JPH06502931A - プリンティングプレート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプリンティングプレート、およびプリンティングプレートの製造方法お よび使用方法に関する。より詳しくは、本発明は、露光後に最小の処理でまたは 追加処理無しで印刷機上での使用にすぐ使える平版プリンティングプレートに関 する。

平版プリンティングプレート、特に、シート様アルミニウム支持体上に支持され たもの、の製造は、印刷分野で周知である。かかるプリンティングプレートは典 型的に平版タイプのものであり、そして印刷は、印刷領域が隣りのまわりの非印 刷領域よりも認め得る程盛り上がってもいないし凹んでもいない実質的に平坦な 表面から行われる。一般に、これらプレートは疎水性（攬水性）のインキ受容性 画像領域と、親水性（インキ反撥性）の水受容性非画像領域からなる。親水性の 非画像領域は代表的には、像様現像処理によって裸出した親水性表面である。従 って、フォトレジスト材料の非画像領域は、たとえば、洗浄除去されるか又は池 の仕方で除去されることができ、そうして、親水性樹脂層、燐酸塩−もしくは珪 酸塩−で処理された親水性表面を存する、アルミニウム（またはその他金属板） 表面、陽極酸化したアルミニウム（またはその他金属板）表Ｗまたは金属板が裸 出される。米国特許第３，８３６，３６６号（Ｊ、Ｌ、　５ｉｌｖｅｒに対して １９７４年９月１７日に発行された）に記載されているように、プリンティング プレートの親水性非画像領域は腐食や点腐のせいで水受容性の損失を受け、その 結果、非画像領域に親水性保護被覆を保つためには定期的に親水性保護被覆、た とえば、アラビアゴムが適用されることになろう（プレートの「ゴム引き」）。

必要な親水性表面を提供するのに使用されてもよい親水性樹脂状被覆に関して、 その特許に言及されている欠点は、中でも、非画像領域の親水性または水吸引性 が徐々に意図した効能を失う傾向かあることと、かかる材料か［スカム（ｓｃｕ ｍ）　Ｊする、すなわち、徐々に、親油性、インキ受容性になる傾向があること である。

「スカミング」による、親水性の漸次損失は、プレートの有効身命を短くする。

さらに、親水性樹脂状物質の変質は裸出領域だけに限らず、必要な疎水性領域の 下に横たわる層の隣接部分にも及び、その結果、必要な親油性印刷領域の［アン ダーカッティング」および印刷品質の損失を生じる。親水性の損失を克服するだ めの、たとえば、プレートの定期的「ゴム引き」による、試みは、転じて、プレ ートの「ブラインディング（ｂｌｉｎｄｉ口ｇ）」、すなわち、プレートのイン キ受容性（画像）領域の親油性の低下、を促進するかも知れない。

プリンティングプレートの製造においては、露光工程の後に、通常、現像工程を 行って、親水性表面の上にネガ作用またはポジ作用どちらのフォトレジストが使 用されているかに依存して非露光領域または露光領域を像様除去する。現像処理 は通常、洗浄およびすすぎ作業を包含し、それら作業は摩擦やブラッシングによ って補助されてもよい。その他の作業、たとえば、プレートの「ゴム引き」も行 われるであろう。プレートメーカーによって行われるこれら作業は印刷分野では 従来からのものである。従って、湿式現像処理の行為に頼らない、また露光後に それ以上の処理を必要としないで直接にプレートの使用を可能にする、プレート 製造方法はかなりの魅カ低いスカミング性向を有する平版プリンティングプレー トを発明した。それは露光後にそれ以上の処理を殆どまたは全く必要としないで 直接に印刷機で使用することができる。それは、プリンティングプレート用基体 の上に、親水性重合体結着剤と、露光領域の不溶化または硬化を促進することか できる光重合性、光架橋性または光転位性の化合物とを含んでいる感光性親水性 層；および更にその上に、疎水性重合体結着剤と、露光領域の不溶化または硬化 を促進することができる光重合性、光架橋性または光転位性の化合物とを含んで いる感光性疎水性層；を順に用いることによって得ることができる。プリンティ ングプレート製造用のこの得られた層を露光すると、感光性疎水性層の中の光重 合性、光架橋性または光転位性の化合物（以後、便宜上、［光活性化合物ｊと称 する）は露光領域では不溶化または硬化を促進して疎水性（親油性、インキ受容 性）印刷領域をもたらす。同時に、感光性疎水性層の露光領域の下に横たわって いる感光性親水性層の領域も、光不溶化または光硬化されてその露光領域に改良 された硬度および耐久性を付与する。

露光済みプレートは直接に印刷機に搭載して既知の印刷方法に従って平版印刷に 使用することができる。

本発明の物品によれば、順に、 プリンティングプレート用基体； 親水性巨大分子の有機結着剤と、露光領域の不溶化または硬化を促進することか できる光重合性、光架橋性または光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の感 光性親水性層、および、 疎水性巨大分子の有機結着剤と、露光領域の不溶化または硬化を促進することが てきる光重合性、光架橋性または光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の感 光性疎水性層： を含んでおり、 前記感光性親水性層および感光性疎水性層の各々の露光領域は前記露光によって 光不溶化または光硬化され：前記感光性疎水性層の非露光領域は、前記露光後に 前記下に横たわる重合体親水性層から除去されるときに、前記重合体親水性層の 対応する下に横たわる領域を裸出するのに適合している； 平版プリンティングプレートが提供される。

本発明の方法によれば、印刷機で使用するための露光済み平版プリンティングプ レートの製造方法が提供される。この製造方法は、プリンティングプレート用基 体の上に、順に、上記に説明したような、重合体の親水性感光性層と疎水性感光 性層を提供し：前記各層の領域を同時に、前記領域で前記各層を光不溶化または 光硬化するのに十分に、露光し：そして、前記重合体疎水性層の非露光領域を除 去し、それによって、その下に横たわる前記重合体親水性層の領域を裸出させる ことを包含している。

さらに、本発明の別の方法によれば、平版印刷方法が′提供される。この方法は 、上記に説明したようなプリンティングプレートの親水性層と疎水性層の領域を 同時に露光することによって、露光済み平版プリンティングプレートを製造し： 露光済み平版プリンティングプレートを、洗浄またはその他の湿式処理なしで、 前記平版プリンティングプレートか少なくとも親油性インキおよび水性湿し液と 接触するのに適した印刷機上に設置し：そして、前記印刷機を操作することを包 含している。

本発明の特徴および目的をより十分に理解するために図面を参考に以下に詳述す る。

図面の簡単な説明 図ＩＡは本発明の平版プリンティングプレートの概略断面図である。

図ＩＢは、図ＩＡのプリンティングプレートの露光後の概略断面図であり、露光 領域と非露光領域を示している。

図１ｃは、図ＩＢのプリンティングプレートの現像後の概略断面図である。

図２は、保護オーバーレイを具備した本発明の平版プリンティングプレートの概 略断面図であり、オーバーレイか一部分取り除かれた状態で示されている。

図３は、プリンティングプレートから疎水性感光性材料の非露光領域を一緒に除 去するために剥離シートを具備した本発明の平版プリンティングプレートの概略 断面図であり、剥離シートが一部分剥がされた状態で示され先に述へたように、 本発明の平版プリンティングプレートは、プリンティングプレート用基体の上に 担持された感光性の親水性層と疎水性層を含有しており、そして露光可能であり 、そしてそれ以上の処理を殆どまたは全く必要としないで印刷機上で使用可能で ある。

図１を引用して、好ましい平版プリンティングブレー）１０を示す。それは、感 光性親水性層１４と感光性疎水性層１６を担持した基体１２を含んでいる。基体 １２は、印刷操作に使用するのに適する耐久性を有する様々なノート様材料のい ずれから成ってもよく、金属や金属合金からなるプレートが挙げられる。紙また は紙積層体を使用することもでき、同様に、ポリエチレン、ポリエチレンテレフ タレート、三酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリカーボネートなどのような重 合体シートまたはホイルであることができる。

本発明の平版プリンティングプレートの製造においては、基体１２は、親水性層 １４および疎水性層１６を提供するように、塗布される。先に述べたように、そ れぞれの層の露光領域は同時に光不溶化または光硬化されて層の露光領域に改良 された硬度および耐久性を与える。

層１４および１６の各々の中の光活性化合物の存在により、必要な上記の光不溶 化または光硬化の作用が促進される。この分野で認識されている通り、平版プリ ンティングプレートの製造に使用するための放射線感受性（複製）被膜を担持す るコーティング支持体または基体は、成る種の要求、たとえば、露光前の感光性 被膜（単数または複数）の基体への適切な接着度と、露光後には必要な印刷を遂 行する部分の被膜（単数または複数）の十分な接着性とを満足させる必要があろ う。複製用被膜のために適するコーティング支持体のこれらおよびその他要求は 、たとえば、米国特許第４，４９２，６１６号（Ｂ。

Ｐｌｉｅｆｋｅ他に対して１９８５年１月８日に発行された）に記載されている 。従って、層１４においてその中の光活性化合物の存在によって促進される有利 な光硬化および光不溶化の効果は、層が基体に単に一時的または貧弱に接着して いる場合に、得ることができるが、かかる有利な効果は、実際の立場からは、基 体１２とその上に塗布された層１４との間の適切な接着度が存在する場合にのみ 、実現され、そして有効なプレート寿命に反映されるであろう、ということが認 識されよう。

