JPH07117745B2 - 感光性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光性平版印刷版に適する感光性組成物に関す
るものである。更に詳しくは、別の層として酸素遮断層
を設けることなく製版時の酸素の影響を低減させた新規
な感光性組成物に関するものである。
るものである。更に詳しくは、別の層として酸素遮断層
を設けることなく製版時の酸素の影響を低減させた新規
な感光性組成物に関するものである。
従来より光重合性組成物を感光性組成物として写真的手
法によって画像複製を行う方法は広く知られるところで
ある。感光性組成物としてはたとえば特公昭46-32714号
公報に記載されているような有機溶媒可溶性重合体、エ
チレン性不飽和付加重合性化合物と光重合開始剤からな
る基本組成、特公昭49-34041号公報に記載されているよ
うな不飽和二重結合を有機溶媒可溶性重合体中に導入
し、硬化効率を改善した組成、特公昭48-38403号、特公
昭53-27605号公報及び英国特許第1,388,492号明細書に
記載されているような新規な光重合開始剤を用いた組成
等が知られていて、一部で実用に供されている。しか
し、いずれの感光性組成物も画像露光時に酸素による重
合阻害を著しく受けるために、その感光層表面に水溶性
樹脂からなる酸素遮断層を設けなければ、実用的に用い
ることはできなかった。しかしこの水溶性樹脂からなる
酸素遮断層を設けることは製造コストを高くし、また平
版印刷版として、画像部の着肉性劣化をもたらす等の性
能の低下を招く。そこで水溶性樹脂からなる酸素遮断層
を設けずに酸素の影響を受けない技術が必要とされてい
た。この酸素による重合阻害の影響を低減させるために
上記の光重合性組成物にベヘン酸や、ワックスを添加し
たり、ネガ作用のジアゾ樹脂を添加する試みがある。こ
のような試みは、たとえば特開昭49-99790号、特開昭54
-95687号、特開昭59-206825号、特開昭59-53836号、特
開昭59-178449号、特開昭5-196230号、及び米国特許第
4,316,949号明細書に記載されている。しかしいずれも
その効果は不十分であるため、露光時の環境、例えば真
空度、窒素存在などの条件の変化によって感度が変わっ
たり、印刷版に用いた場合は耐刷力が変動するなどの欠
点を有していた。
法によって画像複製を行う方法は広く知られるところで
ある。感光性組成物としてはたとえば特公昭46-32714号
公報に記載されているような有機溶媒可溶性重合体、エ
チレン性不飽和付加重合性化合物と光重合開始剤からな
る基本組成、特公昭49-34041号公報に記載されているよ
うな不飽和二重結合を有機溶媒可溶性重合体中に導入
し、硬化効率を改善した組成、特公昭48-38403号、特公
昭53-27605号公報及び英国特許第1,388,492号明細書に
記載されているような新規な光重合開始剤を用いた組成
等が知られていて、一部で実用に供されている。しか
し、いずれの感光性組成物も画像露光時に酸素による重
合阻害を著しく受けるために、その感光層表面に水溶性
樹脂からなる酸素遮断層を設けなければ、実用的に用い
ることはできなかった。しかしこの水溶性樹脂からなる
酸素遮断層を設けることは製造コストを高くし、また平
版印刷版として、画像部の着肉性劣化をもたらす等の性
能の低下を招く。そこで水溶性樹脂からなる酸素遮断層
を設けずに酸素の影響を受けない技術が必要とされてい
た。この酸素による重合阻害の影響を低減させるために
上記の光重合性組成物にベヘン酸や、ワックスを添加し
たり、ネガ作用のジアゾ樹脂を添加する試みがある。こ
のような試みは、たとえば特開昭49-99790号、特開昭54
-95687号、特開昭59-206825号、特開昭59-53836号、特
開昭59-178449号、特開昭5-196230号、及び米国特許第
4,316,949号明細書に記載されている。しかしいずれも
その効果は不十分であるため、露光時の環境、例えば真
空度、窒素存在などの条件の変化によって感度が変わっ
たり、印刷版に用いた場合は耐刷力が変動するなどの欠
点を有していた。
したがって、本発明の目的は、上記の欠点を改良し、露
光時の酸素の影響を低減して高耐刷力の画像を形成で
き、製造コストも安価な感光性組成物を提供することで
ある。
光時の酸素の影響を低減して高耐刷力の画像を形成で
き、製造コストも安価な感光性組成物を提供することで
ある。
本発明は、光重合性組成物に下記一般式(I)で表わさ
れる化合物を添加した組成物を使用することによって酸
素の影響を低減できることを見い出し、本発明を完成し
た。
れる化合物を添加した組成物を使用することによって酸
素の影響を低減できることを見い出し、本発明を完成し
た。
一般式: (ただし、R1は炭素数12以上で置換基を有していてもよ
い直鎖アルコキシ基または直鎖アルキルアミノ基を表わ
し、R2は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、置換アリール基、アリールスルホニル基または
アルキルスルホニル基を表わす。) すなわち、本発明は、エチレン性不飽和付加重合性化合
物と有機溶媒可溶性でかつフィルム形成可能な重合体と
光重合開始剤とを含む感光性組成物において、上記一般
式(I)で表わされる化合物を含むことを特徴とする感
光性組成物に関する。
い直鎖アルコキシ基または直鎖アルキルアミノ基を表わ
し、R2は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、置換アリール基、アリールスルホニル基または
アルキルスルホニル基を表わす。) すなわち、本発明は、エチレン性不飽和付加重合性化合
物と有機溶媒可溶性でかつフィルム形成可能な重合体と
光重合開始剤とを含む感光性組成物において、上記一般
式(I)で表わされる化合物を含むことを特徴とする感
光性組成物に関する。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に使用される「エチレン性不飽和付加重合性化合
物」は、常圧で沸点100℃以上の、少なくとも1分子中
に1個、より好ましくは2個以上の付加重合可能なエチ
レン性不飽和基を有する分子量10,000以下のモノマー又
はオリゴマーである。このようなモノマーとしては、ポ
リエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ
プロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェ
ノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリ
レートやメタクリレート;ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、ペンタエリストリトールトリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートト
リメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピ
ル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシ
アヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多
官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキ
サイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したも
の;特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特開昭51-37
193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレ
ート類;特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭
52-30490号各公報に記載されているポリエステルアクリ
レート類;エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタアクリレートをあげることができる。さらに日本
接着協会誌Vol.20:No.7、300〜308ページに光硬化性モ
ノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用
することができる。なおこれらの使用量は、全成分に対
して5〜50重量%(以下%と略称する。)、好ましくは
10〜40%である。
物」は、常圧で沸点100℃以上の、少なくとも1分子中
に1個、より好ましくは2個以上の付加重合可能なエチ
レン性不飽和基を有する分子量10,000以下のモノマー又
はオリゴマーである。このようなモノマーとしては、ポ
リエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ
プロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェ
ノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリ
レートやメタクリレート;ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、ペンタエリストリトールトリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートト
リメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピ
ル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシ
アヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多
官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキ
サイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したも
の;特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特開昭51-37
193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレ
ート類;特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭
52-30490号各公報に記載されているポリエステルアクリ
レート類;エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタアクリレートをあげることができる。さらに日本
接着協会誌Vol.20:No.7、300〜308ページに光硬化性モ
ノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用
することができる。なおこれらの使用量は、全成分に対
して5〜50重量%(以下%と略称する。)、好ましくは
10〜40%である。
本発明に使用される「有機溶媒可能性でかつフィルム形
成可能な重合体」としては、エポキシ樹脂、ポリエステ
ル類、ポリビニルホルマール類、ポリウレタン類、ポリ
ビニルブチラール類、ポリエチレンオキシド類、ポリア
クリレート類、ポリメタクリレート類、ポリセルロース
アセテートエステル類等の一般に公知の樹脂や、アルカ
リ水に可溶性もしくは膨潤性でかつフィルム形成可能な
重合体があげられる。
成可能な重合体」としては、エポキシ樹脂、ポリエステ
ル類、ポリビニルホルマール類、ポリウレタン類、ポリ
ビニルブチラール類、ポリエチレンオキシド類、ポリア
クリレート類、ポリメタクリレート類、ポリセルロース
アセテートエステル類等の一般に公知の樹脂や、アルカ
リ水に可溶性もしくは膨潤性でかつフィルム形成可能な
重合体があげられる。
アルカリ水に可溶性もしくは膨潤性でかつフィルム形成
可能な重合体としては、重合体中に−COOH、−PO3H
2−、−SO2NH2または−SO2NHCO−基を有し、酸価50〜20
0の酸性ビニル共重合体をあげることが出来る。
可能な重合体としては、重合体中に−COOH、−PO3H
2−、−SO2NH2または−SO2NHCO−基を有し、酸価50〜20
0の酸性ビニル共重合体をあげることが出来る。
このような共重合体の例としては、特公昭59-44615号公
報に記載されているような〔ベンジル(メタ)アクリレ
ート/(メタ)アクリル酸/必要に応じたその他の付加
重合体ビニルモノマー〕共重合体;特公昭54-34327号公
報に記載されているような〔メタクリル酸/メタクリル
酸メチル又はエチル/メタクリル酸n−ヘキシル〕共重
合体;その他特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特
開昭54-92723号各公報に記載されているような(メタ)
アクリル酸共重合体;特開昭59-53836号公報に記載され
ているような〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)
アクリル酸/必要に応じたその他の付加重合性ビニルモ
ノマー〕共重合体;特開昭59-71048号公報に記載されて
いるような無水マレイン酸共重合体にペンタエリスリト
ールトリアクリレートを半エステル化で付加させたもの
等をあげることができる。
報に記載されているような〔ベンジル(メタ)アクリレ
ート/(メタ)アクリル酸/必要に応じたその他の付加
重合体ビニルモノマー〕共重合体;特公昭54-34327号公
報に記載されているような〔メタクリル酸/メタクリル
酸メチル又はエチル/メタクリル酸n−ヘキシル〕共重
合体;その他特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特
開昭54-92723号各公報に記載されているような(メタ)
アクリル酸共重合体;特開昭59-53836号公報に記載され
ているような〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)
アクリル酸/必要に応じたその他の付加重合性ビニルモ
ノマー〕共重合体;特開昭59-71048号公報に記載されて
