JPH0653039A - 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘッド - Google Patents
耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘッドInfo
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- JPH0653039A JPH0653039A JP4206435A JP20643592A JPH0653039A JP H0653039 A JPH0653039 A JP H0653039A JP 4206435 A JP4206435 A JP 4206435A JP 20643592 A JP20643592 A JP 20643592A JP H0653039 A JPH0653039 A JP H0653039A
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低磁歪、高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性
を有し、しかも優れた耐食性を有する磁気ヘッド用の強
磁性金属膜を得る。 【構成】 ＦｅＭＮＣ系合金膜（但し、ＭはＨｆ、Ｚ
ｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれる少な
くとも一種以上の元素、ＮはＣｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ば
れる少なくとも一種以上の元素、Ｃは炭素）にＳｍ、Ｎ
ｄ等の希土類元素を添加した強磁性金属膜。 【効果】 低磁歪、高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性
を有し、しかも優れた耐食性を有する強磁性金属膜が得
られた。また、本発明を用いた磁気ヘッドにおいて高再
生出力で、しかも長時間安定な再生出力が得られた。
を有し、しかも優れた耐食性を有する磁気ヘッド用の強
磁性金属膜を得る。 【構成】 ＦｅＭＮＣ系合金膜（但し、ＭはＨｆ、Ｚ
ｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれる少な
くとも一種以上の元素、ＮはＣｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ば
れる少なくとも一種以上の元素、Ｃは炭素）にＳｍ、Ｎ
ｄ等の希土類元素を添加した強磁性金属膜。 【効果】 低磁歪、高飽和磁束密度で良好な軟磁気特性
を有し、しかも優れた耐食性を有する強磁性金属膜が得
られた。また、本発明を用いた磁気ヘッドにおいて高再
生出力で、しかも長時間安定な再生出力が得られた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高飽和磁束密度、高透磁
率、高耐熱性でしかも耐食性に優れた磁性膜に関し、特
に磁気ディスク装置やデジタルＶＴＲなどに用いられる
磁気ヘッドや磁気ヘッドのコア材に適した強磁性金属膜
に関する。
率、高耐熱性でしかも耐食性に優れた磁性膜に関し、特
に磁気ディスク装置やデジタルＶＴＲなどに用いられる
磁気ヘッドや磁気ヘッドのコア材に適した強磁性金属膜
に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録の高密度化に伴い、高保磁力媒
体にも充分な書き込みが可能な Metalin Gap ヘッドが
注目されている。しかし、Metal in Gap ヘッドはガラ
スボンディングという高温プロセスを必要とするため、
熱安定性の高い磁性膜が要求される。Metal in Gap ヘ
ッドに用いられる比較的熱安定性の高い磁性膜としては
Ｃｏ系の非晶質合金、センダスト合金さらには特開平３
−２０４４４に示されたＦｅ（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）Ｃで表されるような炭素を比較的
多量に含む磁性合金などが知られている。これ等の磁性
膜について恒温恒湿試験や塩水噴霧試験により膜の耐食
性を評価した結果、Ｃｏ系の非晶質合金およびセンダス
ト合金では比較的優れた耐食性を示すが、良好な軟磁気
特性を示す組成での飽和磁束密度は１．１〜１．３Ｔと
比較的低い。これに対し、Ｆｅ（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）Ｃで表されるような炭素を比較的
