JPH0660314A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH0660314A JPH0660314A JP966691A JP966691A JPH0660314A JP H0660314 A JPH0660314 A JP H0660314A JP 966691 A JP966691 A JP 966691A JP 966691 A JP966691 A JP 966691A JP H0660314 A JPH0660314 A JP H0660314A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録における媒体の配向性に対応して最
適磁界分布を提供できる磁気ヘッド。 【構成】 高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と絶縁膜
とを交互に積層し、この積層部を非磁性体基板で挟み込
んだコア部５，６のギャップ突合せ面に新たに金属磁性
膜１ｂを１〜２０ミクロン厚被着形成し、その後ＳｉＯ
2 等のギャップ材を介してコア５，６を突合せて、接合
一体化した磁気ヘッド。 【効果】 ギャップ対向面に新たな磁性膜１ｂを被着形
成することにより、媒体の配向性に対応する磁界分布を
設定でき、記録再生効率に優れた積層型磁気ヘッドを提
供できる。
適磁界分布を提供できる磁気ヘッド。 【構成】 高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と絶縁膜
とを交互に積層し、この積層部を非磁性体基板で挟み込
んだコア部５，６のギャップ突合せ面に新たに金属磁性
膜１ｂを１〜２０ミクロン厚被着形成し、その後ＳｉＯ
2 等のギャップ材を介してコア５，６を突合せて、接合
一体化した磁気ヘッド。 【効果】 ギャップ対向面に新たな磁性膜１ｂを被着形
成することにより、媒体の配向性に対応する磁界分布を
設定でき、記録再生効率に優れた積層型磁気ヘッドを提
供できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッドに関し、詳し
くは高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を積層したラミ
ネート層を非磁性体基板で挟み込んだ構造の積層型高密
度記録用磁気ヘッドに関するものである。
くは高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を積層したラミ
ネート層を非磁性体基板で挟み込んだ構造の積層型高密
度記録用磁気ヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】高密度用積層型磁気ヘッドは、図４およ
び図５に示すように高飽和磁束密度を有するセンダスト
やアモルファス等の金属磁性膜１ａ，１ａと、ＳｉＯ2
やＡｌ2 Ｏ3 等の絶縁薄膜２とを交互に積層したラミネ
ート層３をセラミック等の非磁性体基板４で両側から挟
み込んだ一対のコア５，６を接合一体化したコアチップ
７で構成され、コア５，６間のギャップ形成はＳｉＯ2
をスパッタ等にてギャップ形成予定突合せ面に成膜し、
コア５，６を低融点ガラス８により接合一体化してい
る。
び図５に示すように高飽和磁束密度を有するセンダスト
やアモルファス等の金属磁性膜１ａ，１ａと、ＳｉＯ2
やＡｌ2 Ｏ3 等の絶縁薄膜２とを交互に積層したラミネ
ート層３をセラミック等の非磁性体基板４で両側から挟
み込んだ一対のコア５，６を接合一体化したコアチップ
７で構成され、コア５，６間のギャップ形成はＳｉＯ2
をスパッタ等にてギャップ形成予定突合せ面に成膜し、
コア５，６を低融点ガラス８により接合一体化してい
る。
【０００３】また、従来技術文献および特許としては、
例えば特公昭５９−９４２２２号公報（松下電器産業
（株），第９回応用磁気学会講演概要集29PA-2 P283 Ｆ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金スパッタ膜ビデオヘッド（日本鉱業
（株）等がある。
例えば特公昭５９−９４２２２号公報（松下電器産業
（株），第９回応用磁気学会講演概要集29PA-2 P283 Ｆ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金スパッタ膜ビデオヘッド（日本鉱業
（株）等がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した磁
気ヘッドにおいて、ラミネート層３の金属磁性膜１ａは
成膜後多数の加工プロセスを経ており、その間で膜特性
の劣化が起き、成膜時の特性を維持することが困難であ
る。また、コア５，６を突合せ接合一体化するときにお
いて、突合せのズレ量がそのままトラックズレ量とな
り、突合せには十分な精度が要求されていた。なお、基
本的な磁気記録の問題として、媒体への記録時は配向方
向成分の磁界（水平記録方式では面方向），再生時は媒