適する基体Ｉ２は、層１４（および間接的に層１６）が露光前に十分に接着する ことができ、かつ露光後には露光された印刷（画像）領域が接着するものである 。実際には、プリンティングプレートの製造に使用するための基体材料は上記米 国特許第４，４９２，６１６号に記載されているように、感光性被膜の接着性を 改良するために、または基体材料の親水性を増大させるために、および／または 感光性被膜の現像適性を改良するために、しばしば一つまたはそれ以上の処理を 受けるであろう。

従って、基体１２は代表的には、層１４の必要な接着性を促進するために、たと えば、コロナ放電やプラズマ処理によって又は粗面化処理によって、処理される であろう。

特に好ましい基体■２はアルミニウム、亜鉛、鋼または銅の金属製基体である。

これらは既知の二層金属板および三層金属板、たとえば、鋼またはクロム層を有 するアルミニウム板ニクロム層を有する銅板；銅層とクロム層を有する鋼板：お よび純粋なアルミニウムの被覆を有するアルミニウム合金板：などである。

好ましい板１２は、板表面が機械的または化学的（たとえば、電気化学的）に又 は粗面化処理の組み合わせにより粗面化されている、粗面化アルミニウム板であ る。

陽極酸化された板を使用することができる。陽極酸化はこの分野で知られている ように、たとえば、アルカリ金属の水酸化物、燐酸塩、アルミン酸塩、炭酸塩お よび珪酸塩などの、水性アルカリ性電解質溶液の中で行うことができる。たとえ ば、水性アルカリ金属珪酸塩、たとえば、珪酸ナトリウムで処理されているか、 またはポリビニルホスホン酸で処理されているか、またはそうでなくても樹脂も しくは重合体の親水性層を付与されている、粗面化および／または陽極酸化され たアルミニウム板は基体１２として適切に使用することができる。

本発明のプリンティングプレートの製造に使用することができる、プリンティン グプレート用基体材料１２の具体例、およびかかる基体を粗面化、陽極酸化およ び親水化する方法は、たとえば、米国特許第４，１５３．４６１号（Ｇ、　Ｂｅ ｒｇｈａｅｕｓｅｒ他に対して１９７９年５月８日に発行された）：米国特許第 ４，４９２，６１６号（Ｅ。

Ｐｌｉｅｆｋｅ他に対してｌ９８５年１月８日に発行された）：米国特許４，６ １８，４０５号（Ｄ、　Ｍｏｈｒ池に対して１９８６年ｌＯ月２１日に発行され た）；米国特許第４，６１９．７４２号（Ｅｉ、　Ｐｌｉｅｆｋｅに対して１９ ８６年１０月２８日に発行された）：および米国特許４，６６１，２１９号（Ｅ 、　Ｐｌｉｅｆｋｅに対して１９８７年４月２８日に発行された）に記載されて いる。

図ＩＡ、図ＩＢ、図ＩＣ１図２および図３には、平版プリンティングプレートが 概略断面図として示されている。基体１２の具体的性質に依存して、そして特に 、粗面化金属基体の場合には、基体１２はそれへの層の接着を促進するのに有効 な表面ミクロ構造（図示されていない）を示してもよいということが認識されよ う。その上に薄層として塗布された層１４および１６は、一般に、基体材料の局 所的特徴に順応するであろう。

図ＩＢには、化学線によるプレート１０の露光が示されている。露光領域は各対 の矢印１３と１３’、１５と１５’および１７と１７’によって示されている。

プレートｌＯを化学線で露光することによって、層１６は露光領域１６ｅて光不 溶化または光硬化（たとえば、光重合）を生じて親油性の印刷領域を提供する。

同時に、かかる露光により、層１４は対応する領域１４ｅが光不溶化または光硬 化（たとえば、光重合）される。図ＩＢに示されている露光済みプレートは、そ れから、その非露光領域１６ｕを除去してプリンティングプレートの特有の機能 に必要な親水性表面（下に横たわる親水性層１４の領域＋４ｕ）を裸出するため に、現像することができる。得られた現像済みプリンティングプレートは図１ｃ に示されている。

図ＩＢに示されている露光済みプレートの現像は水または印刷分野に使用される 湿し液で洗浄することによって行うことができる。洗浄は、プレートを洗浄用液 体に浸漬、またはプレートに洗浄用液体を吹き付けまたは塗布することによって 、そしてプレートをすすぎ乾燥することによって、行うことができる。現像を助 けるために機械的摩擦やブラッシングが使用できる。

露光済みプリンティングプレートは、平版印刷操作に典型的に使用されている湿 し液により現像できるので、可能なまたは実用的な場合に露光後の操作を省くこ と、および露光済みプリンティングプレートをＦオン−ブレス」現像のために直 接に印刷機上に設置することは、大抵の場合、有利であろう。これは顕著な利益 、例えば、露光後の操作の省略や、通常の洗浄、ゴム引きおよびその他の露光後 操作の省略に関連した時間的節約、を与える。

重合体の親水性層１４は本発明のプリンティングプレートに幾つかの機能を付与 する。主として、それは、湿し液との親和性のためにも、および疎油性（インキ 反撥性）層としての層の特有の機能のためにも必要な親水性を付与する。加えて 、この層は感光性であるので、重合体の感光性疎水性画像形成層１６の下に横た わる領域では光不溶化または光硬化を受ける。図ＩＢおよび図ＩＣに示されてい る通り、光不溶化または光硬化は親水性層の領域１４ｅに起こる。それに伴う、 層の分子量、硬度および耐久性の増加は、印刷機で使用中の、かかる領域の［ア ンダーカッティングＪおよびプリンティングプレートの疎水性印刷領域１６ｅの 損傷を最小にすることによって、プレートの作動寿命に重大に貢献する。

プレートの裸出した親水性重合体領域が、その親水性を維持する耐久性フィルム に塗布された重合体材料（単数または複数）から成るということも、耐久性およ び有効な操作寿命には重要であろう。有利であるには、親水性層１４は、そこか ら、その上の疎水性層材料（単数または複数）が非露光領域１６ｕては容易に除 去され得るような、重合体材料（単数または複数）から成るべきである。最も少 ない必要工程数での、疎水性非露光領域の容易な除去によって、必要な親水性プ リンティングプレート表面の裸出を生じることは、実際的利益を与えることか認 識されよう。指摘したように、かかる除去は印刷機上で行うことかできるので、 プレートは、［露光だけのＪまたは「印刷機て現像可能な」プリンティングプレ ートとみなすことかできる。

出願人は、疎水性重合体の非露光領域をその下に横たわる親水性重合体から除去 することの容易性の説明において、特定の理論または機構によって拘束するつも りはないか、疎水性材料の薄層としての本性、その層での不連続性か与えられる その層を通しての水性湿し液の拡散または浸透と疎水性重合体の除去、親水性層 と疎水性層の間の相互の物理的対抗作用と比較的劣った接着性、疎水性非露光領 域によるインキ吸収性とそれに伴うかかる領域の膨潤、および親水性層からの光 活性化合物の親水性層と疎水性層の界面への移動、のような因子か含まれるであ ろうと考えられる。

層１４は主要な結着剤成分の他に、光活性化合物を含有する。本願明細書中に使 用されるとき、光活性化合物は露光領域では層の不溶化または光硬化を促進する ことができる化合物、または化合物の混合物、または化合物の反応系を意味する 。適する光活性化合物およびかかる目的のだめの材料としては、露光領域で光重 合を受ける光重合性単量体や、光重合、光架橋または光転位を受けるまたは促進 する光活性垂下基を有する巨大分子（重合体）材料が挙げられる。かかる化合物 および材料は後で詳述する。

良好な結果は、ポリエーテルポリオール結着剤を基材とした親水性層１４を使用 することによって得ることができる。適するポリエーテルポリオールの中には、 ポリアルキレンエーテルグリコール、ポリアルキレンエーテルトリオールおよび テトロール、たとえば、ポリアルキレンエーテルグリセロールおよびポリアルキ レンエーテルペンタエリトリトール、を含めて、非分枝鎖および分岐鎖のポリエ ーテルポリオールがある。

ポリエーテルポリオール結着剤の好ましいクラスはポリアルキレンエーテルグリ セロールのクラスであり、それは次の式によって表わされてもよい：ＨＯ−（Ｒ Ｏ）ａ−Ｈ 式中、Ｒは、２〜約１０個の炭素原子を有するアルキレン基であり、そしてａは 、約４００〜５０，０００の範囲の分子量を与えるのに十分な整数であり、好ま しくは約６５０〜２０，０００の範囲の分子量を与える。好ましくは、Ｒは、２ 〜４個の炭素原子を存するアルキレン基である。ポリエーテルポリオール結着剤 には、単独重合体および共重合体、たとえば、ブロック共重合体も包含される。

ここで有効なポリアルキレンエーテルグリコールの例は、ポリエチレンエーテル グリコール：ポリプロピレンエーテルグリコール５ポリへキサメチレンエーテル グリコール、ポリ（エチレンーコーブロビレン）エーテルグリコール、ポリテト ラメチレンエーテルグリコール：ポリデカメチレンエーテルグリコール：ポリｌ 。

２−ジメチルエチレンエーテルグリコール、およびテトラヒドロフランとｌ−ア リルオキシ−２，３−エポキシプロパンの共重合体などである。ここでのポリア ルキレンエーテルグリコールは、たとえば、水または他の低分子量アルコールま たは水素供与体化合物の存在下での、アルキレンエーテル、たとえば、エチレン オキシド、テトラヒドロフラン、プロピレンオキシド、またはそれらの混合物の 、適切な分子量への重合によって、容易に得ることができる。

