JPH0646540B2 - カラ−陰極線管の光吸収膜の形成方法 - Google Patents
カラ−陰極線管の光吸収膜の形成方法Info
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- JPH0646540B2 JPH0646540B2 JP18595187A JP18595187A JPH0646540B2 JP H0646540 B2 JPH0646540 B2 JP H0646540B2 JP 18595187 A JP18595187 A JP 18595187A JP 18595187 A JP18595187 A JP 18595187A JP H0646540 B2 JPH0646540 B2 JP H0646540B2
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- JP
- Japan
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- glass panel
- cathode ray
- ray tube
- film
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はカラー陰極線管の蛍光面における光吸収膜の
形成方法に関するものである。
形成方法に関するものである。
[従来の技術] 現在、カラー陰極線管の蛍光面は、たとえばグラフアイ
ト膜などの光吸収膜により、蛍光体の発光面積を限定し
て、蛍光面のコントラストを向上させたブラツクマトリ
ツクス蛍光面が採用されている。このブラツクマトリツ
クス蛍光面の製造方法の一例を説明する。
ト膜などの光吸収膜により、蛍光体の発光面積を限定し
て、蛍光面のコントラストを向上させたブラツクマトリ
ツクス蛍光面が採用されている。このブラツクマトリツ
クス蛍光面の製造方法の一例を説明する。
まず、第2図(a)の蛍光面を形成するガラスパネル(1)の
内面(1a)を、苛性ソーダと弗化アンモニウムにより洗浄
し、この洗浄後、純水を使用してすすぎ、乾燥する。時
により、この乾燥前にごく薄いポリビニールアルコール
の溶液を吹きつけて、乾燥させ、プレコート膜の形成を
行なうことがある。ついで、たとえばポリビニールアル
コールと重クロム酸塩を主成分とするレジスト溶液など
の光感光性樹脂を回転塗布法により塗布する。このレジ
スト溶液を乾燥させて、ホトレジスト膜(2)を形成す
る。
内面(1a)を、苛性ソーダと弗化アンモニウムにより洗浄
し、この洗浄後、純水を使用してすすぎ、乾燥する。時
により、この乾燥前にごく薄いポリビニールアルコール
の溶液を吹きつけて、乾燥させ、プレコート膜の形成を
行なうことがある。ついで、たとえばポリビニールアル
コールと重クロム酸塩を主成分とするレジスト溶液など
の光感光性樹脂を回転塗布法により塗布する。このレジ
スト溶液を乾燥させて、ホトレジスト膜(2)を形成す
る。
つぎの露光工程では、ガラスパネル(1)に色選択電極と
してのシヤドウマスク(3)を装着し、補正レンズ(4)、光
量調整フイルタ(5)などを介して、シヤツタ(7)の開閉に
よつて、水銀ランプ(6)で一定時間、蛍光体が形成され
るべき位置を順次露光して、ホトレジスト膜(2)に潜像
を形成する。
してのシヤドウマスク(3)を装着し、補正レンズ(4)、光
量調整フイルタ(5)などを介して、シヤツタ(7)の開閉に
よつて、水銀ランプ(6)で一定時間、蛍光体が形成され
るべき位置を順次露光して、ホトレジスト膜(2)に潜像
を形成する。
つぎに、現像処理して上記蛍光体を被着すべき位置に、
第2図(b)に示すように、レジスト膜パターン(2a)であ
るレジストドツトまたはレジストストライプを形成す
る。このレジスト膜パターン(2a)を乾燥した後、たとえ
ばグラフアイト溶液などの光吸収性物質の溶液をレジス
ト膜パターン(2a)の上に塗布し、乾燥させてグラフアイ
ト膜(9)を形成する。
第2図(b)に示すように、レジスト膜パターン(2a)であ
るレジストドツトまたはレジストストライプを形成す
