JPH0647667B2 - 近赤外線吸収組成物 - Google Patents

近赤外線吸収組成物

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JPH0647667B2
JPH0647667B2 JP61028711A JP2871186A JPH0647667B2 JP H0647667 B2 JPH0647667 B2 JP H0647667B2 JP 61028711 A JP61028711 A JP 61028711A JP 2871186 A JP2871186 A JP 2871186A JP H0647667 B2 JPH0647667 B2 JP H0647667B2
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Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は近赤外線を吸収する近赤外線吸収組成物に関す
る。さらに詳しくは、波長が720nm以上の近赤外光
を吸収する光学フイルターあるいは近赤外光を光源とし
た記録層等に有用な近赤外線吸収組成物に関する。
「従来の技術」 720nmの波長の遠赤色光ないし近赤外光を選択的に
吸収する組成物には各種の用途が考えられ、従前より強
く要望されていたが、今まで適当なものが得られなかつ
た。従来の赤外線吸収組成物の用途の例を以下に説明す
る。
赤外感光性の感光材料用セーフライトフイルター 近年ハロゲン化銀感光材料(以下「感材」という)とし
て、波長700nm以上の遠赤色光ないし近赤外光に感
光性を有するものが多数開発されて来ている。これには
白黒あるいはカラーを問わず、また通常型はもちろんイ
ンスタント型あるいは熱現像型のものも含めハロゲン化
銀感材に赤外感光性を具備せしめ、資源調査などに供す
る疑似カラー写真としたり、あるいはまた、半導体レー
ザーや赤外域に発光するダイオードを使つて露光するよ
うにしたものがある。
従来はこれらの感材に適切なセーフライトフイルターは
開発されていなかつた。セーフライトフイルターとして
は、近赤外部の光を吸収し、可視域を実質的に透過する
フイルターの開発が望まれている。
植物の生育の制御 種子の発芽、茎の伸長、葉の展開、花芽や塊茎の形成な
ど、植物体の生育と分化に関するいわゆる形態形成が光
によつて影響されることは古くから知られており、光形
態形成作用として研究されている。
700nm以上の波長の光を選択的に吸収するプラスチ
ツクフイルムが得られれば、例えば、特定の時期に作物
を近赤外線吸収フイルムで被覆し、波長700nm以上
の光を遮断することによつて出穂時期を遅らせたり、成
長を制御する効果が期待される(稲田勝美「植物の化学
調節」第6巻、第1号(1971年)参照)。
熱線の遮断 太陽の輻射エネルギーのうち波長800nm以上の近赤
外および赤外領域の光は物体に吸収されて熱エネルギー
に転化する。しかも、そのエネルギー分布の大部分は波
長800〜2000nmの近赤外部に集中している。従
つて、近赤外線を選択的に吸収するフイルムは太陽熱の
遮断に極めて有効であり、可視光を十分とり入れなが
ら、室内の温度の上昇を抑制することができる。これ
は、園芸用温室の他、住宅、事務所、店舗、自動車ある
いは航空機等の窓にも応用できる。これらの場合、可視
光の透過性は非常に重要なことである。
従来、熱線の遮断用としてはプラスチツクフイルムの表
面にごく薄い金属層を蒸着したものあるいは、ガラス中
な無機化合物、たとえばFeOを分散させたものが使用
されている。
人間の目の組織に有害な赤外線カツトフイルター 太陽光中に含まれる赤外線または溶接の際に放射される
光線中などに含まれる赤外線は、人間の目の組織に対し
て、有害な効果を有する。赤外線カツトフイルターの主
要の用途の一つは、このような有害な赤外線を含む光線
から人間の目を保護する眼鏡として用いることである。
たとえば、サングラス、溶接者用保護眼鏡などである。
この場合も可視光の実質的な透過性は非常に重要なこと
である。
半導体受光素子の赤外線カツトフイルター カメラなどの自動露出計に用いられている光検出装置の
受光素子としては、現在、主にシリコンフオトダイオー
ド(以下、SPDという)が使用されている。
露出計用としてSPDを使用するためには人間の目には
感じない赤外領域の光をカツトし、SPDの分光感度曲
線を比視感度曲線に相似させるようにする必要がある。
