JPH0670859B2

JPH0670859B2 - 光デイスク基板

Info

Publication number: JPH0670859B2
Application number: JP61140955A
Authority: JP
Inventors: 英樹長坂; 昌生小松
Original assignee: 三菱化成株式会社
Priority date: 1986-06-17
Filing date: 1986-06-17
Publication date: 1994-09-07
Anticipated expiration: 2009-09-07
Also published as: JPS62298038A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は光デイスク基板に関するものである。詳しくは
透明な基板上に紫外線硬化樹脂を用いて、トラツキング
用溝構造を形成した、特に保存安定性に優れた光デイス
ク基板に関するものである。

〔従来の技術及びその問題点〕

光デイスク用の基板表面には、同心円又はスパイラル状
に微細なトラツキング用の溝が設けられており、通常、
この溝は、金型の凹凸を転写する方法で形成される。

転写方法のうち主なものは、射出成形法及び紫外線硬化
樹脂を用いる方法であるが、後者の方が、複屈折の発生
等の問題がなく、高精度のトラツキング溝の形成が可能
といわれている。

ここで用いられる紫外線硬化樹脂としては、既にビスフ
エノールＡを骨格構造に有する、付加重合性液状樹脂が
知られている（特開昭56−77905）しかしながら、このものを用いて光デイスク基板を構成
した場合においてもなおいくつかの問題点を解決する必
要があつた。特に、これら紫外線硬化性樹脂を用いて製
造される光デイスク基板は、通常、長期に亘る保存安定
性、信頼性が乏しく、従つて、それらの要請を満たした
紫外線硬化樹脂が強く望まれていた。

〔発明の目的〕

本発明は、か様な要望を満足させるものであり、その目
的は、製造が容易であり、十分な耐熱性、強度を有する
のみならず長期保存安定性に優れた光デイスク基板を提
供することにある。

〔発明の構成〕

かかる目的は、特定な（メタ）アクリレート化合物を含
有する紫外線硬化樹脂組成物を使用することにより達成
される。

すなわち、本発明の要旨とするところは、透明な支持体
の片面あるいは両面に、トラツキング用の溝を表面に有
する紫外線硬化樹脂皮膜を形成した光デイスク基板にお
いて、該紫外線硬化樹脂皮膜がポリエステルの多官能
（メタ）アクリレート化合物を含む組成物を光硬化させ
たものである光デイスク基板に存する。

ポリエステルの多官能（メタ）アクリレート化合物は多
価アルコールと多価カルボン酸と（メタ）アクリル酸と
を縮合反応させることにより製造される。

前記多価アルコールとしては、例えば、エチレグリコー
ル、1,2−プロピレングリコール、1,4−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパ
ン、トリメチロールエタン、グリセリン、ペンタエリス
リトール、ソルビトール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジペン
タエリスリトール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4
−シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。

多価カルボン酸としては、例えば、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、テトラクロルフタル酸、ジヒドロ
テレフタル酸、テトラヒドロテレフタル酸、トリメリツ
ト酸、ピロメリツト酸、ベンゾフエノンジカルボン酸、
マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、マロン酸、こはく
酸、グルタール酸、アジピン酸、ピメリン酸、セバシン
酸、ドデカン酸等を挙げることができる。ポリエステル
の多官能（メタ）アクリレート化合物は前述の多価アル
コール、多価カルボン酸、更に（メタ）アクリル酸を加
えて触媒の存在下縮合反応させることにより製造し得
る。

より好ましい多官能アクリレート化合物は、その主構造
が下記一般式Ｉで示されるものである。

（一般式Ｉ）〔式中、Ａは（メタ）アクリロイル基、Ｘは多価アルコ
ール残基、Ｙは多価カルボン酸残基を各々示す。ｎは１
〜10の整数を表わす。〕これらの化合物は市販品としても容易に入手することが
でき、例えば、東亜合成化学社製オリゴエステルアクリ
レート「アロニツクス」類も使用可能である。

