JPH0657855B2 - 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents
表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法Info
- Publication number
- JPH0657855B2 JPH0657855B2 JP61066849A JP6684986A JPH0657855B2 JP H0657855 B2 JPH0657855 B2 JP H0657855B2 JP 61066849 A JP61066849 A JP 61066849A JP 6684986 A JP6684986 A JP 6684986A JP H0657855 B2 JPH0657855 B2 JP H0657855B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- annealing
- steel sheet
- rolling
- temperature
- sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 58
- 229910000976 Electrical steel Inorganic materials 0.000 title claims description 36
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 title claims description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 105
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 60
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 52
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims description 45
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 claims description 30
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 28
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 23
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 21
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 18
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 13
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 claims description 11
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 43
- 238000005261 decarburization Methods 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 8
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 7
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 5
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 4
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 4
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003966 growth inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000009628 steelmaking Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 低鉄損一方向性珪素鋼板、それもとくに薄手である場合
における表面性状改善と、さらに2次再結晶集合組織の
制御による磁束密度の向上に関連してこの明細書で述べ
る技術内容は、上記珪素鋼板の安定した工程における製
造を可能ならしめることについての開発研究の成果を提
案することにある。
における表面性状改善と、さらに2次再結晶集合組織の
制御による磁束密度の向上に関連してこの明細書で述べ
る技術内容は、上記珪素鋼板の安定した工程における製
造を可能ならしめることについての開発研究の成果を提
案することにある。
(従来の技術) 一方向性珪素鋼板は変圧器、電気機器の鉄心材料として
利用できるもので磁束密度(B10値で代表される。)が
高く、鉄損(W17/50値で代表される。)の低いことが要
求されている。
利用できるもので磁束密度(B10値で代表される。)が
高く、鉄損(W17/50値で代表される。)の低いことが要
求されている。
この目的の達成のために今までにおびただしい数の改善
がなされ、今日では磁束密度B10値1.89T以上で、鉄損W
17/50値1.05W/kg以下の低鉄損を有する一方向性珪素鋼
板が製造されるようになった。
がなされ、今日では磁束密度B10値1.89T以上で、鉄損W
17/50値1.05W/kg以下の低鉄損を有する一方向性珪素鋼
板が製造されるようになった。
しかしながらエネルギー危機を境にしてより鉄損の低い
一方向性珪素鋼板の製造が急務の問題となり、今日では
欧米を中心にして超低鉄損珪素鋼板についてはボーナス
を附するという制度(Lossevalution system)が普及して
来ている。
一方向性珪素鋼板の製造が急務の問題となり、今日では
欧米を中心にして超低鉄損珪素鋼板についてはボーナス
を附するという制度(Lossevalution system)が普及して
来ている。
このように鉄損値を著しく低くした一方向性珪素鋼板の
製造方法としては、最近に至り次のような方法が提案さ
れている。
製造方法としては、最近に至り次のような方法が提案さ
れている。
すなわち、特公昭57-2252号、特公昭57-53419号、特公
昭58-5968号、特公昭58-26405号、特公昭58-26406号、
特公昭58-26407号および特公昭58-36051号各公報に記載
されているように、最終仕上焼鈍における不適当な方位
の結晶粒の成長を抑制するためのインヒビターとしてAl
N析出相を利用し、かつ製品の一方向性珪素鋼板の表面
に圧延方向に対しほぼ直角にレーザービームを数mm間隔
で照射することによって鋼板表面に人口粒界を導入し、
この人口粒界によって鉄損を小さくする方法である。
昭58-5968号、特公昭58-26405号、特公昭58-26406号、
特公昭58-26407号および特公昭58-36051号各公報に記載
されているように、最終仕上焼鈍における不適当な方位
の結晶粒の成長を抑制するためのインヒビターとしてAl
N析出相を利用し、かつ製品の一方向性珪素鋼板の表面
に圧延方向に対しほぼ直角にレーザービームを数mm間隔
で照射することによって鋼板表面に人口粒界を導入し、
この人口粒界によって鉄損を小さくする方法である。
しかながらこの提案の人口粒界導入方法では局部的に高
転位密度領域を形成させてあるため、このような処理を
行った製品は350℃程度以下の低温でしか安定に使用で
きない問題がある。
転位密度領域を形成させてあるため、このような処理を
行った製品は350℃程度以下の低温でしか安定に使用で
きない問題がある。
上掲引用の如きAlN析出相を利用した一方向性珪素鋼板
の製造方法においては、インヒビターとしてAlNと共存
させるMnSを解離固溶させるために、熱間圧延前のスラ
ブ加熱を通常の鋼の場合よりも高温で行う必要がある
が、このような高温でのスラブ加熱を施せば、スラブ加
熱時あるいは熱間圧延時に熱間割れを生じて製品に表面
欠陥が発生し易く、特に熱間加工性を阻害するSiの含有
量が3.0%を越えれば製品の表面性状が著しく劣化する。
の製造方法においては、インヒビターとしてAlNと共存
させるMnSを解離固溶させるために、熱間圧延前のスラ
ブ加熱を通常の鋼の場合よりも高温で行う必要がある
が、このような高温でのスラブ加熱を施せば、スラブ加
熱時あるいは熱間圧延時に熱間割れを生じて製品に表面
欠陥が発生し易く、特に熱間加工性を阻害するSiの含有
量が3.0%を越えれば製品の表面性状が著しく劣化する。
この点、先に発明者らが特開昭59-85820号公報に開示し
たように、AlN析出相を利用した場合にSi含有量の高いS
i3.1〜4.5%の珪素鋼素材が、本質的に高磁束密度で低鉄
損の製品を得るに適した素材であることに着目し、その
場合の欠点である表面性状の劣化を解決する手段として
熱延前の素材表面層にMoを濃化させることにより、高Si
含有量でも表面性状を良好になし得る。しかしこの新し
い手法により製品の表面性状は以前に比べて大幅に改善
されたが、最近、低鉄損を得るためとくに0.23〜0.17mm
厚に薄手化した製品に関しては、表面性状の向上効果が
少なく大きな問題として残されている。
たように、AlN析出相を利用した場合にSi含有量の高いS
i3.1〜4.5%の珪素鋼素材が、本質的に高磁束密度で低鉄
損の製品を得るに適した素材であることに着目し、その
場合の欠点である表面性状の劣化を解決する手段として
熱延前の素材表面層にMoを濃化させることにより、高Si
含有量でも表面性状を良好になし得る。しかしこの新し
い手法により製品の表面性状は以前に比べて大幅に改善
されたが、最近、低鉄損を得るためとくに0.23〜0.17mm
厚に薄手化した製品に関しては、表面性状の向上効果が
少なく大きな問題として残されている。
これとは別にAlN析出相の利用は、本来強冷延一回法に
よっているため、薄手化した製品を製造しようとする
と、二次再結晶粒が極めて不安定になり、Goss方位に強
く集積した2次再結晶粒を発達させることが困難である
という問題もあった。
よっているため、薄手化した製品を製造しようとする
と、二次再結晶粒が極めて不安定になり、Goss方位に強
く集積した2次再結晶粒を発達させることが困難である
という問題もあった。
ごく最近特開昭59-126722号公報において、高Si含有量
の下でAlN析出相を利用して薄手化した製品を安定製造
するためには、従来の一回の強冷延法を大幅に変えた2
回の冷間圧延をとくにAlNのほかに小量のCuとSnとを複
合添加した組成の熱延素材に適用することが開示され
た。
の下でAlN析出相を利用して薄手化した製品を安定製造
するためには、従来の一回の強冷延法を大幅に変えた2
回の冷間圧延をとくにAlNのほかに小量のCuとSnとを複
合添加した組成の熱延素材に適用することが開示され
た。
この手法は薄手化した製品の鉄損を安定して低下させる
のに効果的ではあるが、通常Siを増量した状況下ではス
ラブの高温加熱を必要とするので、やはり表面性状の優
れた製品を得ることが困難であるとと、さらに2次再結
晶粒の安定化のために小量のSnとCuを添加するため製品
が大幅にコスト高となることのように、まだ解決される
べき問題が多く残されている。
のに効果的ではあるが、通常Siを増量した状況下ではス
ラブの高温加熱を必要とするので、やはり表面性状の優
れた製品を得ることが困難であるとと、さらに2次再結
晶粒の安定化のために小量のSnとCuを添加するため製品
が大幅にコスト高となることのように、まだ解決される
べき問題が多く残されている。
(発明が解決しようとする問題点) ところで一方向性珪素鋼板の鉄損を低下させる方法とし
ては、 珪素鋼中のSi含有量を高めること、 製品板厚を薄くする。
ては、 珪素鋼中のSi含有量を高めること、 製品板厚を薄くする。
鋼板の純度を高めること、 製品の2次再結晶粒のGoss方位集積度を低下させない
で細粒の2次再結晶粒を発達させることなどが基本的に
考えられている。
で細粒の2次再結晶粒を発達させることなどが基本的に
考えられている。
まずに関してSi含有量を通常の3.0%より増加したり、
に関して通常製品板厚0.35,0.30mmより薄い0.23,0.