特に波長700〜1100nmの光に対しては、SPD
の出力が大きく、かつこの領域の光は目に感じないので
露出計の誤動作の一因となる。そのために可視部では吸
収が少なく、700〜1100nmの赤外部を全域にわ
たつて吸収する赤外吸収プラスチツクフイルムを用いる
ことができれば、可視領域の光透過率が大きく、SPD
の出力が大きくなり、従つて露出計の性能を著しく向上
し得ることが明らかである。
従来、この種の光検出装置としては、無機の赤外線吸収
剤を用いたガラスの赤外線カツトフイルターがSPDの
前面にとり付けられ、実用に供されている。
レーザー記録層 赤外線を吸収して熱に変換する作用を利用してレーザー
光を用いて記録する記録層、例えば光デイスクの記録層
やレーザーによる感熱発色記録体に使用される。
例えば特開昭58−214162号、特開昭58−21
7391号、特開昭58−125246号各公報にはピ
リリウム系色素を含有した記録層が提示されている。
インクジエツトプリンタ用インク インクジエツトプリンタ用インクにエチルセロソルブの
ような溶媒と、赤外線吸収剤としてこの有機溶媒に溶け
る色素が用いられ、プリンタで描画した後画像を波長7
40〜900nmの赤外線の光源を用いる光学的読取装
置で読み取る方法に使用される。従来このようなインク
ジエツトプリンタ用赤外線吸収剤としてはニグロシン、
クロム錯塩など特開昭56−135568号に開示され
ている化合物が用いられている。
更にバーコード用インク 感光材のアンチハレーシ
ヨン剤 サウンドトラツク用赤外線吸収色素を形成す
る赤外カプラー等の用途も挙げられる。
「発明が解決しようとする問題点」 しかし従来の一般的な有機染料系の赤外線吸収剤は吸収
特性が長波長域につれて不安定となり耐光性、耐熱性が
小さく実用上満足すべきものはほとんどなかつた。
また錯体を赤外線吸収剤として用いる場合は、耐光性、
耐熱性が良いものの有機溶媒への溶解度が不足し、これ
が薄層のプラスチツクフイルムを作成する際に大きな欠
点となつていた。
すなわち、先に述べた如き用途は例えばSPD用フイル
ターとしては、極めて薄いフイルムで赤外線の吸収効率
の良いフイルムが望まれるが、そのためには、樹脂中に
多量の赤外線吸収剤が分散されねばならず、有機溶媒に
対する溶解度の小さい赤外線吸収剤はその目的を満足さ
せることができなかつた。
したがつて本発明の目的は第1に、有機溶媒への溶解度
が高い近赤外線吸収組成物を提供することである。
第2に、有機溶媒への溶解度が高く、かつプラスチツク
フイルムとの相溶性のよい近赤外線吸収組成物を提供す
ることである。第3に、有機溶媒への溶解度が高く、か
つフイルム形成性バインダーとの相溶性のよい近赤外線
吸収組成物を提供することである。
本発明者らは、上記の目的を達成するため種々研究を重
ねた結果、本発明を完成するに至つた。
「問題点を解決するための手段」 前記諸目的は、下記一般式(I)で表わされかつ極大吸
収波を720nm以上に有する化合物の少なくとも1種
及び後記一般式(II)で表わされる化合物を含有するこ
とを特徴とする近赤外線吸収組成物によつて解決され
た。
一般式(I) 式中、Rは置換もしくは無置換のアルキル基、置換も
しくは無置換のアリール基(例えばフエニル基、ナフチ
ル基など)、置換もしくは無置換の複素環基を表わし、
及びRは互いに同じでも異なつていても良く、水
素原子もしくはこれを置換可能な基を表わし、R及び
は互いに同じでも異なつていても良く、水素原子、
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子など)置換も
しくは無置換の炭素数1〜18のアルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基、オクトキシ基など)、置換も
しくは無置換のアルキル基を表わし、好ましくはR
びRは炭素数1〜5のアルキル基(メチル基、エチル
基など)を表わす。但し、RとRは同時に水素原子
であることはない。R及びRは互いに同じでも異な
つていても良く、置換もしくは無置換のアルキル基、置
換もしくは無置換のアリール基(例えばフエニル基、ナ
フチル基など)、アシル基(例えばアセチル基、プロピ
オニル基など)、スルホニル基(例えばメタンスルホニ
ル基、エタンスルホニル基など)又はRとRが連結
して5又は6員環を形成するのに必要な非金属原子群
(例えばピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環な
