JPH0697060A - 電子線描画装置 - Google Patents

電子線描画装置

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JPH0697060A
JPH0697060A JP4247600A JP24760092A JPH0697060A JP H0697060 A JPH0697060 A JP H0697060A JP 4247600 A JP4247600 A JP 4247600A JP 24760092 A JP24760092 A JP 24760092A JP H0697060 A JPH0697060 A JP H0697060A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mark
waveform
electron beam
addition
detection
Prior art date
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Pending
Application number
JP4247600A
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English (en)
Inventor
Hirozumi Ando
宏純 安藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は検出速度を落すことなくマーク波形の
S/Nを向上させ、マークの存在検出成功率及び、マー
ク位置検出を精度向上させることを目的とする。 【構成】加算器103を中心とするマーク波形加算回路
を従来のエッジ検出回路107の前段に設け、累積加算
波形について加算毎にエッジ検出処理を行なうこと及び
エッジ検出によるマーク存在検出判定基準に加算飽和の
条件を加えることによりマーク波形のS/Nを向上さ
せ、マーク存在検出成功率を向上させるところにある。
また、累積加算波形で加算毎にエッジ位置検出を行なう
ことにより位置検出再現性を向上させるところにある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体プロセスや装置
環境などにより、S/Nの低下した合わせマークの存在
検出と位置検出を、処理速度を落すことなく検出確度及
び精度を向上させることが可能である電子線描画装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来からマーク波形のエッジを検出する
ことにより、マークの存在検出及び位置検出を行なって
いるが、半導体プロセスの微細化,平坦化技術が向上す
るに従いマーク波形のS/Nが低下し、存在検出の成功
率が低下する,位置検出の精度が低下するという問題が
生じている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は検出速度を落
すことなくマーク波形のS/Nを向上させ、マークの存
在検出成功率及び、マーク位置検出を精度向上させるこ
とを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明では検出波形を累積加算することによりS/
Nを向上させ、加算毎にエッジ検出を行なうことにより
エッジ検出の成功率を向上させ、また位置検出精度を向
上させようとするものである。また、加算毎にエッジ検
出を行なうので、走査終了時には検出も終了しており、
従来の検出速度を落すこともない。
【0005】
【作用】すなわち、マークの存在検出においては、いま
だ合わせマークのない位置から電子線の走査を行なうの
であるが、このマーク波形のベースに相当する信号を加
算することによりベースのノイズ成分を低減させ、同時
に合わせマーク上を走査する際に生じるマーク波形の信
号成分を加算することによって増強し、S/Nを向上さ
せる。また、従来のマーク存在検出条件である、指定個
数のエッジがある波形が指定本数あるという条件に加
え、指定個数のエッジがある波形が指定本数以上ありか
つ加算波形に飽和が生じた(オーバーフローした)とい
う条件をマーク存在条件とすることにより、低S/N低
コントラストのマーク波形に対しても存在検出成功率を
向上させることができる。
【0006】マーク位置検出においては、マーク波形を
加算することにより信号のS/Nが向上し、検出精度、
特に検出再現精度が向上する。また、加算波形を常に1
/2としてエッジ検出処理することにより、累積加算に
よる波形ベースの増加を回避でき、従来法とエッジ検出
条件を変えることなく位置検出することができる。
【0007】
【実施例】本発明の実施例を図1を用いて説明する。図
1は、本発明を実現する機能ブロック図であり電子線描
画装置の全体構成は図2に示す。図2で鏡体201が最
上部の電子銃202から発せられた電子線は電子光学系
203及び偏向器204により制御され、ステージ制御
系211により制御されるXYステージ206上の試料
205に照射される。電子光学系203及び偏向器20
4は、それぞれレンズ電源208と偏向制御系209に
より制御される。試料205からの反射電子は、半導体
検出器207により検出され、本発明の該当部位である
信号処理部210にてA/D変換後、処理モードにもよ
るがエッジ検出等の演算処理を行ない結果は制御計算機
213に取り込まれる。制御系212は主に描画制御を