20mmにすることが試みられたが、いずれも2次再結晶組
織が不均一となり、Goss方位集積度が低下する問題が生
じる。
に関して通常製品板厚0.35,0.30mmより薄い0.23,0.
20mmにすることが試みられたが、いずれも2次再結晶組
織が不均一となり、Goss方位集積度が低下する問題が生
じる。
加えに従い通常よりもSi含有量を増加させた場合、熱
間ぜい化が顕著となり、スラブ加熱あるいは熱間圧延途
中で熱間割れを生じ、製品の表面性状が著しく劣化して
しまうことはすでに述べた。
間ぜい化が顕著となり、スラブ加熱あるいは熱間圧延途
中で熱間割れを生じ、製品の表面性状が著しく劣化して
しまうことはすでに述べた。
一方においての鋼板の純度向上又はの方向性の改善
に関しては、現在極限と考えられる所まで来ている。例
えば現行製品の2次再結晶粒のGoss方位はすでに圧延方
向に平均3°〜4°以内に集積していて、このように高
度に集積した状況で結晶粒径をさらに小さくすることは
冶金学上きわめて困難とされている。
に関しては、現在極限と考えられる所まで来ている。例
えば現行製品の2次再結晶粒のGoss方位はすでに圧延方
向に平均3°〜4°以内に集積していて、このように高
度に集積した状況で結晶粒径をさらに小さくすることは
冶金学上きわめて困難とされている。
この発明は以上の事情を背景としすでに述べた従来技術
の最近の動向に鑑み、表面性状が極めて優れしかも鉄損
が著しく小さく、またさらに高磁束密度の薄手一方向性
珪素鋼板を工業的に安定してとくに有利に製造し得る方
法を提供することを目的とするものである。
の最近の動向に鑑み、表面性状が極めて優れしかも鉄損
が著しく小さく、またさらに高磁束密度の薄手一方向性
珪素鋼板を工業的に安定してとくに有利に製造し得る方
法を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 上記の目的は次のように成就される。
Si3.1〜4.5wt%、 Mo0.003〜0.1wt%、 酸可溶Al0.005〜0.06wt%、 そしてSおよびSeのいずれか1種または2種を合計量で
0.005〜0.1wt%、 を含有するスラブを熱間圧延して熱延板とした後、圧下
率10〜60%の1次冷間圧延を施し、つぎに昇温過程、降
温過程とも500〜900℃間をとくに毎秒5℃以上にて加熱
又は冷却する中間焼鈍を経て、圧下率75〜90%の2次冷
間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最終板厚に仕上げ、この
薄手冷延板を湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍する際
に、引続く高温仕上焼鈍を経て鋼板表面上に異質微小領
域区画の形成をもたらす処理を予め施しておき最後に、
高温仕上焼鈍を行うことを特徴とする表面性状の優れた
低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造方法(第1発明)。
0.005〜0.1wt%、 を含有するスラブを熱間圧延して熱延板とした後、圧下
率10〜60%の1次冷間圧延を施し、つぎに昇温過程、降
温過程とも500〜900℃間をとくに毎秒5℃以上にて加熱
又は冷却する中間焼鈍を経て、圧下率75〜90%の2次冷
間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最終板厚に仕上げ、この
薄手冷延板を湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍する際
に、引続く高温仕上焼鈍を経て鋼板表面上に異質微小領
域区画の形成をもたらす処理を予め施しておき最後に、
高温仕上焼鈍を行うことを特徴とする表面性状の優れた
低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造方法(第1発明)。
Si3.1〜4.5wt%、 Mo0.003〜0.1wt%、 酸可溶Al0.005〜0.06wt%、 そしてSおよびSeのいずれか1種または2種を合計量で
0.005〜0.1wt%、を含有するスラブを熱間圧延して熱延
板とした後、圧下率10〜60%の1次冷間圧延を施し、つ
ぎに昇温過程、降温過程とも500〜900℃間をとくに毎秒
5℃以上にて加熱又は冷却する中間焼鈍を経て、圧下率
75〜90%の2次冷間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最終板
厚に仕上げた薄手冷延板を、湿水素中で脱炭・1次再結
晶焼鈍後、高温仕上焼鈍し、さらにこの鋼板表面上に異
質微小領域区画を形成することを特徴とする、表面性状
の優れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造方法 である(第2発明)。
0.005〜0.1wt%、を含有するスラブを熱間圧延して熱延
板とした後、圧下率10〜60%の1次冷間圧延を施し、つ
ぎに昇温過程、降温過程とも500〜900℃間をとくに毎秒
5℃以上にて加熱又は冷却する中間焼鈍を経て、圧下率
75〜90%の2次冷間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最終板
厚に仕上げた薄手冷延板を、湿水素中で脱炭・1次再結
晶焼鈍後、高温仕上焼鈍し、さらにこの鋼板表面上に異
質微小領域区画を形成することを特徴とする、表面性状
の優れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造方法 である(第2発明)。
発明者らは、3.1〜4.5wt%の高珪素含有量の下でのAlN析
出相の利用による、薄手一方向性珪素鋼板を製造する
際、素材中に小量のMoを添加することによって表面性状
の優れた製品が得られまた、急熱・急冷の中間焼鈍を含
む2回の冷間圧延法の採用によってきわめて安定した工
程で低鉄損を有する一方向性珪素鋼板の製造が可能であ
ることを発見し、上記各発明を完成するに至った。
出相の利用による、薄手一方向性珪素鋼板を製造する
際、素材中に小量のMoを添加することによって表面性状
の優れた製品が得られまた、急熱・急冷の中間焼鈍を含
む2回の冷間圧延法の採用によってきわめて安定した工
程で低鉄損を有する一方向性珪素鋼板の製造が可能であ
ることを発見し、上記各発明を完成するに至った。
まず、この発明の完成を導いた実験的事例につき具体的
に説明する。
に説明する。
C 0.047wt%、Si 3.43wt%、Mo 0.022wt%、酸可溶Al 0.