ど)を表わす。
一般式(I)で表わされる化合物は、R,R
,R,R,RまたはRのうちのいずれかの
基を介して2量体を形成していても良い。
,R又はRで表わされるアルキル基は互いに同
じでも異なつていても良く、炭素数1〜18のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、i−ブチ
ル基、n−オクチル基、n−ドデシル基、n−オクタデ
シル基など)が好ましく、置換基(例えばシアノ基、水
酸基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、フ
エノキシ基などのアリーロキシ基、アセトアミド基、メ
タンスルホンアミド基などのアミド基、塩素原子、フツ
素原子などのハロゲン原子など)を有していても良い。
,R又はRで表わされるアリール基は互いに同
じでも異なつていても良く、置換もしくは無置換のフエ
ニル基{置換基として例えば水酸基、シアノ基、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、フツ素原子など)、炭素数2
〜18のアシル基(例えばアセチル基、プロピオニル
基、ステアロイル着など)、炭素数1〜18のスルホニ
ル基(例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル
基、オクタンスルホニル基など)、炭素数1〜18のカ
ルバモイル基(例えば無置換のカルバモイル基、メチル
カルバモイル基、オクチルカルバモイル基など)、炭素
数1〜18のスルフアモイル基(例えば無置換のスルフ
アモイル基、メチルスルフアモイル基、ブチルスルフア
モイル基など)、炭素数2〜18のアルコキシカルボニ
ル基(例えばメトキシカルボニル基、トリクロロエトキ
シカルボニル基、デシルオキシカルボニル基など)、炭
素数1〜18のアルコキシ基(例えばメトキシ基、ブト
キシ基、ペンタデシルオキシ基など)、アミノ基(例え
ばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジヘキシルア
ミノ基など)など}又は置換もしくは無置換のナフチル
基(置換基としてはフエニル基の場合と同じものが好ま
しい)が好ましい。
で表わされる置換もしくは無置換の複素環は単環の
複素環又は縮合複素環を表わし、例えば1,3−チアゾ
ール環、1,3,4−トリアゾール環、ベンゾチアゾー
ル環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環、
1,3,4−チアジアゾール環など(置換基として例え
ばメチル基、エチル基、オクチル基などのアルキル基、
メトキシ、エトキシ基、デシルオキシ基などのアルコキ
シ基、水酸基など)が好ましい。
及びRで表わされる水素原子を置換可能な基は、
ハロゲン原子(例えばフツ素原子、塩素原子、臭素原子
など)、水酸基、シアノ基又は直接もしくは2価の連結
基を介してベンゼン環に結合した置換もしくは無置換の
炭素数1〜18のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、ブチル基、2−エチルヘキシル基、ステアリル基な
ど)を表わし、2価の連結基は例えば−O−、−NHCO
−、−NHSO−、−NHCOO−、−NHCONH−、−COO−、−
CO−、−SO−、−NR−(Rは水素原子または無機もし
くは無置換の炭素数1〜18のアルキル基を表わす。)
などを表わす。
更に好ましくは、Rは複素環基を表わすか又はハメツ
トの置換基定数δもしくはδの値が0.23より大
きい一価の基で置換されたフエニル基を表わす。ハメツ
トの置換基定数δもしくはδの値が0.23より大
きい一価の基としては、ハロゲン原子(フツ素原子、塩
素原子、臭素原子など)、シアノ基、ホルミル基、カル
ボキシ基、カルバモイル基(無置換のカルバモイル基、
メチルカルバモイル基など)、アルコキシカルボニル基
(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基な
ど)、アシル基(アセチル基、ベンゾイル基など)、ニ
トロ基、スルフアモイル基(無置換のスルフアモイル
基、メチルスルフアモイル基など)、スルホニル基(メ
タンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基など)等が好
ましく挙げられる。前記ハメツトのδもしくはδ