いるような無水マレイン酸共重合体にペンタエリスリト
ールトリアクリレートを半エステル化で付加させたもの
等をあげることができる。
特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/
(メタ)アクリル酸/必要に応じたその他の付加重合体
ビニルモノマー〕共重合体、〔アリル(メタ)アクリレ
ート/(メタ)アクリル酸/必要に応じたその他の付加
重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
(メタ)アクリル酸/必要に応じたその他の付加重合体
ビニルモノマー〕共重合体、〔アリル(メタ)アクリレ
ート/(メタ)アクリル酸/必要に応じたその他の付加
重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
好ましくは、重合体は、組成物中に約20〜75%の固体濃
度で存在する。更に好ましい範囲は35〜65%である。
度で存在する。更に好ましい範囲は35〜65%である。
本発明における「光重合開始剤」としては米国特許第2,
367,661号、同第2,367,670号各明細書に記載されている
α−カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書
に記載されているアシロインエーテル、米国特許第2,72
2,512号明細書に記載されているα−炭化水素で置換さ
れた芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127
号、同第2,951,758号明細書に記載されている多核キノ
ン化合物、米国特許第3,549,367号明細書に記載されて
いるトリアリールイミダゾールダイマー/P−アミノフェ
ニルケトンの組合せ、特開昭60-105667号、米国特許第
4,239,850号明細書に記載されているトリハロメチル−
S−トリアジン系化合物、米国特許第3,751,259号明細
書に記載されているアクリジン及びフェナジン化合物、
米国特許第4,212,970号明細書に記載されているオキサ
ジアゾール化合物等があげられる。本発明の組成物中の
これらの光重合開始剤系の含有濃度は通常わずかなもの
であり、また不適当に多い場合には有効光線の遮断等好
ましくない結果を生じる。本発明における光重合開始剤
系の量は、光重合可能なエチレン性不飽和化合物と、有
機溶媒可溶性でかつフィルム形成可能な重合体との合計
に対して0.01%から20%の範囲で十分であり、更に好ま
しくは1%から10%である。
367,661号、同第2,367,670号各明細書に記載されている
α−カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書
に記載されているアシロインエーテル、米国特許第2,72
2,512号明細書に記載されているα−炭化水素で置換さ
れた芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127
号、同第2,951,758号明細書に記載されている多核キノ
ン化合物、米国特許第3,549,367号明細書に記載されて
いるトリアリールイミダゾールダイマー/P−アミノフェ
ニルケトンの組合せ、特開昭60-105667号、米国特許第
4,239,850号明細書に記載されているトリハロメチル−
S−トリアジン系化合物、米国特許第3,751,259号明細
書に記載されているアクリジン及びフェナジン化合物、
米国特許第4,212,970号明細書に記載されているオキサ
ジアゾール化合物等があげられる。本発明の組成物中の
これらの光重合開始剤系の含有濃度は通常わずかなもの
であり、また不適当に多い場合には有効光線の遮断等好
ましくない結果を生じる。本発明における光重合開始剤
系の量は、光重合可能なエチレン性不飽和化合物と、有
機溶媒可溶性でかつフィルム形成可能な重合体との合計
に対して0.01%から20%の範囲で十分であり、更に好ま
しくは1%から10%である。
本発明で使用される「前記一般式(I)で表わされる化
合物」は、常温では固体で感光性組成物の塗布液中には
溶解しているが、塗布・乾燥時に、表面に浮き出し、一
種の酸素遮断層を形成するものである。これにより露光
時の酸素の影響を低減化出来る。
合物」は、常温では固体で感光性組成物の塗布液中には
溶解しているが、塗布・乾燥時に、表面に浮き出し、一
種の酸素遮断層を形成するものである。これにより露光
時の酸素の影響を低減化出来る。
R1は、炭素数12以上、好ましくは、炭素数16以上の直鎖
アルコキシまたは直鎖アルキルアミノで、具体的には、
セチルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキ
シ、ノナデシルオキシ、エイコシルオキシ、ドコシルオ
キシ、トルコシルオキシ、さらに、セチルアミノ、ヘプ
タデシルアミノ、オクタデシルアミノ、ノナデシルアミ
ノ、エイコシルアミノ、ドコシルアミノ、トルコシルア
ミノ等をあげることが出来る。
アルコキシまたは直鎖アルキルアミノで、具体的には、
セチルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキ
シ、ノナデシルオキシ、エイコシルオキシ、ドコシルオ
キシ、トルコシルオキシ、さらに、セチルアミノ、ヘプ
タデシルアミノ、オクタデシルアミノ、ノナデシルアミ
ノ、エイコシルアミノ、ドコシルアミノ、トルコシルア
ミノ等をあげることが出来る。
一般式(I)で表わされる化合物の具体例としては、以
下のものがあげられる。
下のものがあげられる。
(ここでnは、16以上の整数、Xは、水素、塩素、臭
素、フッ素、メチル、またはエチルを表わす。) これら化合物の添加量は、全組成に対し0.5〜10%、好
ましくは、1〜5%が適当である。
素、フッ素、メチル、またはエチルを表わす。) これら化合物の添加量は、全組成に対し0.5〜10%、好
ましくは、1〜5%が適当である。
また、これらの化合物と共に、ベヘン酸、ステアリン酸
などの高級脂肪酸ヘベン酸アミド、ステアリン酸アミド
等の高級脂肪酸アミドを併用することも出来る。
などの高級脂肪酸ヘベン酸アミド、ステアリン酸アミド
等の高級脂肪酸アミドを併用することも出来る。
さらに、本発明の感光性組成物は、ジアゾ樹脂を含有し
てもよい。ジアゾ樹脂としては実質的に水不溶性で有機
溶媒可溶性のものが適している。
てもよい。ジアゾ樹脂としては実質的に水不溶性で有機
溶媒可溶性のものが適している。
このようなジアゾ樹脂としては4−ジアゾ−ジフェニル
アミン、1−ジアゾ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼ
ン、1−ジアゾ−4−N,N−ジエチルアミノベンゼン、
1−ジアゾ−4−N−エチル−N−ヒドロキシエチルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−メチル−N−ヒド
ロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエ
トキシ−4−ベンゾイルアミノベンゼン、1−ジアゾ−
4−N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N,