多量に含む磁性合金では良好な軟磁気特性を示す組成で
の飽和磁束密度が１．５〜１．６Ｔと高いにもかかわら
ず、耐食性に問題があり、磁気ヘッド作製プロセス中に
腐食したりあるいは長期にわたり記録再生試験を行うと
再生出力が低下する等、膜の腐食に関連する問題が生ず
ることが明らかとなった。
体にも充分な書き込みが可能な Metalin Gap ヘッドが
注目されている。しかし、Metal in Gap ヘッドはガラ
スボンディングという高温プロセスを必要とするため、
熱安定性の高い磁性膜が要求される。Metal in Gap ヘ
ッドに用いられる比較的熱安定性の高い磁性膜としては
Ｃｏ系の非晶質合金、センダスト合金さらには特開平３
−２０４４４に示されたＦｅ（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）Ｃで表されるような炭素を比較的
多量に含む磁性合金などが知られている。これ等の磁性
膜について恒温恒湿試験や塩水噴霧試験により膜の耐食
性を評価した結果、Ｃｏ系の非晶質合金およびセンダス
ト合金では比較的優れた耐食性を示すが、良好な軟磁気
特性を示す組成での飽和磁束密度は１．１〜１．３Ｔと
比較的低い。これに対し、Ｆｅ（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ）Ｃで表されるような炭素を比較的
多量に含む磁性合金では良好な軟磁気特性を示す組成で
の飽和磁束密度が１．５〜１．６Ｔと高いにもかかわら
ず、耐食性に問題があり、磁気ヘッド作製プロセス中に
腐食したりあるいは長期にわたり記録再生試験を行うと
再生出力が低下する等、膜の腐食に関連する問題が生ず
ることが明らかとなった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】比較的高い飽和磁束密
度を示す上記Ｆｅ（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍ
ｏ，Ｗ）Ｃ膜の耐食性向上を目的に、従来から耐食性向
上に効果があるといわれている元素（Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒ
ｕ）を添加し耐食性を調べた。その結果、いずれの元素
も耐食性向上には効果があり、特にＣｒは耐食性ばかり
でなく膜の軟磁気特性をも改善する効果があることが分
かった。しかし、いずれの元素も耐食性を向上させるた
めに添加量を増やすと磁歪は正側に増加し、良好な耐食
性が得られる組成では磁歪が２０×１０~7以上と大きく
なり低磁歪の膜が得られなかった。
度を示す上記Ｆｅ（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍ
ｏ，Ｗ）Ｃ膜の耐食性向上を目的に、従来から耐食性向
上に効果があるといわれている元素（Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒ
ｕ）を添加し耐食性を調べた。その結果、いずれの元素
も耐食性向上には効果があり、特にＣｒは耐食性ばかり
でなく膜の軟磁気特性をも改善する効果があることが分
かった。しかし、いずれの元素も耐食性を向上させるた
めに添加量を増やすと磁歪は正側に増加し、良好な耐食
性が得られる組成では磁歪が２０×１０~7以上と大きく
なり低磁歪の膜が得られなかった。
【０００４】本発明の目的は、膜の耐食性がセンダスト
合金なみに優れ、しかも低磁歪でセンダスト合金と同等
以上の飽和磁束密度を有する磁性膜およびこれを用いた
高密度磁気記録用の磁気ヘッドを提供することにある。
合金なみに優れ、しかも低磁歪でセンダスト合金と同等
以上の飽和磁束密度を有する磁性膜およびこれを用いた
高密度磁気記録用の磁気ヘッドを提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等はＦｅＭＮＣ
合金膜（但し、ＭはIVａ，Ｖａ，VIａ族より選ばれる元
素、ＮはＣｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる元素）に種々の
元素を添加し、低磁歪でしかも良好な軟磁気特性を示す
元素の組合せについて検討した。その結果、ＭとしてＨ
ｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれ
る少なくとも一種以上の元素、ＮとしてＣｒ，Ｒｈ，Ｒ
ｕより選ばれる少なくとも一種以上の元素からなるＦｅ
ＭＮＣ合金膜に、さらにＳｍ、Ｎｄ等の希土類元素を添