は「薬物の構造活性相関」(南江堂)第96頁(197
9年)に記載されており、この表に基づいて置換基を選
ぶことができる。
本発明に用いられる前記一般式(I)で表わされる化合
物の具体例を以下に示すが、本発明な範囲はこれらに限
定されるものではない。
(I−1) (I−2) (I−3) (I−4) (I−5) (I−6) (I−7) (I−8) (I−9) (I−10) (I−11) (I−12) (I−13) (I−14) (I−15) (I−16) (I−17) (I−18) (I−19) (I−20) (I−21) (I−22) (I−23) (I−24) (I−25) (I−26) (I−27) (I−28) (I−29) (I−30) (I−31) (I−32) (I−33) (I−34) (I−35) 一般式(I)で表わされる化合物はジアルキルアニリン
類と4−ニトロソナフトール類の濃硫酸中での縮合によ
る方法、α−ナフトール類とp−フエニレンジアミン類
とを塩基と酸化剤の共存下で縮合させる方法、4−アミ
ノ−1−ナフトール類とジアルキルアニリン類とを次亜
塩素酸ソーダ溶液で酸化縮合する方法、p−ニトロソジ
アルキルアニリン類とα−ナフトール類の縮合による方
法などによつて合成することができ、例えば特開昭50
−100116号や特開昭60−32851号やジヤー
ナル オブ オルガニツク ケミストリー(S. Fujita
著「Journal of Organic Chemistry」,48,177〜
183(1983))に記載の方法に準じて合成するこ
とができる。
合成例1. (例示化合物I−1の合成) 2−(4−アセチルフエニルカルバモイル)−1−ナフ
トール9.2g、エタノール75ml及び酢酸エチル1
50mlの混合液に炭酸ナトリウム21gの水溶液21
0mlの4−ジメチルアミノ−2,6−ジメチルアニリ
ン6.9gを加え、更に撹拌しながら過硫酸アンモニウ
ム16.4gの水溶液70mlを30分かけて滴下し
た。滴下後2時間撹拌後、反応液を静置し、酢酸エチル
相をとり出し水洗後濃縮した。濃縮残渣をクロロホルム
から再結晶し例示化合物1の緑青色の結晶4.1gを得
た。融点219〜220゜C、 (ε=1.73×10) 合成例2. α−ナフトール類とp−フエニレンジアミン類を下記第
1表に示す組み合わせで用いた以外は合成例1と同様に
して例示化合物を得た。結果も合わせて第1表に示す。
一般式(II) 式中R,R,R10,R11,R12,R13,R14及びR
15は水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素、臭素など)
または直接もしくは2価の連結基(例えば−O−,−NH
CO−,−CO−,−COO−,−SO−,−NHCOO−,−NHCO
NH−,−NHSO−など)を介してベンゼン環に結合した
置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、n−オクチル基など)を表わし、
Mはニツケル、コバルト、銅、パラジウムまたは白金を
表わし、好ましくはニツケルを表わす。
catはカチオン(例えばナトリウム、カリウム、アンモ
ニウム、第4級アンモニウム、第4級ホスホニウムな
ど)を表わし、好ましくは で表わされる第4級アンモニウムもしくは で表わされら第4級ホスホニウムを表わし、更に好まし
くは第4級ホスホニウムを表わす。
,L,L及びLは炭素数1〜20の置換もし
くは無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
n−ブチル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基な
ど)又は炭素数6〜14の置換もしくは無置換のアリー
ル基(例えばフエニル基、トリル基、α−ナフチル基な
ど)を表わす。
前記一般式(II)で表わされる化合物のうち好ましいも
のを例示すれば次の通りであるが、本発明はこれらの例
示化合物に限定されるものではないことはもちろんであ
る。
(II−1) (II−2) (II−3) (II−4) (II−5) (II−6) (II−7) (II−8) (II−9) (II−10) (II−11) (II−12) (II−13) (II−14) (II−15) (II−16) (II−17) (II−18) (II−19) (II−20) (II−21) (II−22) (II−23) (II−24) 本発明の近赤外線吸収組成物を光学フイルターとして用