体から磁束が流入するコアギャップ方向成分の磁界（水
平記録方式では面と垂直方向）が寄与しており、これら
の磁場分布を最適化，例えば図３から記録時は水平方向
のｘ磁界分布を大きく再生時は垂直方向のｙの磁界分布
を大きくとるようなコアを設けることにより、録再効率
を上げれるが、従来タイプでは図３の点線で示した磁界
分布となるため、録再効率に問題があった。
気ヘッドにおいて、ラミネート層３の金属磁性膜１ａは
成膜後多数の加工プロセスを経ており、その間で膜特性
の劣化が起き、成膜時の特性を維持することが困難であ
る。また、コア５，６を突合せ接合一体化するときにお
いて、突合せのズレ量がそのままトラックズレ量とな
り、突合せには十分な精度が要求されていた。なお、基
本的な磁気記録の問題として、媒体への記録時は配向方
向成分の磁界（水平記録方式では面方向），再生時は媒
体から磁束が流入するコアギャップ方向成分の磁界（水
平記録方式では面と垂直方向）が寄与しており、これら
の磁場分布を最適化，例えば図３から記録時は水平方向
のｘ磁界分布を大きく再生時は垂直方向のｙの磁界分布
を大きくとるようなコアを設けることにより、録再効率
を上げれるが、従来タイプでは図３の点線で示した磁界
分布となるため、録再効率に問題があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は高飽和磁束密度
を有する金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層したラミネ
ート層を非磁性体基板で挟み込んでなるコアを一対、接
合一体化して磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにおい
て、上記ギャップ形成前にコア５，６のどちらか一方
に、高飽和磁束密度を有する金属磁性膜１ｂを、例えば
スパッタリング法等によって磁気ギャップおよびギャッ
プの近傍の接合面に数ミクロン被着形成し、その後Ｓｉ
Ｏ2 等のギャップ材を介して接合一体化したことを特徴
とする。なお、金属磁性膜の厚さおよび膜質（ＢＳ，透
磁率）等の水準を変えることが、図３に示す磁界分布曲
線を任意に設定することができるようになる。例えば
（１ｂ）ＢＳ，透磁率を１ｃより上げることでＨｇは大
きく、また（１ｂ）コア側はより急俊となり磁化反転幅
を小さくでき、高密度記録に寄与する。膜厚については
薄すぎると膜の磁気特性が十分出ず、厚すぎると高周波
での渦電流損があるため、１〜２０μｍ厚が適当であ
る。
を有する金属磁性膜と絶縁膜とを交互に積層したラミネ
ート層を非磁性体基板で挟み込んでなるコアを一対、接
合一体化して磁気ギャップを形成した磁気ヘッドにおい
て、上記ギャップ形成前にコア５，６のどちらか一方
に、高飽和磁束密度を有する金属磁性膜１ｂを、例えば
スパッタリング法等によって磁気ギャップおよびギャッ
プの近傍の接合面に数ミクロン被着形成し、その後Ｓｉ
Ｏ2 等のギャップ材を介して接合一体化したことを特徴
とする。なお、金属磁性膜の厚さおよび膜質（ＢＳ，透
磁率）等の水準を変えることが、図３に示す磁界分布曲
線を任意に設定することができるようになる。例えば
（１ｂ）ＢＳ，透磁率を１ｃより上げることでＨｇは大
きく、また（１ｂ）コア側はより急俊となり磁化反転幅
を小さくでき、高密度記録に寄与する。膜厚については
薄すぎると膜の磁気特性が十分出ず、厚すぎると高周波
での渦電流損があるため、１〜２０μｍ厚が適当であ
る。
【０００６】
【作用】上記技術的手段によれば、ギャップ形成直前に
成膜した金属磁性膜１ｂは成膜時の特性をほぼ維持する
ことが可能となり、また、膜の磁気特性および膜厚をコ
ントロールすることにより、媒体への記録・再生各々に
必要な磁界分布を設定することが可能となる。
成膜した金属磁性膜１ｂは成膜時の特性をほぼ維持する
ことが可能となり、また、膜の磁気特性および膜厚をコ
ントロールすることにより、媒体への記録・再生各々に
必要な磁界分布を設定することが可能となる。
【０００７】
【実施例】本発明にかかる磁気ヘッドの一実施例を図１
を参照して以下に説明する。図１，図２と同一参照符号
は同一部分を示し、その説明を省略する。本発明の特徴
は図１および図２に示すように、Ｉコア６のギャップ突
合せ面６ａに高飽和磁束密度を有する金属磁性材，例え
ばセンダスト（Ｆｅ，Ａｌ，Ｓｉ）をスパッタリング等
にて数ミクロン新たに成膜し、その上にギャップ長設定
のためのＳｉＯ2 を被着し、コア５，６を接合一体化す
る。
を参照して以下に説明する。図１，図２と同一参照符号
は同一部分を示し、その説明を省略する。本発明の特徴
は図１および図２に示すように、Ｉコア６のギャップ突
合せ面６ａに高飽和磁束密度を有する金属磁性材，例え
ばセンダスト（Ｆｅ，Ａｌ，Ｓｉ）をスパッタリング等
にて数ミクロン新たに成膜し、その上にギャップ長設定
のためのＳｉＯ2 を被着し、コア５，６を接合一体化す
る。
【０００８】なお、磁界分布図３１ｂを任意の分布に設