028wt%、およびS 0.025wt%を含有する鋼塊(供試鋼
I)およびC 0.055wt%、Si 3.45wt%、酸可溶Al 0.026
wt%、S 0.025wt%、Sn 0.12wt%およびCu 0.08wt%を含
有する鋼塊(比較鋼I)を何れも1420℃で4時間加熱し
てインヒビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2.2m
m厚の熱延板とした。
028wt%、およびS 0.025wt%を含有する鋼塊(供試鋼
I)およびC 0.055wt%、Si 3.45wt%、酸可溶Al 0.026
wt%、S 0.025wt%、Sn 0.12wt%およびCu 0.08wt%を含
有する鋼塊(比較鋼I)を何れも1420℃で4時間加熱し
てインヒビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2.2m
m厚の熱延板とした。
その後70%以下の圧下率で1次冷間圧延を行った後、107
0℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の際に
は500℃から900℃までの昇温は10℃/sの急熱処理を施
し、また中間焼鈍後900℃から500℃まで15℃/sの急冷
処理を施した。
0℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の際に
は500℃から900℃までの昇温は10℃/sの急熱処理を施
し、また中間焼鈍後900℃から500℃まで15℃/sの急冷
処理を施した。
その後70%〜91%の圧下率で2次冷間圧延を施して0.20mm
厚の最終板厚の冷延板としてのち、840℃の湿水素中で
脱炭・1次再結晶焼鈍を施した。
厚の最終板厚の冷延板としてのち、840℃の湿水素中で
脱炭・1次再結晶焼鈍を施した。
その後鋼板表面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗
布して、とくに850℃〜1100℃までの間を7℃/hrで昇
温して2次再結晶させた後、1200℃で12時間乾水素中で
純化焼鈍を施した。
布して、とくに850℃〜1100℃までの間を7℃/hrで昇
温して2次再結晶させた後、1200℃で12時間乾水素中で
純化焼鈍を施した。
そのときの製品の磁気特性および表面欠陥発生率(鋼板
表面上に存在する表面キズのブロック発生率を%で表
示)を第1図に示す。
表面上に存在する表面キズのブロック発生率を%で表
示)を第1図に示す。
第1図の●印に示すプロットから明らかなように素材中
にMoを含有する供試鋼Iによる製品は1次冷間圧延の圧
下率が10〜60%(特に20〜40%)において磁気特性が良好
で、しかも製品の表面欠陥発生率が1.5%以下(1次冷
間圧延の圧下率が20〜50%の範囲において0.5%以下とな
る)であることが注目される。
にMoを含有する供試鋼Iによる製品は1次冷間圧延の圧
下率が10〜60%(特に20〜40%)において磁気特性が良好
で、しかも製品の表面欠陥発生率が1.5%以下(1次冷
間圧延の圧下率が20〜50%の範囲において0.5%以下とな
る)であることが注目される。
これに対して従来通りの組成の比較鋼Iによる製品の磁
気特性は同図○印のプロットに明らかなようにB10値、W
17/50値共に供試鋼Iによる場合よりも若干悪く、とく
に製品の表面欠陥発生率は6〜18%と極端に高い。
気特性は同図○印のプロットに明らかなようにB10値、W
17/50値共に供試鋼Iによる場合よりも若干悪く、とく
に製品の表面欠陥発生率は6〜18%と極端に高い。
次にC 0.053%、Si 3.44%、Mo 0.025%、酸可溶Al 0.03
0%、S 0.021%を含有する鋼塊(供試鋼II)を1440℃で
3時間加熱してインヒビターを解離・固溶した後、熱間
圧延して2.2mm厚の熱延板とした。
0%、S 0.021%を含有する鋼塊(供試鋼II)を1440℃で
3時間加熱してインヒビターを解離・固溶した後、熱間
圧延して2.2mm厚の熱延板とした。
その後圧下率約40%の1次冷間圧延を施した後1050℃で
3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の際には500
℃から900℃までの昇温速度、中間焼鈍後の900℃から50
0℃のでの冷却速度を何れも毎秒1℃〜100℃までの範囲
で実験を行った。
3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の際には500
℃から900℃までの昇温速度、中間焼鈍後の900℃から50
0℃のでの冷却速度を何れも毎秒1℃〜100℃までの範囲
で実験を行った。
中間焼鈍後の鋼板は圧下率約83%の2次冷間圧延を施し
て0.23mm厚の最終冷延板とし、その後850℃の湿水素中
で脱炭・1次再結晶焼鈍を施した後、鋼板表面上にMgO
を主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後850℃から1100
℃まで10℃/hrで昇温して2次再結晶させた後、1200℃
で10時間乾水素中で純化焼鈍を行った。そのときの製品
の磁気特性を第2図に示す。
て0.23mm厚の最終冷延板とし、その後850℃の湿水素中
で脱炭・1次再結晶焼鈍を施した後、鋼板表面上にMgO
を主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後850℃から1100
℃まで10℃/hrで昇温して2次再結晶させた後、1200℃
で10時間乾水素中で純化焼鈍を行った。そのときの製品
の磁気特性を第2図に示す。
第2図から明らかなように中間焼鈍時に500℃から900℃
までの昇温速度及び中間焼鈍後の900℃から500℃までの
冷却速度を5℃/s以上なかでも10℃/s以上とした場
合において著しく磁気特性の優れた製品を得ることがで
きる。
までの昇温速度及び中間焼鈍後の900℃から500℃までの
冷却速度を5℃/s以上なかでも10℃/s以上とした場
合において著しく磁気特性の優れた製品を得ることがで
きる。
このような中間焼鈍時の急熱・急冷処理による特性向上
の理由は発明者らが既に特開昭59-35625号公報(前出)
に開示したと同じように{110}〈001〉方位の集合組織
を優先的に発達させるのに有利なためと考えられる。な
お、さきに触れたように特開昭59-126722号公報におけ
る、冷延2回法のAlN析出相利用による薄手一方向性珪
素鋼板の製造方法では、従来の強冷延1回法の際におけ
る均一化焼鈍後の急冷処理によるAlNの微細析出処理
を、1次冷間圧延後の中間焼鈍後の冷却過程に援用する
にすぎないのに反してこの発明では、中間焼鈍後の急冷
のみならず、中間焼鈍の昇温過程における急熱との組合
せにつき、とくにMoを含有する場合に限ってすぐれた磁
気特性が得られることを新たに解明したものである。
の理由は発明者らが既に特開昭59-35625号公報(前出)
に開示したと同じように{110}〈001〉方位の集合組織
を優先的に発達させるのに有利なためと考えられる。な
お、さきに触れたように特開昭59-126722号公報におけ
る、冷延2回法のAlN析出相利用による薄手一方向性珪
素鋼板の製造方法では、従来の強冷延1回法の際におけ
る均一化焼鈍後の急冷処理によるAlNの微細析出処理
を、1次冷間圧延後の中間焼鈍後の冷却過程に援用する
にすぎないのに反してこの発明では、中間焼鈍後の急冷
のみならず、中間焼鈍の昇温過程における急熱との組合
せにつき、とくにMoを含有する場合に限ってすぐれた磁
気特性が得られることを新たに解明したものである。
更に上記条件を考慮して以下のような実験を行った。
C 0.049%、Si 3.42%、Mo 0.025%、酸可溶Al 0.025%、
S 0.025%を含有する鋼塊(供試鋼III)、C 0.049
%、Si 3.46%、酸可溶Al 0.025%、S 0.025%、Sn 0.05
%、Cu 0.1%を含有する鋼塊(供試鋼IV)、C 0.048%、
Si 3.43%、酸可溶Al 0.026%、S 0.024%を含有する鋼
塊(供試鋼V)を何れも1420℃で4時間加熱してインヒ
ビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2.0mm厚の熱
延板とした。
S 0.025%を含有する鋼塊(供試鋼III)、C 0.049
%、Si 3.46%、酸可溶Al 0.025%、S 0.025%、Sn 0.05
%、Cu 0.1%を含有する鋼塊(供試鋼IV)、C 0.048%、
Si 3.43%、酸可溶Al 0.026%、S 0.024%を含有する鋼
塊(供試鋼V)を何れも1420℃で4時間加熱してインヒ
ビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2.0mm厚の熱
延板とした。
その後約50%の圧下率で1次冷間圧延を行った後、1050
℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の際には
500℃から900℃までの昇温は加熱速度11℃/sで急熱処
理し、また中間焼鈍後900℃から500℃まで冷却速度15℃
/sで急冷処理した。
℃で3分間の中間焼鈍を行った。この中間焼鈍の際には
500℃から900℃までの昇温は加熱速度11℃/sで急熱処
理し、また中間焼鈍後900℃から500℃まで冷却速度15℃
/sで急冷処理した。
その後約80%の圧下率で2次冷間圧延を施し0.20mm厚の
最終冷延板としたが、冷間圧延の途中で約300℃の温間
圧延を施した。
最終冷延板としたが、冷間圧延の途中で約300℃の温間
圧延を施した。
その後鋼板表面を脱脂した後840℃の湿水素中で脱炭・
1次再結晶焼鈍を施す際とくにこの場合この焼鈍を行っ
た後、鋼板表面上にMgSO4の希薄水溶液(80℃で0.01mol