いる場合は前記一般式(I)及び(II)で表わされる化
合物を、適宜に結合剤中に含有させていることができ
る。結合剤としては、近赤外線吸収性を発揮させるもの
であれば有機、無機の区別なく用いることができ、例え
ば光学用フイルターの場合はプラスチツクのような高分
子材料、ガラスのような無機材料などが挙げられる。
好ましくは、結合剤としては、透明性および機械的性質
の優れた結合剤が用いられる。このような結合剤の例と
しては、例えばポリエチレンテレフタレートで代表され
るポリエステル類、セルロースジアセテート、セルロー
ストリアセテート、セルロースアセテートブチレートな
どのセルロースエステル類、ポリエチレン、ポリプロピ
レンなどのポリオレフイン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ
スチレンなどのポリビニル化合物、ポリメチルメタクリ
レートなどのアクリル系付加重合体、ポリ炭酸エステル
から成るポリカーボネート、ウレタン系樹脂またはゼラ
チンなど親水性バインダーなど公知のフイルム形成性結
合剤を挙げることができる。
更に好ましくは透明性および機械的性質が優れている点
でセルローストリアセテートなどのセルロースエステル
類を挙げることができる。
上述のプラスチツク材料に前記一般式(I)及び(II)
の化合物を添加、保持させてフイルムを形成する方法と
しては第一にフイルム作成時にプラスチツクス中に配合
する方法がある。すなわち、式(I)及び(II)の化合
物を各種の添加剤と共にポリマー粉末もしくはペレツト
に混合し、溶融してTダイ法またはインフレーシヨン法
で押出すか、あるいはカレンダー法でフイルム化すれば
前記化合物が均一に分散したフイルムが得られる。また
流延法でポリマー溶液からフイルムを製造する場合は該
溶液中に前記一般式(I)及び(II)の化合物を含有さ
せればよい。
第二には適当な方法で製造されな各種のプラスチツクフ
イルムまたはガラス板上の表面に前記一般式(I)及び
(II)の化合物を含むポリマー溶液または分散液を塗布
することによつて近赤外線吸収層を形成する方法があ
る。塗布液に用いる結合剤としては、一般式(I)及び
(II)の化合物をできるだけよく溶解し、しかも支持体
となるプラスチツクフイルムまたはガラス板との接着性
のすぐれたものが選ばれる。ポリメチルメタクリレー
ト、セルロースアセテートブチレート、ポリカーボネー
トなどがこの目的に適している。接着性を向上させるた
めに支持体フイルムに適当な下塗りをあらかじめ施して
もよい。
第三の方法としては、赤外線をカツトされるべき素子の
光入射窓枠中に一般式(I)及び(II)の化合物と重合
成モノマーを混合し、適当な重合開始剤を加え、熱また
は光を加えて重合させ、生成したポリマーで窓枠にフイ
ルターを形成せしめる方法がある。この方法では、素子
全体をエチレン性不飽和型重合性モノマーまたはエポキ
シ樹脂などの重付加性組成物から生成するプラスチツク
スで包埋することもできる。
第四の方法は、本発明に係る化合物(I)及び(II)を
適当な支持体上に蒸着する方法である。この方法ではさ
らに保護層として適当なフイルム形成性結合剤層を支持
体より遠い位置に設けてもよい。
本発明の近赤外線吸収組成物より得られた光学フイルタ
ーは、特開昭57−58107号、同59−9317号
および同59−30509号に記載された如き色分離フ
イルターに組合せて使用することもできる。
本発明の近赤外線吸収組成物を光学フイルターとして用
いる場合は前記一般式(I)で表わされる化合物2種以
上併用してもよい。
本発明の近赤外線吸収組成物を光学フイルターとして用
いる場合は、500〜600nmの波長の光を実質的に
透過することが好ましい。更に、紫外線吸収剤を併用し
ても良く、レゾルシンモノベンゾエート、サリチル酸メ
チルなどの置換または無置換安息香酸エステル類、2−
オキシ−3−メトキシケイ皮酸ブチルなどのケイ皮酸エ
ステル類、2,4−ジオキシベンゾフエノンなどのベン
ゾフエノン類、ジベンザルアセトンなどのα,β−不飽
和ケトン、5,7−ジオキシクマリンなどのクマリン
類、1,4−ジメチル−7−オキシカルボスチリルなど
のカルボスチリル類、2−フエニルベンゾイミダゾー
ル、2−(2−ヒドロキシフエニル)ベンゾトリアゾー
ルなどのアゾール類などが使用される。更に本発明の近
赤外線吸収組成物においては、黄色染料、シアン染料を
併用することができる。
また本発明の近赤外線吸収組成物を用いてコーテイング