行なう。
【0008】図1の半導体検出器116により検出され
た試料からの反射電子は、アンプ115により適当に増
幅された後A/D変換器114によりデジタル信号に変
換される。ここでは12ビットのデジタル信号に変換さ
れるとする。デジタル化された反射電子検出信号は、サ
ンプリングに同期しているフリップフロップ101にラ
ッチされる。フリップフロップ101の反転,非反転の
出力はマルチプレクサ102のふたつの入力にそれぞれ
接続される。マルチプレクサ102の出力制御信号11
3は、マーク波形が上に凸でベースより上側のスライス
レベルを用いる場合(図3のA参照)は非反転出力をマ
ーク波形が下に凸でベースより下側のスライスレベルを
用いる場合(図3のB参照)は反転出力を出力するよう
に制御する。こうして選択されたマーク波形は、加算器
103に入力される。ここでは16ビットの加算器とす
る。加算器103のもう片方の入力は、加算メモリ104
に接続されるが、その間にマルチプレクサ105を設け
制御信号112により、加算を行なわないときや加算の
第一番目の波形に対しては0を加算するようにしてお
く。加算器103の出力にはシフトレジスタ108が接
続されており、制御信号114により加算によるベース
レベルアップや加算オーバーフローを回避したい場合に
は右に1ビットシフトし、波形を1/2とする。ただ
し、波形を1/2としたい場合でも、加算の第一番目の
波形に対してはシフトを行なわない。シフトレジスタ1
08の出力は、エッジ検出回路107に入力されると同
時に加算メモリ104に入力される。加算メモリ104
のアドレスは、サンプリング毎にインクリメントされ、
1本の波形データの収集が終了すると0リセットされる
カウンタ106に接続されている。エッジ検出回路10
7は、ハードウエア演算回路であっても良いしDSP等
のプロセッサが演算処理する回路であっても良い。この
回路での処理内容は図3に示すように、波形が上に凸で
あるAの場合はマーク波形301に対してスライスレベ
ル302を過ぎる点303をエッジとして抽出しその位
置が波形データの始点から何番目であるかをメモリに記
憶する。波形が下に凸であるBの場合も同様である。ま
た、この回路では指定された数のエッジをもつ波形が何
本あったかを検出しており、それが指定本数に達すると
マーク有りを示す信号を出力する。Aの例は4個のエッ
ジがある波形なので、例えば検出条件を5本と指定する
と、Aの波形を5本収集した時点でマーク有りを示す信
号が発行される。この信号を図1では信号109で示し
ている。
【0009】あるいはCに示すように例えば4個のエッ
ジのある波形をマーク波形とした場合で、この条件を満
たす波形が指定本数あり、かつ信号の振幅レンジ305
に対する飽和点306が生じた場合をマーク有りとする
条件とする。この条件によれば指定エッジ数を有する波
形本数の指定を数本程度と少なくし、スライスレベル3
02を信号の振幅レンジ305の高いところに設定して
おけば、低コントラスト,低S/Nの波形に対しても存
在検出の成功率が高くなる。勿論シフトレジスタ108
はシフトなしに設定しておく。この場合は加算器103
のオーバーフロー信号111と信号109との論理和1
10をマークの存在検出信号とすれば良い。なお、図3
の矢印304は電子線の走査幅すなわち一波形長を示し
ている。エッジ検出回路107では上記存在検出信号発
行のほかに、何番目の走査波形の何番目のデータにエッ
ジがあったかをメモリ117に記憶させる機能も有して
いるが、このいわゆるエッジ検出の手法は公知であるの
でここでは詳しく述べない。
【0010】一方エッジ検出回路107は従来回路の処
理ビット数を12ビットから16ビットに拡張するだけ
であり、加算波形を処理することによる処理時間の増加
は生じない。また、加算回路部に追加による処理時間の
おくれは、デバイスをすべて74LSシリーズで構成し
た場合でも1μS以内であり、検出器の応答特性等から
制限されているサンプリング周期15μS内に充分吸収
されるため処理時間の増加は生じない。すなわち従来法
に比べて処理時間の増加は生じない。
【0011】以上のような処理で発行されたマーク存在
検出信号110,109や、メモリ117に記憶された
マーク波形の位置情報は、図1には省略されているイン
ターフェイス回路を介して制御計算機213に取り込ま
れる。
【0012】
【発明の効果】以上説明してきたように本発明によれば
合わせマーク波形を累積加算し加算波形毎にエッジ検出
処理を行なうことにより、特に合わせマークの存在検出
の成功率を向上させることができる。また、位置検出に
ついては、検出再現性を向上させることができる。さら
に従来法に比べ、本発明による処理時間の増加は生じな
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を説明するための機能ブロック図であ
る。
【図2】装置全体の概略構成図である。
【図3】エッジ検出回路の処理内容の説明図である。
【符号の説明】
101…フリップフロップ、102,201…鏡体、1
03…加算器、104,117…メモリ、105…マル
チプレクサ、106…カウンタ、107…エッジ検出回
路、108…シフトレジスタ、109,110…存在検
出信号、112,113…制御信号、114…A/D変
換器、205…試料、207…半導体検出器、210…
信号処理部、213…制御計算機、301…マーク波