る。このレジスト膜パターン(2a)を乾燥した後、たとえ
ばグラフアイト溶液などの光吸収性物質の溶液をレジス
ト膜パターン(2a)の上に塗布し、乾燥させてグラフアイ
ト膜(9)を形成する。
この乾燥後、グラフアイト膜(9)を充分乾燥、加熱した
後、たとえば10%過酸化水素水などの酸化剤をガラス
パネル(1)内面に注入して、上記レジスト膜パターン(2
a)を化学的に分解する。化学的に分解されたレジスト膜
パターン(2a)およびこの上に塗布されたグラフアイト膜
(9)は、つぎの強力な現像工程でガラスパネル(1)よりは
がれる。その結果、第2図(c)のように、蛍光体を被着
発光させる位置以外に上記グラフアイト膜(9)が残るこ
とになり、残つたグラフアイト膜(9)が光吸収膜として
のブラツクストライプ(9a)となる。
後、たとえば10%過酸化水素水などの酸化剤をガラス
パネル(1)内面に注入して、上記レジスト膜パターン(2
a)を化学的に分解する。化学的に分解されたレジスト膜
パターン(2a)およびこの上に塗布されたグラフアイト膜
(9)は、つぎの強力な現像工程でガラスパネル(1)よりは
がれる。その結果、第2図(c)のように、蛍光体を被着
発光させる位置以外に上記グラフアイト膜(9)が残るこ
とになり、残つたグラフアイト膜(9)が光吸収膜として
のブラツクストライプ(9a)となる。
さらに、ガラスパネル(1)のスカート部に被着された、
不必要な領域のグラフアイト膜(9)は、フツ化アンモニ
ウムの水溶液でガラス面をエツチングすることによつて
除去整形され、最後に水洗、乾燥を行つてブラツクマト
リツクスの形成を完了する。
不必要な領域のグラフアイト膜(9)は、フツ化アンモニ
ウムの水溶液でガラス面をエツチングすることによつて
除去整形され、最後に水洗、乾燥を行つてブラツクマト
リツクスの形成を完了する。
この後、上記レジストストライプ(2a)の形成と同じよう
に、3原色すなわち緑,青,赤の各蛍光体スラリーにつ
いて塗布,露光,現像の工程を繰り返し行なつて、第2
図(d)に示すように、3原色蛍光体ストライプ(10)の被
着を完了した蛍光面を形成する。なお、上記各工程は、
ガラスパネル(1)を固定するキヤリアをループ状にライ
ン化した製造工程に、所定のサイクルタイムで順次移動
されてなされる。
に、3原色すなわち緑,青,赤の各蛍光体スラリーにつ
いて塗布,露光,現像の工程を繰り返し行なつて、第2
図(d)に示すように、3原色蛍光体ストライプ(10)の被
着を完了した蛍光面を形成する。なお、上記各工程は、
ガラスパネル(1)を固定するキヤリアをループ状にライ
ン化した製造工程に、所定のサイクルタイムで順次移動
されてなされる。
たとえば、第3図に示すガラスパネル(1)の内面(1a)の
ガラスエツチング剤による洗浄工程も同様であり、ガラ
スパネル(1)がキヤリア(60)に固定されてなされる。各
洗浄工程は、通常7ないし8ポジシヨンにてなされ、一
例を第4図に示す。つまり、各洗浄ポジシヨンでは、第
3図の薬液タンクまたは純水タンク(61)からポンプ(62)
で加圧された薬液または純水(63)などの洗浄液が数個の
ノズル(64)から短時間に噴射されガラスパネル(1)の内
面(1a)が温水(73)、苛性ソーダ(71)、フツ酸素(72)など
の溶液により順次洗浄される。
ガラスエツチング剤による洗浄工程も同様であり、ガラ
スパネル(1)がキヤリア(60)に固定されてなされる。各
洗浄工程は、通常7ないし8ポジシヨンにてなされ、一
例を第4図に示す。つまり、各洗浄ポジシヨンでは、第
3図の薬液タンクまたは純水タンク(61)からポンプ(62)
で加圧された薬液または純水(63)などの洗浄液が数個の
ノズル(64)から短時間に噴射されガラスパネル(1)の内
面(1a)が温水(73)、苛性ソーダ(71)、フツ酸素(72)など
の溶液により順次洗浄される。
[発明が解決しようとする問題点] 上記光吸収膜の形成方法では、第5図におけるガラスパ
ネル(1)の内面(1a)の拡大図に示すように、ブラツクス
トライプ(9a)に不均質な部分つまり欠損(81)が生じ、製
