JPS6288155A - 光デイスク基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光デイスク基板に関するものである。

詳しくは、紫外線硬化樹脂を用いて、透明な支持体の表
面に耐熱性の優れた。トラッキング用溝構造を形成した
元ディスク基板に関するものである。

〔従来の技術及びその問題点〕

元ディスク用の基板表面には、同心円又はスパイラル状
の微細な溝が読出し、書込み時のトラッキング用として
設けられている。この溝は。

通常、金型の表面に同心円又はスパイラル状の溝を形成
しておき、これを成形の際転写する方法で形成されてい
る。

転写方法のうち主なものは、射出成形法又は紫外線硬化
樹脂を用いる方法であるが、後者の方が、得られた溝構
造に複屈折の発生等の問題がなく、高精度の溝の形成が
可能といわれている。

ここで用いられる紫外線硬化樹脂としては、既にビスフ
ェノール人を骨格構造に有する、付加重合性液状樹脂が
知られている。（特開昭３６−７りｔｏｓ）、ｌ、かし
ながら、まだ溝の精度、耐熱性等が充分なものとは云え
ず、更に信頼の高い溝構造を有するディスクが、すなわ
ち高性能の紫外線樹脂が望まれている。

〔発明の目的〕

第１の目的は　金型からの剥離が容易で、高精度の溝構
造が形成され九基 板を提供することである。

第一の目的は　形成された溝構造のエツジの形状が高温
下でも十分な耐熱 性を有している基板を提供す ることである。

第３の目的は　形成された紫外線硬化樹脂皮膜が、特に
半導体レーザーの 波長領域に於て、高温下でも 十分な耐熱性を有している基 板を提供することである。

第ダの目的は　形成された紫外線硬化樹脂皮膜が、十分
な硬度を有する基 板を提供することである。

かかる目的は、特定のノボラック樹脂誘導体を含有する
紫外線硬化樹脂組成物を使用することによシ達成された
。

〔発明の構成〕

本発明の要旨は、透明な支持体の片面、あるいは両面に
、トラッキング用の溝を表面に有する紫外線硬化樹脂皮
膜を形成した光デイスク基板に於て、紫外線硬化樹脂皮
膜が下記構造式（１）で示されるノボラック系の樹脂を
光硬化させたものであることを特徴とする光ディスクの
基板に存する。

Ｏ＝０ Ｒ’−０ ８Ｈ！ ｎはＯ−一〇の整数である。

Ｒ’、Ｒ’は水素原子又はメチル基を示す。

Ｒ１、Ｒ１は水素原子又は炭素数７〜乙のアルキル基又
はフェニル基を示す。

構造式（１）のノボラック系の樹脂はノボラック樹脂と
グリシジル（メタ）アクリレート誘導体との反応で合成
される。ノボラック樹脂は。

フェノール、クレゾール等のフェノール誘導体とホルム
アルデヒド、アセトン、ペンズアルデヒト等のカルボニ
ル化合物との縮合反応で合成可能である。

光硬化速度を上げる為に、紫外線硬化樹脂組成物は、ノ
ボラック系の樹脂以外に、光重合開始剤を含有するのが
一般的である。

光重合開始剤としては、紫外光を吸収し、ラジカルを発
生するタイプの化合物ならば、特に制限はない。

代表的なものとしては、ｐ−ｔａｒｔ−ブチルトリクロ
ロアセトフェノン、　！、２’−ジェトキシアセトフェ
ノン、コーヒドロキシーユーメチルー／−フェニルプロ
パン−７−オン等のア七トフェノン類；ベンゾフェノン
、ミヒラーケトン（ダ、ダ′−ビスジメチルア電ノベン
ゾフエノン）％コークロロチオキサントン、−一メチル
チオキサントン、コーエチルチオキサン、−一イソプロ
ピンチオキサン等のクトン類：ベンゾインなルエーテル
等のベンゾインエーテル類；ベンジルならびにべ／ジル
ジメチルケタール、ヒドロキシシクロへキシルフェニル
クトン等のペンシルクタール類等が挙げられる。

