JPH07105046B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH07105046B2 JPH07105046B2 JP8603287A JP8603287A JPH07105046B2 JP H07105046 B2 JPH07105046 B2 JP H07105046B2 JP 8603287 A JP8603287 A JP 8603287A JP 8603287 A JP8603287 A JP 8603287A JP H07105046 B2 JPH07105046 B2 JP H07105046B2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、録音，録画，コンピュータ等の分野で利用さ
れる磁気記録の高密度化に適した強磁性金属薄膜を磁気
記録層とした磁気記録媒体の製造方法に関する。
れる磁気記録の高密度化に適した強磁性金属薄膜を磁気
記録層とした磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術 強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体は、短
波長出力が大きいことから、今後、一層進展が予測され
る高密度磁気記録に不可欠の媒体として位置づけされ開
発が進められている〔外国論文誌：アイイ−イ−イ−ト
ランザクションズ オン マグネティクス（IEEE TRANS
ACTIONS ON MAGNETICS）vo1.MAG−21,p.p.1217〜1220,
（1985）〕。一般に、かかる構成の磁気記録媒体は、高
分子フィルムを円筒キヤンに沿わせて巻き取りながら、
スパッタリング法，電界蒸着法，イオンプレーティング
法，電子ビーム蒸着法などで、強磁性金属薄膜を高分子
フィルム上に形成することで磁気記録層の形成が行われ
る〔特開昭53−42010,電子通信学会，磁気記録研究会資
料MR81−２（1981），特開昭61−186475号公報等〕。
波長出力が大きいことから、今後、一層進展が予測され
る高密度磁気記録に不可欠の媒体として位置づけされ開
発が進められている〔外国論文誌：アイイ−イ−イ−ト
ランザクションズ オン マグネティクス（IEEE TRANS
ACTIONS ON MAGNETICS）vo1.MAG−21,p.p.1217〜1220,
（1985）〕。一般に、かかる構成の磁気記録媒体は、高
分子フィルムを円筒キヤンに沿わせて巻き取りながら、
スパッタリング法，電界蒸着法，イオンプレーティング
法，電子ビーム蒸着法などで、強磁性金属薄膜を高分子
フィルム上に形成することで磁気記録層の形成が行われ
る〔特開昭53−42010,電子通信学会，磁気記録研究会資
料MR81−２（1981），特開昭61−186475号公報等〕。
第２図は、磁気記録媒体の製造に用いられる蒸着装置の
一例の要部構成図である。第２図で１は電子ビーム発生
器、２は蒸発源容器、３は防着ユニット、４は円筒キヤ
ン、５はフリーローラー系、６はグロー処理電極ユニッ
ト、７はシャッター、８は送り出し軸、９は巻取り軸で
ある。
一例の要部構成図である。第２図で１は電子ビーム発生
器、２は蒸発源容器、３は防着ユニット、４は円筒キヤ
ン、５はフリーローラー系、６はグロー処理電極ユニッ
ト、７はシャッター、８は送り出し軸、９は巻取り軸で
ある。
第２図の装置を用いて、８に装着されたポリエステルフ
ィルムは、円筒キヤン４に沿って移動する過程で、グロ
ー放電処理（６により）され、限定された入射角のCo−
Ni,Co−Cr等の蒸気流で磁気記録層の形成が行われる
が、この過程で酸素ガス等の酸化性のガスを導入するこ
とがよく用いられている。
ィルムは、円筒キヤン４に沿って移動する過程で、グロ
ー放電処理（６により）され、限定された入射角のCo−
Ni,Co−Cr等の蒸気流で磁気記録層の形成が行われる
が、この過程で酸素ガス等の酸化性のガスを導入するこ
とがよく用いられている。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記した構成では、磁気特性と耐久性の両
者を調和させて高速で磁気記録媒体を製造することがで
きないため改善が望まれていた。
者を調和させて高速で磁気記録媒体を製造することがで
きないため改善が望まれていた。
本発明は上記した磁気記録媒体製造上の課題を解決する
ためのもので、耐久性と磁気特性を満足せしめた上で、
磁気記録媒体の製造を高速で行える方法を提供するもの
である。
ためのもので、耐久性と磁気特性を満足せしめた上で、
磁気記録媒体の製造を高速で行える方法を提供するもの
である。
問題点を解決するための手段 上記した問題点を解決するために、本発明の磁気記録媒