品の品質と製造工程の歩留を大幅に低下させる。
ネル(1)の内面(1a)の拡大図に示すように、ブラツクス
トライプ(9a)に不均質な部分つまり欠損(81)が生じ、製
品の品質と製造工程の歩留を大幅に低下させる。
この欠損(81)の原因を詳細に分析すると、製造工程に原
因の1つがあると考えられ、種々の実験、検討を行つ
た。その結果、ガラスパネル(1)の内面(1a)に始めから
付着している異物があり、上記洗浄工程では除去できな
い異物があることを発見した。この対策として、ガラス
パネル(1)の内面(1a)を柔らかいスポンジまたは水を含
ませたセーム皮を圧力をかけて拭くことにより、除去さ
れることを見い出した。これを実施することにより、上
記欠損(81)のうち異物に起因するものは、かなり減少す
る。しかし、このような人手による作業は、陰極線管の
製造性が低下するばかりでなく、作業のばらつきから、
除去が不充分であつたり、あるいは、逆に内面に傷を発
生させたりするため、品質と歩留りが十分に向上しない
という問題があつた。
因の1つがあると考えられ、種々の実験、検討を行つ
た。その結果、ガラスパネル(1)の内面(1a)に始めから
付着している異物があり、上記洗浄工程では除去できな
い異物があることを発見した。この対策として、ガラス
パネル(1)の内面(1a)を柔らかいスポンジまたは水を含
ませたセーム皮を圧力をかけて拭くことにより、除去さ
れることを見い出した。これを実施することにより、上
記欠損(81)のうち異物に起因するものは、かなり減少す
る。しかし、このような人手による作業は、陰極線管の
製造性が低下するばかりでなく、作業のばらつきから、
除去が不充分であつたり、あるいは、逆に内面に傷を発
生させたりするため、品質と歩留りが十分に向上しない
という問題があつた。
この発明は上記の点に鑑みてなされたもので、製造性の
低下を招くおそれが少なく、かつ、カラー陰極線管の品
質と歩留とを大幅に向上させ得る光吸収膜の形成方法を
提供することを目的としている。
低下を招くおそれが少なく、かつ、カラー陰極線管の品
質と歩留とを大幅に向上させ得る光吸収膜の形成方法を
提供することを目的としている。
[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成するために、この発明は、まず、少なく
とも、上記ホトレジスト膜を形成する前に、圧力を有す
る噴射水を、上記ガラスパネルの内面に噴射する工程を
設けている。上記噴射水の圧力を60kg/cm2以上として
いる。
とも、上記ホトレジスト膜を形成する前に、圧力を有す
る噴射水を、上記ガラスパネルの内面に噴射する工程を
設けている。上記噴射水の圧力を60kg/cm2以上として
いる。
[作用] この発明によれば、ガラスパネルの内面は、60kg/cm2
以上の圧力を有する噴射水によつて洗浄されるから、異
物が除去される。
以上の圧力を有する噴射水によつて洗浄されるから、異
物が除去される。
また、噴射水によるものであるから、手作業と異なり、
製造性の低下を招くおそれが少なく、かつ、ガラスパネ
ルの内面を傷つけることもない。また、一定の圧力で洗
浄できるから、除去が不十分になるおそれがない。
製造性の低下を招くおそれが少なく、かつ、ガラスパネ
ルの内面を傷つけることもない。また、一定の圧力で洗
浄できるから、除去が不十分になるおそれがない。
[実施例] 以下、この発明の一実施例を図面にしたがつて説明す
る。
る。
第1図は洗浄装置の概略構成図である。キヤリア(60)
は、ガラスパネル(1)を鉛直線Aに対し角度θで支持
し、モータ(65)により回転される。したがつて、ガラス
パネル(1)は一定速度で回転する。なお、角度θはたと
えば75゜であるが、0゜であつてもよい。
は、ガラスパネル(1)を鉛直線Aに対し角度θで支持
し、モータ(65)により回転される。したがつて、ガラス
パネル(1)は一定速度で回転する。なお、角度θはたと
えば75゜であるが、0゜であつてもよい。
(11)はポンプで、メインタンク(12)内の洗浄水(13)を、
第2のフイルタ(14)および配管(15)を介して吸入し、ノ