加することにより低磁歪で良好な軟磁気特性が得られ、
しかも比較的良好な耐食性を示すことが分かった（特願
平４−１２１６５２号）。しかし、さらに広範囲な組成
について検討した結果、低磁歪で良好な軟磁気特性が得
られ、しかも良好な耐食性を示す領域は、さらに広範囲
にわたっているいることが明らかとなり、本発明となっ
た。
合金膜（但し、ＭはIVａ，Ｖａ，VIａ族より選ばれる元
素、ＮはＣｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる元素）に種々の
元素を添加し、低磁歪でしかも良好な軟磁気特性を示す
元素の組合せについて検討した。その結果、ＭとしてＨ
ｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれ
る少なくとも一種以上の元素、ＮとしてＣｒ，Ｒｈ，Ｒ
ｕより選ばれる少なくとも一種以上の元素からなるＦｅ
ＭＮＣ合金膜に、さらにＳｍ、Ｎｄ等の希土類元素を添
加することにより低磁歪で良好な軟磁気特性が得られ、
しかも比較的良好な耐食性を示すことが分かった（特願
平４−１２１６５２号）。しかし、さらに広範囲な組成
について検討した結果、低磁歪で良好な軟磁気特性が得
られ、しかも良好な耐食性を示す領域は、さらに広範囲
にわたっているいることが明らかとなり、本発明となっ
た。
【０００６】また、本発明の磁性膜を磁気ヘッドの磁気
回路の少なくとも一部に用いることにより、優れた記録
再生特性を有する磁気ヘッドを得ることができた。
回路の少なくとも一部に用いることにより、優れた記録
再生特性を有する磁気ヘッドを得ることができた。
【０００７】
【作用】上述のＦｅＭＮＣ合金膜において、Ｍ元素は熱
処理によりカ−バイドとなり、主にＦｅの結晶粒界に析
出してＦｅの結晶粒成長を抑制し、膜の耐熱性向上に寄
与する。Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれた元素Ｎはメカニ
ズムについては明らかではないが膜の耐食性向上に寄与
し、さらにＳｍ、Ｎｄ等の希土類元素の添加は上記Ｆｅ
ＭＮＣ系の合金膜において軟磁性を損なわずに磁歪を低
減する効果があることが分かった。ＦｅＭＮＣ系合金膜
において耐食性がセンダスト合金なみに優れ、低磁歪で
良好な軟磁気特性を示し、しかもセンダスト合金と同等
以上の飽和磁束密度を示す膜組成領域について検討した
結果、特願平４−１２１６５２号で報告した組成範囲以
外に、Ｆｅを主成分とする強磁性膜にＨｆ、Ｚｒ、Ｔ
ａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれる元素の膜中
での総濃度が０．５から２０ａｔ％、Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕ
より選ばれる元素の膜中の総濃度が０．５から１．４ａ
ｔ％、Ｃ濃度が２．０から２０ａｔ％、さらに希土類元
素の膜中での総濃度が０．５から１０ａｔ％の組成範囲
と、Ｆｅを主成分とする強磁性膜にＨｆ、Ｚｒ、Ｔａ、
Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれる元素の膜中の総
濃度が１０．１から２０ａｔ％、Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕより
選ばれる元素の膜中の総濃度が１．５から１２ａｔ％、
Ｃ濃度が２．０から２０ａｔ％、さらに希土類元素の膜
中での総濃度が０．５から１０ａｔ％の組成範囲におい
て良好な特性の材料を得ることができた。またＦｅの一
部をＣｏおよび／あるいはＮｉで置換しても同様に優れ
た特性の材料を得ることができ、この場合の総添加量と
しては１５ａｔ％以下が望ましいことが分かった。
処理によりカ−バイドとなり、主にＦｅの結晶粒界に析
出してＦｅの結晶粒成長を抑制し、膜の耐熱性向上に寄
与する。Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれた元素Ｎはメカニ
ズムについては明らかではないが膜の耐食性向上に寄与
し、さらにＳｍ、Ｎｄ等の希土類元素の添加は上記Ｆｅ
ＭＮＣ系の合金膜において軟磁性を損なわずに磁歪を低
減する効果があることが分かった。ＦｅＭＮＣ系合金膜
において耐食性がセンダスト合金なみに優れ、低磁歪で
良好な軟磁気特性を示し、しかもセンダスト合金と同等
以上の飽和磁束密度を示す膜組成領域について検討した
結果、特願平４−１２１６５２号で報告した組成範囲以
外に、Ｆｅを主成分とする強磁性膜にＨｆ、Ｚｒ、Ｔ
ａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれる元素の膜中
での総濃度が０．５から２０ａｔ％、Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕ
より選ばれる元素の膜中の総濃度が０．５から１．４ａ
ｔ％、Ｃ濃度が２．０から２０ａｔ％、さらに希土類元
素の膜中での総濃度が０．５から１０ａｔ％の組成範囲
と、Ｆｅを主成分とする強磁性膜にＨｆ、Ｚｒ、Ｔａ、
Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれる元素の膜中の総
濃度が１０．１から２０ａｔ％、Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕより
選ばれる元素の膜中の総濃度が１．５から１２ａｔ％、
Ｃ濃度が２．０から２０ａｔ％、さらに希土類元素の膜
中での総濃度が０．５から１０ａｔ％の組成範囲におい
て良好な特性の材料を得ることができた。またＦｅの一
部をＣｏおよび／あるいはＮｉで置換しても同様に優れ
た特性の材料を得ることができ、この場合の総添加量と
しては１５ａｔ％以下が望ましいことが分かった。
【０００８】
【実施例】以下に表を用いて本発明を説明する。
【０００９】実施例１ 磁性膜の作製にはＲＦスパッタリング装置を用いた。ス
パッタリングは以下の条件で行った。
パッタリングは以下の条件で行った。
【００１０】 イオンガス Ａｒ スパッタリング時のガス圧 ６．６×１０~1Ｐａ 高周波電力 ４００Ｗ 基板温度 ５０〜１００℃（水冷） 本実施例ではＦｅタ−ゲット上に添加元素のチップを貼
付た複合タ−ゲットを用いて膜作製を行った。基板には
直径１０ｍｍの結晶化ガラスを用いた。膜厚２μｍの種
々の組成の膜を作製し、Ａｒガス雰囲気中で５５０℃、
１時間の熱処理を行い、磁気特性の測定と耐食性試験を
行った結果を表１に示す。表中、磁性膜の組成はＥＰＭ
Ａ法により求めた結果である。特に炭素については燃焼
赤外吸収法等他の手法を併用し確認を行ったが、若干の
誤差は含まれるものと考えられる。保磁力はＢ−Ｈカ−
ブトレ−サ、飽和磁束密度はＶＳＭ、磁歪は光テコ法に
より求め、また耐食性の評価は恒温恒湿試験（８０℃，
９０％）により膜の磁化が１０％減少した時間で表し
た。
付た複合タ−ゲットを用いて膜作製を行った。基板には
直径１０ｍｍの結晶化ガラスを用いた。膜厚２μｍの種
々の組成の膜を作製し、Ａｒガス雰囲気中で５５０℃、
１時間の熱処理を行い、磁気特性の測定と耐食性試験を
行った結果を表１に示す。表中、磁性膜の組成はＥＰＭ
Ａ法により求めた結果である。特に炭素については燃焼
赤外吸収法等他の手法を併用し確認を行ったが、若干の
誤差は含まれるものと考えられる。保磁力はＢ−Ｈカ−
ブトレ−サ、飽和磁束密度はＶＳＭ、磁歪は光テコ法に
より求め、また耐食性の評価は恒温恒湿試験（８０℃，
９０％）により膜の磁化が１０％減少した時間で表し
た。
【００１１】
【表１】
【００１２】この結果、番号１から３のＣｒ，Ｒｈ等の
元素を無添加あるいは少量添加した膜では低磁歪で比較
的良好な軟磁気特性を示すが耐食性に問題があることが
分かった。また番号４から６に示したＣｒ，Ｒｈ等の元
素を比較的多く添加した膜では比較的良好な軟磁気特性
と耐食性を示すが、磁歪が非常に大きくなることが分か
った。これに対し、番号７から１１に示したようなＦｅ
を主成分とし、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍ
ｏ、Ｖより選ばれる元素、Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれ
る元素と、Ｃさらには希土類元素を同時に含む膜では低
磁歪で良好な軟磁気特性を示し、しかも耐食性も良好で
あることから、磁気ディスク装置やデジタルＶＴＲのよ
うな高密度磁気記録用の磁気ヘッドコア材に適した材料
であることが分かった。
元素を無添加あるいは少量添加した膜では低磁歪で比較
的良好な軟磁気特性を示すが耐食性に問題があることが
分かった。また番号４から６に示したＣｒ，Ｒｈ等の元
素を比較的多く添加した膜では比較的良好な軟磁気特性
と耐食性を示すが、磁歪が非常に大きくなることが分か
った。これに対し、番号７から１１に示したようなＦｅ
を主成分とし、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍ
ｏ、Ｖより選ばれる元素、Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれ
る元素と、Ｃさらには希土類元素を同時に含む膜では低
磁歪で良好な軟磁気特性を示し、しかも耐食性も良好で
あることから、磁気ディスク装置やデジタルＶＴＲのよ
うな高密度磁気記録用の磁気ヘッドコア材に適した材料
であることが分かった。
【００１３】実施例２ 実施例１の表１に示された膜の中から代表的なものにつ
いて磁気ヘッドを試作し、保磁力１５００Ｏｅのメタル
テ−プを用いて長期にわたる記録再生試験を行った。実
験は実施例１と同様に８０℃，９０％の恒温恒湿試験を
行いながら、定期的に上記の測定系を用いて記録再生特
性の測定を行い、再生出力の変化を調べた。磁気ヘッド
には特開昭６２−６０１１３に示されたフェライト基板
上に上記強磁性膜を形成した構造のものを用いた。磁性
膜膜厚はいずれも６μｍである。表２に恒温恒湿試験時
間に対する再生出力（ｍＶｐ−ｐ）の測定結果を示す。
いて磁気ヘッドを試作し、保磁力１５００Ｏｅのメタル
テ−プを用いて長期にわたる記録再生試験を行った。実
験は実施例１と同様に８０℃，９０％の恒温恒湿試験を
行いながら、定期的に上記の測定系を用いて記録再生特
性の測定を行い、再生出力の変化を調べた。磁気ヘッド
には特開昭６２−６０１１３に示されたフェライト基板
上に上記強磁性膜を形成した構造のものを用いた。磁性
膜膜厚はいずれも６μｍである。表２に恒温恒湿試験時
間に対する再生出力（ｍＶｐ−ｐ）の測定結果を示す。
【００１４】
【表２】
【００１５】表２の恒温恒湿試験による再生出力の変化
から、本発明による強磁性金属膜の耐食性はセンダスト
合金なみに優れ、再生出力はセンダスト合金やＦｅ77Ｚ
ｒ9Ｃ10Ｃｒ4膜をコア材に用いた磁気ヘッドと同等以上
で、５０日の恒温恒湿試験後でも再生出力の低下は２０
％程度であった。これは本発明の強磁性金属膜が低磁
歪、高飽和磁束密度でしかも耐食性も良好なためと考え
られる。これに対し、ＦｅＴａＣ膜は本発明と同程度の
高い飽和磁束密度を示すにもかかわらず、耐食性が劣る
ために再生出力は急激に低下したものと考えられる。ま
た、高飽和磁束密度材料であるＦｅＺｒＣＣｒ膜を用い
た磁気ヘッドの再生出力が低い原因は磁歪が大きい（２
５×１０~7）ためと思われる。
から、本発明による強磁性金属膜の耐食性はセンダスト
合金なみに優れ、再生出力はセンダスト合金やＦｅ77Ｚ
ｒ9Ｃ10Ｃｒ4膜をコア材に用いた磁気ヘッドと同等以上
で、５０日の恒温恒湿試験後でも再生出力の低下は２０
％程度であった。これは本発明の強磁性金属膜が低磁
歪、高飽和磁束密度でしかも耐食性も良好なためと考え
られる。これに対し、ＦｅＴａＣ膜は本発明と同程度の
高い飽和磁束密度を示すにもかかわらず、耐食性が劣る
ために再生出力は急激に低下したものと考えられる。ま
た、高飽和磁束密度材料であるＦｅＺｒＣＣｒ膜を用い
た磁気ヘッドの再生出力が低い原因は磁歪が大きい（２
５×１０~7）ためと思われる。
【００１６】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は高飽和磁束
密度で良好な軟磁気特性を有し、耐食性の良好な膜の低
磁歪化に効果がある。また本発明の強磁性金属膜を磁気
ヘッドコアあるいは磁気ヘッドコアの一部に用いること
により記録再生特性に優れ、しかも優れた耐食性を有す
る磁気ヘッドを得るのに効果がある。
密度で良好な軟磁気特性を有し、耐食性の良好な膜の低
磁歪化に効果がある。また本発明の強磁性金属膜を磁気
ヘッドコアあるいは磁気ヘッドコアの一部に用いること
により記録再生特性に優れ、しかも優れた耐食性を有す
る磁気ヘッドを得るのに効果がある。
Claims (7)
- 【請求項１】Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍ
ｏ、Ｖより選ばれる少なくとも一種以上の元素とＣｒ，
Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる少なくとも一種以上の元素、さ
らにはＣを含むＦｅを主成分とする強磁性金属膜中に少
なくとも一種以上の希土類元素を添加した磁性膜におい
て、上記Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖ
より選ばれる元素の強磁性金属膜中の総濃度が０．５か
ら２０ａｔ％、上記Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる元素
の強磁性金属膜中の総濃度が０．５から１．４ａｔ％、