定するパラメータとしては図２１ｂの膜厚を任意に設定
することにより図６に示すような磁界強度のピークレベ
ルを制御できることと、図２１ｂの飽和磁束密度をより
大きい材料，例えばＦｅ系薄帯を用いることでも図６に
示すようにより急俊な反転幅の小さな磁界分布を作るこ
とができる。
定するパラメータとしては図２１ｂの膜厚を任意に設定
することにより図６に示すような磁界強度のピークレベ
ルを制御できることと、図２１ｂの飽和磁束密度をより
大きい材料，例えばＦｅ系薄帯を用いることでも図６に
示すようにより急俊な反転幅の小さな磁界分布を作るこ
とができる。
【０００９】さらに、上記実施例では、高飽和磁束密度
の金属磁性材としてセンダスト合金Ｆｅ系薄帯を示した
が、勿論他の材料，例えばパーマロイやＣｏ−Ｆｅ系ア
モルファス等の合金であってもよく、適宜選定すればよ
い。
の金属磁性材としてセンダスト合金Ｆｅ系薄帯を示した
が、勿論他の材料，例えばパーマロイやＣｏ−Ｆｅ系ア
モルファス等の合金であってもよく、適宜選定すればよ
い。
【００１０】
【発明の効果】この発明によれば、ギャップ対向面に新
たな磁性膜を０．１〜５ミクロン厚被着形成することに
より、第１の利点として成膜時点の膜特性がほぼそのま
ま劣化することなく表れること。このため、ギャップ近
傍の磁界分布を任意にコントロールすることができ、媒
体の配向方向に対応する磁界分布をもった磁気ヘッドを
設計することができ、記録・再生効率に優れたヘッドが
可能となる。
たな磁性膜を０．１〜５ミクロン厚被着形成することに
より、第１の利点として成膜時点の膜特性がほぼそのま
ま劣化することなく表れること。このため、ギャップ近
傍の磁界分布を任意にコントロールすることができ、媒
体の配向方向に対応する磁界分布をもった磁気ヘッドを
設計することができ、記録・再生効率に優れたヘッドが
可能となる。
【００１１】第２の利点としてヘッド突合せ時、図２か
ら理解できるように、トラックズレに対する特性への影
響がほとんど表れない構造となるため、サブミクロンの
突合せ精度確保のための設備，治具，工数等が大幅に省
くことができる。
ら理解できるように、トラックズレに対する特性への影
響がほとんど表れない構造となるため、サブミクロンの
突合せ精度確保のための設備，治具，工数等が大幅に省
くことができる。
【図１】 この発明の一実施例を示す斜視図
【図２】 図１の要部拡大図
【図３】 ギャップ中心近傍の記録時の漏洩磁界分布
【図４】 従来の積層型ヘッド
【図５】 その要部拡大図
１ａ，１ｂ 金属磁性膜 ２ 絶縁薄膜 ３ ラミネート層 ４ 非磁性基板 ５ Ｃコア ６ Ｉコア ７ コアチップ ８ 低融点ガラス
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年９月２１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図６
【補正方法】追加
【補正内容】
【図６】 ギャップ中心近傍の記録時の従来の漏洩磁界
分布図
分布図
Claims (2)
- 【請求項１】高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と絶縁
膜とを交互に積層したコア部を非磁性体基板で挟み込ん
でなる一対のコアを接合一体化して磁気ギャップを形成
した磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ形成予定面を含
むギャップ突合せ面に高飽和磁束密度を有する金属磁性
膜を付着したことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】請求項１に記載の磁気ヘッドにおいて、ギ
ャップ突合せ面に付着させる金属磁性膜を、Ｃｏ−Ｆｅ
系アモルファス薄帯としたことを特徴とする磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP966691A JPH0660314A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP966691A JPH0660314A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0660314A true JPH0660314A (ja) | 1994-03-04 |
Family
ID=11726541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP966691A Pending JPH0660314A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660314A (ja) |
-
1991
- 1991-01-30 JP JP966691A patent/JPH0660314A/ja active Pending
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