体の製造方法は、回転支持体に沿って移動する高分子フ
ィルム上に、斜め蒸着法により強磁性金属薄膜を形成す
る際、酸素ガスとモノマーガスを同時に導入し、蒸着
後、グロー放電処理するようにしたものである。
体の製造方法は、回転支持体に沿って移動する高分子フ
ィルム上に、斜め蒸着法により強磁性金属薄膜を形成す
る際、酸素ガスとモノマーガスを同時に導入し、蒸着
後、グロー放電処理するようにしたものである。
作用 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
り、柱状粒子間の磁気的分離が良好になるため、磁気特
性が改良され、モノマーガスの重合層が柱状粒子と一体
化されて出来るため、耐久性も向上するのと、重合層部
の厚みが薄くても耐久性が確保されるので、磁気特性の
みならず、電磁変換特性（C/N）も改善されることにな
るものである。
り、柱状粒子間の磁気的分離が良好になるため、磁気特
性が改良され、モノマーガスの重合層が柱状粒子と一体
化されて出来るため、耐久性も向上するのと、重合層部
の厚みが薄くても耐久性が確保されるので、磁気特性の
みならず、電磁変換特性（C/N）も改善されることにな
るものである。
実施例 以下、図面を参照しながら、本発明の磁気記録媒体の製
造方法の一実施例について説明する。
造方法の一実施例について説明する。
第１図は本発明を実施するために用いた蒸着装置の内部
構成要図で、第１図で10は回転支持体で11は高分子フィ
ルム、12は送り出し軸、13は巻取り軸、14は電子ビーム
加熱式の蒸発源、15は最小入射角を決めるマスク、16は
ガス導入ポートで、酸素ガスとモノマーガスの混合ガス
を導入するためのポートである。17はグロー処理電極、
18はカバーで放電が安定するように、圧力制御を容易に
するためのほぼ閉じられた空間形成を行うためのもので
ある。
構成要図で、第１図で10は回転支持体で11は高分子フィ
ルム、12は送り出し軸、13は巻取り軸、14は電子ビーム
加熱式の蒸発源、15は最小入射角を決めるマスク、16は
ガス導入ポートで、酸素ガスとモノマーガスの混合ガス
を導入するためのポートである。17はグロー処理電極、
18はカバーで放電が安定するように、圧力制御を容易に
するためのほぼ閉じられた空間形成を行うためのもので
ある。
第１図で、回転支持体として、直径1mの円筒状キヤンを
用い、直下37cmに、電子ビーム蒸発源を配し、CoNi（Ni
20wt％）を蒸発源容器に仕込み、最小入射角48〜30度
で、蒸着ができるようにした。グロー処理電極は、曲率
半径53cmのアルミ製で、周長40cmのものを用い、15KHz
の電界が与えられるよう構成した。ガス導入ポートは、
最小入射角に近い位置に配し、全体の排気は、油拡散ポ
ンプに液体窒素トラップをつけて行えるようにし、ガス
導入前に、５〜６×10-6（Torr）まで排気するようにし
た。
用い、直下37cmに、電子ビーム蒸発源を配し、CoNi（Ni
20wt％）を蒸発源容器に仕込み、最小入射角48〜30度
で、蒸着ができるようにした。グロー処理電極は、曲率
半径53cmのアルミ製で、周長40cmのものを用い、15KHz
の電界が与えられるよう構成した。ガス導入ポートは、
最小入射角に近い位置に配し、全体の排気は、油拡散ポ
ンプに液体窒素トラップをつけて行えるようにし、ガス
導入前に、５〜６×10-6（Torr）まで排気するようにし
た。
厚み10μｍの両面に100Åのミミズ状突起を配したポリ
エチレンテレフタレートを用い、酸素を0.6〔l/min〕導
入し、Co−Niを0.12μｍ蒸着したものを従来例として準
備し、別のプラズマ重合装置でスチレンモノマーを用い
て、表面に、プラズマ重合層を400Å形成した後８ミリ
幅の磁気テープＡを得た。
エチレンテレフタレートを用い、酸素を0.6〔l/min〕導
入し、Co−Niを0.12μｍ蒸着したものを従来例として準
備し、別のプラズマ重合装置でスチレンモノマーを用い
て、表面に、プラズマ重合層を400Å形成した後８ミリ
幅の磁気テープＡを得た。
同じポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、Co−
Niを0.12μｍ蒸着する際、酸素を0.5〔l/min〕，スチレ
ンモノマーを0.06〔l/min〕導入し、アルゴンガスを0.0
9〔l/min〕導入しながら、290V,0.2Aのグロー放電処置
を行ったものを８ミリ幅のテープＢとして実施した。
Niを0.12μｍ蒸着する際、酸素を0.5〔l/min〕，スチレ
ンモノマーを0.06〔l/min〕導入し、アルゴンガスを0.0
9〔l/min〕導入しながら、290V,0.2Aのグロー放電処置
を行ったものを８ミリ幅のテープＢとして実施した。
尚この時、最小入射角は30度とした。
磁気特性の両者比較を行ったところ、保磁力はテープＡ