ズル(16)から噴射させるものである。(17)は洗浄水の補
給配管、(18)は洗浄水の温度を15℃ないし40℃に保
つためのヒーターである。なお、この温度は60℃ない
し70℃近くになるとポンプ(11)などの耐久性上好まし
くない。
第2のフイルタ(14)および配管(15)を介して吸入し、ノ
ズル(16)から噴射させるものである。(17)は洗浄水の補
給配管、(18)は洗浄水の温度を15℃ないし40℃に保
つためのヒーターである。なお、この温度は60℃ない
し70℃近くになるとポンプ(11)などの耐久性上好まし
くない。
上記キヤリア(60)の回転の中心線Cを含む断面におい
て、ノズル(16)からの高圧噴射水(13A)の噴角θ1は2
5゜に設定されている。このノズル(16)は、ガラスパネ
ル(1)の内面(1a)の中心(1b)ら一方の端部(1c)までの範
囲に高圧噴射水(13A)を噴射する。したがつて、ガラス
パネル(1)が1回転することにより、ガラスパネル(1)の
内面(1a)全体に高圧噴射水(13A)が噴射される。ここ
で、上記噴角θ1は15゜ないし45゜が好ましい。そ
の理由は、噴角を15゜よりも小さくすると上記中心(1
b)から端部(1c)までの範囲を噴射できず、一方、噴角を
45゜よりも大きくすると高圧噴射水(13A)のガラスパ
ネル(1)に対する面圧が小さくなりすぎるからである。
て、ノズル(16)からの高圧噴射水(13A)の噴角θ1は2
5゜に設定されている。このノズル(16)は、ガラスパネ
ル(1)の内面(1a)の中心(1b)ら一方の端部(1c)までの範
囲に高圧噴射水(13A)を噴射する。したがつて、ガラス
パネル(1)が1回転することにより、ガラスパネル(1)の
内面(1a)全体に高圧噴射水(13A)が噴射される。ここ
で、上記噴角θ1は15゜ないし45゜が好ましい。そ
の理由は、噴角を15゜よりも小さくすると上記中心(1
b)から端部(1c)までの範囲を噴射できず、一方、噴角を
45゜よりも大きくすると高圧噴射水(13A)のガラスパ
ネル(1)に対する面圧が小さくなりすぎるからである。
上記中心(1b)に当接する高圧噴射水(13A)と、この中心
(1b)におけるガラスパネル(1)の内面(1a)の接線とのな
す角度θ2は、たとえば20゜ないし45゜の範囲に設
定されるのが好ましい。その理由は、角度θ2を20゜
よりも小さくすると上記面圧が小さくなりすぎ、一方、
角度θ2を45゜よりも大きくすると噴射範囲が狭くな
りすぎるからである。
(1b)におけるガラスパネル(1)の内面(1a)の接線とのな
す角度θ2は、たとえば20゜ないし45゜の範囲に設
定されるのが好ましい。その理由は、角度θ2を20゜
よりも小さくすると上記面圧が小さくなりすぎ、一方、
角度θ2を45゜よりも大きくすると噴射範囲が狭くな
りすぎるからである。
上記ノズル(16)からの噴射圧力は、60kg/cm2以上に設
定されている。その理由は、60kg/cm2未満にすると十
分な洗浄効果が得られないからである。
定されている。その理由は、60kg/cm2未満にすると十
分な洗浄効果が得られないからである。
上記噴射圧力は、特に100kg/cm2ないし110kg/cm2の範囲
が好ましい。その理由は、100kg/cm2以上では洗浄効果
にあまり差異が生じない一方で、ポンプ(11)の耐久性が
低下するからである。
が好ましい。その理由は、100kg/cm2以上では洗浄効果
にあまり差異が生じない一方で、ポンプ(11)の耐久性が
低下するからである。
(19)はカバーで、高圧噴射水(13A)の飛散を防止して、
高圧噴射水(13A)の回収率を向上させるとともに、作業
環境の低下を防止するものである。(20)はサブタンク
で、上記カバー(19)の排水口(19a)から落下する洗浄水
(13)を回収するものである。このサブタンク(20)は、第
1のフイルタ(21)を上部に有しており、ガラスパネル
(1)から除去された異物を濾過して取り除く。このサブ
タンク(20)は上記メインタンク(12)に連通しており、メ
インタンク(12)に浄化した洗浄水(13)を供給する。