/l)をスプレーで圧延方向に直角方向に7mm間隔で0.7m
m幅で塗布乾燥し、その鋼板表面上にMgOを主成文とする
焼鈍分離材を塗布した後840℃から1050℃まで8℃/hr
で昇温して2次再結晶させ、さらに、1200℃で10時間乾
水素中で純化焼鈍を施した。また比較のために脱炭・1
次再結晶焼鈍後鋼板表面にMgOを主成分とする焼鈍分離
剤を塗布したあと、2次再結晶および純化焼鈍を施す通
常工程材も同時に実験を行った。
1次再結晶焼鈍を施す際とくにこの場合この焼鈍を行っ
た後、鋼板表面上にMgSO4の希薄水溶液(80℃で0.01mol
/l)をスプレーで圧延方向に直角方向に7mm間隔で0.7m
m幅で塗布乾燥し、その鋼板表面上にMgOを主成文とする
焼鈍分離材を塗布した後840℃から1050℃まで8℃/hr
で昇温して2次再結晶させ、さらに、1200℃で10時間乾
水素中で純化焼鈍を施した。また比較のために脱炭・1
次再結晶焼鈍後鋼板表面にMgOを主成分とする焼鈍分離
剤を塗布したあと、2次再結晶および純化焼鈍を施す通
常工程材も同時に実験を行った。
そのときの製品の磁気特性および表面欠陥発生率(鋼板
表面上に存在する表面キズのブロック発生率を%で表
示)表1に示す。
表面上に存在する表面キズのブロック発生率を%で表
示)表1に示す。
表1から明らかなように素材中にMoを添加した供試鋼II
Iによる製品の磁気特性は、B10値が1.94T、W17/50値が
0.77〜0.85W/kgと良好で、製品の表面欠陥発生率も0.6%
〜0.9%である。これに対して従来組成の供試鋼IVおよび
Vの製品の磁気特性はB10値1.93T、W17/50値0.83〜0.92
W/kgで、Mo添加材よりも悪く、かつ製品の表面欠陥発生
率は8.7〜11.2%と極端に高い。
Iによる製品の磁気特性は、B10値が1.94T、W17/50値が
0.77〜0.85W/kgと良好で、製品の表面欠陥発生率も0.6%
〜0.9%である。これに対して従来組成の供試鋼IVおよび
Vの製品の磁気特性はB10値1.93T、W17/50値0.83〜0.92
W/kgで、Mo添加材よりも悪く、かつ製品の表面欠陥発生
率は8.7〜11.2%と極端に高い。
次に脱炭1次再結晶焼鈍板表面上にMgSO4の希薄水溶液
をスプレーで圧延方向に直角に7mm間隔に0.7mm幅で塗
布したときの磁気特性はMoを添加した供試鋼IIIの場合
において鉄損はW17/50値で0.77W/kgと極端に良好であ
る。また、従来組成の供試鋼IVおよびVの製品の磁気特
性においてもMgSO4の希薄水溶液を塗布した工程では通
常工程(比較材)に比較して鉄損が0.06〜0.09W/kg程度
良好である。
をスプレーで圧延方向に直角に7mm間隔に0.7mm幅で塗
布したときの磁気特性はMoを添加した供試鋼IIIの場合
において鉄損はW17/50値で0.77W/kgと極端に良好であ
る。また、従来組成の供試鋼IVおよびVの製品の磁気特
性においてもMgSO4の希薄水溶液を塗布した工程では通
常工程(比較材)に比較して鉄損が0.06〜0.09W/kg程度
良好である。
これらの実験例から製品の磁気特性と表面性状が共に優
れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板を製造するには高珪素
材中に小量のAlとMoとSbの複合添加を行うこと、冷延2
回法を採用すること、そして最終冷延板表面上に特定し
た元素を含有する希薄水溶液又は懸濁液塗布で区画形成
することの結合によって達成されることを示している。
れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板を製造するには高珪素
材中に小量のAlとMoとSbの複合添加を行うこと、冷延2
回法を採用すること、そして最終冷延板表面上に特定し
た元素を含有する希薄水溶液又は懸濁液塗布で区画形成
することの結合によって達成されることを示している。
これらの一部の構成はすでに特開昭60-89521号公報に開
示したように脱炭・1次再結晶焼鈍後の鋼板表面上に、
圧延方向とほぼ直角に脱炭促進領域あるいは脱炭遅滞領
域とを交互区画して不均質の2次再結晶粒を発達させる
ことによる鉄損の低い一方向性珪素鋼板の製造方法とし
て発明者らが提案しているところであるが、これを最終
冷延板表面塗布前に急熱・急冷の中間焼鈍を含む冷延2
回法を用いることにより、とくに2次再結晶粒の安定成
長を図ることができる。
示したように脱炭・1次再結晶焼鈍後の鋼板表面上に、
圧延方向とほぼ直角に脱炭促進領域あるいは脱炭遅滞領
域とを交互区画して不均質の2次再結晶粒を発達させる
ことによる鉄損の低い一方向性珪素鋼板の製造方法とし
て発明者らが提案しているところであるが、これを最終
冷延板表面塗布前に急熱・急冷の中間焼鈍を含む冷延2
回法を用いることにより、とくに2次再結晶粒の安定成
長を図ることができる。
次にC 0.053%、Si 3.39%、Mo 0.026%、酸可溶Al 0.02
3%、S 0.023%を含有する鋼塊を1380℃で6時間加熱し
てインヒビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2.0m
m厚の熱延板とした。
3%、S 0.023%を含有する鋼塊を1380℃で6時間加熱し
てインヒビターを解離・固溶した後、熱間圧延して2.0m
m厚の熱延板とした。
その後970℃で3分間の中間焼鈍をはさんで2回の冷間
圧延(1次冷間圧下率は50%、2次冷間圧下率は80%)で
0.20mm厚の最終冷延板とした。この中間焼鈍の際には50
0℃から900℃までの昇温は加熱速度12℃/sで急熱処理
し、また中間焼鈍後900℃から500℃まで冷却速度13℃/
sで処理した。
圧延(1次冷間圧下率は50%、2次冷間圧下率は80%)で
0.20mm厚の最終冷延板とした。この中間焼鈍の際には50
0℃から900℃までの昇温は加熱速度12℃/sで急熱処理
し、また中間焼鈍後900℃から500℃まで冷却速度13℃/
sで処理した。
その後835℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施し
た後、MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後、850
℃から10℃/hrで昇温して2次再結晶させた後1200℃で
8時間乾水素中で純化焼鈍を施した。
た後、MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後、850
℃から10℃/hrで昇温して2次再結晶させた後1200℃で
8時間乾水素中で純化焼鈍を施した。
その後パルスレーザーを用いて圧延方向に直角方向に線
状(線幅0.3mm幅)に8mm間隔で照射した後酸洗処理し
てレーザー照射位置の地鉄の1部を除去した後SbCl3の
溶液(80℃、0.01mol/l)中に浸漬後、リン酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜を形成させた後80
0℃で3時間の歪み取り焼鈍を兼ねた回復・再結晶焼鈍
を行った。そのときの製品に磁気特性はB10値1.94T、W
17/50値0.78W/kgで、表面欠陥発生率(鋼板表面上に存
在する表面キズのブロック発生率を%で表示)は1.3%と
非常に良好であった。
状(線幅0.3mm幅)に8mm間隔で照射した後酸洗処理し
てレーザー照射位置の地鉄の1部を除去した後SbCl3の
溶液(80℃、0.01mol/l)中に浸漬後、リン酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜を形成させた後80
0℃で3時間の歪み取り焼鈍を兼ねた回復・再結晶焼鈍
を行った。そのときの製品に磁気特性はB10値1.94T、W
17/50値0.78W/kgで、表面欠陥発生率(鋼板表面上に存
在する表面キズのブロック発生率を%で表示)は1.3%と
非常に良好であった。
これらの一部の構成はすでに特開昭60-255926号公報に
開示してあるように、仕上焼鈍あるいは仕上焼鈍後絶縁
被膜を施した一方向性珪素鋼板の一部を除去して不均質
な領域を区画形成させることによって鉄損の優れた一方
向性珪素鋼板を安定して製造することができる。
開示してあるように、仕上焼鈍あるいは仕上焼鈍後絶縁
被膜を施した一方向性珪素鋼板の一部を除去して不均質
な領域を区画形成させることによって鉄損の優れた一方
向性珪素鋼板を安定して製造することができる。
以上のようにこの発明は、素材中にMoを添加すること、
冷延2回法を採用すること、中間焼鈍において昇温・降
温速度に制限を加えること、そして脱炭・1次再結晶焼
鈍の際あるいは仕上焼鈍後の鋼板上に異質微小領域区画
を形成させることによって、安定した工程で良好な鉄損
と表面性状とを有する一方向性珪素鋼板の製造が可能で
あることを見出した点で前掲した先行技術とは発想の基
本を異にし、またそれらの工程の採用によって得られる
効果も従来に比べてはるかにすぐれている。
冷延2回法を採用すること、中間焼鈍において昇温・降
温速度に制限を加えること、そして脱炭・1次再結晶焼
鈍の際あるいは仕上焼鈍後の鋼板上に異質微小領域区画
を形成させることによって、安定した工程で良好な鉄損
と表面性状とを有する一方向性珪素鋼板の製造が可能で
あることを見出した点で前掲した先行技術とは発想の基
本を異にし、またそれらの工程の採用によって得られる
効果も従来に比べてはるかにすぐれている。
(作用) 各発明において、Siは前述したとおり珪素鋼板の電気抵
抗を高めて過電流損を減少させるのに有効な元素で、と
くに薄手製品の鉄損を減少させるため3.1wt%以上とする
必要がある。しかしSi含有量が4.5wt%を越えると冷間圧
延の際の脆性割れが生じ易くなるから、Si含有量を3.1
〜4.5wt%の範囲とした。なお従来のAlNをインヒビター
として利用する通常の一方向性珪素鋼板のSi含有量は2.
