JPH07118094B2

JPH07118094B2 - 情報記録媒体

Info

Publication number: JPH07118094B2
Application number: JP62249366A
Authority: JP
Inventors: 正夫矢部; 由夫稲垣
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1987-10-02
Filing date: 1987-10-02
Publication date: 1995-12-18
Anticipated expiration: 2010-12-18
Also published as: JPH0192938A

Description

【発明の詳細な説明】［発明の分野］本発明は、情報記録媒体に関するものであり、さらに詳
しくは、高エネルギー密度のレーザビームを用いての情
報の書き込みおよび／または読み取りが可能な情報記録
媒体の改良に関するものである。

［発明の技術的背景］近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。
この情報記録媒体は光ディスクと称され、大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リなどとして使用されており、記録層・記録方式に応じ
て追記型と消去書替型に大別される。

光ディスクは、ガラス、合成樹脂などの材料からなり、
中心部に回転駆動用の円孔を有する円盤状の基板と、こ
の基板上に設けられたBi、Sn、In、Te等の金属または半
金属からなる記録層とからなる基本構造を有する。記録
層が設けられる側の基板表面には通常、基板の平面性の
改善、記録層との接着力の向上あるいは光ディスクの感
度の向上などの点から、高分子物質などの材料からなる
中間層が設けられることが多い。

また、記録層を保護するためのディスク構造として、二
枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板上に記録
層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位置し、
かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサとリン
グ状外側スペーサとを介して接合してなるエアーサンド
イッチ構造が提案されている。このようなエアーサンド
イッチ構造を有する光ディスクでは、記録層は直接外気
に接することがなく、情報の記録、再生は基板を透過す
るレーザ光で行なわれるために、記録層が物理的または
化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が付
着して情報の記録、再生の障害となることがないとの利
点がある。

光ディスクへの情報の書き込みおよび読み取りは、通常
は下記の方法により行なわれる。

情報の書き込みはレーザビームをこの光ディスクに照射
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化（たとえば、ピットの生成）が生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。情報の読み取
りもまた、レーザビームを光ディスクに照射することに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光または透過光を検出することにより情報が再生され
る。

上記のように光ディスクへの情報の書き込みおよび読み
取りは、通常ディスク表面の所定の位置にレーザビーム
を照射することにより行なわれている。一方、光ディス
クへの情報記録量の増加が強く望まれているところか
ら、ピットなどの記録部位の密度の増大が図られてい
る。そして、このような記録部位の密度の増大により、
レーザビームを正しく所定の位置に照射することが困難
になるため、最近ではレーザビームを案内して正確に照
射予定位置をたどる（一般にトラッキングと呼ばれる）
ようにするために、トラッキング用案内溝をディスク表
面上に設けることが多くなっている。

上記のようにレーザビームを利用する情報記録媒体は各
種の構成にて用いられるが、それらの全てが基板と記録
層とからなる基本構造を有しており、また多くのものが
基板と記録層との間に中間層を有している。

基板は、最近では合成樹脂（プラスチック）を材料とし
て射出成形あるいは圧縮成形などの方法で製造されるこ
とが多くなっている。この射出成形あるいは圧縮成形は
一般に、所定の凹凸模様を表面に有するスタンパと呼ば
れる金型の該表面に加熱しながら加圧下にて熱可塑性の
合成樹脂を接触させる方法により、該スタンパの凹凸模
様の対応する凹凸模様を表面に有する合成樹脂製円盤を
得ることかなる成形操作である。

上記のスタンパは、加圧装置に取り付けられた状態で上
記の成形操作に利用されるが、このスタンパの加圧装置
への取り付け用の治具は通常、スタンパ表面の内周側
（成形される円盤状基板の円孔の周囲で、記録領域より
も内側の部分）に取り付ける。従って、そのようなスタ
ンパを用いて得られる基板は、記録領域よりも内周側に
環状溝が設けられた形状、すなわち第１図で示されるよ
うな断面形状を有する基板となる。そのような環状溝は
当然、円盤状基板の円滑な回転を妨げないようにその中
心位置に対して、対称の位置、形状となるように配慮さ
れるため、その存在自体が、その基板を用いて製造され
る光ディスクの性能に影響を与える点は少ないといえ
る。