N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−モルフ
ォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−
p−トリルメルカプトベンゼン、1−ジアゾ−2−エト
キシ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、p−ジアゾ
−ジメチルアニリン、1−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−
4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエト
キシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−
ジメトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−
2,5−ジエトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジ
アゾ−2,5−ジエトキシ−4−p−トリルメルカプトベ
ンゼン、1−ジアゾ−3−エトキシ−4−N−メチル−
N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ
−4−N,N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3
−メチル−4−ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ−2−
クロロ−4−N,N−ジメチルアミノ−5−メトキシベン
ゼン、1−ジアゾ−3−メトキシ−4−ピロリジノベン
ゼン、3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3
−エトキシ−4−ジアゾフェニルアミン、3−(n−プ
ロポキシ)−4−ジアゾジフェニルアミン、−3(イソ
プロポキシ)−4−ジアゾジフェニルアミンのようなジ
アゾモノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブ
チルアルデヒド、またはベンズアルデヒドのような縮合
剤をモル比で各々1:1〜1:0.5、好ましくは1:0.8〜1:0.6
を通常の方法で縮合して得られた縮合物と陰イオンとの
反応生成物があげられる。陰イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンス
ルホン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、2,4,6−トリチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロ
ベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、
3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリル
ナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−
ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及
びパラトルエンスルホン酸等をあげることができる。
又、米国特許第3867147号に記載されているジアゾ樹脂
も適している。これらの中でも特に六フッ化燐酸、トリ
イソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が
好適である。
アミン、1−ジアゾ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼ
ン、1−ジアゾ−4−N,N−ジエチルアミノベンゼン、
1−ジアゾ−4−N−エチル−N−ヒドロキシエチルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−メチル−N−ヒド
ロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエ
トキシ−4−ベンゾイルアミノベンゼン、1−ジアゾ−
4−N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N,
N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−モルフ
ォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−
p−トリルメルカプトベンゼン、1−ジアゾ−2−エト
キシ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、p−ジアゾ
−ジメチルアニリン、1−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−
4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエト
キシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−
ジメトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−
2,5−ジエトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジ
アゾ−2,5−ジエトキシ−4−p−トリルメルカプトベ
ンゼン、1−ジアゾ−3−エトキシ−4−N−メチル−
N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ
−4−N,N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3
−メチル−4−ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ−2−
クロロ−4−N,N−ジメチルアミノ−5−メトキシベン
ゼン、1−ジアゾ−3−メトキシ−4−ピロリジノベン
ゼン、3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3
−エトキシ−4−ジアゾフェニルアミン、3−(n−プ
ロポキシ)−4−ジアゾジフェニルアミン、−3(イソ
プロポキシ)−4−ジアゾジフェニルアミンのようなジ
アゾモノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブ
チルアルデヒド、またはベンズアルデヒドのような縮合
剤をモル比で各々1:1〜1:0.5、好ましくは1:0.8〜1:0.6
を通常の方法で縮合して得られた縮合物と陰イオンとの
反応生成物があげられる。陰イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンス
ルホン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、2,4,6−トリチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロ
ベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、
3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリル
ナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−
ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及
びパラトルエンスルホン酸等をあげることができる。
又、米国特許第3867147号に記載されているジアゾ樹脂
も適している。これらの中でも特に六フッ化燐酸、トリ
イソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が
好適である。
これらのジアゾ樹脂の全組成物に対する添加量は1〜30
%であり、より好ましくは3〜15%が適当である。
%であり、より好ましくは3〜15%が適当である。
以上の他に感光層には更に熱重合防止剤を加えておくこ
とが好ましく、例えばハイドロキノン、p−メトキシフ
ェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロ
ール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−
チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有
用であり、また場合によっては感光層の着色を目的とし
て染料もしくは顔料や焼出剤としてpH指示薬等を添加す
ることもできる。
とが好ましく、例えばハイドロキノン、p−メトキシフ
ェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロ
ール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−
チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有
用であり、また場合によっては感光層の着色を目的とし
て染料もしくは顔料や焼出剤としてpH指示薬等を添加す
ることもできる。
更に、露光時の真空密着性を向上させ、感光層表面の酸
素を減少させる技術として特開昭55-124147号、特開昭5
5-32086号公報に記載されているようなマット剤を感光
層中に添加してもよい。
素を減少させる技術として特開昭55-124147号、特開昭5
5-32086号公報に記載されているようなマット剤を感光
層中に添加してもよい。
本発明の感光性組成物は、例えば、2−メトキシエタノ
ール、2−メトキシエチルアセテート、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパノー
ル、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケ
トン、エチレンジクロライド、水などの適当な溶剤の単
独またはこれらを適当に組み合わせた混合溶媒に溶解し
て支持体上に塗設することができる。溶解の際には超音
波分散機を使用すると溶解が早まるので好ましい。その
被膜量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が
適当であり、より好ましくは0.5〜5g/m2である。
ール、2−メトキシエチルアセテート、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパノー
ル、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケ
トン、エチレンジクロライド、水などの適当な溶剤の単
独またはこれらを適当に組み合わせた混合溶媒に溶解し
て支持体上に塗設することができる。溶解の際には超音
波分散機を使用すると溶解が早まるので好ましい。その
被膜量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が
適当であり、より好ましくは0.5〜5g/m2である。
本発明の感光性組成物を塗布するのに適した支持体とし
ては、紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、
アルミニウム(アルミニウム合金も含む。)亜鉛、銅な
どのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸
酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネ
ートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ムなどが含まれる。これらの支持体のうち、アルミニウ
ム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価であるの
で好ましい。更に、特公昭48-18327号公報に記載されて
いるようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にア
ルミニウムシートが結合された複合体シートも好まし
い。
ては、紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、
アルミニウム(アルミニウム合金も含む。)亜鉛、銅な
どのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸
酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネ
ートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ムなどが含まれる。これらの支持体のうち、アルミニウ
ム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価であるの
で好ましい。更に、特公昭48-18327号公報に記載されて
いるようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にア
ルミニウムシートが結合された複合体シートも好まし
い。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。また、米国特許第2,714,066号明細書に記載され
ている如く、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に
浸漬処理されたアルミニウム板、特公昭47-5125号公報
に記載されているようにアルミニウム板を陽極処理した
のちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したも
のも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例えば、
燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは、蓚