高圧噴射水(13A)の回収率を向上させるとともに、作業
環境の低下を防止するものである。(20)はサブタンク
で、上記カバー(19)の排水口(19a)から落下する洗浄水
(13)を回収するものである。このサブタンク(20)は、第
1のフイルタ(21)を上部に有しており、ガラスパネル
(1)から除去された異物を濾過して取り除く。このサブ
タンク(20)は上記メインタンク(12)に連通しており、メ
インタンク(12)に浄化した洗浄水(13)を供給する。
つぎに、上記構成の動作について説明する。
まず、ガラスパネル(1)がキヤリア(60)により、この洗
浄ポジシヨンに搬送される。この搬送後、モータ(65)が
回転して、ガラスパネル(1)が回転されるとともに、ポ
ンプ(11)が作動して、ガラスパネル(1)の内面(1a)に高
圧噴射水(13A)が噴射される。これによりガラスパネル
(1)の内面(1a)が洗浄されて、異物が除去される。除去
された異物は、第1のフイルタ(21)で取り除かれ、浄化
された洗浄水(13)がメインタンク(12)に供給される。
浄ポジシヨンに搬送される。この搬送後、モータ(65)が
回転して、ガラスパネル(1)が回転されるとともに、ポ
ンプ(11)が作動して、ガラスパネル(1)の内面(1a)に高
圧噴射水(13A)が噴射される。これによりガラスパネル
(1)の内面(1a)が洗浄されて、異物が除去される。除去
された異物は、第1のフイルタ(21)で取り除かれ、浄化
された洗浄水(13)がメインタンク(12)に供給される。
上記洗浄後、ガラスパネル(1)は次の洗浄工程に移送さ
れ、従来の工程どおり、苛性アルカリフツ酸または酸性
フツ化アンモニウムなどのガラスエツチング剤により洗
浄される。その後の工程は従来例で述べたとおりであ
り、その説明を省略する。
れ、従来の工程どおり、苛性アルカリフツ酸または酸性
フツ化アンモニウムなどのガラスエツチング剤により洗
浄される。その後の工程は従来例で述べたとおりであ
り、その説明を省略する。
上記構成において、この発明は、高圧噴射水(13A)によ
つて洗浄するから、手作業と異なり、洗浄の作業性が良
いので、陰極線管の製造性が低下するおそれがない。ま
た、手作業でないから、洗浄状態にばらつきの生じるお
それがないため、異物の除去が不十分であつたり、ある
いは、内面(1a)に傷をつけるおそれもない。したがつ
て、陰極線管の品質と歩留とが大幅に向上する。
つて洗浄するから、手作業と異なり、洗浄の作業性が良
いので、陰極線管の製造性が低下するおそれがない。ま
た、手作業でないから、洗浄状態にばらつきの生じるお
それがないため、異物の除去が不十分であつたり、ある
いは、内面(1a)に傷をつけるおそれもない。したがつ
て、陰極線管の品質と歩留とが大幅に向上する。
ところで、この実施例では、高圧噴射水(13A)の噴角θ
1が、ガラスパネル(1)の中心(1b)から一方の端部(1c)
までの範囲に設定されている。したがつて、ガラスパネ
ル(1)をモータ(65)で回転させることにより、ガラスパ
ネル(1)の内面(1a)を自動的に洗浄することができる。
1が、ガラスパネル(1)の中心(1b)から一方の端部(1c)
までの範囲に設定されている。したがつて、ガラスパネ
ル(1)をモータ(65)で回転させることにより、ガラスパ
ネル(1)の内面(1a)を自動的に洗浄することができる。
ところで、この実施例では、上記エツチング剤による洗
浄前に高圧噴射水(13A)による洗浄を行つた。しかし、
この発明においては、高圧噴射水(13A)による洗浄を、
少なくともホトレジスト膜を形成する前に行えば良い。
浄前に高圧噴射水(13A)による洗浄を行つた。しかし、
この発明においては、高圧噴射水(13A)による洗浄を、
少なくともホトレジスト膜を形成する前に行えば良い。
なお、ノズル(16)の数や、洗浄水(13)の成分は、適宜設
定すれば良いことはいうまでもない。
定すれば良いことはいうまでもない。
[発明の効果] 以上説明したように、この発明によれば、少なくともホ
トレジスト膜を形成する前に、60kg/cm2以上の高圧噴