このような光重合開始剤と一緒に増感斉１１を加えると
光硬化速度が促進されて好適である。増感剤としては、
例えば光重合開始剤としてベンジルを使用する場合、ｎ
−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、トリエチルア
ミン、ジエチルアミノエチルメタクリレート等のアミン
系化合物が好適である。

紫外線硬化樹脂組成物は、適当な液状粘度を保つ為に、
ノボラック系の樹脂以外に、更に低粘度の付加重合性化
合物を含有させることができる。紫外線硬化Ｗ脂組成物
の重湯に於ける粘度は／ａＯＯＯａｐａ以下、更に好ま
しくは１０θ〜ＩＩ　０００　ｃｐａの範囲が適当であ
ル、これＫより金型表面の凹凸を、完全に抜機すること
が可能となる。

低粘度の付加重合性化合物としては、λ−エチルへキシ
ルアクリレート、ラクリルメタクリレート、ヒドロキシ
エチル（メタ）アクリレート等の単官能性（メタ）アク
リレート化合物：ｌ、３−ブタンジオールジ（メタ）ア
クリレート、へダーブタンジオールジ（メタ）アクリレ
ート、／、Ａ−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリ、レート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシピパリン酸エステルネオペンチルグリコールジア
クリレート等の二官能性（メタ）アクリレート化合物ニ
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート等の三官能性（
メタ）アクリレート化合物が挙げられるが。

特に充分な硬度を有する光硬化樹脂皮膜を得るには、上
述の付加重合性化合物の中から多官能性（メタ）アクリ
レート化合物を使用するのが有利である。

紫外線硬化樹脂組成物中のノボラック糸の樹脂の濃度は
、ｌＯＸ〜タデ、３重量Ｘ１好ましくは２３％〜９６重
量Ｓであ）、重合開始剤の濃度は０．２〜１０重量％１
好ましくは７〜５重−％であり、付加重合性化合物の濃
度は０〜ｇ９　、ｓ重量Ｓ、好ましくはＯ〜７０重量３
である。

かくして得られた。液状紫外線硬化樹脂租成物をトラッ
キング用の溝形状が刻み込まれた金で支持体を通して紫
外光を照射して１ｇ状樹脂を硬化させた後、支持体をそ
れに付増しｔ硬化樹脂皮膜とともに金をから剥離するこ
とによって元ディスク用の基板が得られる。

透明支持体としては、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体
、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂、ガラス等が使用される。

得られた。トラッキング用の溝が設けられた基板表面に
有機又は無機の記録媒体を蒸着又は金石等の方法で付与
することによシ、元ディスクとなシ、半導体レーザー等
による記録・読出しが可能となる。

〔実施例〕

以下実施例を示すが、本発明はその要旨を越えない限シ
以下の実施例に限定されるものではない。

製造例 Ｏ紫外線硬化樹脂組成物の調液 紫外線が除かれた黄色照明下においてノボラック樹脂誘
導体１重合開始剤、付加重合性化合物を室温にて配合し
、液状紫外線硬化樹脂組成物Ａ、Ｂを作成、以下の実施
例に使用した。

又、特開昭３６−ククデＯよに記載されている付加重合
性組成物を含有する液状紫外線硬化樹脂組成物Ｏを作成
し、以下の比較例に使用した。

Ａ組成物 ノボ２ツク樹脂誘導体　３部部 ■ 付加重合性化合物　弘θ部 ＯＨ，−０−０−ＯＨ＝Ｏ３ｌｔ。

■ 重合開始剤　３部 Ｂ組成物 ノボラック樹脂誘導体　５０部 ＯＨ。

付加重合性化合物　７５部 ＯＲ，−０−０−ＯＨ＝ＯＨ。

重合開始剤　３部 ００Ｂ。

０組成物 付加重合性化合物　９３部 ＯＣＲ，０ 重合開始剤　３部 ００Ｈ。

実施例／、コ、比較例１ ニッケルメッキした金型に、前述し曳索外線硬化樹脂組
成物Ａ、Ｂ、Ｏを被値し、その上よクシ２ンカツプリン
グ剤（日本コニカ）をスピンコートしたガラス支持体を
該紫外線硬化樹脂組成物の膜厚がｒｏμになるように圧
着し。