酸、スルフアミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶
液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解
液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことによ
り実施される。
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。また、米国特許第2,714,066号明細書に記載され
ている如く、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に
浸漬処理されたアルミニウム板、特公昭47-5125号公報
に記載されているようにアルミニウム板を陽極処理した
のちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したも
のも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例えば、
燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは、蓚
酸、スルフアミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶
液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解
液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことによ
り実施される。
また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されている
ようなシリケート電着も有効である。
ようなシリケート電着も有効である。
更には特公昭46-27481号公報、特開昭52-58602号公報、
特公昭52-39503号公報に開示されているような電解グレ
インを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び珪酸ソー
ダ処理を組合せた表面処理も有効である。
特公昭52-39503号公報に開示されているような電解グレ
インを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び珪酸ソー
ダ処理を組合せた表面処理も有効である。
更には、特開昭56-28893号公報に開示されているよう
な、ブラシグレイン、電解グレイン、陽極酸化処理さら
に珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である。更に
これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たとえばポ
リビニルフォスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重
合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りしたも
のも好適である。
な、ブラシグレイン、電解グレイン、陽極酸化処理さら
に珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である。更に
これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たとえばポ
リビニルフォスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重
合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りしたも
のも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられた感光性組成物
との有害な反応を防ぐため、更には感光層との密着性の
向上等のために施されるものである。
めに施される以外に、その上に設けられた感光性組成物
との有害な反応を防ぐため、更には感光層との密着性の
向上等のために施されるものである。
支持体上に設けられた感光性組成物の層の上に特開昭50
-125805号、特開昭55-30619号、特開昭51-111102号、特
公昭61-28986号、特開昭59-211044号、特開昭55-12974
号各明細書に記載されているようなマット層や、感光性
層の高温での粘着性を防止する層や、空気中の酸素によ
る重合禁止作用を更に完全に防止するために、例えばポ
リビニルアルコール、酸性セルロース類等の酸素遮断性
に優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい。この
様な保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,
458,311号、特公昭55-49729号公報に詳しく記載されて
いる。
-125805号、特開昭55-30619号、特開昭51-111102号、特
公昭61-28986号、特開昭59-211044号、特開昭55-12974
号各明細書に記載されているようなマット層や、感光性
層の高温での粘着性を防止する層や、空気中の酸素によ
る重合禁止作用を更に完全に防止するために、例えばポ
リビニルアルコール、酸性セルロース類等の酸素遮断性
に優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい。この
様な保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,
458,311号、特公昭55-49729号公報に詳しく記載されて
いる。
本発明の感光性組成物を支持体上に設けた感光性プレー
トをメタルハライドライプ、高圧水銀灯などのような紫
外線に富んだ光源を用いて画像露光し、現像液で処理し
て感光層の未露光部を除去し、最後にガム液を塗布する
ことにより平版印刷版とする。上記現像液として好まし
いものは、ベンジルアルコール、2−フェノキエタノー
ル、2−ブトキシエタノールのような有機溶媒を少量含
むアルカリ水溶液であり、例えば米国特許第3,475,171
号および同3,615,480号に記載されているものを挙げる
ことができる。更に、特開昭50-26601号、特公昭56-394
64号、同56-42860号の各公報に記載されている現像液も
本発明の感光性組成物を用いた感光性印刷版の現像液と
して優れている。
トをメタルハライドライプ、高圧水銀灯などのような紫
外線に富んだ光源を用いて画像露光し、現像液で処理し
て感光層の未露光部を除去し、最後にガム液を塗布する
ことにより平版印刷版とする。上記現像液として好まし
いものは、ベンジルアルコール、2−フェノキエタノー
ル、2−ブトキシエタノールのような有機溶媒を少量含
むアルカリ水溶液であり、例えば米国特許第3,475,171
号および同3,615,480号に記載されているものを挙げる
ことができる。更に、特開昭50-26601号、特公昭56-394
64号、同56-42860号の各公報に記載されている現像液も
本発明の感光性組成物を用いた感光性印刷版の現像液と
して優れている。