8〜3.0wt%程度であり、またSiを増加させた場合、第1
図に示した供試鋼I、IIのように製品の表面性状が著し
く劣化するが、第1,第2各発明において素材中に0.00
3〜0.1wt%のMoを添加することによって表面欠陥発生防
止が可能となったものである。
抗を高めて過電流損を減少させるのに有効な元素で、と
くに薄手製品の鉄損を減少させるため3.1wt%以上とする
必要がある。しかしSi含有量が4.5wt%を越えると冷間圧
延の際の脆性割れが生じ易くなるから、Si含有量を3.1
〜4.5wt%の範囲とした。なお従来のAlNをインヒビター
として利用する通常の一方向性珪素鋼板のSi含有量は2.
8〜3.0wt%程度であり、またSiを増加させた場合、第1
図に示した供試鋼I、IIのように製品の表面性状が著し
く劣化するが、第1,第2各発明において素材中に0.00
3〜0.1wt%のMoを添加することによって表面欠陥発生防
止が可能となったものである。
この素材中に添加するMo量は0.003wt%未満では磁気特性
向上ならびに表面欠陥発生の防止力が弱く、また0.1%を
こえる脱炭時に鋼中の脱炭を遅らせるため0.003〜0.1wt
%の範囲に限定すべきである。
向上ならびに表面欠陥発生の防止力が弱く、また0.1%を
こえる脱炭時に鋼中の脱炭を遅らせるため0.003〜0.1wt
%の範囲に限定すべきである。
Alは鋼中に含まれるNと結合してAlNの微細析出物を形
成し、強力なインヒビターとして作用する。とくに薄手
一方向性珪素鋼板の製造においてGoss方位に強く集積し
た2次再結晶粒を発達させるためには0.005〜0.06wt%の
範囲の酸可溶Alが必要である。
成し、強力なインヒビターとして作用する。とくに薄手
一方向性珪素鋼板の製造においてGoss方位に強く集積し
た2次再結晶粒を発達させるためには0.005〜0.06wt%の
範囲の酸可溶Alが必要である。
酸可溶Alが0.005wt%未満ではインヒビターとしてのAlN
微細析出物の析出量が不足し、{110}〈001〉方位の2
次再結晶粒の発達が不充分となり、一方0.06wt%を越え
れば再び{110}〈001〉方位の2次再結晶粒の発達が著
しく悪くなる。
微細析出物の析出量が不足し、{110}〈001〉方位の2
次再結晶粒の発達が不充分となり、一方0.06wt%を越え
れば再び{110}〈001〉方位の2次再結晶粒の発達が著
しく悪くなる。
S,SeはAlNとともにMnSもしくはMnSeの分散析出相を形
成してインヒビター効果を増進させる。SまたはSeは合
計量で0.005wt%よりも少なければMnSまたはMnSeによる
インヒビター効果が弱く、一方合計量で0.1wt%を越えれ
ば熱間および冷間加工性が著しく劣化するから、S,Se
の1種または2種は合計量で0.005〜0.1wt%の範囲内と
する必要がある。なおこのような合計量範囲内において
も、Sが0.005wt%より少ない場合もしくはSeが0.003wt%
より少ない場合にはそれぞれインヒビター効果が不足
し、一方それぞれ0.05wt%を越えれば熱間および冷間加
工性が劣化するから、Sは0.005〜0.05wt%の範囲内、Se
は0.003〜0.05wt%の範囲内とすることが望ましい。
成してインヒビター効果を増進させる。SまたはSeは合
計量で0.005wt%よりも少なければMnSまたはMnSeによる
インヒビター効果が弱く、一方合計量で0.1wt%を越えれ
ば熱間および冷間加工性が著しく劣化するから、S,Se
の1種または2種は合計量で0.005〜0.1wt%の範囲内と
する必要がある。なおこのような合計量範囲内において
も、Sが0.005wt%より少ない場合もしくはSeが0.003wt%
より少ない場合にはそれぞれインヒビター効果が不足
し、一方それぞれ0.05wt%を越えれば熱間および冷間加
工性が劣化するから、Sは0.005〜0.05wt%の範囲内、Se
は0.003〜0.05wt%の範囲内とすることが望ましい。
各発明の方法に適合する素材としては、上述のように3.
1〜4.5%のSiを含有しかつ小量のMoとAlとSおよびSeを
含有している必要があるが、その他通常の珪素鋼中に添
加される公知の元素の存在を妨げるものではない。
1〜4.5%のSiを含有しかつ小量のMoとAlとSおよびSeを
含有している必要があるが、その他通常の珪素鋼中に添
加される公知の元素の存在を妨げるものではない。
例えばMnは0.02〜2wt%程度含有されていることが好まし
い。
い。
またCはAlNの微細析出に関連して、熱延板焼鈍中に鋼
板の一部にγ変態を生ぜしめるために必要であり、この
発明のSi含有量3.1〜4.5wt%の範囲ではC含有量は0.030
〜0.080wt%程度が適当である。
板の一部にγ変態を生ぜしめるために必要であり、この
発明のSi含有量3.1〜4.5wt%の範囲ではC含有量は0.030
〜0.080wt%程度が適当である。
さらに通常の珪素鋼中に添加さることのある公知の一次
再結晶粒成長抑制剤としてのSn,Cu,Bのいずれか1種
あるいは2種以上を合計量で0.2wt%以下含有しても良
い。その他Cr,Ti,V,Zr,Nb,Ta,Co,Ni,P,As等
の一般的な不可避的元素が微量含有されることは許容さ
れる。
再結晶粒成長抑制剤としてのSn,Cu,Bのいずれか1種
あるいは2種以上を合計量で0.2wt%以下含有しても良
い。その他Cr,Ti,V,Zr,Nb,Ta,Co,Ni,P,As等
の一般的な不可避的元素が微量含有されることは許容さ
れる。
次にこの発明の一連の製造工程について説明する。
先ずこの発明の方法に使用される素材を溶製する手段と
しては、LD転炉、平炉その他の公知の製鋼方法を用いる
ことができ、また真空処理、真空溶解を併用しても良い
ことは勿論である。
しては、LD転炉、平炉その他の公知の製鋼方法を用いる
ことができ、また真空処理、真空溶解を併用しても良い
ことは勿論である。
またスラブ作成の手段としても、通常の造塊−分塊圧延
法のほか、連続鋳造も好適に用いることができる。
法のほか、連続鋳造も好適に用いることができる。
上述のようにして得られた珪素鋼スラブは公知の方法に
より加熱後、熱間圧延に附される。この熱間圧延によっ
て得られる熱延板の厚みは後続の冷延工程における圧下
率によっても異なるが、通常1.5〜3.0mm程度が望まし
い。
より加熱後、熱間圧延に附される。この熱間圧延によっ
て得られる熱延板の厚みは後続の冷延工程における圧下
率によっても異なるが、通常1.5〜3.0mm程度が望まし
い。
この発明では表面性状の良好な珪素鋼板を得るために素
材中に小量のMoを添加することを必要条件とするが、そ
の他発明者らが特開昭59-85820号公報で開示したように
熱延終了後までに表面にMo化合物を塗布する等の手段に
よって鋼板表面層にMoを濃化させる手段の併用も勿論可
能である。
材中に小量のMoを添加することを必要条件とするが、そ
の他発明者らが特開昭59-85820号公報で開示したように
熱延終了後までに表面にMo化合物を塗布する等の手段に
よって鋼板表面層にMoを濃化させる手段の併用も勿論可
能である。
熱間圧延を終了した熱延板には、次に1次冷間圧延が施
されるが、1次冷延の前に場合によっては熱延板中のC
の微細均一化分散を図るため900〜1200℃の温度範囲で
均一化焼鈍を行った後急冷処理を施される。
されるが、1次冷延の前に場合によっては熱延板中のC