好ましいポリエステルポリオール結着剤には、プロピレングリコールの２個のヒ ドロキシル基にプロピレンオキシドを制御して付加した後に、その得られた疎水 体にエチレンオキシドとの反応により親水性末端基を結合させることによって製 造されたブロック共重合体ポリエーテル化合物がある。良好な結果は、親水性／ 疎水性バランス（ＨＬＢ）値がたとえば７〜２４であるかかるブロック共重合体 ポリエーテル化合物を使用して得ることができる。適するブロック共重合体ポリ エーテル化合物の例はＢＡＦＳ社のプルロニック（Ｐｌｕｒｏｎｉｃ）商標名で 商業的に入手可能なもの等である。

層１４における結着剤材料として有効なポリエーテルポリオールは、適切な触媒 の存在下で、グリコールまたはアルキレンオキシドまたはそれらの混合物を、サ クロース、グリセロール、ソルビトール、ヘキサントリオール、ペンタエリトリ トール、フロログルシノール、トリメチロールフェノール、トリメチロールベン ゼン、トリメチロールプロパン、エチレンジアミンなどのような化合物と反応さ せることによって得ることができる分岐鎖ポリエーテルポリオールを挙げられる 。好ましい分岐鎖ポリエーテルポリオール結着剤は、エチレンジアミンにプロピ レンオキシドとエチレンオキシドを順次付加することから誘導されるテトラ官能 性ブロック共重合体を挙げられ、それはＢＡＦＳ社のテトロニック（Ｔｅｔｒｏ ｎｉｃ）商標名で商業的に入手可能である。

ここで有効なポリエーテルポリオール結着剤の別のクラスは、多数（ｎ個）の末 端ヒドロキシル基がｎ価の飽和または不飽和の直鎖または分岐鎖の炭化水素重合 体上に存在する、約４００〜６，０００の範囲の分子量を有するヒドロキシ含有 炭化水素重合体材料の類である。例は、ｌ、４−ブタジェンのような重合可能な エチレン性不飽和単量体の重合から、そして既知の手法でのヒドロキシル基の導 入によって、得られたポリオールを挙げられる。かかるポリオール材料は既知で あり、たとえば、ジカルボキシレート置換炭化水素重合体、たとえば、ジカルボ キシレート末端の重合体を提供するために、重合可能なエチレン性不飽和単量体 のラジカル開始重合によって製造できる。既知の仕方での還元は脂肪族炭化水素 ポリオールを提供する。かかるポリオール材料の製造に適する方法は米国特許第 ２，８８８，４３９号（Ｄ、　Ｍ。

Ｓｉｍｍｏｎｓに対して１９５９年５月２６日に発行された）に更に詳細に記載 されている。

３個またはそれ以上のヒドロキシル基を有する多価アルコールから誘導されたポ リアルキレンエーテルポリオールは、例えば、グリセロールまたはペンタエリト リトールと、エチレンオキシド、プロピレンオキシドまたはそれらの混合物との 反応によって得ることができる。かかる分岐鎖ポリオールの多官能性は、層１４ の領域１４ｅでの改良された架橋の観点から望ましいであろう。

望むならば、層１４のための重合体結着剤はポリアルキレン−アリーレン−エー テル　グリコールからなることかできる。これらグリコールは、構造がポリアル キレンエーテル　グリコールに類似しているが、さらにアリーレン基、たとえば 、フェニレン基を含有している。一般に、層１４における必要な親水性を達成す ることの関心事にあっては、アリーレン含量を最小にすることが望ましいであろ う。

扁１４のための特に好ましい結着剤は、約４００〜約５０．０００の範囲の分子 量を有するポリエチレングリコールである。これら重合体は分子量に依存して水 中の溶解度が変動するか、良好な親水性を存する層を提供するために溶液、分散 物または乳濁物として塗布することができる。さらに、かかる層は良好な耐久性 、必要な親水性保持および非スカミング性を示す。

プレート１０の露光中の、層１４の光不溶化または光硬化は、露光によって物理 的に変化できるか又は露光領域における層の性質の物理的変化（不溶化または硬 化）を促進できる様々な化合物、材料、または、化合物または材料の混合物また は反応系のいずれかを含有することによって行うことができる。この目的に適す る化合物および材料は、ラジカル開始付加重合を受ける単量体の光重合性化合物 を挙げられる。また、垂下基、たとえば、露光されたときに架橋または硬化を促 進するエチレン性不飽和基や、架橋によりまたは光二量体化により硬化を促進す るその他反応性基、たとえば、シンナメート基、を有する巨大分子または重合体 化合物も適する。

望むならば、コポリエステル前駆体反応体の未反応混合物と、酸性の光生成可能 な触媒か、コポリエステルの生成のための光反応性系として使用できる。たとえ ば、縮合重合体にするためのジカルボキシル前駆体化合物とジオール前駆体化合 物の混合物は、酸性の光生成可能な触媒を使用して、露光領域ではエステル化す ることができ、露光領域での縮合重合体の生成およびそれに伴って必要な光硬化 を与える。米国特許第３，９６８，０８５号（Ｇ、　Ｒａｂｉｌｌｏｕｄ他に対 して１９７６年７月６日に発行された）に記載されているような、オリゴエステ ルの生成に適する反応性単量体が使用できる。

層１４の光硬化を促進するのに特に好ましいのは、露光されたときに巨大分子ま たは重合体物質になる重合性単量体であり、好ましくは、ラジカル開始連鎖生成 反応の付加重合によって高重合体を生成することができる少なくとも一つの末端 エチレン性基を有する光重合可能なエチレン性不飽和単量体である。重合は、光 開始剤、すなわち、化学線によって活性化可能な遊離基生成付加重合開始系、を 使用して行うことかできる。かかる付加重合開始系は既知であり、その例は後述 する。

好ましい重合性単量体は、多官能性アクリレート単量体、たとえば、エチレング リコールやトリメチリロールプロパンやペンタエリトリトールの、アクリレート およびメタクリレートエステルである。これらは、層１４の露光領域ては、光開 始剤の存在下て単独重合によりまたは層１４の結着剤へのグラフト重合により重 合される。

適する光開始剤は、アセトフェノン誘導体（たとえば、２．２−ジメトキシ−２ −フェニルアセトフェノン）、ヘンジインまたはアルキル置換アントラキノン、 アゾビスイソブチロ−ニトリルおよびアゾ−ビス−４−シアノ−ペンタノン酸で あるが、その他も使用できる。

水溶性巨大分子結着剤と重合性単量体と光開始剤からなる感光性組成物は、適切 に層状塗布することができ、そして露光されたときには、重合性単量体の単独重 合および重合体結着剤への単量体のグラフト化の結果として不溶化および硬化を 受ける。望むならば、その他の架橋剤、たとえば、二官能性のタイプのもの（た とえば、ジビニルベンゼン）を層１４の中に含有することができ、そうしてその 不飽和部分を介して重合性単量体への又は上に横たわる層１６の結着剤または重 合性成分への架橋が促進される。

露光によって変化される、または露光されたときに層１４の物理的性質の変化を 促進する、反応性垂下基を含有する予め生成された重合体も、また、層１４の中 に使用するのに適する。かかる反応性基は転位、重合またはその他の反応を受け るものである。好ましい重合体は、光開始剤を使用して、放射線によって架橋す ることができるエチレン性不飽和の垂下部分を有するものである。

架橋性垂下基を存する予め生成された重合体は、たとえば、ヒドロキシルを含有 する重合体（たとえば、ジカルボン酸と多価アルコールのポリエステル）と、ジ イソシアネート基を含有するビニル単量体（たとえば、イソシアナトエチルアク リレートまたはメタクリレート）との反応生成物を挙げられる。ウレタン結合を 有する架橋重合体を提供して層１４を硬化するには、架橋剤と光開始剤を使用す ることができる。

望むならば、シンナメート基のような反応性垂下基を有する予め生成された重合 体が、光不溶イ°ヒまたは光硬化を促進するために使用できる。たとえば、シン ナミン酸を使用してのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）のヒドロキシル基のエス テル化によって生成されたＰＶＡシンナメー１−は、シンナモイル基の光二量体 化によって架橋を促進するために使用できる。

露光されると環膨張（光転位）を受けてジアゼピン基になるピリジニウムイリド 垂下基を有する予め生成された重合体も使用できる。かかる基を有する重合体の 例は米国特許第４，６７０，５２８号（Ｌ、　Ｄ、　Ｔａｙｌｏｒ他に対して１ ９８７年６月２日に発行された）に記載されている。

ＩＷ１４は一般的には薄層であるけれとも、その厚さは変動可能である。従って 、層１４は、良好な均一性、耐久性および親水性保持を示す層になるように容易 に塗布できるような厚さのものであろう。しかしながら、厚さは、許容できる画 像品質の実現を大いに危うくする厚さを越えるへきでない。層１４の厚さは、上 記要件および使用される親水性巨大分子の具体的特性に依存し、そしてそれらに 照らして変動可能であるが、良好な結果は約Ｏｌμ〜約２μの範囲の厚さを有す る層を使用して得ることができる。

基体１２の上に層１４を形成する際には、非イオン性アルキルフェノールポリエ トキシレートのような界面活性剤を使用して、親水性結着剤の水性相の中の重合 性単量体（またはその他の光硬化性の化合物または系）の水中油型乳濁物の形態 で被覆性組成物を適用することが好ましい。かかる乳濁物は、重合体結着剤を攪 拌によって水性ビヒクルの中に導入し：溶媒（たとえば、酢酸エチル）の中の重 合性単量体（またはその他の光活性の化合物または系）と光開始剤の溶液、酸化 防止剤およびその他の添加剤を加え：そして界面活性剤水溶液を添加することに よって、製造できる。光活性材料の分散相を有する親水性結着剤組成物から得た 親水性層は、良好な親水性と耐久性の観点から好ましい。加えて、疎油性非スカ ミング領域１４ｕを裸出させるために、この層から、その上に横たわる疎水性層 １６の非露光領域１６ｕを除去することも容易に行うことができる。