本発明の感光性組成物は、露光時、酸素の影響を受けに
くいため、高感度で、高耐刷力の画像を形成することが
できる。したがってこれを用いた感光性組成物から得ら
れた印刷版は、高感度で優れた耐刷性を有し、製造コス
トも安価である。
くいため、高感度で、高耐刷力の画像を形成することが
できる。したがってこれを用いた感光性組成物から得ら
れた印刷版は、高感度で優れた耐刷性を有し、製造コス
トも安価である。
次に、実施例に基づいて更に詳細に説明する。なお%は
重量%を示す。
重量%を示す。
実施例1 特開昭56-28893号公報に開示された方法により基板を作
成した。即ち、厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロン
ブラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液を用いそ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄、水洗した。これ
をVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて
1%硝酸水溶液中で160クローン/dm2の陽極時電気量で
電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したとこ
ろ、0.6μ(Ra表示)であった。ひきつづいて30%の硫
酸水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマット処理した
後、20%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2において厚さが
2.7g/m2になるように2分間陽極酸化処理した。その後7
0℃のケイ酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬し、水洗
し、乾燥させた。
成した。即ち、厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロン
ブラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液を用いそ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄、水洗した。これ
をVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて
1%硝酸水溶液中で160クローン/dm2の陽極時電気量で
電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したとこ
ろ、0.6μ(Ra表示)であった。ひきつづいて30%の硫
酸水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマット処理した
後、20%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2において厚さが
2.7g/m2になるように2分間陽極酸化処理した。その後7
0℃のケイ酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬し、水洗
し、乾燥させた。
次の感光液(1)を調製した。
感光液(1) ・ トリメチロールプロパントリアクリレート 20g ・ ポリ(アリルメタアクリレート/メタクリル酸)共
重合モル比80/20のコポリマー 50g ・ 2,4−トリクロロメチル−(4′−メトキシナフチ
ル)s−トリアジン 2g ・ p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドと
の縮合物の六フッ化リン酸塩 2g ・ 下記式で表わされる化合物(a) 1g ・ プロピレングリコールモノメチルエーテル 1500g ・ F−177(大日本インキ(株)製フッ素系界面活性
剤) 1.5g この感光液(1)を濾過後、先の基板の上に回転塗布機
を用いて、乾燥後の重量にしえ、2.0g/m2となるように
塗布した。乾燥は80℃で2分間行ないこれをサンプルA
とした。
重合モル比80/20のコポリマー 50g ・ 2,4−トリクロロメチル−(4′−メトキシナフチ
ル)s−トリアジン 2g ・ p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドと
の縮合物の六フッ化リン酸塩 2g ・ 下記式で表わされる化合物(a) 1g ・ プロピレングリコールモノメチルエーテル 1500g ・ F−177(大日本インキ(株)製フッ素系界面活性
剤) 1.5g この感光液(1)を濾過後、先の基板の上に回転塗布機
を用いて、乾燥後の重量にしえ、2.0g/m2となるように
塗布した。乾燥は80℃で2分間行ないこれをサンプルA
とした。
比較例として、感光液(1)から、(a)の化合物を含
まない感光液を調製し、同様に塗布、乾燥して、これを
サンプルBとした。
まない感光液を調製し、同様に塗布、乾燥して、これを
サンプルBとした。
これらのプレートの酸素の影響度を比較する為に、サン
プルの上に富士写真フィルム(株)製のPSステップガイ
ド(△D=0.15で不連続に透過濃度が変化するグレース
ケース)を重ねて、米国ヌアーク社製プリンター(光
源;2KWメタルハライドランプ)で露光した。この時、プ
リンターの焼枠の真空引きを変えて露光し、富士写真フ
ィルム(株)製のPS版用ネガ用現像液DN-3Cを1:1に水で
希釈したもので処理し、未露光部を除去した。
プルの上に富士写真フィルム(株)製のPSステップガイ
ド(△D=0.15で不連続に透過濃度が変化するグレース
ケース)を重ねて、米国ヌアーク社製プリンター(光
源;2KWメタルハライドランプ)で露光した。この時、プ
リンターの焼枠の真空引きを変えて露光し、富士写真フ
ィルム(株)製のPS版用ネガ用現像液DN-3Cを1:1に水で
希釈したもので処理し、未露光部を除去した。
現像後の版上のステップガイドの段数は表1に示すよう
に、サンプルAは真空度の影響も受けず、感度も高かっ
た。サンプルBは、真空度の影響を受け、感度も低かっ
た。
に、サンプルAは真空度の影響も受けず、感度も高かっ
た。サンプルBは、真空度の影響を受け、感度も低かっ
た。
これらのサンプルを印刷機ハイデルベルグKOR−Dにて
印刷したところ、表2に示すように結果が得られ、サン
プルAは、Bに比べはるかに真空度の影響を受けずに高
耐刷力であった。
印刷したところ、表2に示すように結果が得られ、サン
プルAは、Bに比べはるかに真空度の影響を受けずに高
耐刷力であった。
実施例2〜8 実施例1の感光液に代えて次の感光液(2)を用い、同
様に塗布、乾燥して得られたプレートをサンプルC、ま
た感光液(2)の下記化合物(b)を表3の化合物に代
えた感光液より得られたプレートをサンプルD〜Hとし
た。比較例として化合物(b)を除いたプレートをIと
した。
様に塗布、乾燥して得られたプレートをサンプルC、ま
た感光液(2)の下記化合物(b)を表3の化合物に代
えた感光液より得られたプレートをサンプルD〜Hとし
た。比較例として化合物(b)を除いたプレートをIと
した。