射水によりガラスパネルの内面を洗浄するから、製造性
の低下を招くことなく、カラー陰極線管の品質と歩留と
を大幅に向上させ得る。
トレジスト膜を形成する前に、60kg/cm2以上の高圧噴
射水によりガラスパネルの内面を洗浄するから、製造性
の低下を招くことなく、カラー陰極線管の品質と歩留と
を大幅に向上させ得る。
第1図はこの発明に係る洗浄装置の概略構成図、第2図
(a)ないし第2図(d)は従来のブラツクマトリツクス蛍光
面の製造工程を示す縦断面図、第3図は洗浄装置の概略
構成図、第4図は洗浄工程を示すブロツク図、第5図は
従来の欠点を示すガラスパネルの平面図である。 (1)……ガラスパネル、(1a)……内面、(2)……ホトレジ
スト膜、(2a)……レジスト膜パターン、(9a)……光吸収
膜(ブラツクストライプ)、(13A)……(高圧)噴射
水。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
(a)ないし第2図(d)は従来のブラツクマトリツクス蛍光
面の製造工程を示す縦断面図、第3図は洗浄装置の概略
構成図、第4図は洗浄工程を示すブロツク図、第5図は
従来の欠点を示すガラスパネルの平面図である。 (1)……ガラスパネル、(1a)……内面、(2)……ホトレジ
スト膜、(2a)……レジスト膜パターン、(9a)……光吸収
膜(ブラツクストライプ)、(13A)……(高圧)噴射
水。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 【請求項1】カラー陰極線管のガラスパネルの内面をガ
ラスエツチング剤により洗浄する工程と、光感光性樹脂
からなるホトレジスト膜を形成する工程と、このホトレ
ジスト膜を露光、現像してレジスト膜パターンを形成す
る工程と、このレジスト膜パターンの形成されたガラス
パネルの内面に、光吸収性物質の溶液を塗布する工程
と、上記ホトレジスト膜を分解除去して光吸収膜を形成
する工程とを有するカラー陰極線管の光吸収膜の形成方
法において、少なくとも上記ホトレジスト膜を形成する
前に、60kg/cm2以上の圧力を有する噴射水を上記ガラ
スパネルの内面に噴射する工程を有することを特徴とす
るカラー陰極線管の光吸収膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18595187A JPH0646540B2 (ja) | 1987-07-24 | 1987-07-24 | カラ−陰極線管の光吸収膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18595187A JPH0646540B2 (ja) | 1987-07-24 | 1987-07-24 | カラ−陰極線管の光吸収膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6430139A JPS6430139A (en) | 1989-02-01 |
| JPH0646540B2 true JPH0646540B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=16179731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18595187A Expired - Fee Related JPH0646540B2 (ja) | 1987-07-24 | 1987-07-24 | カラ−陰極線管の光吸収膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0646540B2 (ja) |
-
1987
- 1987-07-24 JP JP18595187A patent/JPH0646540B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6430139A (en) | 1989-02-01 |
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