層Ｉ４の中に使用される光重合性単量体またはその他の光活性化合物または系は 、しばしば、かかる層の結着剤の中に不溶性である、すなわち、分散相もしくは 乳濁物として層中に存在するので、かかる単量体、化合物または系か層から一部 分離して局在表面濃縮の生成または層１４と１６の間の光活性材料の薄層の形成 が起こる。

たとえば、光活性材料の分散相または乳濁物を含有する結着剤組成物から親水性 層を塗布し乾燥すると、分散された光活性材料の分離または塗布層表面への移動 が観察される。結果として、親水性層の少なくとも基体１２に隣接した帯域はか かる光活性材料の比較的低濃度を含有し、他方、層の基体１２から遠い方の表面 帯域はかかる光活性材料の高濃度を含んでいるであろう。光活性材料は親水性層 １４から分離して疎水性材料の比較的薄い表面層を形成していてもよく、それは 疎水性層１６のための接着層として作用する。親水性層１４と疎水性層１６の界 面での疎水性光活性材料の局在濃縮の存在、または層１４と１６の間の疎水性光 活性材料の別個の層の存在（図示されていない）は、層１４とその上の層１６と の光結着が架橋および重合体の相互浸透によって向上するという観点からは有利 であろう。

層１６はプレート１０の主要な画像形成層を構成し、そして疎水性重合体結着剤 と、露光領域での層の不溶化または硬化を促進する光活性化合物とを含んでいる 。層１６に使用するのに適する光活性化合物は層１４に関連して記載したもので ある。しかしながら、一般には、層１６の必要な光重合および硬化を行うために 光重合性単量体を使用することが好ましい。

層１６の主成分は、適する親油性およびインキ受容性の疎水性層を提供する重合 体結着剤である。層１６のための好ましい組成物の中には、巨大分子存機結着剤 、ラジカル開始連鎖生長反応の付加重合によって高重合体を生成することかでき る少なくとも一つの末端エチレン性基を有する光重合性エチレン性不飽和単量体 ：および化学線によって活性化可能な付加重合開始系；を含有している組成物が ある。適する巨大分子結着剤材料は、塩化ビニリデン共重合体（たとえば、塩化 ビニリデン／アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン／メチルメタクリレー ト共重合体、および塩化ビニリデン／酢酸ビニル共重合体）；エチレン／酢酸ビ ニル共重合体：セルロースエステルおよびエーテル（たとえば、酢酸酪酸セルロ ース、酢酸プロピオン酸セルロース、およびメチル、エチルベンジルセルロース ）：合成ゴム（たとえば、ブタジェン／アクリロニトリル共重合体：塩化イソプ レンおよびクロロ−２−ブタジェン−１，３−ポリマー）；ポリビニルエステル （たとえば、ポリビニルアセテート／アクリレート共重合体、ポリ酢酸ビニルお よびポリビニルアセテート／メチルメタクリレート共重合体）：ポリアクリレー トおよびポリアルキルアクリレートエステル（たとえば、ポリメチルメタクリレ ート）：およびポリ塩化ビニル共重合体（たとえば、塩化ビニル／酢酸ビニル共 重合体）などである。

かかる組成物用の適する光重合性エチレン性不飽和単量体は、二官能性および三 官能性アクリレート、たとえば、先に挙げた多価アルコールのアクリレートおよ びメタクリレートエステル（たとえば、ペンタエリトリトールトリアクリレート およびトリメチロールプロパントリアクリレート）などである。その他の適する 単量体は、エチレングリコールジアクリレートまたはジメタクリレートまたはそ れらの混合物：グリセロールジアクリレートまたはトリアクリレート；およびそ れらのエトキシレートなどである。化学線を使用して単量体重合を開始させるた めの、組成物中の光開始剤は、先に挙げた光開始剤である。

平版プリンティング表面を提供する既知の巨大分子結着剤と重合性単量体の組み 合わせは、層１６の製造のためにここに適して使用できる。露光されると、層１ ６の露光領域！６ｅは、重合性単量体の単独重合の効果によって、また、巨大分 子結着剤を含有するならばグラフト重合によって、硬化される。領域１６ｅは、 図ＩＣのプリンティングプレートの、インキを担持しインキを転写する領域であ り、そしてプレートの耐久性および作動寿命に必要な度合にまで重合される。

プリンティングプレートの露光は層Ｉ６の具体的組成物およびその厚さにより指 定された要求に従って行うことかできる。一般に、露光、たとえは、比較的長い 波長の紫外線照射または可視照射、のためには、通常光源からの化学線か使用で きる。紫外線光源は特に好ましく、炭素アーク灯、「Ｄ」バルブ、ギセノンラン プおよび高圧水銀灯なとである。

層１６の厚さは具体的要求によって変動可能である。

一般に、それは耐久性の、光硬化した、プリンティング表面を提供するように十 分な厚さを存するものである。

しかしながら、厚さは、それが要求された露光時間の範囲内で露光することがで きるように、制圓されるべきであり、かつ非露光領域における層の、水または湿 し液による容易な除去を妨げる厚さで適用されるべきでない。

良好な結果は、約０．２μ〜約３μの範囲の厚さを有する層１６を使用して得ら れる。

図ＩＢに示されているように、プレー）１０が露光されると、光不溶化または光 硬化は領域１６ｅと１４ｅに同時に起こる。出願人は特定の理論または機構によ って拘束するつもりはないが、層１４および１６の各層における、重合体の相互 浸透および／または重合性単量体をまき込む共重合は、領域１４ｅと１６ｅの間 の強い結合または接合を促進する作用を果たす。従って、プレートを印刷機上に 設置の前または後に洗浄すると、層１６の非露光領域１６ｕ（図ＩＢ）が除去さ れて、図ＩＣに示された、必要な耐久画像パターン領域１６ｅを有するプリンテ ィングプレートが製造される。

層１４および１６の各々は、具体的要求に適するように追加の成分または添加剤 を含有することができる。層１４は、たとえば、塗布適性を改良するため又は層 の必要な物理的性質または基体１２への接着性を促進するために、可塑剤、使用 される具体的光活性化合物または系に適する増感剤または触媒、硬膜剤、または その他薬剤を含有することができる。同様に、層１６は、改良された塗布適性ま たは層１４と１６の間の密着性の調節のだ　。

めに添加剤を含有することができる。１１１４および１６のどちらも、不要な（ 早すぎる）重合を防止するために酸化防止剤物質を含存することができ、その具 体例は、テトラキス（（メチレン（３，５−ジーｔｅｒｔ−２−ブチルー４−ヒ ドロキシシンナメート））メタン；チオジエチレンビス−（３，５−ジーｔｅｒ ｔ−ブチルー４−ヒドロキシ）ヒドロシンナメート：およびメトキシヒドロキノ ンなどである。しかしながら、その他の酸化防止剤またはそれらの混合物も使用 できる。

層１４および１６のどちらか又は両方は、所望の及び予め定められた目視外観を 付与するために、着色剤、たとえば、色彩染料、をもって提供されることができ る。

特に好ましいのは、製版用露光工程の照射によって無色または着色どちらかにな ることが可能である着色剤または着色種の前駆体であろう。かかる染料または染 料前駆体化合物および露光によって促進された吸光差は、プレートメーカーか、 露光済みプレートを印刷機に設置して印刷走行の実施を進行させる際に、プレー トの露光領域を非露光領域から容易に区別することを可能にする。

望むならば、プレート１０は、汚れや磨滅に抗してその表面１６を保護するため 、ブロッキングに抗して保護するため、および酸化防止剤を保護するために、保 護オーバーレイを付与されることかできる。かかるプレートは図２に製品２０と して示されており、それはプレートから一部分取り除かれた状態で示されている 保護オーバーレイ１８を具備している。図２に示されているような保護オーバー レイを有する態様で使用される場合、露光はオーバーレイ１８に通して行うこと ができる。しかしながら、一般には、先に記載されているような仕方で実施され る露光に先立って、図２に示されているように、プレートからオーバーレイ１８ を除去することが好ましい。図２の製品２０は、オーバーレイ１８の保護特性を 必要とする場合の好ましい態様であろう。

図３には、層１６の非露光領域１６ｕを除去することができる保護シートを使用 した場合の本発明のプレート３０が示されている。保護オーバーレイ１９は、シ ート１９を層１６に接着させる作用を果たしそして層１６に対するその接着度か 層１４に対する層１６の接着力より大きい接着剤の層（図示されていない）をも って、付与されることができる。図３に示されている通り、層１６の分割は層１ ６の凝集力が層１６とシート１９の間の接着力より大きいことを要求することい うことか認識されよう。

図３に示されている態様の場合には、露光は、オーバーレイ１９を層１６に付着 させる前または後に行うことができる。従って、望むならば、層１６は、オーバ ーレイ１９を層１６に積層する前に露光することができ、そしてかかる露光後に オーバーレイ１９を除去すると、層１６の非露光領域１６ｕは一段階の乾式現像 で除去される。代わりに、上記のように接着剤の層（図示されていない）をもっ て付与されるオーバーレイ１９は、オーバーレイ１９を通して露光する前に、層 １６の上に積層することかできる。露光後にオーバーレイ１９を除去すると、層 １６の分割が図３に図示された仕方で実施され、そして得られたプレートは追加 の処理工程を必要とすることなくプリンティングプレートに使用できる。