感光液(2) ・ ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 20g ・ ポリ(ベンジルメタアクリレート/メタクリル酸)
共重合体モル比80/20のコポリマー 50g ・ 下記構造の光重合開始剤 2g ・ P−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドと
の縮合物の六フッ化リン酸塩 3g ・ 下記式で表わされる化合物(b) 2g ・ エチレングリコールモノメチルエーテル 500g ・ メチルエチルケトン 300g ・ F−177(大日本インキ(株)製フッ素系界面活性
剤) 1.5g これらサンプルC〜Iを実施例1と同様にして感度にお
よぼす真空度の影響を調べた。表3に示すようにサンプ
ルC〜HではサンプルIに比べ真空度の影響も少なく、
又、感度も高かった。
共重合体モル比80/20のコポリマー 50g ・ 下記構造の光重合開始剤 2g ・ P−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドと
の縮合物の六フッ化リン酸塩 3g ・ 下記式で表わされる化合物(b) 2g ・ エチレングリコールモノメチルエーテル 500g ・ メチルエチルケトン 300g ・ F−177(大日本インキ(株)製フッ素系界面活性
剤) 1.5g これらサンプルC〜Iを実施例1と同様にして感度にお
よぼす真空度の影響を調べた。表3に示すようにサンプ
ルC〜HではサンプルIに比べ真空度の影響も少なく、
又、感度も高かった。
実施例9 実施例1のアルミニウム基板の作製において20%硫酸水
溶液中で陽極酸化処理する代りに5%リン酸水溶液中で
電流密度2A/dm2において厚さが0.8g/m2になるように2
分間陽極酸化処理した後3%のケイ酸ナトリウム水溶液
で70℃、10秒間処理した基板を用いて、次の処方に従っ
た感光液(3)を同様に塗布・乾燥しサンプルJとし
た。
溶液中で陽極酸化処理する代りに5%リン酸水溶液中で
電流密度2A/dm2において厚さが0.8g/m2になるように2
分間陽極酸化処理した後3%のケイ酸ナトリウム水溶液
で70℃、10秒間処理した基板を用いて、次の処方に従っ
た感光液(3)を同様に塗布・乾燥しサンプルJとし
た。
比較例として下記感光液(3)から化合物(c)を含ま
ない感光液を調製し、同様に塗布・乾燥してこれをサン
プルKとした。
ない感光液を調製し、同様に塗布・乾燥してこれをサン
プルKとした。
感光液(3) ・ ペンタエリスリトールテトラアクリレート 20g ・ ポリ(アクリルメタクリレート/メタクリル酸)共
重合モル比80/20のコポリマー 50g ・ 下記構造の光重合開始剤 2g ・ 下記式の化合物(c) 3g ・ プロピレングリコールモノメチルエーテル 800g ・ F−177(大日本インキ(株)製) 1.5g これらのサンプルJ,Kを実施例1と同様にして感度にお
よぼす真空度の影響を調べた。表4に示すようにサンプ
ルJはKに比べ真空度の影響も少なく、又感度も高かっ
た。
重合モル比80/20のコポリマー 50g ・ 下記構造の光重合開始剤 2g ・ 下記式の化合物(c) 3g ・ プロピレングリコールモノメチルエーテル 800g ・ F−177(大日本インキ(株)製) 1.5g これらのサンプルJ,Kを実施例1と同様にして感度にお
よぼす真空度の影響を調べた。表4に示すようにサンプ
ルJはKに比べ真空度の影響も少なく、又感度も高かっ
た。
また、実施例1と同様に耐刷におよぼす真空度の影響を
調べたところ、サンプルJは10万枚以上の印刷物が得ら
れたが、Kの真空引き有りのサンプルでは、7万枚、真
空引き不十分なサンプルでは、3万枚で印刷不良となっ
た。
調べたところ、サンプルJは10万枚以上の印刷物が得ら
れたが、Kの真空引き有りのサンプルでは、7万枚、真
空引き不十分なサンプルでは、3万枚で印刷不良となっ
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−90304(JP,A) 特開 昭52−117352(JP,A) 特開 昭62−11851(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】エチレン性不飽和付加重合性化合物と有機
溶媒可溶性でかつフィルム形成可能な重合体と光重合開
始剤とを含む感光性組成物において、下記一般式(I)
で表される化合物を含むことを特徴とする感光性組成
物。 一般式: R1-CO-NH-R2 (I) (ただし、R1は炭素数12以上で置換基を有していてもよ
い直鎖アルコキシ基または直鎖アルキルアミノ基を表
し、R2は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、置換アリール基、アリールスルホニル基又はア
ルキルスルホニル基を表す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62039972A JPH07117745B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62039972A JPH07117745B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63206742A JPS63206742A (ja) | 1988-08-26 |
| JPH07117745B2 true JPH07117745B2 (ja) | 1995-12-18 |
Family
ID=12567869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62039972A Expired - Fee Related JPH07117745B2 (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07117745B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5290304A (en) * | 1976-01-24 | 1977-07-29 | Asahi Chemical Ind | Photoosensitive resin composition for making flexo graphic printing plate |
| JPS5945976B2 (ja) * | 1976-03-29 | 1984-11-09 | 東京応化工業株式会社 | ナイロン系感光性樹脂組成物 |
| JPS6211851A (ja) * | 1985-07-10 | 1987-01-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
-
1987
- 1987-02-23 JP JP62039972A patent/JPH07117745B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63206742A (ja) | 1988-08-26 |
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