JPS62298038A - 光デイスク基板 - Google Patents
光デイスク基板Info
- Publication number
- JPS62298038A JPS62298038A JP61140955A JP14095586A JPS62298038A JP S62298038 A JPS62298038 A JP S62298038A JP 61140955 A JP61140955 A JP 61140955A JP 14095586 A JP14095586 A JP 14095586A JP S62298038 A JPS62298038 A JP S62298038A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- meth
- optical disk
- curable resin
- polyester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ディスク基板に関するものである。
を詳しくは透明な基板上に紫外a硬化樹脂を用いて、ト
ラッキング用溝構造を形成した、特に保存安定性に優れ
た光ディスク基板に関するものである。
ラッキング用溝構造を形成した、特に保存安定性に優れ
た光ディスク基板に関するものである。
光ディスク用の基板表面には、同心円又はスパイラル状
に微細なトラッキング用の溝が設けられておシ、通常、
この溝は、金型の凹凸を転写する方法で形成される。
に微細なトラッキング用の溝が設けられておシ、通常、
この溝は、金型の凹凸を転写する方法で形成される。
転写方法のうち主なものは、射出成形法及び紫外線硬化
樹脂を用いる方法であるが、後者の方が、複屈折の発生
等の問題がなく、高精度のトラッキング溝の形成が可能
といわれている。
樹脂を用いる方法であるが、後者の方が、複屈折の発生
等の問題がなく、高精度のトラッキング溝の形成が可能
といわれている。
ここで用いられる紫外線硬化樹脂としては、既にビスフ
ェノールAを骨格構造に有する、付加重合性液状樹脂が
知られている。(特開昭j6−77?Oj) しかしながら、このものを用いて光ディスク基板を構成
した場合においてもなおいくつかの問題点を解決する必
要があった。特に、これら紫外線硬化性樹脂を用いて製
造される光ディスク基板は、通常、長期に亘る保存安定
性、信頼性が乏しく、従って、それらの要請を満たした
紫外線硬化樹脂が強く望まれていた。
ェノールAを骨格構造に有する、付加重合性液状樹脂が
知られている。(特開昭j6−77?Oj) しかしながら、このものを用いて光ディスク基板を構成
した場合においてもなおいくつかの問題点を解決する必
要があった。特に、これら紫外線硬化性樹脂を用いて製
造される光ディスク基板は、通常、長期に亘る保存安定
性、信頼性が乏しく、従って、それらの要請を満たした
紫外線硬化樹脂が強く望まれていた。
本発明は、か様な要望を満足させるものであシ、その目
的は、製造が容易でアシ、十分な耐熱性、強度を有する
のみならず長期保存安定性に優れた光ディスク基板を提
供することKある。
的は、製造が容易でアシ、十分な耐熱性、強度を有する
のみならず長期保存安定性に優れた光ディスク基板を提
供することKある。
かかる目的は、特定な(メタコアクリレート化合物を含
有する紫外線硬化樹脂組成物を使用することによ)達成
される。
有する紫外線硬化樹脂組成物を使用することによ)達成
される。
すなわち、本発明の要旨とするところは、透明な支持体
の片面あるいは両面に、トラッキング用の溝を表面に有
する紫外線硬化樹脂皮膜を形成した光ディスク基板にお
いて、該紫外線硬化樹脂皮膜がポリエステルの多官能(
メタ)アクリレート化合物を含む組成物を光硬化させた
ものである光ディスク基板に存する。
の片面あるいは両面に、トラッキング用の溝を表面に有
する紫外線硬化樹脂皮膜を形成した光ディスク基板にお
いて、該紫外線硬化樹脂皮膜がポリエステルの多官能(
メタ)アクリレート化合物を含む組成物を光硬化させた
ものである光ディスク基板に存する。
ポリエステルの多官能〔メタコアクリレート化合物は多
価アルコールと多価カルボン酸と(メタ)アクリル酸と
を縮合反応させることにより製造される。
価アルコールと多価カルボン酸と(メタ)アクリル酸と
を縮合反応させることにより製造される。
゛前記多価アルコールとしては、例えば、エチレングリ
コール、!、ユニーロピレングリコール、/、 u −
フタンジオール、l、6−ヘキサンジオール、トリメチ
ロールプロパン、トリメチロールエタン、クリセリン、
ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ジペンタエリスリトール、1.弘−シクロヘキサ
ンジオール、/、4<−シクロヘキサンジメタツール等
を挙げることかできる。
コール、!、ユニーロピレングリコール、/、 u −
フタンジオール、l、6−ヘキサンジオール、トリメチ
ロールプロパン、トリメチロールエタン、クリセリン、
ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ジペンタエリスリトール、1.弘−シクロヘキサ
ンジオール、/、4<−シクロヘキサンジメタツール等
を挙げることかできる。
多価カルボン酸としては、例えば、フタル酸、インフタ
ル酸、テレフタル酸、テトラクロルフタル酸、ジヒドロ
テレフタル酸、テトラヒドロテレフタル酸、トリメリッ
ト酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、
マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、マロン酸、こはく
酸、ゲルタール酸、アジピンば、ピメリン酸、セバシン
酸、ドデカン酸等を挙げることができる。
ル酸、テレフタル酸、テトラクロルフタル酸、ジヒドロ
テレフタル酸、テトラヒドロテレフタル酸、トリメリッ
ト酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、
マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、マロン酸、こはく
酸、ゲルタール酸、アジピンば、ピメリン酸、セバシン
酸、ドデカン酸等を挙げることができる。
ポリエステルの多官能(メタ)アクリレート化合物は前
述の多価アルコール、多価カルボン酸、更に(メタ)ア
クリル酸を加えて触媒の存在下m合反応させることによ
)#遺し得る。
述の多価アルコール、多価カルボン酸、更に(メタ)ア
クリル酸を加えて触媒の存在下m合反応させることによ
)#遺し得る。
より好ましい多官能アクリレート化合物は、その主構造
が下記一般式Iで示されるものである。
が下記一般式Iで示されるものである。
(一般式I)
〔式中、Aは(メタ)アクリロイル基、Xは多価アルコ
ール残基、Yは多価カルボン酸残基を各々示す。nは/
、/ 0の整数を表わす。〕これらの化合物は市販品と
しても容易に入手することができ、例えば、東亜合成化
学社製オリゴエステルアクリレート「アロエックス」類
も使用可能である。
ール残基、Yは多価カルボン酸残基を各々示す。nは/
、/ 0の整数を表わす。〕これらの化合物は市販品と
しても容易に入手することができ、例えば、東亜合成化
学社製オリゴエステルアクリレート「アロエックス」類
も使用可能である。
本発明の紫外線硬化樹脂皮膜を形成する為の感光性組成
物には、光硬化速度を上げる為、光重合開始剤を含有さ
せた方が有利でろる。光重合開始剤は紫外光を吸収し、
ラジカルを発生する化合物であればいずれも使用するこ
とができる。
物には、光硬化速度を上げる為、光重合開始剤を含有さ
せた方が有利でろる。光重合開始剤は紫外光を吸収し、
ラジカルを発生する化合物であればいずれも使用するこ
とができる。
代表的なものとしては、p−tert−ブチルトリクロ
ロアセトフェノン、−9q−ジエトキシアセトンエノン
、コーヒドロキシーコーメチルー/−フェニルプロパン
−7−オン、!−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケ
トン等のアセトフェノン類;ベンゾフェノン、ミヒラー
ケトン(鮨り′−ビスジメチルアミノベンゾフェノン)
等ノペンゾフェノン類;コークロロチオキサントン、−
一メチルチオキサントン、コーエチルチオキサントン、
−一イングロビルチオキサントン等のチオキサントン類
;ベンゾインならびニヘンゾインメチルエーテル、ペン
ゾインイングロビルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル等のベンゾインエーテル類:ペンジル類;ベンジ
ルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール等のベ
ンジルケタール類等が孕げられる。
ロアセトフェノン、−9q−ジエトキシアセトンエノン
、コーヒドロキシーコーメチルー/−フェニルプロパン
−7−オン、!−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケ
トン等のアセトフェノン類;ベンゾフェノン、ミヒラー
ケトン(鮨り′−ビスジメチルアミノベンゾフェノン)
等ノペンゾフェノン類;コークロロチオキサントン、−
一メチルチオキサントン、コーエチルチオキサントン、
−一イングロビルチオキサントン等のチオキサントン類
;ベンゾインならびニヘンゾインメチルエーテル、ペン
ゾインイングロビルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル等のベンゾインエーテル類:ペンジル類;ベンジ
ルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール等のベ
ンジルケタール類等が孕げられる。
このような光重合開始剤と一緒に増感剤を加えて光硬化
速度を促進することもできる。増感剤としては、例えば
光重合開始剤としてベンジル化合物を使用する場合、ジ
