿２層、ＳｉＯ＿２層の３層からなること
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止
性を有する光学材料。 - （３）Ｙ＿２Ｏ＿３層が約λ／４、ＴｉＯ＿２層が約λ
／２、ＳｉＯ＿２層が約λ／４の厚さであることを特徴
とする特許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性を有
する光学材料（ただしλは４５０〜６００ｎｍの範囲を
いう）。 - （４）ハードコート層が有機ポリシロキサンを含む層で
あることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の
反射防止性を有する光学材料。 - （５）基材が着色されたものであることを特徴とする特
許請求の範囲第（１）項記載の反射防止性を有する光学
材料。 - （６）プラスチック基材の上に耐擦禍性を有するハード
コート層を設け、その表層に複数層からなる反射防止膜
を設け、かつ該反射防止膜の最外層としてＳｉＯ＿２層
を設けるに際し、前記複数層を真空蒸着法、または高周
波イオンプレーティング法で形成するとともに、前記複
数層のうち少なくとも１層を、真空蒸着、または高周波
イオンプレーティングの初期にイオン銃を用いて部分イ
オンビームアシストすることを特徴とする反射防止性を
有する光学材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60091009A JPS61250601A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 反射防止性を有する光学材料およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60091009A JPS61250601A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 反射防止性を有する光学材料およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61250601A true JPS61250601A (ja) | 1986-11-07 |
| JPH0552921B2 JPH0552921B2 (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=14014519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60091009A Granted JPS61250601A (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 | 反射防止性を有する光学材料およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61250601A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63113401A (ja) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光学薄膜を有するプラスチツク物品の製法 |
| JPS6480904A (en) * | 1987-09-22 | 1989-03-27 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Transparent plate stuck with conductive antireflection film |
| JPH0578508A (ja) * | 1992-02-13 | 1993-03-30 | Toray Ind Inc | 反射防止効果を有するプラスチツク光学物品の製造方法 |
| JPH05107402A (ja) * | 1991-10-17 | 1993-04-30 | Hoya Corp | 反射防止膜を有する光学部材 |
| US7175878B2 (en) | 2000-11-28 | 2007-02-13 | Essilor International | Cold antireflection layer deposition process |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0669536A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-03-11 | Nippondenso Co Ltd | 光位置検出装置の製造方法 |
Citations (7)
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| JPS6029702A (ja) * | 1983-07-29 | 1985-02-15 | Seiko Epson Corp | プラスチツクレンズ |
-
1985
- 1985-04-30 JP JP60091009A patent/JPS61250601A/ja active Granted
Patent Citations (7)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0552921B2 (ja) | 1993-08-06 |
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