法で作成したフイルムの場合は、コーテイング層の保
護、流滴性の付与などの目的でコーテイングの表面に薄
いプラスチツクフイルムを貼り合わせたり、塗設したり
することができる。例えば0.05mm厚のポリ塩化ビ
ニルフイルムを重ねて120〜140゜Cに加熱圧着す
ると積層状のフイルムが得られる。
本発明の近赤外線吸収組成物を光学フイルターとして用
いる場合は、前記一般式(I)及び(II)で表わされる
化合物を結合剤100部当り重量で0.1〜50部、好
ましくは0.5〜10部含有させる。本発明の近赤外線
吸収組成物より得られる光学フイルターはその機能上遮
断すべき波長域の透過率が所期の目的を達成しうる程度
に低ければよく、本発明の組成物を用いるには、波長7
20nm以上において、透過率が10%以下好ましくは
2.0%以下、特に好ましくは0.1%以下の透過率と
なるように、結合剤当りの添加量およびフイルターの厚
みを調節することが肝要である。更に500〜600n
mにおいて透過率が少なくも5%以上、好ましくは10
%以上、特に好ましくは20%以上有することが好まし
い。実用的な厚さは0.002mmないし0.5mmで
あるが、用途に応じこの範囲外の厚さのフイルターにも
設計可能である。
次に本発明の近赤外線吸収組成物をレーザーによる光記
録媒体に用いる場合の実施態様を説明する。
光記録媒体は基本的には基板と記録層とから構成される
ものであるが、さらに目的に応じて基板上に下引き層を
また記録層上に保護層を設けることができる。
基板としては使用レーザに対して透明であれば既知のも
のを任意に使用することができる。その代表的な例には
ガラスまたはプラスチツクがあり、プラスチツクとして
はアクリル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリイ
ミド、ポリエステルなどが用いられる。その形状はデイ
スク状、カード状、シート状、ロールフイルム状など種
々のものが可能である。
ガラスまたはプラスチツク基板には記録時のトラツキン
グを容易にするために案内溝を形成させてもよい。また
ガラスまたはプラスチツク基板にはプラスチツクバイン
ダーまたは無機酸化物、無機硫化物などの下引き層を設
けてもよい。基板よりも熱伝導率の低い下引き層が好ま
しい。
記録層は、近赤外線吸収剤単独またはそれと他の材料と
の組合せそれ自体により構成されるもの、あるいは反射
層と前記近赤外線吸収剤を含有する光吸収層によつて構
成されるものに分けられる。この近赤外線吸収剤単独ま
たはそれと他の材料との組合せによつて構成される記録
層は該近赤外線吸収剤を溶媒に溶解させ、塗布する方式
や基板に蒸着する方式、樹脂溶液と混合して塗布する方
式、他の色素との混合溶液を塗布する方式、他の色素と
ともに樹脂溶液に溶解させて塗布する方式などによつて
形成される。
樹脂としては、PVA、PVP、ポリビニルブチラー
ル、ポリカーボネート、ニトロセルロース、ポリビニル
ホルマール、メチルビニルエーテル、無水マレイン酸共
重合体、スチレン−ブタジエン共重合体等既知のものが
用いられ、近赤外線吸収性組成物中における樹脂に対す
る前記一般式(I)及び(II)で表わされる近赤外線吸
収剤の重量比は0.01以上であることが望ましい。他
の色素、例えばトリアリールメタン系色素、メロシアニ
ン色素、シアニン色素、アゾ色素、アントラキノン色素
など半導体レーザの波長域以外に吸収をもつものを用い
ると、半導体レーザだけでなく、He−Neレーザなど
でも記録できるので好適である。
この記録層は1層又は2層以上設ける。
記録層の膜厚は、通常0.01μm〜1μm、好ましく
は0.08〜0.8μmの範囲である。反射読出しの場
合は特に好ましくは読出しに使用するレーザ波長の1/
4の奇数倍である。
半導体レーザまたはHe−Neレーザなどの反射層を設
ける場合は、基板に反射層を設け次の二の反射層の上に
前述したような方式によつて記録層を設けることによる
か、あるいは基板に記録層を設け、次いでこの上に反射
層を設けるかのいずれかの方法がある。
反射層は蒸着法、スバツタリング法、イオンプレーテイ
ング法などの他の次のような方法によつても作ることが
できる。
例えば水溶性樹脂(PVP、PVAなど)に金属塩また
は、金属錯塩を溶解させ、さらに、還元剤を加えた溶液
を基板に塗布し、50゜C〜150゜C好ましくは60
゜C〜100゜Cで加熱乾燥させることによつて形成さ
れる。
樹脂に対する金属塩または金属錯塩の量は重量比で0.