の微細均一化分散を図るため900〜1200℃の温度範囲で
均一化焼鈍を行った後急冷処理を施される。
1次冷間圧延の際の圧下率は、製品板厚によって若干異
なるが、この発明で良好な特性を有する薄手製品を得る
には第1図から明らかなように10〜60%(望ましくは20
〜50%)に限定される。
なるが、この発明で良好な特性を有する薄手製品を得る
には第1図から明らかなように10〜60%(望ましくは20
〜50%)に限定される。
次の中間焼鈍は900〜1100℃の温度で30秒〜30分間程度
の焼鈍を施すが、良好な磁気特性を安定して得るために
は、500℃から900℃の昇温そして中間焼鈍後の900℃か
ら500℃の降温を5℃/s以上なかでも10℃/s以上に
することが望ましい。この急熱急冷処理は通常の連続炉
あるいはバッチ炉等公知の手法を用いて良い。
の焼鈍を施すが、良好な磁気特性を安定して得るために
は、500℃から900℃の昇温そして中間焼鈍後の900℃か
ら500℃の降温を5℃/s以上なかでも10℃/s以上に
することが望ましい。この急熱急冷処理は通常の連続炉
あるいはバッチ炉等公知の手法を用いて良い。
次の2次冷間圧延は第1図、第3図から明らかなように
70〜90%の圧下率で適合し、最終冷延板厚0.1〜0.25mm厚
に仕上げる。
70〜90%の圧下率で適合し、最終冷延板厚0.1〜0.25mm厚
に仕上げる。
各発明では薄手高磁束密度電磁鋼板の製造を目的とした
ものであり、熱延板の板厚1.5〜3.0mm厚程度で、第1
図、第3図に示す冷間圧延および2次冷間圧延の各圧下
率において0.1〜0.25mm厚の薄手最終冷延板に仕上げる
ことにより、特性の良好な鋼板が得られる。
ものであり、熱延板の板厚1.5〜3.0mm厚程度で、第1
図、第3図に示す冷間圧延および2次冷間圧延の各圧下
率において0.1〜0.25mm厚の薄手最終冷延板に仕上げる
ことにより、特性の良好な鋼板が得られる。
この時、特公昭54-13866号公報に開示されているように
複数パス間に50〜600℃の時効処理を行ってもよい。
複数パス間に50〜600℃の時効処理を行ってもよい。
このようにして0.1〜0.25mmの薄手の板厚とされた冷間
板に対しては、750〜870℃程度の温度範囲において一次
再結晶を兼ねる脱炭焼鈍を施す。この脱炭焼鈍は通常は
露点+30〜65℃程度の湿水素ガス雰囲気あるいは水素・
窒素混合ガス雰囲気中で数分間行えば良い。
板に対しては、750〜870℃程度の温度範囲において一次
再結晶を兼ねる脱炭焼鈍を施す。この脱炭焼鈍は通常は
露点+30〜65℃程度の湿水素ガス雰囲気あるいは水素・
窒素混合ガス雰囲気中で数分間行えば良い。
次いで脱炭焼鈍後の鋼板に対しMgOを主成分とする焼鈍
分離剤を塗布し、仕上焼鈍を施して{110}〈001〉方位
の2次再結晶粒を発達させる。この仕上焼鈍の具体的条
件は従来公知のものと同様であれば良いが、通常は1150
〜1250℃まで3〜50℃/hrの昇温速度で昇温して2次再
結晶粒を発達させた後、乾水素中で5〜20時間の純化焼
鈍を行うことが望ましい。
分離剤を塗布し、仕上焼鈍を施して{110}〈001〉方位
の2次再結晶粒を発達させる。この仕上焼鈍の具体的条
件は従来公知のものと同様であれば良いが、通常は1150
〜1250℃まで3〜50℃/hrの昇温速度で昇温して2次再
結晶粒を発達させた後、乾水素中で5〜20時間の純化焼
鈍を行うことが望ましい。
ついで最終冷延を終えて、製品板厚に仕上げた鋼板につ
き、表面脱脂後、脱炭・1次再結晶焼鈍処理が施される
が、第1発明ですでにのべたように、脱炭・1次再結晶
焼鈍後鋼板表面上に異質微小領域の区画を形成すること
によって低鉄損の一方向性珪素鋼板を製造することがで
きる。
き、表面脱脂後、脱炭・1次再結晶焼鈍処理が施される
が、第1発明ですでにのべたように、脱炭・1次再結晶
焼鈍後鋼板表面上に異質微小領域の区画を形成すること
によって低鉄損の一方向性珪素鋼板を製造することがで
きる。
この鋼板表面上に異質微小領域の区画を形成する方法は 鋼板表面上にレーザー、放電加工、ケガキあるいはボ
ールペン状の小球による局所位置に微小歪を導入あるい
は異張力の働く領域(特公昭54-23647号、特公昭58-296
8号、特開昭60-89545号、特願昭59-261740号および特開
昭57-18810号公報参照) 鋼板表面上に局所位置に熱処理による鋼板表面上で温
度ムラを作る(特開昭59-100221号、特開昭60-114519
号、特開昭60-103120号および特開昭60-103132号公報参
照)等を用いることができる。
ールペン状の小球による局所位置に微小歪を導入あるい
は異張力の働く領域(特公昭54-23647号、特公昭58-296
8号、特開昭60-89545号、特願昭59-261740号および特開
昭57-18810号公報参照) 鋼板表面上に局所位置に熱処理による鋼板表面上で温
度ムラを作る(特開昭59-100221号、特開昭60-114519
号、特開昭60-103120号および特開昭60-103132号公報参
照)等を用いることができる。
このような処理をした後、鋼板表面上にはMgOを主成分
とする焼鈍分離剤を塗布し、仕上焼鈍を施して{110}
〈001〉方位に強く集積した2次再結晶粒を発達させ
る。この仕上焼鈍の具体的条件は従来公知の焼鈍方法と
同様であれば良いが、通常は1150〜1250℃まで3〜50℃
/hrの昇温速度で昇温して2次再結晶粒を発達させた
後、乾水素中で5〜20hrの純化焼鈍を行うことが望まし
い。
とする焼鈍分離剤を塗布し、仕上焼鈍を施して{110}
〈001〉方位に強く集積した2次再結晶粒を発達させ
る。この仕上焼鈍の具体的条件は従来公知の焼鈍方法と
同様であれば良いが、通常は1150〜1250℃まで3〜50℃
/hrの昇温速度で昇温して2次再結晶粒を発達させた
後、乾水素中で5〜20hrの純化焼鈍を行うことが望まし
い。
仕上焼鈍後の鋼板表面上のフォルステライト質被膜上に
は確実な絶縁を保証するため絶縁被膜が施されるが、第
2発明ですでにのべたように、仕上焼鈍を施した鋼板表
面上に異質微小の区画を形成することによって低鉄損の
一方向形珪素鋼板を製造することができる。
は確実な絶縁を保証するため絶縁被膜が施されるが、第
2発明ですでにのべたように、仕上焼鈍を施した鋼板表
面上に異質微小の区画を形成することによって低鉄損の
一方向形珪素鋼板を製造することができる。
この場合特公昭57-22525号、特公昭57-53419号、特公昭
58-5968号、特公昭58-26405号、特公昭58-26406号、特
公昭58-26407号および特公昭58-36051号公報で開示され
たレーザー照射法による人口粒界導入法では低温でしか
安定使用できないという欠点を有しているため、高温の
歪み取り焼鈍を行っても磁気特性が劣化しない方法によ
る鋼板表面上に不均質領域を区画形成する方法を採用す
る必要がある。
58-5968号、特公昭58-26405号、特公昭58-26406号、特
公昭58-26407号および特公昭58-36051号公報で開示され
たレーザー照射法による人口粒界導入法では低温でしか
安定使用できないという欠点を有しているため、高温の
歪み取り焼鈍を行っても磁気特性が劣化しない方法によ
る鋼板表面上に不均質領域を区画形成する方法を採用す
る必要がある。
高温焼鈍を施しても磁気特性が劣化しない不均質領域の
区画形成方法は d鋼板表面上のフォルステライト被膜の厚みの異なる領