本発明の紫外線硬化樹脂皮膜を形成する為の感光性組成
物には、光硬化速度を上げる為、光重合開始剤を含有さ
せた方が有利である。光重合開示剤は紫外光を吸収し、
ラジカルを発生する化合物であればいずれも使用するこ
とができる。

代表的なものとしては、ｐ−tert−ブチルトリクロロア
セトフエノン、2,4−ジエトキシアセトフエノン、２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−フエニルプロパン−１−
オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケトン等
のアセトフエノン類；ベンゾフエノン、ミヒラーケトン
（4,4′−ビスジメチルアミノベンゾフエノン）等のベ
ンゾフエノン類;2−クロロチオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン等のチオキサントン類；ベンゾ
イルならびにベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等
のベンゾインエーテル類；ベンジル類；ベンジルジメチ
ルケタール、ベンジルジエチルケタール等のベンジルケ
タール類等が挙げられる。

このような光重合開始剤と一緒に増感剤を加えて光硬化
速度を促進することもできる。増感剤としては、例えば
光重合開示剤としてはベンジル化合物を使用する場合、
ジメルアミノ安息香酸エチルエステル、ジ−ｎ−ブチル
アミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミノエチル
メタクリレート等のアミン系化合物が好適である。

紫外線硬化樹脂組成物は、適当な液状粘度を賦与する為
に、ポリエステルの多官能性（メタ）アクリレート化合
物以外に、更に低粘度の付加重合性化合物を含有させる
ことができる。紫外線硬化樹脂組成物の室温に於ける粘
度は10,000cps以下、更に好ましくは100〜4,000cpsの範
囲が適当であり、これにより金型表面の凹凸を、完全に
被覆することが可能となる。

低粘度の付加重合性化合物としては、２−エチルヘキシ
ルアクリレート、ラウリルメタクリレート、ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート等の単官能性（メタ）アク
リレート化合物;1,3−ブタンジオールジ（メタ）アクリ
レート、1,4−ブタンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
ピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレ
ート等の二官能性（メタ）アクリレート化合物；トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリメタクリレート、ペンタエリストール
トリ（メタ）アクリレート等の三官能性（メタ）アクリ
レート化合物が挙げられるが、特に充分な硬度を有する
光硬化樹脂皮膜を得る為には、上述の付加重合性化合物
の中から多官能性（メタ）アクリレート化合物を使用す
るのが有利である。

紫外線硬化樹脂組成物中におけるポリエステルの多官能
性（メタ）アクリレート化合物の含量は、10〜99.5重量
％、好ましくは25〜98重量％であり、光重合開始剤の含
量は0.5〜10重量％、好ましくは１〜６重量％であり、
低粘度付加重合性化合物の含量は０〜89.5重量％、好ま
しくは０〜60重量％である。

かくして得られた液状紫外線硬化樹脂組成物は、例え
ば、該液状紫外線硬化樹脂組成物をトラツキング用の溝
が刻み込まれた金型表面上に被覆し、その上より透明支
持体を圧着して均一な厚みにし（10〜100μｍ）次いで
支持体を通過して紫外光を照射して、液状樹脂を硬化さ
せた後、支持体をそれに付着した硬化樹脂皮膜とともに
金型から剥離することによつて光デイスク用の基板が得
られる。

透明支持体としては、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合
体、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート、エポキシ樹脂、ガラス等が使用される。

得られた、トラツキング用の溝が設けられた基板表面に
有機又は無機の記録媒体を蒸着又は塗布等の方法で付与
することにより光デイスクとなり、半導体レーザーによ
る記録が可能である。