形、302…スライスレベル、303…エッジ、306
…加算の飽和点。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子線を発生させる電子銃と該電子銃から
    発せられた電子線を試料面上に投射するための電子光学
    系と、電子線を該試料面にて走査させるための偏向制御
    系と該試料面に固定された半導体ウエハまたはマスク上
    の合わせマークを電子線にて走査した時に生じる反射電
    子あるいは二次電子を検出するための検出器と、該検出
    器からの信号を増幅,周波数帯域制限するアナログ処理
    部,該信号をデジタル量に変換するA/D変換部及びデ
    ジタル量になった該信号を演算処理するデジタル処理部
    とからなる信号処理系と、これら該電子光学系,該偏向
    制御系,該信号処理系及び該試料を移動させるためのス
    テージ制御系を一括制御し、高速かつ正確に描画制御を
    行なうデータ制御系と、該データ制御系の制御計算機と
    からなる電子線描画装置において、 合わせマーク位置検出を行なう際に、合わせマーク上を
    電子線によって走査して得られるマーク波形を累積加算
    し、加算毎にあらかじめ指定してあるスライスレベルを
    過ぎる波形上の位置検出、いわゆるエッジ検出をハード
    ウエア演算またはソフトウエア処理により行ない、マー
    ク位置検出することを特徴とする電子線描画装置。
  2. 【請求項2】合わせマークの存在検出を行なう際に、走
    査信号を累積加算し加算毎に上記エッジ検出をハードウ
    エア演算またはソフトウエア処理により行ない、あらか
    じめ指定されている数のエッジを有するマーク波形が、
    指定本数見つかった場合にマーク有りとすることを特徴
    とする請求項1記載の電子線描画装置。
  3. 【請求項3】合わせマークの存在検出を行なう際に、走
    査信号を累積加算し加算毎に上記エッジ検出をハードウ
    エア演算またはソフトウエア処理により行ない、あらか
    じめ指定されている数のエッジを有するマーク波形が指
    定本数以上見つかり、かつ加算波形に飽和(オーバーフ
    ロー)が生じた場合にマーク有りとすることを特徴とす
    る請求項1記載の電子線描画装置。
  4. 【請求項4】請求項3の合わせマークの存在検出法にお
    いて、マーク波形が上に凸であり、スライスレベルを波
    形ベースより上に設定した場合は通常の累積加算を行な
    い、マーク波形が下に凸であり、スライスレベルを波形
    ベースより下に設定した場合は検出波形の全ビットを反
    転して累積加算を行なうことを特徴とする電子線描画装
    置。
  5. 【請求項5】請求項1の合わせマーク位置検出におい
    て、加算波形を常に1/2として累積加算及びエッジ検
    出することにより、加算によるマーク波形のベース増加
    及び加算オーバーフローなく位置検出できることを特徴
    とする電子線描画装置。
JP4247600A 1992-09-17 1992-09-17 電子線描画装置 Pending JPH0697060A (ja)

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JP4247600A JPH0697060A (ja) 1992-09-17 1992-09-17 電子線描画装置

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JP4247600A JPH0697060A (ja) 1992-09-17 1992-09-17 電子線描画装置

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JPH0697060A true JPH0697060A (ja) 1994-04-08

Family

ID=17165926

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JP4247600A Pending JPH0697060A (ja) 1992-09-17 1992-09-17 電子線描画装置

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JP (1) JPH0697060A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6220966B1 (en) 1997-09-12 2001-04-24 Unisia Jecs Corporation Torque transmitting and torsion damping apparatus with torsion damper

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6220966B1 (en) 1997-09-12 2001-04-24 Unisia Jecs Corporation Torque transmitting and torsion damping apparatus with torsion damper

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