前記のような各形態にて使用される情報記録媒体は、通
常、基板の表面にまず、高分子物質などからなる中間層
をスピンコート法などの塗布法を利用して形成し、次い
でその上に記録層を蒸着する。色素記録層等塗布型記録
層の場合は、必要に応じて基板表面に高分子物質などか
らなる中間層をスピンコートなどの塗布方法を利用して
形成し、次いで塗布などの方法で記録層を形成して情報
記録媒体とする工程を含む製造法により製造される。

本発明者は、円盤状基板の表面に設定されている記録領
域よりも内周側に環状溝が設けられてなる情報記録媒体
用基板の該表面に、環状溝の内側からスピンコート法な
どの塗布法を利用して高分子物質含有塗布液を塗布して
中間層または色素物質等記録層形成物質含有塗布液を塗
布して塗布型記録層を形成した場合、その中間層または
塗布型記録層が不均一になる傾向があることを見い出し
た。そのような中間層または塗布型記録層の不均一さ
は、得られる情報記録媒体のピット形状のばらつきおよ
び、情報の書き誤りや読み誤りを生じ易いとの問題を引
き起す。

特開昭60−50640号公報には、中間層または色素記録層
（塗布型記録層）を塗布する際の内周径を、基板の中心
孔より大きくした情報記録媒体が開示されている。しか
しながら、このような情報記録媒体であっても上記中間
層または色素記録層等塗布型記録層が不均一になるとい
う問題については充分に解決されたとは言えない。

［発明の目的］本発明は、光による情報の書き込みおよび読み取りの性
能が向上した情報記録媒体を提供することを主な目的と
する。

［発明の要旨］本発明は、射出成型により得られた内周環状溝を有する
プラスチック基板上に、光により情報の書き込みが可能
な塗布型記録層が設けられてなる情報記録媒体におい
て、上記塗布型記録層が、スピンコート法により該基板
の内周環状溝より外側に塗布形成されていることを特徴
とする情報記録媒体；及び射出成型により得られた内周環状溝を有するプラスチッ
ク基板に、中間層を介して光により情報の書き込みが可
能な非塗布型記録層が設けられてなる情報記録媒体にお
いて、上記中間層が、スピンコート法により該基板の内
周環状溝より外側に塗布形成されていることを特徴とす
る情報記録媒体にある。

尚、本発明の中間層とは、記録層の下に記録層の平面性
および／または記録特性の向上のために設けられた塗布
層の全てを意味し、いわゆる下塗層等も含んでいる。

［発明の効果］本発明は、射出成型プラスチック基板上に、中間層また
は色素記録層を塗布する際、中間層および／または色素
記録層を、該基板の内周環状溝より外側に設けるように
塗布を行なう。このことによって、塗布面が平担とな
り、且つ塗布膜厚が均一となるため、情報の書き込みお
よび読み取りの性能が向上し、書き誤りおよび読み誤り
が著しく低減される。

［発明の詳細な記述］本発明の情報記録媒体を製造するためには、射出成形プ
ラスチック基板上に、中間層および／または色素記録層
等塗布型記録層（以下は主に色素記録層について説明す
る）を該基板の内周環状溝より外側に塗布することによ
り設けることが必要である。

すなわち、中間層または色素記録層の形成に一般的に用
いられるスピンコート法は、高分子物質溶液（中間層塗
布液）または色素含有溶液（色素層塗布液）を円盤状基
板の中央付近に付与し、それを外側に広げながら、基板
表面に塗布を行なう方法である。本発明者の研究による
と、上記塗布方法は、基板の中央部付近に付与された塗
布液が前記の内周側の環状溝を渡って基板の外周側に広
がる際に、塗布液がその環状溝の外周側裾部において逆
方向に強く押し戻され、これにより塗布液の流れが乱
れ、形成される塗布層が不均一になり、塗布むらが発生
する傾向があることが判明した。

本発明者は更に研究を行なった結果、内周側の環状溝
（内周環状溝）より外側から中間層塗布液または色素層
塗布液を外周側に塗布することにより、上記のような塗
布むらの発生を顕著に低減できることを見い出した。

本発明の情報記録媒体の構成を添付図面を参照しなが
ら、更に詳しく説明する。

第１図は、記録領域11よりも内周側に環状溝12が形成さ
れた基板13の構成を示す模式図である。ただし本発明の
情報記録媒体基板は、中心に設定されている回転軸を中
心にして対称の関係にあるため、第１図〜第３図では、
その片側のみを示している。