域を区画形成する(特開昭60-92479号参照)、bフォル
ステライト被膜の上に異種の張力コーティングを区画形
成する(特開昭60-103182号公報)c上述したようにレ
ーザー等を用いてフォルステライト被膜を局部的に除去
した後、その局所領域を回復・再結晶させて不均一2次
再結晶粒を区画形成する(特開昭59-100222号公報参
照) 等を用いることができる。
区画形成方法は d鋼板表面上のフォルステライト被膜の厚みの異なる領
域を区画形成する(特開昭60-92479号参照)、bフォル
ステライト被膜の上に異種の張力コーティングを区画形
成する(特開昭60-103182号公報)c上述したようにレ
ーザー等を用いてフォルステライト被膜を局部的に除去
した後、その局所領域を回復・再結晶させて不均一2次
再結晶粒を区画形成する(特開昭59-100222号公報参
照) 等を用いることができる。
さらにこのような処理した上に確実な絶縁性を保証する
ためにりん酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁
被膜の塗布焼付を行うことが、100万KVAにも上る大容量
トランスの使途において当然に必要であり、この絶縁性
塗布焼付層の形成の如きは従来公知の方法をそのまま用
いて良い。
ためにりん酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁
被膜の塗布焼付を行うことが、100万KVAにも上る大容量
トランスの使途において当然に必要であり、この絶縁性
塗布焼付層の形成の如きは従来公知の方法をそのまま用
いて良い。
このような絶縁被膜を形成させた後、600℃以上の温度
で歪み取り焼鈍が施され、この発明の上記の製造方法は
このような高温焼鈍を施しても磁気特性の劣化が起こら
ないのが特徴である。
で歪み取り焼鈍が施され、この発明の上記の製造方法は
このような高温焼鈍を施しても磁気特性の劣化が起こら
ないのが特徴である。
実施例1 C 0.054%,Si 3.36%,Mo 0.024%, 酸可溶Al 0.025%,Se 0.020%を含有する連鋳スラブを
1420℃で4時間加熱後、熱間圧延して2.2mm厚の熱延板
とした。その後約40%の1次冷間圧延を施して後、1100
℃で2分間の中間焼鈍を施した。この中間焼鈍の際には
500℃から900℃までを12℃/sで急熱処理および中間焼
鈍後900℃から500℃までを18℃/sで急冷処理を施し
た。その後約83%の2次冷延を施して0.23mm厚の最終冷
延板としたのち、840℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶
焼鈍を施した。
1420℃で4時間加熱後、熱間圧延して2.2mm厚の熱延板
とした。その後約40%の1次冷間圧延を施して後、1100
℃で2分間の中間焼鈍を施した。この中間焼鈍の際には
500℃から900℃までを12℃/sで急熱処理および中間焼
鈍後900℃から500℃までを18℃/sで急冷処理を施し
た。その後約83%の2次冷延を施して0.23mm厚の最終冷
延板としたのち、840℃の湿水素中で脱炭・1次再結晶
焼鈍を施した。
この後パルスレーザーを用いて圧延方向に直角方向に線
状(線幅0.3mm幅)に8mm間隔で照射した後このレーザ
ー照射位置にSnCl3(0.01mol/l,90℃)溶液を塗布し
た。
状(線幅0.3mm幅)に8mm間隔で照射した後このレーザ
ー照射位置にSnCl3(0.01mol/l,90℃)溶液を塗布し
た。
その後鋼板表面上にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗
布した後850℃から10℃/hrで1100℃まで昇温して2次
再結晶させた後1200℃で15時間乾水素中で純化焼鈍し
た。
布した後850℃から10℃/hrで1100℃まで昇温して2次
再結晶させた後1200℃で15時間乾水素中で純化焼鈍し
た。
その後リン酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁
被膜を焼付処理した後800℃で2時間の歪み取り焼鈍を
施した。そのときの製品の磁気特性および表面性状は次
のようであった。
被膜を焼付処理した後800℃で2時間の歪み取り焼鈍を
施した。そのときの製品の磁気特性および表面性状は次
のようであった。
磁気特性はB10 1.94T、W17/50 0.79W/kg、表面性状は表
面欠陥のブロック発生率で0.8%と非常に良好であった。
面欠陥のブロック発生率で0.8%と非常に良好であった。
実施例2 C 0.056%,Si 3.41%,Mo 0.025%, 酸可溶Al 0.030%,Se 0.020%,Sn 0.1%、 Cu 0.1%を含有する連鋳スラブを1430℃で4時間加熱
後、熱間圧延して2.2mm厚に仕上げた。その後約40%の1
次冷間圧延を施した後、1050℃で5分間の中間焼鈍を行
った。この中間焼鈍の際には500℃から900℃までを15℃
/sの急熱処理および中間焼鈍後900℃から500までを15
℃/sの急熱処理および中間焼鈍後900℃から500℃まで
を20℃/sの急冷処理を施した。次に約85%の2次冷延
を施して0.20mm厚の冷延板としたが、この冷間圧延の際
には250℃で温間圧延を施した。その後850℃の湿水素中
で脱炭・1次再結晶焼鈍を施し、次いでMgOを主体とす
る焼鈍分離剤を塗布してから850℃から1100℃まで8℃
/hrで徐熱したのち、水素雰囲気中で1200℃、10時間の
純化焼鈍を施した。
後、熱間圧延して2.2mm厚に仕上げた。その後約40%の1
次冷間圧延を施した後、1050℃で5分間の中間焼鈍を行
った。この中間焼鈍の際には500℃から900℃までを15℃
/sの急熱処理および中間焼鈍後900℃から500までを15
℃/sの急熱処理および中間焼鈍後900℃から500℃まで
を20℃/sの急冷処理を施した。次に約85%の2次冷延
を施して0.20mm厚の冷延板としたが、この冷間圧延の際
には250℃で温間圧延を施した。その後850℃の湿水素中
で脱炭・1次再結晶焼鈍を施し、次いでMgOを主体とす
る焼鈍分離剤を塗布してから850℃から1100℃まで8℃
/hrで徐熱したのち、水素雰囲気中で1200℃、10時間の
純化焼鈍を施した。
その後鋼板表面上に圧延方向に直角方向に0.5mm幅、8m
m間隔にケガキを導入した後、リン酸塩とコロイダルシ
リカを主成分とする絶縁被膜を焼付処理し、800℃で5
時間の歪み取りと回復・再結晶焼鈍を施した。
m間隔にケガキを導入した後、リン酸塩とコロイダルシ
リカを主成分とする絶縁被膜を焼付処理し、800℃で5
時間の歪み取りと回復・再結晶焼鈍を施した。
得られた製品の磁気特性および表面性状は次のようであ
った。
った。
磁気特性B10 1.94T、W17/50 0.76W/kg、表面性状の表面
欠陥のブロック発生率は1.1%できわめて良好であった。
欠陥のブロック発生率は1.1%できわめて良好であった。
実施例3 C 0.053%,Si 3.38%,Mo 0.026%, 酸可溶Al 0.030%,S 0.028%を含有する連鋳スラブ
を1400℃で5時間加熱後熱間圧延して2.0mm厚に仕上げ
る。
を1400℃で5時間加熱後熱間圧延して2.0mm厚に仕上げ
る。
その後980℃で3分間の中間焼鈍をはさんで2回の冷間
圧延(1次冷延率:60%、2次冷延率:75%)を施して0.