が1050（Oe），テープＢが1100（Oe）であった。
が1050（Oe），テープＢが1100（Oe）であった。
市販の８ミリビデオ（VX−801,松下電器製）によりC/N
を比較したところ、テープＡよりテープＢの方が5.2（d
B）C/Nが良好であった。20℃30％RHでスチル再生をして
比較したところ、テープA,テープＢともに、30分画面に
異常はみられなかった。
を比較したところ、テープＡよりテープＢの方が5.2（d
B）C/Nが良好であった。20℃30％RHでスチル再生をして
比較したところ、テープA,テープＢともに、30分画面に
異常はみられなかった。
以上より本実施例は、蒸着時のフィルムの巻取り速度が
従来例の1.9倍と高速にも拘らず、スチル耐久性は400Å
の厚みのプラズマ重合膜を配した従来例に比べそん色の
ないもので、且つ、電磁変換特性，保磁力とも有価値性
が高いことがわかる。
従来例の1.9倍と高速にも拘らず、スチル耐久性は400Å
の厚みのプラズマ重合膜を配した従来例に比べそん色の
ないもので、且つ、電磁変換特性，保磁力とも有価値性
が高いことがわかる。
尚、上記した一例に限定されるものでないことは勿論
で、高分子フィルムとしてポリエチレンナフタレート，
ポリエーテルサルフォン，ポリフエニレンサルファイ
ド，ポリイミド等についても適用可能であり、強磁性金
属薄膜も、Co,Co−Fe,Co−Cr,Co−Cu,Co−Ag,Co−Rn,Co
−Ru,Co−Pt,Co−Mo,Co−Nb,Co−Ni−Pr,等についても
適用できる。
で、高分子フィルムとしてポリエチレンナフタレート，
ポリエーテルサルフォン，ポリフエニレンサルファイ
ド，ポリイミド等についても適用可能であり、強磁性金
属薄膜も、Co,Co−Fe,Co−Cr,Co−Cu,Co−Ag,Co−Rn,Co
−Ru,Co−Pt,Co−Mo,Co−Nb,Co−Ni−Pr,等についても
適用できる。
モノマーガスは、炭化水素系，フッ素系，シリコーン系
等適宜選択できる。
等適宜選択できる。
製造する磁気記録媒体に、潤滑剤が配されるかどうか
や、バックコートが配されるか、両面蒸着型とするか等
の選択は全く自由である。
や、バックコートが配されるか、両面蒸着型とするか等
の選択は全く自由である。
発明の効果 以上のように本発明によれば、C/N,磁気特性，耐久性を
バランスよく改良した磁気記録媒体が高速で製造できる
といったすぐれた効果がある。
バランスよく改良した磁気記録媒体が高速で製造できる
といったすぐれた効果がある。
第１図は本発明の実施に用いた蒸着装置の内部構成要
図、第２図は従来の蒸着装置の構成図である。 10……回転支持体、11……高分子フィルム、14……蒸発
源、16……ガス導入ポート（O2／モノマーガス）、17…
…グロー処理電極。
図、第２図は従来の蒸着装置の構成図である。 10……回転支持体、11……高分子フィルム、14……蒸発
源、16……ガス導入ポート（O2／モノマーガス）、17…
…グロー処理電極。
Claims (1)
- 【請求項１】回転支持体に沿って移動する高分子フィル
ム上に、斜め蒸着により強磁性金属薄膜を形成する際、
酸素ガスとモノマーガスを同時に導入し、蒸着後、グロ
ー放電処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8603287A JPH07105046B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8603287A JPH07105046B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63251929A JPS63251929A (ja) | 1988-10-19 |
| JPH07105046B2 true JPH07105046B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=13875321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8603287A Expired - Lifetime JPH07105046B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07105046B2 (ja) |
-
1987
- 1987-04-08 JP JP8603287A patent/JPH07105046B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63251929A (ja) | 1988-10-19 |
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