図２および図３に示されている態様においてオーバーレイ１８およびＩ９として 様々なシート状材料を使用することかでる。従って、ポリエチレン、三酢酸セル ロース、紙、またはポリエステルたとえばポリエチレンテレフタレート、のよう なシートまたはホイル材料か使用できる。オーバーレイシート１８および１９は 具体的要求によって指定されるように不透明であってもよいし又は透明であって もよいが、一般的には、シート１８および１９は透明材料からなるであろう。た とえば、オーバーレイ１９が層１６の露光前に層１６の上に配置されるへき場合 には、プレートから除去されるときに層１６の非露光領域を除去するオーバーレ イ１９の不透明度は、露光かオーバーレイ１９を通して行われること、およびオ ーバーレイ１９か化学線を透過する層をからなることを指定されよう。透明なポ リエチレンシートは好ましいオーバーレイ材料である。

次に本発明を代表する実施例を示すが、実施例は本発明の例証であって本発明を 制限することを意図しない。

別に指定されていない限り、割合は全て重量による。

電気化学的に粗面化され、陽極酸化され、そしてポリビニルホスホン酸によって 親水性化処理されている、約６ミル（０，１５ｍｍ）の厚さを存するアルミニウ ム板の上に、０．３５μの厚さを有する親水性層を塗布した。

この親水性層は、水と酢酸エチルの９２．５／３．５の混合溶剤中の固形分（４ ％）の組成物から塗布され、次の組成を存していた： 成分　％ ポリエチレングリコール　ワックス　４９．５分子量１７，０００ （カルボワックス（Ｃａｒｂｏｗａｘ）　２０　Ｍ。

ユニオンカーバイド社） ＵＶ光開始剤　４．５ （２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、イルガキュア（Ｉｒｇａ ｃｕｒｅ）　６５１　。

チバガイギー社） 酸化防止剤　０．５ （テトラキス（メチレン（３，５−ジーｔｅｒｔ−２−ブチルー４−ヒドロキシ ヒドロシンナメート））メタン、 イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）　ｌ　０１０　。

チバガイギー社） トリメチロールプロパントリアクリレート　４５．５オクチルフェノキシポリエ トキシエタノール（トリトン（Ｔｒｉｔｏｎ）Ｘ　−１００、ローム＆ハース社 、２５％水溶液として添加）上記層は次の仕方で形成した。ポリエチレングリコ ールワックスは攪拌しながら水中に完全に溶解した。光開始剤および酸化防止剤 は酢酸エチルの中に溶解した（５％固形分）。゛ノニファイヤ（ｓｏｎｉｆｉｅ ｒ）を水溶液の中に置き、そして始動し、そこに、トリメチロールプロパントリ アクリレートと、酢酸エチル／光開始剤／酸化防止剤の溶液を、各々の場合に、 １０〜２０秒の範囲でゆっくり加えた。得られた５０ｇの乳濁物に対して、２〜 ３滴のトリトンＸ−１００を添加した。乳濁物をさらに２〜３分間、全体にソニ ファイし、そしてマイヤー＃４０ッドを使用して、上記アルミニウム板の上に塗 布して約０．３５μの厚さの上記親水性フィルムをもたらした。

フィルムはオーブン（１７０°Ｆ）の中で２分間乾燥した。

この親水性フィルムの上に、疎水性フィルムを８．４％固形分の組成物から塗布 した。疎水性フィルムは次の組成を存していた・ 成分　％ エトキシル化トリメチロールプロパン トリアクリレート （サルトマ−４５４、サルトマー社）　２２．０エトキシル化トリメチロールプ ロパン トリアクリレート （ヘンケル（Ｈｅｎｋｅｌ）４１５５、ヘンケル社）　２２．０高分子量ポリ（ エチルメタクリレート）エルバサイト（［ＥＩｖａｃｉｔｅ）　２０４２、Ｅ、 １．　デュポン　ドヌムール社　３６．５低分子量ポリ（エチルメタクリレート ）エルバサイト２０４３、Ｅ、１．デュポンドヌムール社　１２．０ 光開始剤、イルガキュア６５１　６．５酸化防止剤、イルガノックス１０１０　 １．０上記疎水性層は約０．７μの厚さで親水性層の上に塗布された。得られた プリンティングプレートはＵＶ露光フレームの中に置き、そして通常の仕方でタ ーゲットを介して化学線照射で露光した。露光済みプレートはそれ以上の処理（ たとえば、洗浄またはゴム引き）工程なしで印刷機上で使用した。このプリンテ ィングプレートは１５０線／インチのスクリーン上で２〜９８％のドツトおよび ＵＧＲＡスケール上でＩＯμ線の解像力をもたらした。このプレートはマルチグ ラフィックス・デュブリケーター印刷機上で３〜９８％のドツトおよび１０μの 線を印刷した。プレートの耐久性は良好であった：許容できる３０，０００より 多い印刷を作成した。

次の成分から塗布組成物（４８９％固形分）を調製水　９２．８８ トリトンＸ−１００（２５％、水中’）　０．１５トリメチロールプロパントリ アクリレート　１．１５ポリエチレングリコール （カルボワックス２０Ｍ）　２．００ イルガキユア６５１（５％、酢酸エチル中’）　３．４０上記塗布組成物はビー カーの中で調製した。まず、ビーカーに、水、トリトンＸ−１００およびソニフ ァイヤを入れた。界面活性剤の溶液をソニファイしながら、トリメチロールプロ パントリアクリレートを滴加し、相転換を生じさせた。カルボワックスとイルガ キュー成分を滴加し、この添加が完了したら、乳濁物を３分間ソニファイし、数 μの液滴を有する非常に微細な乳濁物を生成した。

得られた乳濁物を、実施例１に記載されているアルミニウム板の上０．４３〜０ ．５４μの厚さに塗布した。

この塗膜をオーブン（１８０°Ｆ）の中で乾燥して重合体親水性層をもうけた。

（重合体疎水性層を形成するための）塗布組成物は次の成分から８．３８％固形 分に調製した。（磁気攪拌器の助けによって）成分は指定された順序で混合し、 そして最終添加後に５分間混合した： 成分　量（ｇ） 酢酸エチル　５０．００ イルガキユア６５１　０．４９ イルガノツクスＩ　Ｏ１００，０２ イルガノツクス１０３５ （チオジエチレン　ビス−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ） ヒトロンンナメート、チバガイギー社）　０．０２メトキシヒドロキノン （０３８％、酢酸エチル中）　１．６２エルバサイト２０４５、 ポリ（イソブチルメタクリレート）、 Ｅ、１．デュポン　ドヌムール社　１．５０トリメチロールプロパントリアクリ レート（９９％）　２．７２ 得られた組成物は、０．７０μの塗布厚さになるように＃４湿潤フィルム塗布器 ロッドを使用して、重合体親水性層の上に塗布した。このプレートは１８０°Ｆ のオーブンで３分間乾燥した。

このプリンティングプレートはＵＶ露光フレームの中に置き、そしてターゲット を介して露光した。露光済みプレートは（ゴム引きまたは現像工程なしで）、マ ルチ２８５０Ｓ印刷機上で設置し、そして印刷機はライコツ（Ｗｉｋｏｆｆ）イ ンキを用いて３５．０００印刷のために走行した。ハイライト領域でのドツトの 損失は３５．０００印刷で起こることが最初に観察された。このプレートはハイ ライト領域およびシャドー領域で１２μ線の解像力をもたらした。ハイライトド ツト＝　９８％：シャドード水性乳濁塗布材は次の成分から調製した：成分　量 （ｇ） カルボワックス２０Ｍ　２．００ サルトマ−３５１１，８５ イルガキユア６５１（２０％、酢酸エチル中＞　０．９１イルガノツクス＋０１ ０ （テトラキス（メチレン（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒトロキシヒド ロノンナメート））メタン、チバガイギー社）０．２２ イルガノツクス１０３５　（１０％、エチル中）０．２２トリトンＸ−１００（ ２５％水溶液＞　０．１０蒸留水　４８．００ 上記乳濁物は次のようにして調製した。まずカルボワックス２０Ｍを水中に溶解 し、そしてサルトマー３５１を滴加しながらソニファイした。イルガキュア６５ １、イルガノックス１０１０およびイルガノックス１０３５の溶液を混ぜ合わせ 、そして滴加した。それから、トリトンＸ−１００を滴加し、そしてこの乳濁物 を３分間ソニファイした。この水中油壓乳濁物は、＃４マイヤーロッドを使用し て、実施例１に記載のアルミニウム板の上に９μの湿潤厚さに塗布した。この板 を乾燥して重合体親水性層をもたらした。

溶剤塗布組成物は下記成分から、成分を磁気攪拌機の助けによって３０分間攪拌 することにより、調製した：成分　量（ｇ） エルバサイト２０４５　１．５０ イルガキユア６５１　０．４９ イルガノックス１０，１０　０．０２ イルガノツクス１０３５　０．０２ サルトマー３５１　２．７２ 酢酸エチル　４９．５０ この溶剤塗布材は、＃４マイヤーロッドを使用して、重合体親水性層の上に、９ μの湿潤厚さに塗布した。このプレートを乾燥し、そして真空露光フレームの中 で、３８０ｎｍで、５キロワツト光源を使用して、画像形成した。露光後、この プリンティングプレートは、水または湿し液を使用して５〜１０秒間洗浄した。