本発明の中間層塗布液または色素層塗布液を塗布する際
は、第１図の内周環状溝12の外側側壁の頂点（環状溝外
周17）のすぐ外側より外周側に塗布を行なうことが必要
である。具体的には、環状溝外周17の位置または環状溝
外周からグルーブ領域前までの位置から外周側に塗布を
行なうことが好ましい。

上記基板に記録層等が設けられた本発明の情報記録媒体
の構成例の模式図を第２図および第３図に示す。第２図
は、基板23に中間層を設けないで、内周環状溝22のすぐ
外側から色素記録層24を設けた例である。第３図は、基
板33に、内周環状溝32のすぐ外側から中間層35を設け、
さらにその上に金属記録層34を設けた例である。これら
の構成例は、本発明の代表例にすぎず、上記記録層の上
に反射層あるいは保護層等が設けられても勿論良く、本
発明は上記構成に限定されるものではない。

本発明の情報記録媒体は、従来より知られている基板と
特に相違する点はない。ただし、本発明の基板は、トラ
ッキング用案内溝を設けるためのプレグルーブが付けら
れた基板であることが有利であるので、以下の説明はプ
レグルーブ付き基板を例にとって説明する。

プレグルーブ付き基板は、たとえば、ポリカーボネート
樹脂、ポリアクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、エポキ
シ樹脂および非晶質ポリオレフィンなどのプラスチック
材料（好ましくはポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレートおよび非晶質ポリオレフィン）を射出成型して
製造する方法、プラスチック板、平面基板にプレグルー
ブを有する樹脂層を積層させる方法などによって製造す
ることができ、これらの方法は既に一般的に知られてい
る。

本発明の情報記録媒体を製造する方法としては、たとえ
ば、下記の方法を利用することができる。

まず、基板表面上に公知のスピンコート法により中間塗
布層を形成させる。

なお、塗布法により形成される中間層の例としては、接
着層、断熱層、反射層、感度向上層（ガス発生層）など
を挙げることができる。

中間塗布層が断熱層である場合には、例えばポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、Ｎ−メチロール・アクリルアミド共重合体、スチ
レン・スルホン酸共重合体、スチレン・ビニルトルエン
共重合体、塩素化ポリエチレン、クロルスルホン化ポリ
エチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリエ
ステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合
体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネートなどの高分子物質を溶
剤に溶解した塗布液を用いて形成することができる。

高分子物質を溶解するための溶剤としては、トルエン、
キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソル
ブ、メチルセロソルブアセテート、メチルエチルケト
ン、1,2−ジクロルエタン、シクロヘキサノン、シクロ
ヘキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオ
キサン、メタノール、エタノール、イソプロパノールお
よびブタノール等を挙げることができる。

中間塗布層の層厚（平均層厚）は、中間層に要求される
特性を考慮して決定されている。中間塗布層の層厚は通
常は50〜5000オングストローム、好ましくは100〜1000
オングストロームである。

中間塗布層の上には、記録層が設けられる。

記録層に用いられる材料の例としては、Te、Zn、In、S
n、Zr、Al、Cu、Ge等の金属;Bi、As、Sb等の半金属;G
e、Si等の半導体；およびこれらの合金またはこれらの
組合せを挙げることができる。また、これらの金属また
は半金属の硫化物、酸化物、ホウ化物、ケイ素化合物、
炭化物および窒化物等の化合物；およびこれらの化合物
と金属との混合物も記録層に用いることができる。

記録層は、上記の記録材料を蒸着、スパッタリング、イ
オンプレーティングなどの方法によって中間塗布層上に
形成することができる。記録層は単層または重層でもよ
いが、その層厚は光情報記録に要求される光学濃度の点
から一般に100乃至5000オングストロームの範囲であ
る。

基板上の記録層として、上記のような金属層を設けない
場合は、色素記録層が設けられる。基板上の記録層が色
素記録層の場合は、前記中間層はあっても良いし、無く
ても良い。

色素記録層は、実質的に色素のみからなる層であるか、
あるいは色素とこれを分散する結合剤からなる層であ
る。

本発明における色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなどの金属
錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、
インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アミ
ニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物
を挙げることができる。

これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収率が高い
色素が好ましい。その例としては、ｉ）シアニン系色素：［１］(CH₃)₂N-(CH＝CH)₅-CH＝⁺N(CH₃)₂Cl₄ ^- （ただし、ｎは２または３である）（ただし、Ｒは水素原子またはN(CH₃)₂である）［４］A-(CH＝CH)_n-CH＝Ｂであり、Ｒはアルキル基であり、Ｘは対イオンであり、
場合によりベンゼン環またはナフタリン環には塩素原
子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が存在
していてもよく、ｎは０〜３の整数である）（ただし、Ｒはアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子で
ある）（ただし、Ｒは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Ｘは水素
原子またはハロゲン原子であり、Ｙはハロゲン、パーク
ロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート、
パラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチ
ルスルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカ
ルボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレ
ートであり、ｎは０〜３の整数である）（ただし、R¹、R²およびR³はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基であって、互いに同じか異なっていてもよ
く、X^-は過ハロゲン酸イオン、トルエンスルホン酸イオ
ンまたはアルキル硫酸イオンであり、ｎは０〜３の整数
であり、そしてインドレニン環の４位、５位、６位およ
び７位のうちの少なくとも一つにハロゲン原子が存在
し、場合により他の位置にさらにハロゲン原子が存在し
ていてもよく、さらに場合によりベンゼン環はアルキル
基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アリ
ル基またはアルキルカルボニル基で置換されていてもよ
い）（ただし、A¹およびA²はそれぞれ水素原子または置換基
であり、Ｚは五員複素環を形成するのに必要な原子団で
あり、R¹〜R⁴はそれぞれ水素原子または置換基であり、
R⁵は置換基であるかまたはＺと共に六員複素環を形成し
てもよく、X^-は陰イオンであり、ｎは０〜２の整数であ
る）［11］Φ−Ｌ＝Ψ(X^-)_m （ただし、ΦおよびΨはそれぞれ芳香族環が縮合してい
てもよいインドール環残基、チアゾール環残基、オキサ
ゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残
基またはピリジン環残基であり、Ｌはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテト
ラカルボシアニンを形成するための連結基であり、X^-は
陰イオンであり、ｍは０または１である） ii）スクワリリウム系色素：（ただし、R¹とR²、R²とR³、R³とR⁴、R⁴とR⁵、R⁵とR⁶お
よびR⁶とR⁷の組合せのうち少なくとも一つの組合せで置
換もしくは未置換の複素環または脂肪族環による環を形
成し、該環を形成しないときのR¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶
およびR⁷はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価
の有機残基であり、あるいはR¹とR²、R³とR⁴、R⁴とR⁵、
R⁵とR⁶およびR⁶とR⁷の組合せのうち少なくとも一つの組
合せで置換もしくは未置換の芳香族環を形成してもよ
く、Ａは二重結合によって結合した二価の有機残基であ
り、Z^-はアニオン残基である。なお、アズレン環を構成
する少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置き換えら
れてアザアズレン環となっていてもよい。） iv）インドフェノール系色素：（ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子、アルキル原
子、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子
であり、R¹、R²およびR³はそれぞれ水素原子、C₁〜C₂₀
の置換または未置換のアルキル基、アリール基、複素環
またはシクロヘキシル基であり、Ａは−NHCO−または−
CONH−である）Ｖ）金属錯塩系色素：（ただし、R¹〜R⁴はそれぞれアルキル基またはアリール
基であり、Ｍは二価の遷移金属原子である）（ただし、R¹およびR²はそれぞれアルキル基またはハロ
ゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である）（ただし、R¹およびR²はそれぞれ置換または未置換のア
ルキル基またはアリール基であり、R³はアルキル基、ハ
ロゲン原子または（ここで、R⁴およびR⁵はそれぞれ置換または未置換のア
ルキル基またはアリール基である）であり、Ｍは遷移金
属原子であり、ｎは０〜３の整数である）（ただし、［Cat］は錯塩を中性ならしめるために必要
な陽イオンであり、ＭはNi、Cu、Co、PdまたはPtであ
り、ｎは１または２である）（ただし、［Cat］は錯塩を中性ならしめるために必要
な陽イオンであり、ＭはNi、Cu、Co、PdまたはPtであ
り、ｎは１または２である）（ただし、Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子またはメ
チル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａは第四級ア
ンモニウム基である）（ただし、X¹およびX²はそれぞれニトロ基および／また
はハロゲン原子であり、n₁およびn₂はそれぞれ１〜３の
整数であり、R¹およびR²はそれぞれアミノ基、モノアル
キルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基（置換ベンゾイルアミノ基を含
む）であり、X¹とX²、n₁とn₂およびR¹とR²はそれぞれ互
いに同じであっても異なっていてもよく、ＭはCrまたは
Co原子であり、Ｙは水素、ナトリウム、カリウム、アン
モニウム、脂肪族アンモニウム（置換脂肪族アンモニウ
ムを含む）または脂環族アンモニウムである） vi）ナフトキノン系、アントラキノン系色素：（ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）（ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）（ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）（ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０〜10の整数
である）（ただし、Ｘはハロゲン原子である）などを挙げることができる。