1〜10好ましくは0.5〜1.5である。この際、記
録層の膜厚は金属粒子反射層が0.01〜0.1μmで
ありそして光吸収層が0.01〜1μmの範囲が適当で
ある。
金属塩または金属錯塩としては、硝酸銀、シアン化銀カ
リウム、シアン化金カリウム、銀アンミン錯体、銀シア
ン錯体、金塩または金シアン錯体などを使用できる。還
元剤としてはホリマリン、酒石酸、酒石酸塩、還元剤、
次亜燐酸塩、水素化硼素ナトリウム、ジメチルアミンボ
ランなどを使用できる。還元剤は金属塩または金属錯塩
1モルに体し0.2〜10モル好ましくは0.5〜4モ
ルの範囲で使用できる。
光記録媒体において、情報の記録はレーザなどのスポツ
ト状の高エネルギービームを基板を通してあるいは基板
と反対側より記録層に照射することにより行われ、記録
層に吸収された光が熱に変換され、記録層にピツト
(穴)が形成される。
また情報の読み出しはレーザビームを記録の閾値エネル
ギー以下の低出力で照射し、ピツト部とピツトが形成さ
れていない部分の反射光量の変化により検出する。
次に本発明の赤外線吸収性組成物をインクジエツトイン
クに用いる場合の実施態様について述べる。
有機溶剤を溶媒に用いるインクジエツトプリンタ用イン
クは主に静電加速型、静電空気流式などに用いられ、い
ずれもインクに高圧パルスを印加してインク流またはイ
ンク小滴の形成を可能にさせねばならない。これにはイ
ンクの電気的性質のみならず、表面張力、粘度などの流
動静に関係する物性値も問題となり、特開昭49−50
935号や特開昭56−135568号公報に記載され
ている方法に準じて実施することができる。
インクジエツトプリンタ用インクとしては、近赤外線吸
収剤を用い、溶剤としてはエチルセロソルブ、トルエ
ン、エタノール、n−ブタノール、エチルメチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、ジクロルメタン、トリエ
タノールアミン、ジメチルホルムアミド、イソアミルア
セテートなどに代表されら有機溶剤を用い、これに粘度
調節のためにグリセリン、金属石鹸などを加える。
含有量は粘度が常温で10cp.以下、比抵抗が1×10
〜1×1011Ω・cmになるように有機溶剤と粘度調節
剤の組成比を選ぶ。
溶剤に対する近赤外線吸収剤の含有比は溶剤1重量部に
対し、近赤外線吸収剤0.01〜0.8部である、常温
において好ましくは溶解し、あるいは少なくとも平均粒
径0.8μm以下に微分散していなければならない。場
合によつては該インク中に可視光線を吸収する色素も加
えてよい。
本発明の近赤外線吸収組成物は有機もしくは金属錯体系
の公知の近赤外線吸収剤と併用することもできる。特に
吸収極大の異なつた吸収剤と併用すると、吸収波長域を
広げることができる。
「発明の効果」 本発明によれば、光を実質的に透過し且つ720nm以
上の近赤外線吸収組成物を得ることができるので光およ
び熱に対する堅牢性の優れら光学フイルターを得ること
ができ、低コストの光学フイルターとすることができ
る。
さらに本発明の近赤外線吸収組成物においては、前記一
般式(I)で表わされる化合物中の置換基を適宜選択
し、組合わせることにより溶剤に対する溶解性を調節で
きるので各種の結合剤を幅広く採用できるという利点を
有する。
本発明の近赤外線吸収組成物より得られる光学フイレタ
ーは近赤外線吸収材料として、赤外感光性の感材用セー
フライトフイルター、植物の生育の制御、熱線の遮断、
人間の目の組織に有害な赤外線カツトフイルター、半導
体受光素子カラー固体撮像素子の赤外線カツトフイルタ
ー用、電気と同時に光学的機能をもつた素子を一緒な同
一基板状に組込んだオプトエレクトロニツク集積回路で
の赤外光カツトフイルター用の外、各種の用途に用いる
ことができる。
さらにまた、本発明に係る組成物は、レーザーによる記
録媒体及びインクジエツトプリンタ用インキに用いるこ
とができる。
また本発明の組成物は吸収した近赤外光を熱に変換する
性質を有し、赤外線/熱変換剤としても利用できる。典