メチルアミノ安息香酸エチルエステル、ジーn −フf
ルアミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミノエチ
ルメタクリレート等のアミン系化合物が好適である。
速度を促進することもできる。増感剤としては、例えば
光重合開始剤としてベンジル化合物を使用する場合、ジ
メチルアミノ安息香酸エチルエステル、ジーn −フf
ルアミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミノエチ
ルメタクリレート等のアミン系化合物が好適である。
紫外線硬化樹脂組成物は、適当な液状粘度を賦与する為
に、ポリエステルの多官能性(メタンアクリレート化合
物以外K、更に低粘度の付加重合性化合物を含有させる
ことができる。紫外線硬化樹脂組成物の室温に於ける粘
度は/(3000Cps以下、更に好ましくは/ 00
〜u、000 cpsの範囲が適当であり、これにより
金型表面の凹凸を、完全に被覆することが可能となる。
に、ポリエステルの多官能性(メタンアクリレート化合
物以外K、更に低粘度の付加重合性化合物を含有させる
ことができる。紫外線硬化樹脂組成物の室温に於ける粘
度は/(3000Cps以下、更に好ましくは/ 00
〜u、000 cpsの範囲が適当であり、これにより
金型表面の凹凸を、完全に被覆することが可能となる。
低粘度の付加重合性化合物としては、−一エチルへキシ
ルアクリレート、ラウリルメタクリレート、ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレ−ト等の単官能性(メタ)アク
リレート化合物;/、3−ブタンジオールジ(メタンア
クリレート、1、ψ−ブタンジオールジ(メタンアクリ
レート、/、!−ヘキサンジオールジ(メタンアクリレ
ート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ネオベンチルグリコールジ(メタンアクリレート、ヒド
ロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジア
クリレート等の二官能性(メタ)アクリレート化合物;
トリメチロールプロパントリ(メタンアクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタンアクリレート等の三官能性(メタ
ンアクリレート化合物が挙げられるが、特に充分な硬度
を有する光硬化樹脂皮膜を得る為には、上述の付加重合
性化合物の中から多官能性(メタ)アクリレート化合物
を使用するのが有利である。
ルアクリレート、ラウリルメタクリレート、ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレ−ト等の単官能性(メタ)アク
リレート化合物;/、3−ブタンジオールジ(メタンア
クリレート、1、ψ−ブタンジオールジ(メタンアクリ
レート、/、!−ヘキサンジオールジ(メタンアクリレ
ート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ネオベンチルグリコールジ(メタンアクリレート、ヒド
ロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジア
クリレート等の二官能性(メタ)アクリレート化合物;
トリメチロールプロパントリ(メタンアクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタンアクリレート等の三官能性(メタ
ンアクリレート化合物が挙げられるが、特に充分な硬度
を有する光硬化樹脂皮膜を得る為には、上述の付加重合
性化合物の中から多官能性(メタ)アクリレート化合物
を使用するのが有利である。
紫外線硬化樹脂組成物中におけるポリエステルの多官能
性(メタンアクリレート化合物の含量は、10−9?、
jii量チ、好ましくは2j〜9g重量%であり、光重
合開始剤の含量は0.3〜10重f%、好ましくは1〜
6重量係であり、低粘度付加重合性化合物の含量は0−
g9.3重量チ、好ましくは0〜60重量%である。
性(メタンアクリレート化合物の含量は、10−9?、
jii量チ、好ましくは2j〜9g重量%であり、光重
合開始剤の含量は0.3〜10重f%、好ましくは1〜
6重量係であり、低粘度付加重合性化合物の含量は0−
g9.3重量チ、好ましくは0〜60重量%である。
かくして得られた液状紫外線硬化樹脂組成物は、例えば
、該液状紫外線硬化樹脂組成物なトラッキング用の溝が
刻み込まれた金型表面上に被覆し、その上より透明支持
体を圧着して均一な厚みにしく10〜100μm)次い
で支持体を通して紫外光を照射して、液状樹脂を硬化さ
せた後、支持体をそれに付着した硬化樹月旨皮膜ととも
に金型から剥離することによって光ディスク用の基板が
得られる。
、該液状紫外線硬化樹脂組成物なトラッキング用の溝が
刻み込まれた金型表面上に被覆し、その上より透明支持