これらの色素のうちで、本発明の方法を特に好ましく適
用することができるのはシアニン系色素である。なお、
これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる場合
に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモ
ニウム系色素をクエンチャーとして一緒に用いてもよ
い。

色素記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合
剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液
を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥すること
により行なうことができる。

本発明の塗布液調製用の溶剤には、弗素を含有する化合
物が用いることが好ましい。本発明に用いられる弗素含
有化合物の例としては、弗素化アルコール、弗素置換ケ
トン、弗素置換エステル、弗素化カルボン酸、弗素置換
アミド、弗素置換ベンゼン、弗素化アルカンおよび弗素
化エーテルを挙げることができる。

本発明において、上記弗素含有化合物は単独で溶剤とし
て用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用することに
より混合溶剤として用いてもよい。

そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブ
タノールなどの色素を溶解しうる溶剤を挙げることがで
きる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑
剤、滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよ
い。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることがで
きる。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99％（重量比）の範囲
にあり、好ましくは1.0〜95％（重量比）の範囲にあ
る。また、溶剤が弗素含有溶剤と他の溶剤との混合系で
ある場合には、その組合せ、色素および基板の種類によ
っても異なるが、一般には弗素含有溶剤は溶剤全体の５
〜95％（重量比）の範囲で使用され、好ましくは30〜90
％（重量比）の範囲にある。このようにして調製される
塗布液の濃度は一般に0.01〜10％（重量比）の範囲にあ
り、好ましくは0.1〜５％（重量比）の範囲にある。

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に0.
01〜10μｍの範囲にあり、好ましくは0.02〜１μｍの範
囲にある。また、記録層は基板の片面のみならず両面に
設けられていてもよい。

本発明の塗布型記録層は、上記色素記録層の他に状態変
化により情報を記録するポリマーブレンド等塗布型の記
録層を全て含んでいる。

さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるS/N比
の向上および記録時における感度の向上の目的で、反射
層が設けられてもよい。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se、
Ｙ、Ti、Zr、Hf、Ｖ、Nb、Ta、Cr、Mo、Ｗ、Mn、Re、F
e、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、C
d、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金
属および半金属を挙げることができる。これらのうちで
好ましいものはAl、CrおよびNiである。これらの物質は
単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでま
たは合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンプレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。反射層の層厚は一般に
は100〜3000Åの範囲にある。

なお、反射層は基板と記録層との間に設けられてもよ
く、この場合には情報の記録再生は記録層側（基板とは
反対の側）から行なわれる。

また、記録層（または反射層）の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい。この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。

保護層に用いられる材料の例としては、SiO、SiO₂、MgF
₂、SnO₂等の無機物質；熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、U
V硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。

保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層（または銀塩層あるい
は反射層）上および／または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適
当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を
塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても形成
することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防
止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応
じて添加してもよい。

保護層の層厚は一般には0.1〜100μｍの範囲にある。

本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。ただし、
これらの各例は本発明を制限するものでない。

［実施例１］射出成形によりプレグルーブを設けた円盤状ポリカーボ
ネート基板［外径:130mm、中心孔内径:15mm（第１図の1
6）、環状溝内径:33mm（第１図の15）、環状溝外径:35.
5mm（第１図の14）、環状溝深さ:120μｍ（第１図の1
2）、厚さ:1.2mm、プレグルーブの深さ:800オングスト
ローム、トラックピッチ:1.6μｍ］の上に、塩素化ポリ
オレフィン含有塗布液［メチルエチルケトン10重量部と
シクロヘキサノン100重量部とに塩素化ポリエチレンが
0.3重量部が溶解しているもの］をスピンコーターを用
いて環状溝外周（第１図の17）の外側に0.5mmの位置か
ら基板外周まで塗布し、次いで乾燥して層厚500オング
ストロームの中間塗布層を形成した。