23mm厚さの最終冷延板とした。なおこの中間焼鈍の際に
は500℃から900℃まで13℃/s、900℃から500まで15℃
/sの急熱冷処理をした。その後840℃の湿水素中で脱
炭を兼ねた1次再結晶焼鈍を施した後鋼板表面上に圧延
方向に直角方向に0.5mm幅、8mm間隔にケガキを導入し
た後、その位置にSbCl3(0.01mol/l,80℃溶液)を塗布
した。その後MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した
後850℃から1050℃まで8℃/hrで昇温して2次再結晶
させた後1200℃で10時間乾水素中で純化焼鈍を施したの
ち、絶縁被膜を形成した。そのときの製品の磁気特性お
よび表面性状は次のようであった。
圧延(1次冷延率:60%、2次冷延率:75%)を施して0.
23mm厚さの最終冷延板とした。なおこの中間焼鈍の際に
は500℃から900℃まで13℃/s、900℃から500まで15℃
/sの急熱冷処理をした。その後840℃の湿水素中で脱
炭を兼ねた1次再結晶焼鈍を施した後鋼板表面上に圧延
方向に直角方向に0.5mm幅、8mm間隔にケガキを導入し
た後、その位置にSbCl3(0.01mol/l,80℃溶液)を塗布
した。その後MgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した
後850℃から1050℃まで8℃/hrで昇温して2次再結晶
させた後1200℃で10時間乾水素中で純化焼鈍を施したの
ち、絶縁被膜を形成した。そのときの製品の磁気特性お
よび表面性状は次のようであった。
磁気特性B10:1.94T、W17/50:0.77W/kg 表面性状の表面欠陥のブロック発生率は1.3%できわめて
良好であった。
良好であった。
(発明の効果) 以上の説明で明らかなように本発明の方法によればB10
が1.92T以上で、鉄損が0.85W/kg(0.23mm厚)以下の鉄損
で、しかも製品の表面性状が極めて優れた薄手一方向性
珪素鋼板を工業的に安定して製造することができる顕著
な効果を有するものである。
が1.92T以上で、鉄損が0.85W/kg(0.23mm厚)以下の鉄損
で、しかも製品の表面性状が極めて優れた薄手一方向性
珪素鋼板を工業的に安定して製造することができる顕著
な効果を有するものである。
またこの発明によれば、素材中にMoとAlとを含有させて
冷延2回法で最終冷延板とした後脱炭・1次再結晶焼鈍
の際または仕上焼鈍後の鋼板表面上に異質微小領域区画
を形成することにより不均一で而も細粒のGoss方位2次
再結晶組織を発達させて鉄損特性、表面性状がともに優
れた製品が安定した工程で製造できる。
冷延2回法で最終冷延板とした後脱炭・1次再結晶焼鈍
の際または仕上焼鈍後の鋼板表面上に異質微小領域区画
を形成することにより不均一で而も細粒のGoss方位2次
再結晶組織を発達させて鉄損特性、表面性状がともに優
れた製品が安定した工程で製造できる。
第1図は製品の磁気特性と1次冷間圧延および2次冷間
圧延の圧下率との関係および表面性状の状況を示す図、 第2図は中間焼鈍の際の昇温速度および冷却速度と製品
の磁気特性との関係を示す図である。
圧延の圧下率との関係および表面性状の状況を示す図、 第2図は中間焼鈍の際の昇温速度および冷却速度と製品
の磁気特性との関係を示す図である。
Claims (2)
- 【請求項1】Si3.1〜4.5wt%、 Mo0.003〜0.1wt%、 酸可溶Al0.005〜0.06wt%、 そしてSおよびSeのいずれか1種または2種を合計量で
0.005〜0.1wt%、 を含有するスラブを熱間圧延して熱延板とした後、圧下
率10〜60%の1次冷間圧延を施し、つぎに500℃から900
℃までの温度範囲の昇温過程における加熱速度毎秒5℃
以上、900℃から500℃までの温度範囲の降温過程におけ
る冷却速度毎秒5℃以上の条件での中間焼鈍を経て、圧
下率75〜90%の2次冷間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最
終板厚に仕上げ、この薄手冷延板を湿水素中で脱炭・1
次再結晶焼鈍する際に、引続く高温仕上焼鈍を経て鋼板
表面上に異質微小領域区画の形成をもらたす処理を予め
施しておき、最後に高温仕上焼鈍を行うことを特徴とす
る表面性状の優れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造
方法。 - 【請求項2】Si3.1〜4.5wt%、 Mo0.003〜0.1wt%、 酸可溶Al0.005〜0.06wt%、 そしてSおよびSeのいずれか1種または2種を合計量で
0.005〜0.1wt%、 を含有するスラブを熱間圧延して熱延板とした後、圧下
率10〜60%の1次冷間圧延を施し、つぎに500℃から900
℃までの温度範囲の昇温過程における加熱速度毎秒5℃
以上、900℃から500℃までの温度範囲の降温過程におけ
る冷却速度毎秒5℃以上の条件での中間焼鈍を経て、圧
下率75〜90%の2次冷間圧延を施し0.1〜0.25mm厚の最
終板厚に仕上げた薄手冷延板を、湿水素中で脱炭・1次
再結晶焼鈍後、高温仕上焼鈍し、さらにこの鋼板表面上
に異質微小領域区画を形成することを特徴とする、表面
性状の優れた低鉄損薄手一方向性珪素鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61066849A JPH0657855B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61066849A JPH0657855B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62224635A JPS62224635A (ja) | 1987-10-02 |
| JPH0657855B2 true JPH0657855B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=13327705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61066849A Expired - Lifetime JPH0657855B2 (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0657855B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59173218A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-01 | Kawasaki Steel Corp | 磁束密度が高く鉄損の低い一方向性けい素鋼板の製造方法 |
| JPS59126722A (ja) * | 1983-01-11 | 1984-07-21 | Nippon Steel Corp | 鉄損の優れた薄手高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 |
| JPS602624A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-08 | Kawasaki Steel Corp | 表面性状および磁気特性に優れた一方向性珪素鋼板の製造方法 |
-
1986
- 1986-03-25 JP JP61066849A patent/JPH0657855B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62224635A (ja) | 1987-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1992708B1 (en) | Process for producing grain-oriented magnetic steel sheet with excellent magnetic property | |
| US5643370A (en) | Grain oriented electrical steel having high volume resistivity and method for producing same | |
| EP0539858B1 (en) | Process for producing grain-oriented electrical steel strip having high magnetic flux density | |
| JPH0686631B2 (ja) | 磁束密度の高い一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPWO2019131853A1 (ja) | 低鉄損方向性電磁鋼板とその製造方法 | |
| CN117355622A (zh) | 取向性电磁钢板的制造方法 | |
| CN101573458B (zh) | 高产率地生产具有优异磁特性的晶粒定向电工钢板的方法 | |
| JP3846064B2 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
| US4702780A (en) | Process for producing a grain oriented silicon steel sheet excellent in surface properties and magnetic characteristics | |
| JPH08269552A (ja) | 超高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPH059666A (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
| JP2014208895A (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPH06100937A (ja) | グラス被膜を有しない極めて鉄損の優れた珪素鋼板の製造法 | |
| JP2002241906A (ja) | 被膜特性および磁気特性に優れた方向性電磁鋼板 | |
| JPH05295447A (ja) | 方向性電磁鋼板の短時間仕上焼鈍法 | |
| JPS6237094B2 (ja) | ||
| JPH0657855B2 (ja) | 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| JPH0657856B2 (ja) | 表面性状の優れた低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| JPH10245667A (ja) | 超低鉄損一方向性極薄けい素鋼板の製造方法 | |
| KR102319831B1 (ko) | 방향성 전기강판의 제조방법 | |
| JPS6242968B2 (ja) | ||
| JPH0317892B2 (ja) | ||
| JPS6256927B2 (ja) | ||
| EP0205619B1 (en) | Method of manufacturing unidirectional silicon steel slab having excellent surface and magnetic properties | |
| JPH0726328A (ja) | 方向性珪素鋼板の製造方法 |