型例を挙げると、1)特開昭57−14095号または
同57−14096号に記載されたようなレーザー感熱
記録体に添加して、赤外域レーザーを照射し発生する熱
でひき起こされる混合発色反応を高めることができる。
2)レーザー光に基づく熱の作用により溶解性が変化す
るような、例えば特開昭57−40256号に記載した
レジスト材料に含有させることができる3)特開昭56
−143242号に記載されたような、熱乾燥性または
熱硬化性の組成物に本発明の化合物を含有せしめると反
応を促進させることができる。
本発明に係る化合物はさらにまた特開昭58−2141
62号に記載されたように、半導体レーザーを光源とし
た電子写真方式プリンターの電子写真用感光皮膜にも利
用できる。また電子写真のトナー組成物に含有させて熱
定着性を改善することもできる。
上記の記載は本発明に係る化合物の使用用途を制限する
ものではないのはもちろんである。
「実施例」 次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。な
お、重量を示す「部」は「重量部」を示す。
実施例1 下記の近赤外線吸収組成物を調製した光学フイルターを
作成した。すなわち、下に重量部で示した組成で各成分
を混合しよく撹拌してから、ろ過後、金属の支持体状に
流延法により塗布して製膜後剥離し、厚さ0.15mmの
光学フイルターを得た。
このようにして得られた光学フイルターの光学濃度を第
1図に示した。
〔組成物〕
三酢酸セルロース 170部 トリフエニルホスフエイト 10部 メチレンクロリド 800部 メタノール 160部 例示化合物(I−5) 2部 例示化合物(II−3) 2物 第1図からわかるように、近赤外線の透過率が低い光学
フイルターが得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例1によつて得られた光学フイルターの波
長と透過率の関係を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林 剛一 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 審査官 今村 玲英子

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記一般式(I)で表わされかつ極大吸収
    波長を720nm以上に有する化合物の少くとも1種及び
    下記一般式(II)で表わされる化合物を含有することを
    特徴とする近赤外線吸収組成物。 一般式(I) 式中、Rは置換もしくは無置換のアルキル基、置換も
    しくは無置換のアリール基又は置換もしくは無置換の複
    素環基を表わし、R及びRは互いに同じでも異なっ
    ていても良く、水素原子もしくはこれを置換可能な基を
    表わし、R及びRは互いに同じでも異なっていても
    良く、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の
    アルコキシ基、又は置換もしくは無置換のアルキル基を
    表わし、R及びRは互いに同じでも異なっていても
    よく、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは
    無置換のアリール基、アシル基、スルホニル基又はR
    とRが互いに連結して5員又は6員環を形成するのに
    必要な非金属原子群を表わす。但し、RとRが同時
    に水素原子であることはない。 一般式(II) 式中R、R、R10、R11、R12、R13、R14及びR
    15は水素原子、ハロゲン原子または直接もしくは2価の
    連結基を介してベンゼン環に結合した置換もしくは無置
    換のアルキル基を表わし、Mはニッケル、コバルト、
    銅、パラジウムまたは白金を表わす。cat はカチオンを
    表わす。
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