体を圧着して均一な厚みにしく10〜100μm)次い
で支持体を通して紫外光を照射して、液状樹脂を硬化さ
せた後、支持体をそれに付着した硬化樹月旨皮膜ととも
に金型から剥離することによって光ディスク用の基板が
得られる。
透明支持体としては、塩化ビニル/酢酸ビニル共電合本
、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂、ガラス等が使用される。
、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂、ガラス等が使用される。
得られた、トラッキング用の溝が設けられた基板表面に
有機又は無機の記録媒体な蒸渚又は塗布等の方法で付与
することによシ光ディスクとな)、半導体レーザーによ
る記録が可能である。
有機又は無機の記録媒体な蒸渚又は塗布等の方法で付与
することによシ光ディスクとな)、半導体レーザーによ
る記録が可能である。
次に本発明の実施例ならびに比較例を示すが、本発明は
その要旨を越えない限シ以下の実施例に限定されるもの
ではない。
その要旨を越えない限シ以下の実施例に限定されるもの
ではない。
実施例/
ポリエステルの多官能(メタノアクリレート化合物とし
て「アロニツクスM−ざ060」(東亜合成化学社’A
)30g、トリメチロールプロパントリアクリレ−Hp
、更に「イルガキュアー1a!/J(チバガイギー社M
)3!/を配合し、室温下、スターラーにて均一溶解さ
せた後、ミリポアフィルタ−にて濾過して紫外線硬化樹
脂組成物を得た。ニッケルメッキを施した金型に、前記
紫外線硬化樹脂組成物を被覆し、その上よりシランカッ
プリング剤(日本二二力製A−//コO〕をスピンコー
ドしたガラス支持体を該紫外線硬化樹脂組成物の膜厚が
30μmとなる様に圧着し、へΔジュール/洲の紫外光
を照射後、支持体を硬化樹脂皮膜とともに金型から剥離
し、深さ700k、ピッチ7.6μmの溝を表面に有す
る光ディスク用基板を得た。基板上の紫外線硬化樹脂皮
膜の耐熱性を試験する為、この基板をlj℃/分で昇温
しつつg j Onmのレーザー光を基板面に垂直に照
射し、得られる回折像光強度ならびに透過光強度を測定
した。その結果、コgo℃においても異状は認められな
かった。また光硬化皮膜表面の鉛班硬度は7Hを示し、
機械的強度は十分な特性を有していた。次K、ここに得
られたディスク基板上にGdFe記録媒体なマグネトロ
ンスパッタ装置(アネルバ製ta30H機)を用いqo
oXの膜厚Kfiiしたところ、/ Mj(zでの(E
/N比がj OdB以上と良好な情報記録が可能であっ
た。次いでこのディスク基板を6j℃、相対湿度gO%
の粂件において加速劣化試験を行なったが、boo時間
においても異状は認められなかった◎ 比較例1 特開昭jA−7’1903号に記載されているλ、−一
ビス(ダーアクリロイルオキシジエチレンオキシフェニ
ル〕プロパン9jgと「イルガキュアーbs iJs、
SJとを混合溶解し、実施例1と同様にして紫外線硬化
樹脂組成物を調製し評価を行なった。その結果耐熱性及
びC/N比は実施例1のそれとはソ同等であったが、鉛
筆硬度は/Hでア)、加速劣化試験においては7j時間
ようクラックが発生し、200時間より表面に小クレー
タ−状変形が生じ、次第に増加した。
て「アロニツクスM−ざ060」(東亜合成化学社’A
)30g、トリメチロールプロパントリアクリレ−Hp
、更に「イルガキュアー1a!/J(チバガイギー社M
)3!/を配合し、室温下、スターラーにて均一溶解さ
せた後、ミリポアフィルタ−にて濾過して紫外線硬化樹
脂組成物を得た。ニッケルメッキを施した金型に、前記
紫外線硬化樹脂組成物を被覆し、その上よりシランカッ
プリング剤(日本二二力製A−//コO〕をスピンコー
ドしたガラス支持体を該紫外線硬化樹脂組成物の膜厚が
30μmとなる様に圧着し、へΔジュール/洲の紫外光
を照射後、支持体を硬化樹脂皮膜とともに金型から剥離
し、深さ700k、ピッチ7.6μmの溝を表面に有す
る光ディスク用基板を得た。基板上の紫外線硬化樹脂皮
膜の耐熱性を試験する為、この基板をlj℃/分で昇温
しつつg j Onmのレーザー光を基板面に垂直に照
射し、得られる回折像光強度ならびに透過光強度を測定
した。その結果、コgo℃においても異状は認められな
かった。また光硬化皮膜表面の鉛班硬度は7Hを示し、
機械的強度は十分な特性を有していた。次K、ここに得
られたディスク基板上にGdFe記録媒体なマグネトロ
ンスパッタ装置(アネルバ製ta30H機)を用いqo
oXの膜厚Kfiiしたところ、/ Mj(zでの(E
/N比がj OdB以上と良好な情報記録が可能であっ
た。次いでこのディスク基板を6j℃、相対湿度gO%
の粂件において加速劣化試験を行なったが、boo時間
においても異状は認められなかった◎ 比較例1 特開昭jA−7’1903号に記載されているλ、−一
ビス(ダーアクリロイルオキシジエチレンオキシフェニ
ル〕プロパン9jgと「イルガキュアーbs iJs、
SJとを混合溶解し、実施例1と同様にして紫外線硬化