どちらの場合も、親水性非露光領域は清浄に維持され、そしてスカミングがなく 、他方、露光領域は親油性（インキ親和性）重合体親水性層を実施例３に記載さ れている仕方でアルミニウム板の上に塗布した。この親水性層の上に、重合体疎 水性層を、下記成分からなる組成物から、（実施例３に記載されている仕方で） 塗布した成分　量（ｇ） エルバサイト２０４５　１．５０ イルガキユア６５１　０．４９ イルガノツクス１０１０　０．０２ イルガノツクス１０３５　０．０２ エトキンル化ｌ・リメチロールプロパントリアクリレート （サルトマー４５４、サルトマー社）　２．７２酢酸エチル　４９．５０ 塗布層を乾燥して得られた平版プリンティングプレートは、実施例３に引用され ているのと同じ条件下で画像形成した。露光済みプレートは水または湿し液で１ ０秒間洗浄した。画像領域は親油性（インキ受容性）を示したか、非画像領域は そうてなかった。

実施例５ 実施例１に記載されているようなアルミニウム板の上に、下記成分からなる塗布 組成物を使用して、（やはり実施例１に記載されている仕方で）重合体親水性層 を塗布し乾燥した： 成分　量（ｇ） カルボワックス２０Ｍ　２．００ サルトマ−４５４１，８５ イルカキユア６５１（２０％、酢酸エチル中）　０．９１イルガノツクス１０１ Ｏ （１０％、酢酸エチル中）０．２２ イルガノツクス１０３５ （１０％、酢酸エチル中）　０．２２ トリト：／Ｘ−１００（２５％、水中＞　０．１０蒸留水　４８．００ 得られた親水性層の上に、重合体疎水性層を、実施例３に記載されている塗布組 成物および方法を使用して、塗布した。このプレートをオーブン乾燥し、そして 実施例３に記載されている仕方で露光した。露光済みプレートを水または湿し液 で１０秒間洗浄した。露光領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領 域はそうで重合体親水性層を担持するアルミニウム板は、実施例５の記載に従っ て製造した。それから、この親水性層の上に、重合体疎水性層を、実施例４に記 載されている塗布組成物を使用して塗布した。このプレートを、実施例５に記載 されているように、オーブン乾燥し、露光し、そして洗浄した。プレートの露光 領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそうでなかった。

重合体親水性層を担持するアルミニウム板は、実施例３の記載に従って製造した 。この親水性層の上に、重合体疎水性層を、下記成分からなる塗布組成物を（＃ ４マイヤーロッドによって９μの湿潤厚さになるように）塗布することによって 形成した： 成分　量（ｇ） ポリメチルメタクリレート （エルバサイト２０１０．Ｅ、１．デュポンドヌムール社）１．５０ イルガキュア６５１　０．４９ イルガノツクスＩ　０１０　０．０２ イルガノツクス１０３５　０．０２ サルトマー３５１　２．７２ 酢酸エチル　４９．５０ このプレートをオープン乾燥し、そして真空フレーム内で露光した。プレートを 水または湿し液で５〜ｌＯ秒間洗浄した。露光領域はインキ受容性を示したが、 非露光領域はそうでなかった。

実施例８ 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布されたこと以外は、実施例７ に記載されている手順に従って、アルミニウムプリンティングプレートを製造し 、露光し、洗浄し、そして評価した： 成分　量（ｇ） ポリメチルメタクリレート 固有粘度１．２５（エルバサイト２０４１゜Ｅ、１．デュポン　ドヌムール社） 　１．５０イルガキユア　６５１　０．４９ イルガノツクス１０１０　０．０２ イルガノツクス１０３５　０．０２ サルトマー３５１　２．７２ 酢酸エチル　４９．５０ このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそ うでなかった。

実施例９ 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布されたこと以外は、実施例７ に記載されている手順に従って、アルミニウムプリンティングプレートを製造し 、露光し、洗浄し、そして評価した： 成分　量（ｇ） エルバサイト２０４２　１．５０ イルガキユア６５１　０．４９ イルガノツクス１０１０　０．０２ イルガノツクス１０３５　０．０２ サルトマー３５１　２．７２ 酢酸エチル　４９．５０ このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそ うでなかった。

実施例１０ 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布されたこと以外は、実施例７ に記載されている手順に従って、アルミニウムプリンティングプレートを製造し 、露光し、洗浄し、そして評価した・ 成分　量（ｇ） エルバサイト２０４４　１．５０ イルガキユア６５１　０．４９ イルガノツクス１０１０　０．０２ イルガノツクスＩ　Ｏ３５０，０２ サルトマー３５１　２．７２ 酢酸エチル　４９．５０ このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそ うてなかった。

実施例！！ 重合体疎水性層か下記成分からなる組成物から塗布されたこと以外は、実施例Ｉ ２に記載されている手順に従って、アルミニウムプリンティングプレートを製造 し、露光し、洗浄し、そして評価した： 成分　量（ｇ） ポリ（メチルメタクリレートーコーｎ　−ブチルメタクリレート）、 エルバサイト２０１３、Ｅ、Ｉ　デュポンドヌムール社　１．５０ イルガキユア　６５１　０．４９ イルガノツクス１０１０　０．０２ イルガノツクス１０３５　０．０２　’サルトマー３５１　２．７２ 酢酸エチル　４９．５０ このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそ うでなかった。

実施例１２ 実施例３の手順を使用して、アルミニウム板の上に、重合体親水性層を、乳濁物 から、＃４マイヤーロッドを使用して９μの湿潤塗布厚さに塗布した。この乳濁 物は下記成分から成る： 成分　量（ｇ） カルボワックス２０Ｍ　２．００ サルトマ−３５１１，８５ イルガキユア６５１（２０％、酢酸エチル中’）　０．９１イルガノツクス１０ １０ （１０％、酢酸エチル中）　０．２２ トリトンＸ−１００（２５％、水中）０．２０蒸留水　９６．０ 乾燥した親水性層の上に、重合体疎水性層を、溶剤の渦にゆっくり添加した下記 成分を（磁気攪拌機で３０分間）攪拌することによって得た組成物から、塗布し たニー　成分　量（ｇ） イルガキュア６５１　０．２ イルガノツクス１０１０ （１０％、酢酸エチル中）　０．３２ ポリエチレングリコールジメタクリレート（サルトマ−２１０、サルトマー社） １．５エルバサイト２０４２　１．１２ エルバサイト２０４３　０．３７ 酢酸エチル　３３．３ 得られたプレートを、乾燥し、真空フレーム内でＵＶ照射て露光し、そして水ま たは湿し液で１０〜２０秒間洗浄した。画像領域は親油性（インキ受容性）を示 したか、非画像領域はそうでなかった。

実施例１３ 重合体疎水性層か下記成分からなる組成物から塗布されたこと以外は、実施例１ ２に記載されている手順に従って、アルミニウムプリンティングプレートを製造 し、露光し、洗浄し、そして評価した： 成分　量（ｇ） エトキシル化ビスフェノールＡ ジアクリレート （サルトマ−３４８、サマトマー社）■、５エルバサイト２０４２　１．１２ エルバサイｌ−２０４３０，３フ イルガキユア６５１　０．２ イルガノツクス１０１０ （１０％、酢酸エチル中）　０．３２ 酢酸エチル　３３．３ このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそ うでなかった。

実施例１４ 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布されたこと以外は、実施例１ ２に記載されている手順に従って、アルミニウムプリンティングプレートを製造 し、露光し、洗浄し、そして評価した・ イルガキュア６５１　０．２ イルガノツクス１０１Ｏ （１０％、酢酸エチル中）　０．３２ ネオペンチルグリコールジアクリレート（サルトマ−２４７、サマトマー社）１ ．５エルバサイト２０４２　＋、１２ エルバサイト２０４３　０．３７ 酢酸エチル　３３．３ このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそ うてなかった。

実施例１５ 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布されたこと以外は、実施例１ ２に記載されている手順に従って、アルミニウムプリンティングプレートを製造 し、露光し、洗浄し、そして評価した： 成分　量（ｇ） イルガキュア６５１　０．２ イルガノツクス１０１０ （１０％、酢酸エチル中）　ｏ、　３２サルトマ−３５１１，５ エルバサイト２０４２　１．１２ エルバサイト２０４３　０．３７ 酢酸エチル　３３．３ このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそ うでなかった。

実施例１６ 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布されたこと以外は、実施例１ ２に記載されている手順に従って、アルミニウムプリンティングプレートを製造 し、露光し、洗浄し、そして評価した： 成分　量（ｇ） エトキシル化トリメチロールプロパン トリアクリレート （サルトマ−４５４、サルトマー社）１．５エルバサイト２０４２　１．１２ エルバサイト２０４３　０．３フ イルガキユア６５１　０．２ イルガノツクス１０１０ （１０％、酢酸エチル中）　０．３２ 酢酸エチル　３３．３ このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそ うでなかった。

上記のように製造したアルミニウムプレートを、露光し、水で洗浄し、そして周 囲条件下で５日間セットし、ゴム引きはしなかった。それから、このプレートを 印刷機に設置し、そしてスヵミングなしで少なくとも５００複写を作成した。上 記のように製造したアルミニウムプリンティングプレートを露光し、そしてさら に処理することなく印刷機に設置し、インキを供給し、そして通常の湿し液の代 わりに水を供給した。少なくとも２００複写を走行した。（湿し液の代わりの） 水は印刷機上での現像を可能にした。