上記Ｃ濃度が２．０から２０ａｔ％、さらに上記希土類
元素の強磁性金属膜中の総濃度が０．５から１０ａｔ％
であることを特徴とする耐食性磁性膜。 - 【請求項２】Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍ
ｏ、Ｖより選ばれる少なくとも一種以上の元素とＣｒ，
Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる少なくとも一種以上の元素、さ
らにはＣを含むＦｅを主成分とする強磁性金属膜中に少
なくとも一種以上の希土類元素を添加した磁性膜におい
て、上記Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖ
より選ばれる元素の強磁性金属膜中の総濃度が１０．１
から２０ａｔ％、上記Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる元
素の強磁性金属膜中の総濃度が１．５から１２ａｔ％、
上記Ｃ濃度が２．０から２０ａｔ％、さらに上記希土類
元素の強磁性金属膜中の総濃度が０．５から１０ａｔ％
であることを特徴とする耐食性磁性膜。 - 【請求項３】請求項１および請求項２記載の希土類元素
がＣｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｇｄより選ば
れることを特徴とする耐食性磁性膜。 - 【請求項４】Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍ
ｏ、Ｖより選ばれる少なくとも一種以上の元素とＣｒ，
Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる少なくとも一種以上の元素、さ
らにはＣを含み、Ｆｅを主成分としＣｏおよび／あるい
はＮｉを含む強磁性金属膜中に少なくとも一種以上の希
土類元素を添加した磁性膜において、上記Ｈｆ、Ｚｒ、
Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれる元素の強
磁性金属膜中の総濃度が０．５から２０ａｔ％、上記Ｃ
ｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる元素の強磁性金属膜中の総
濃度が０．５から１．４ａｔ％、上記Ｃ濃度が２．０か
ら２０ａｔ％、上記Ｃｏおよび／あるいはＮｉの総濃度
が１５ａｔ％以下で、さらに上記希土類元素の強磁性金
属膜中の総濃度が０．５から１０ａｔ％であることを特
徴とする耐食性磁性膜。 - 【請求項５】Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍ
ｏ、Ｖより選ばれる少なくとも一種以上の元素とＣｒ，
Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる少なくとも一種以上の元素、さ
らにはＣを含み、Ｆｅを主成分としＣｏおよび／あるい
はＮｉを含む強磁性金属膜中に少なくとも一種以上の希
土類元素を添加した磁性膜において、上記Ｈｆ、Ｚｒ、
Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖより選ばれる元素の強
磁性金属膜中の総濃度が１０．１から２０ａｔ％、上記
Ｃｒ，Ｒｈ，Ｒｕより選ばれる元素の強磁性金属膜中の
総濃度が１．５から１２ａｔ％、上記Ｃ濃度が２．０か
ら２０ａｔ％、上記Ｃｏおよび／あるいはＮｉの総濃度
が１５ａｔ％以下で、さらに上記希土類元素の強磁性金
属膜中の総濃度が０．５から１０ａｔ％であることを特
徴とする耐食性磁性膜。 - 【請求項６】請求項４藻または請求項５記載の希土類元
素がＣｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｇｄより選
ばれることを特徴とする耐食性磁性膜。 - 【請求項７】請求項１から請求項６のうちいずれかに記
載した高耐食性磁性膜を磁気ヘッドコアの少なくとも一
部に用いたことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP4206435A JPH0653039A (ja) | 1992-08-03 | 1992-08-03 | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘッド |
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