八ｚ：ｆ／ｄｉ　　の紫外線を照射後、支持体を硬化樹
脂皮膜とともに金型から剥離し、深さ７θθ＾、ピッチ
八６μの溝を表面に有する元ディスク用基板を得た。

基板上の光硬化膜の耐熱性試験を次のように実施した。

加熱によるトラッキング溝の深さ変化人らびに透過惠変
化は、基板試料を室温から／ｒ℃／分の昇温速度で昇温
しなからｇ　Ｊ　Ｏｒｍのレーザー光をトラック溝面に
照射して得られる回折像の光強度ならびに透過光強度を
測定し、各々の光強度が昇温開始時（ｉｏｏ％）の９０
％に低下した時点の温度を求める。表７に結果表　　７ 参考例１１コ 次に、実施例１−２で得られた元ディスク基板上にＴｅ
８．　Ｓ”Ｉｓの組成を有する記録媒体を市販のマグネ
トロン型スパッタ装置（アネルバ裂’ＩＪＯＢ機）によ
１）３ｏｏ＾の膜厚に成膜したところ、いずれも／　Ｍ
ｎ２におけるＯ／Ｎが！ｒＯｄＥ以上と、良好なる情報
記録が可能であった。なお、記録再生にはナカミチ裂評
価装置（ｏＭｓｌｏｏｏ）を用いた。

実施例ｊ、　４（、比較例コ ニラクルメッキした金型に、前述した紫外線硬化樹脂組
成物Ａ〜０を被接し、その上よシボリカーボネート支持
体を圧着し、紫外光を照射後、支持体を硬化樹脂皮膜と
ともに金型から剥離し、実施例／〜−と同様の溝形状を
表面に有する光デイスク基板を得た。得られた硬化樹脂
皮膜の鉛筆硬度を測定したところ、表−に記されている
ような良好な結果が得られた。

表　　コ 参考例３、グ 次に実施例３〜ｌＩで得られた元ディスク基板に’ｒｂ
、、　Ｐａ丁、なる組成をもつ膜厚Ｊ００＾の光磁気記
録媒体を市販の電子ビーム蒸着装置にて成膜し、前述の
評価機を用いて記録特性を測定したところ、いずれも／
　＋１！Ｈ２におけるＣ／Ｎが４（ｊ−ｄＢ以上の良好
な結果を得た。

〔発明の効果〕

本発明によれば、金型からの剥離が容易で。

高精度の溝構造を有し、耐熱性硬度に優れｔフしディス
ク基板が得られる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明な支持体の片面、あるいは両面に、トラッキ
   ング用の溝を表面に有する紫外線硬化樹脂皮膜を形成し
   た光ディスク基板に於て、紫外線硬化樹脂皮膜が下記構
   造式（ I ）で示されるノボラック系の樹脂を光硬化さ
   せたものであることを特徴とする光ディスク基板。 ▲数式、化学式、表等があります▼…（ I ） ｎは０〜２０の整数である。 Ｒ＾１、Ｒ＾４は水素原子又はメチル基を示す。 Ｒ＾２、Ｒ＾３は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル
   基又はフェニル基を示す。
2. （２）透明な支持体が、ポリメタクリル酸メチル、ポリ
   カーボネート、ポリスチレン、エポキシ樹脂、塩化ビニ
   ル／酢酸ビニル共重合体、ガラスのいずれかであること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ディスク基
   板。
3. （３）ノボラック系の樹脂が下記の構造式で示されるも
   のであることを特徴とする特許請求範囲第１項記載の光
   ディスク基板。 ▲数式、化学式、表等があります▼ｎ＝０〜５
4. （４）紫外線硬化樹脂皮膜が、ノボラック系の樹脂を少
   なくとも１０重量％、ならびに光重合開始剤を０．５な
   いし１０重量％含有させた組成物を光硬化させたもので
   あることを特徴とする紫外線硬化樹脂皮膜を施した特許
   請求の範囲第１項記載の光ディスク基板。