樹脂組成物を調製し評価を行なった。その結果耐熱性及
びC/N比は実施例1のそれとはソ同等であったが、鉛
筆硬度は/Hでア)、加速劣化試験においては7j時間
ようクラックが発生し、200時間より表面に小クレー
タ−状変形が生じ、次第に増加した。
実施例コ
「アロニツクスM−g Oj OJ ? j 、SJお
よび[イルガキュアー431Jj&を混合溶解し、実施
例/と同様にして紫外線硬化樹脂組成物を調製し評価を
行なった。その結果、耐熱性、鉛筆硬度、C/N比は実
施例7の場合とはy同等であり、加速劣化試験の1.0
0時間における性状も変化は認められなかった。
よび[イルガキュアー431Jj&を混合溶解し、実施
例/と同様にして紫外線硬化樹脂組成物を調製し評価を
行なった。その結果、耐熱性、鉛筆硬度、C/N比は実
施例7の場合とはy同等であり、加速劣化試験の1.0
0時間における性状も変化は認められなかった。
実施例3
「アロニツクスM−qtooJ2s&、 「アロニツク
スM−ざobo J2o1/、)リメチロールプロパン
トリアクリレートjopおよび「イルガキュアー、6j
/ J j 、9を溶解混合し実施例/と同様にして
紫外線硬化樹脂組成物を調製し評価を行なったところ各
評価項目において実施例1と同等な結果を得た。
スM−ざobo J2o1/、)リメチロールプロパン
トリアクリレートjopおよび「イルガキュアー、6j
/ J j 、9を溶解混合し実施例/と同様にして
紫外線硬化樹脂組成物を調製し評価を行なったところ各
評価項目において実施例1と同等な結果を得た。
本発明の光ディスク基板は、保存安定性、耐熱性、強度
に優れた特殊の紫外線硬化樹脂皮膜によりトラッキング
用の溝が形成されているので実用上大変効果的である。
に優れた特殊の紫外線硬化樹脂皮膜によりトラッキング
用の溝が形成されているので実用上大変効果的である。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −
(ほか1名)
Claims (2)
- (1)透明な支持体の片面、あるいは両面に、トラッキ
ング用の溝を表面に有する紫外線硬化樹脂皮膜を施した
光ディスク基板において、該紫外線硬化樹脂皮膜がポリ
エステルの多官能(メタ)アクリレート化合物を含む組
成物を光硬化させたものである光ディスク基板。 - (2)ポリエステルの多官能(メタ)アクリレート化合
物が、下記一般式 I で示される主構造を有することを
特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の光ディスク
基板。 (一般式 I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Aは(メタ)アクリロイル基、Xは多価アルコ
ール残基、Yは多価カルボン酸残基を各々示す。nは1
〜10の整数を表わす。〕(3)前記紫外線硬化樹脂皮
膜が前記ポリエステルの多官能(メタ)アクリレート化
合物を少なくとも10重量%、光重合開始剤を0.5〜
10重量%含有する組成物を光硬化させたものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の光ディ
スク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61140955A JPH0670859B2 (ja) | 1986-06-17 | 1986-06-17 | 光デイスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61140955A JPH0670859B2 (ja) | 1986-06-17 | 1986-06-17 | 光デイスク基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62298038A true JPS62298038A (ja) | 1987-12-25 |
| JPH0670859B2 JPH0670859B2 (ja) | 1994-09-07 |
Family
ID=15280701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61140955A Expired - Lifetime JPH0670859B2 (ja) | 1986-06-17 | 1986-06-17 | 光デイスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0670859B2 (ja) |
-
1986
- 1986-06-17 JP JP61140955A patent/JPH0670859B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0670859B2 (ja) | 1994-09-07 |
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