実施例１７〜２４ これら各実施例においては、重合体疎水性画像形成層が表１に掲載されている成 分からなる各組成物を塗布することによって形成されたこと以外は、実施例１２ に記載されている手順に従って、プリンティングプレートを製造し、露光し、洗 浄し、そして評価した：実施例２５〜３２ 実施例１に記載されているプリンティングプレート用基体を使用して、そこに記 載されている仕方で、プリンティングプレート製造した二股水性層は下記の塗布 配合物（配合物２５〜３２）がら３ｏｏＩＩＩｇ／Ｉ１１！ノ被覆量に塗布し： そして疎水性画像形成層は次の成分を存する組成物を使用して＃４マイヤーロッ ドで適用した：酢酸エチル　４５．０ イルガノツクス１０１０ （ａＯ％、酢酸エチル中）ｏ、２ ＩＴＸ　（３％、酢酸エチル中）　０．３４イルガキユア３６９（５％、酢酸エ チル中＞　０．６２エルバサイト２０４２　２．２７ ＴＭＰＴＡ　１．６７ 各々の場合に、親水性塗布配合物はマイクロ流動化装置に２回通して水中油型乳 濁物にし、それをワイヤバーによって、親水化され粗面化された陽極酸化アルミ ニウム基体の上に塗布した。実施例２５〜３２は、エチレンオキシド／プロピレ ンオキシドブロック共重合体およびセルロースエーテルのタイプの親水性結着剤 を使用することを例証している。

エチレンジアミン／プロピレンオキシド／エチレンオキシドブロック共重合体 （テトロニクス（Ｔｅｔｒｏｎｉｃｓ）　ｌ　１０７．２０％、水中）　ｒｏ、 ｏ。

トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）　１．８４ イルガノツクス１０１０ （４％、酢酸エチル中）、５０ ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−（４−モルホリニル）フェ ニル）−１−ブタノン （イルガキュア３６９．５％、酢酸エチル中）、７２イソプロピルチオキサント ン（ＩＴＸ）３％、酢酸エチル中　、６０ トリトンＸ−１００（２５％、水中）、ｌＯ蒸留水　９０．００ へ遼物２６　量（ｇ） プロピレンオキシド／エチレンオキシドブロック共重合体 （プルロニクス（Ｐｌｕｒｏｎｉｃｓ）　Ｆ　８７．２０％、水中）　ｒｏ、　 ｏ。

トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）　１．８４ イルガノツクス１０１０ （４％、酢酸エチル中）、５０ ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−（４−モルホリニル）フェ ニル）＝１−ブタノン （イルガキュア３６９．５％、酢酸エチル中）、７２　“イソプロピルチオキサ ントン（ＩＴＸ）３％、酢酸エチル中　、６０ トリトンＸ−１００（２５％、水中）　、１０蒸留水　９０．００ 配合物２７　量（ｇ） エチレンジアミン／プロピレンオキシド／エチレンオキシドブロック共重合体 （テトロニクス９０８．２０％、水中）１０．００トリメチロールプロパントリ アクリレート（ＴＭＰＴＡ）　１．８４ イルガノツクス１０１０ （４％、氷酢酸エチル中）、５０ ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−＋４−　（４−モルホリニル）フ ェニル）−１−ブタノン （イルガキュア３６９．５％、酢酸エチル中）、７２イソプロピルチオキサント ン（ＩＴＸ）３％、酢酸エチル中　、６０ トリトンＸ−１００（２５％、水中）、ｌＯ蒸留水　９０．００ 配合物２８　量（ｇ） プロピレンオキシド／エチレンオキシドブロック共重合体 （プルロニクスＦ１２７．２０％、水中）　１０．００トリメチロールプロパン トリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）　１．８４ イルガノツクス１０１０ （４％、酢酸エチル中）、５０ ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−（４−モルホリニル）フェ ニル）−■−ブタノン （イルガキュア３６９．５％、酢酸エチル中）、７２イソプロピルチオキサント ン（ＩＴＸ）３％、酢酸エチル中　、６０ トリトンＸ−１００（２５％、水中）、１０蒸留水　９０．００ 配合物２９　量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセル（Ｍｅｔｈｏｃｅｌ）Ｅ　ｌ　５　Ｌ　Ｖ、ダウケミカル社、２％、 水中’）　１０．００トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ） 　１．８４ イルガノツクス１０１０ （４％、酢酸エチル中）、５０ ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−（４−モルホリニル）フェ ニル）−１−ブタノン （イルガキュア３６９．５％、酢酸エチル中）、７２イソプロピルチオキサント ン（ＩＴＸ）３％、酢酸エチル中　、６０ トリト：／Ｘ−１００（２５％、水中）、ｉ。

蒸留水　９０．００ 配合物３０　量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセルＥ５０ＬＶ、ダウケミカル社、２％、水中）　１０．００ トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）　１．８４ イルガノツクス１０１Ｏ （４％、酢酸エチル中）、５０ ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−！−（４−（４−モルホリニル）フェ ニル）−１−ブタノン （イルガキュア３６９．５％、酢酸エチル中）、７２イソプロピルチオキサント ン（ＩＴＸ）３％、酢酸エチル中　、６０ トリトンＸ−１００（２５％、水中）、ｌＯ蒸留水　９０．００ 配合物３１　量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセルＦ５０ＬＶ、ダウケミカル社、２％、水中）　１０．００ トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）　１．８４ イルガノツクス１０１０ （４％、酢酸エチル中）、５０ ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１（４−（４−モルホリニル）フェニ ル）−１−ブタノン （イルガキュア３６９．５％、酢酸エチル中）、７２イソプロピルチオキサント ン（ＩＴＸ）３％、酢酸エチル中　、６０ トリトンＸ−１００（２５％、水中）　、１０蒸留水　９０．００ 配合物３２　量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセルに３５ＬＶ、ダウケミカル社、２％、水中＞　ｉｏ、ｏ。

トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）　１．８４ イルガノツクス１０１０ （４％、酢酸エチル中）、５゜ ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−（４−モルホリニル）フェ ニル）−１−ブタノン （イルガキュア３６９．５％、酢酸エチル中）、７２イソプロピルチオキサント ン（ＩＴＸ）３％、酢酸エチル中　、６０ トリトンＸ−１００（２５％、水中）、ｌＯ蒸留水　９０．００ プリンテイングプレートを印刷機上で現像するために印刷機に設置し、そして印 刷走行の実施に利用した。これらプレートはスカミングせず、そして許容できる プリンティングプレートの操作パラメーターの範囲内の性能を有していた。

実施例３３ 実施例１に記載されているようなアミルニウム板の上に、重合体親水性層は、下 記成分からなる乳濁塗布組成物を使用して、（やはり、実施例１に記載されてい る仕方で）塗布し乾燥した： 成分　量（ｇ） カルボワックス２０Ｍ（２０％、水中’）　２．９７７ＰＥＧ８０００、ポリエ チレングリコール、分子量８０００、ユニオンカーバイド社、（２０％、水中） 　１．９８ ７ＭＰＴＡ　（９９％）　０．９４ イルガノックス３６９（５％、酢酸エチル中）　０．４１６イルガノツクス１０ １０ （４％、酢酸エチル中）　０．０７５ ＩＴＸ　（３％、酢酸エチル中）　０．２３トリトンＸ−１００（２５％、水中 ’）　０．２０蒸留水　４３．１８ 得られた親水性層の上に、重合体疎水性層は、実施例２５〜３２に記載されてい る塗布組成物および方法を使用して、塗布した。

プレートをオーブン乾燥し、露光し、そして印刷機上での現像のために印刷機に 設置した。このプレートは許容できる約２５，０００印刷を提供した。

比較例 上記実施例に記載した仕方で製造したプリンティングプレートと比較するために 、下記試験を行った。

比較例Ａ 実施例１に記載されている通りの、粗面化され、陽極酸化され、そして親水化処 理された、プリンティングプレート用基体を、プレートを水で湿潤し、それから 親水性表面を親油性インキ（ヘキスト社からＲＣ−４３インキとして入手可能な 黒色保護インキ）で擦ることによって、親水性について評価した。インキは親水 性表面によって反撥された。すなわち、湿潤表面はスカミングされず、良好な親 水性を示し、そしてインキ組成物に対する親和性を示されなかった。かかるプレ ートの表面上に、最初に水で湿潤しないで、インキを擦った場合には、プレート 表面はインキでスカミングされ、それから、そのインキは水洗によって除去でき なかった。

比較例Ｂ アルミニウムのプリンティングプレート用基体材料のサンプルに直接に、疎水性 結着剤／重合性単量体の組成物を（実施例３．４．７．８．９、ｌ０１ｌＬ１３ ．１４および１５に記載されている組成物を使用して）塗布した。すなわち、プ リンティングプレート用基体の既に親水性である表面の上に、まず樹脂状親水性 層を塗布することをしなかった。疎水性層を塗布したサンプルを乾燥し、露光な しで、次の処理をした＝（１）流れる水道水の下で洗浄し、それからインキで擦 る：および（２）逆の順序で、すなわち、インキで擦ってから、水洗する。

どの場合も、疎水性層はインキ親和性を示した、すなわち、スカミングされた。

非露光の（そして非インキ処理の）疎水性層は、水洗によっても、または酢酸エ チルによる洗浄によっても、プレートの親水性表面から除去可能でなかった。非 インキ処理の疎水性層の、プレート表面への付着性は、洗浄済みプレートを後か らインキ処理して観察された実質的スカミングにより、確認された。

従って、これら疎水性組成物は、プレート用基体の親水性化処理した表面上に直 接適用する画像形成層の生成には適していなかった。

比較例Ｃ プリンティングプレート用基体のサンプルに、親水性カルボワックス２０Ｍ乳濁 組成物だけを、実施例３および５に記載の組成物を使用して、塗布した。どの場 合にも、その上にさらに疎水性層を適用しなかった。層は、０．２μ〜１μの範 囲の乾燥フィルム厚で試験した。ネガマスクを通してのＵＶ露光後に、プレート 上には不鮮明なパターンが観察された。水洗後、得られたプレートにインキを適 用すると、プレートの表面全体にわたってインキのビーズ化（反撥）を示し、い くつかの領域は他より低いイン十反溌を示した。プレートは露光領域または非露 光領域どちらでもインキ保留性を示さず、画像表面または印刷表面が形成されず 、そのことは、実施例３および５の親水性結合剤／重合性単量体の組成物から塗 布された層が、プリンティングプレート製造のための単独の画像形成層としては 不適合であることを意味している。