次に本発明の実施例ならびに比較例を示すが、本発明は
その要旨を越えない限り以下の実施例に限定されるもの
ではない。

実施例１ポリエステルの多官能（メタ）アクリレート化合物とし
て「アロニツクスＭ−8060」（東亜合成化学社製）50
g、トリメチロールプロパントリアクリレート45g、更に
「イルガキユア−651」（チバガイギー社製）5gを配合
し、室温下、スターラーにて均一溶解された後、ミリポ
アフイルターにて過して紫外線硬化樹脂組成物を得
た。ニツケルメツキを施した金型に、前記紫外線硬化樹
脂組成物を被覆し、その上よりシランカツプリング剤
（日本ユニカ製Ａ−1120）をスピンコートしたガラス支
持体を該紫外線硬化樹脂組成物の膜厚が50μｍとなる様
に圧着し、1.5ジュール／cm²の紫外光を照射後、支持体
を硬化樹脂皮膜とともに金型から剥離し、深さ700Å、
ピツチ1.6μｍの溝を表面に有する光デイスク用基板を
得た。基板上の紫外線硬化樹脂皮膜の耐熱性を試験する
為、この基板を15℃／分で昇温しつつ830nmのレーザー
光を基板面に垂直に照射し、得られる回折像光強度なら
びに透過光強度を測定した。その結果、280℃において
も異状は認められなかつた。また光硬化皮膜表面の鉛筆
硬度は7Hを示し、機械的強度は十分な特性を有してい
た。次に、ここに得られたデイスク基板上にGdFe記録媒
体をマグネトロンスパツタ装置（アネルバ製430H機）を
用い700Åの膜厚に成膜したところ、1MHzでのＣ／Ｎ比
が50dB以上と良好な情報記録が可能であつた。次いでこ
のデイスク基板を65℃、相対湿度80％の条件において加
速劣化試験を行なつたが、600時間においても異状は認
められなかつた。

比較例１特開昭56−77905号に記載されている2,2−ビス（４−ア
クリロイルオキシジエチレンオキシフエニル）プロパン
95gと「イルガキユア−651」5gとを混合溶解し、実施例
１と同様にして紫外線硬化樹脂組成物を調製し評価を行
なつた。その結果耐熱性及びＣ／Ｎ比は実施例１のそれ
とほゞ同等であつたが、鉛筆硬度は1Hであり、加速劣化
試験においては75時間よりクラツクが発生し、200時間
より表面に小クレーター状変形が生じ、次第に増加し
た。

実施例２「アロニツクスＭ−8030」95gおよび「イルガキユア−6
51」5gを混合溶解し、実施例１と同様にして紫外線硬化
樹脂組成物を調製し評価を行なつた。その結果、耐熱
性、鉛筆硬度、Ｃ／Ｎ比は実施例１の場合とほゞ同等で
あり、加速劣化試験の600時間における性状も変化は認
められなかつた。

実施例３「アロニツクスＭ−7100」25g、「アロニツクスＭ−806
0」20g、トリメチロールプロパントリアクリレート50g
および「イルガキユ−651」5gを溶解混合し実施例１と
同様にして紫外線硬化樹脂組成物を調製し評価を行なつ
たところ各評価項目において実施例１と同等な結果を得
た。

〔発明の効果〕本発明の光デイスク基板は、保存安定性、耐熱性、強度
に優れた特殊の紫外線効果樹脂皮膜によりトラツキング
用の溝が形成されているので実用上大変効果的である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明な支持体の片面、あるいは両面に、ト
ラツキング用の溝を表面に有する紫外線硬化樹脂皮膜を
施した光デイスク基板において、該紫外線硬化樹脂皮膜
がポリエステルの多官能（メタ）アクリレート化合物を
含む組成物を光硬化させたものである光デイスク基板。
【請求項２】ポリエステルの多官能（メタ）アクリレー
ト化合物が、下記一般式Ｉで示される主構造を有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の光デイ
スク基板。（一般式Ｉ）〔式中、Ａは（メタ）アクリロイル基、Ｘは多価アルコ
ール残基、Ｙは多価カルボン酸残基を各々示す。ｎは１
〜10の整数を表わす。〕
【請求項３】前記紫外線硬化樹脂皮膜が前記ポリエステ
ルの多官能（メタ）アクリレート化合物を少なくとも10
重量％、光重合開始剤を0.5〜10重量％含有する組成物
を光硬化させたものであることを特徴とする特許請求の
範囲第（１）項記載の光デイスク基板。