比較例Ｄ プリンティングプレートは実施例３３に記載されている仕方で製造した。ただし 、そこに記載されている（光重合性ＴＭＰＴＡ単量体を含有する）親水性層の代 わりに、水（９６ｇ）の中のカルボワックス２０Ｍ（２，４ｇ）とＰＥＧ８ｏｏ ｏ　（１，６ｇ）を含む水溶液から塗布されたポリエチレングリコールの層を使 用した。得られたプレートを露光し、そして印刷走行の実施に使用したところ、 実施例３３のプリンティングプレートからは２５．０００印刷が得られるのに比 べて、許容できる約７０００印刷を生じた。

〆１０ ＦＩＧ、ＩＣ ＦＩＧ、　３ 国際調査報告 ＋Ｐｍｖ＋＠＋ｌｅ＋＋ｍ　Ａｍ１ｅｓｌｌｓｅ　ｌｌ＆　ＰＣＴハＪＳ　９２ １０７５４１国際調査報告 ミミョミ＃＝巨ジ＝ミ＝ミ＝ニジ＝：＝二＝；坐奪電＝ニー−フロントページの 続き （７２）発明者　ラングレイス、ニージン、エル。

アメリカ合衆国０２０５６　マサチューセッツ州ノーフォーク、フォーリスト　 レーン（７２）発明者　セント　ジャック、クラレンス、エフ。

アメリカ合衆国０２８６１　ロードアイランド−州ポウタケット、オズワルド　 ストリート斜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．順に、 プリンティングプレート用基体； 親水性巨大分子の有機結着剤と、露光領域では不溶化または硬化を促進すること ができる光重合性、光架橋性または光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の 感光性親水性層；および、 疎水性巨大分子の有機結着剤と、露光領域では不溶化または硬化を促進すること ができる光重合性、光架橋性または光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の 感光性疎水性層； を含んでおり、 前記感光性親水性層および感光性疎水性層の各々の露光領域は前記露光によって 光不溶化または光硬化され；前記感光性疎水性層の非露光領域は、前記露光後に 前記下に横たわる重合体親水性層から除去されるときに、前記重合体親水性層の 対応する下に横たわる領域を裸出するのに適合している； 平版プリンティングプレート。 ２．前記重合体感光性親水性層の前記不溶化または硬化を促進することができる 前記化合物が、ラジカル開始連鎖生長反応の付加重合によって高重合体を生成す ることができる少なくとも一つの末端エチレン性基を有する光重合性エチレン性 不飽和単量体を含んでいる、請求項１のプリンティングプレート。 ３．前記単量体が多官能性アクリル系単量体を含んでいる請求項２のプリンティ ングプレート。 ４．前記重合体感光性親水性層が、前記光重合性、光架橋性または光転位性の化 合物の分散相を有する前記親水性巨大分子有機結着剤の組成物から、前記プリン ティングプレート用基体に適用された層である、請求項１のプリンティングプレ ート。 ５．前記結着剤が、式 ＨＯ−（ＲＯ）ａ−Ｈ （式中、Ｒは、２〜約１０個の炭素原子を有するアルキレン基であり、そしてａ は、約４００〜５０，０００の範囲の分子量を与えるのに十分な整数である）の ポリアルキレンエーテルグリコールを含んでいる、請求項１のプリンティングプ レート。 ６．前記Ｒがエチレンであり、そして前記分子量が約６５０〜２０，０００の範 囲である、請求項５のプリンティングプレート。 ７．前記重合体感光性疎水性層が、巨大分子有機結着剤と、ラジカル開始連鎖生 長反応の付加重合によって高重合体を生成することができる少なくとも一つの末 端エチレン性基を有する光重合性エチレン性不飽和単量体と、化学線によって活 性化可能な遊離基生成性の付加重合開始系とを含んでいる、請求項１のプリンテ ィングプレート。 ８．前記巨大分子有機結着剤がポリアクリレートエステルを含んでいる、請求項 ７のプリンティングプレート。 ９．前記重合体感光性親水性層の前記結着剤が、式ＨＯ−（ＲＯ）ａ−Ｈ （式中、Ｒは、２〜約１０個の炭素原子を有するアルキレン基であり、そしてａ は、約４００〜６，０００の範囲の分子量を与えるのに十分な整数である）のポ リアルキレンエーテルグリコールを含んでいる、請求項７のプリンティングプレ ート。 １０．前記重合体感光性親水性層が、化学線によって活性化可能な遊離基生成性 の付加重合開始系を含んでいる、請求項９のプリンティングプレート。 １１．前記プリンティングプレート用基体がアルミニウムを含んでいる、請求項 １０のプリンティングプレート。 １２．前記プリンティングプレート用基体が粗面化アルミニウム基体を含んでい る、請求項１１のプリンティングプレート。 １３．前記重合体感光性疎水性層の上に、重合体保護シートが重ね合わされてい る、請求項１のプリンティングプレート。 １４．前記重合体シートは前記感光性層を光重合させるための放射線を透過する 、請求項１３のプリンティングプレート。 １５．前記重合体シートは、露光後に前記プレートから分離されるときに、前記 疎水性層の露光領域を除去するのに適しており、それにより前記親水性層の対応 する領域が裸出する、請求項１４のプリンティングプレート。 １６．プリンティングプレート用基体の上に、順に、親水性巨大分子の有機結着 剤と露光領域では不溶化または硬化を促進することができる光重合性、光架橋性 または光転位性の化合物とを含んでいる重合体感光性親水性層；および、その上 に横たわる、疎水性巨大分子の有機結着剤と露光領域では不溶化または硬化を促 進することができる光重合性、光架橋性または光転位性の化合物とを含んでいる 、重合体感光性疎水性層を提供し；前記各層の領域を同時に、前記領域で前記各 層を光不溶化または光硬化するのに十分に、露光し；そして、前記重合体感光性 疎水性層の非露光領域を除去し、それによって、その下に横たわる前記重合体親 水性層の対応する領域を裸出させる； ことを含んでいる、印刷機上で使用するための露光済み平版プリンティングプレ ートの製造方法。 １７．前記重合体感光性親水性層が水不溶性層からなる、請求項１６の方法。 １８．親水性層が、ポリアルキレンエーテルグリコール結着剤と、ラジカル開始 連鎖生長反応の付加重合によって高重合体を生成することができる少なくとも一 つの末端エチレン性基を有する光重合性エチレン性不飽和単量体と、化学線によ って活性化可能な遊離基生成性の付加重合開始系とを含んでいる、請求項１７の 方法。 １９．前記重合体感光性疎水性層の上に、重合体保護シートが重ね合わされる、 請求項１８の方法。 ２０．前記保護シートが、前記露光に先立って、前記重合体感光性疎水性層の上 に重ね合われる、請求項１９の方法。 ２１．前記重合体シートは、前記疎水性層の非露光領域を前記親水性領域の対応 領域から除去するのに適合しており、そして前記保護シートは前記露光後に前記 プリンティングプレートから分離され、それによって、前記親水性層の前記領域 を裸出させる、請求項２０の方法。 ２２．プリンティングプレート用基体の上に、順に、親水性巨大分子の有機結着 剤と露光領域では不溶化または硬化を促進することができる光重合性、光架橋性 または光転位性の化合物とを含んでいる重合体感光性親水性層；および、その上 に横たわる、疎水性巨大分子の有機結着剤と露光領域では不溶化または硬化を促 進することができる光重合性、光架橋性または光転位性の化合物とを含んでいる 、重合体感光性疎水性層を提供し；前記各層の領域を同時に、前記傾城で前記各 層を光不溶化または光硬化するのに十分に、露光し；前記露光済みプレートを、 さらに処理することなく、印刷機上に設置し、前記印刷機は前記プリンティング プレートを受容するのに適合しており、そして前記印刷機の操作中に親油性イン キおよび少なくとも水または湿し液を前記プレートに接触させるため供給され； そして前記印刷機を操作し、それによって、前記露光済みプレートを前記インキ および少なくとも前記水または湿し液と接触させ、そして前記水または湿し液に よって前記親水性層の非露光領域を除去して前記親水性層の対応領域を裸出する ； ことを含んでいる、平版プリンティングプレートによって平版印刷する方法。 ２３．前記重合体感光性親水性層が水不溶性層からなる、請求項２２の方法。 ２４．親水性層が、ポリアルキレンエーテルグリコール結着剤と、ラジカル開始 連鎖生長反応の付加重合によって高重合体を生成することができる少なくとも一 つの末端エチレン性基を有する光重合性エチレン性不飽和単量体と、化学線によ って活性化可能な遊離基生成性の付加重合開始系とを含んでいる、請求項２３の 方法。 ２５．前記重合体感光性疎水性層が、巨大分子有機結着剤と、ラジカル開始連鎖 生長反応の付加重合によって高重合体を生成することができる少なくとも一つの 末端エチレン性差を有する光重合性エチレン性不飽和単量体と、化学線によって 活性化可能な遊離基生成性の付加重合開始系とを含んでいる、請求項２４の方法 。 ２６前記疎水性層の前記巨大分子有機結着剤がポリアクリレートエステルを含ん でいる、請求項２５の方法。 ２７．前記プリンティングプレート用基体がアルミニウムを含んでいる、請求項 ２６の方法。 ２８．前記プリンティングプレート用基体が粗面化アルミニウム基体を含んでい る、請求項２７の方法。