上記中間塗布層の上にIn:GeS:Au＝66:22:12（重量比）
の比率で共蒸着させて、厚さ300オングストロームの記
録層を形成した。このようにして、基板および記録層か
らなる情報記録媒体を製造した。

［比較例１］実施例１で使用したものと同じ塩素化ポリオレフィン含
有塗布液をスピンコーターを用いて、環状溝外周（第１
図の17）の外側に0.5mm位置を環状溝内周の内側に6.5mm
の位置に変えて、そこから基板外周まで塗布した以外は
実施例１と同様に、基板および記録層からなる情報記録
媒体を製造した。

［実施例２］実施例１と同じ射出成形によりプレグルーブを設けた円
盤状ポリカーボネート基板に、中間層および金属等から
なる記録層を設けずに、スピンコートにより、シアニン系色素（上記構造式［６］： 2gを、2,2,3,3−テトラフロロプロピルアルコール100cc
に溶解した色素記録層形成用塗布液（濃度２重量％）を
環状溝外周（第１図の17）の外側に0.5mmの位置から基
板外周まで塗布した後、70℃の温度で10分間乾燥して膜
厚が600オングストロームの記録層を形成した。以上の
ように、基板および記録層からなる情報記録媒体を製造
した。

［比較例２］実施例２で使用したものと同じ色素記録層形成用塗布液
をスピンコーターを用いて、環状溝外周（第１図の17）
の外側に0.5mmの位置を環状溝内周の内側に6.5mmの位置
に変えて、そこから基板外周まで塗布した以外は実施例
２と同様に、基板および記録層からなる情報記録媒体を
製造した。

［光ディスクの評価］得られた光ディスクについて、半導体レーザー（λ:830
nm）搭載の記録性能評価機（ナカミチ（株）製）を用
い、周波数2.5MHz、デューティ50％、5m/秒の線速で二
値情報の記録を３〜8mWの記録出力で行なった。次い
で、上記のように記録された二値情報を再生レーザー出
力0.8mWにて再生した。出力アンプの帯域を200kHzから2
0MHzにして、再生信号のゼロクロス点の立ち上がりから
立ち下がりの時間を800回測定し、その標準偏差（ジッ
ター）を測定した。

その結果を、第１表に示す。

第１表のジッターの値は、元の信号と記録された信号の
ズレを時間で表わしたものであり、値が小さいほどその
ズレは少ない。上記結果から明らかなように、実施例の
方がジッターの値は小さく、元の信号と記録された信号
のズレは少ないといえる。従って、本発明の情報記録媒
体は書き誤り、読み誤りが少なく、信頼性の高い情報記
録媒体であるということができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、記録領域の内周側に環状溝を有する情報記録
媒体用基板の構成を模式的に示す断面図である。第２図と第３図とはそれぞれ本発明の構成例を模式的に
示す断面図である。 11:記録領域、12:内周環状溝、13:情報記録媒体用基
板、14:環状溝外径、15:環状溝内径、16:中心孔内径、1
7:環状溝外周、22,32:内周環状溝、23,33:情報記録媒体
用基板、24:色素記録層、34:金属記録層、35:中間層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】射出成型により得られた内周環状溝を有す
るプラスチック基板上に、光により情報の書き込みが可
能な塗布型記録層が設けられてなる情報記録媒体におい
て、上記塗布型記録層が、スピンコート法により該基板
の内周環状溝より外側に塗布形成されていることを特徴
とする情報記録媒体。
【請求項２】上記塗布型記録層の層厚が0.02〜１μｍの
範囲にある特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体。
【請求項３】上記塗布型記録層が色素記録層である特許
請求の範囲第１項記載の情報記録媒体。
【請求項４】上記射出成型プラスチック基板が、ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタクリレートおよび非晶質ポ
リオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも一種よ
りなる特許請求の範囲第１項記載の情報記録媒体。
【請求項５】射出成型により得られた内周環状溝を有す
るプラスチック基板に、中間層を介して光により情報の
書き込みが可能な非塗布型記録層が設けられてなる情報
記録媒体において、上記中間層が、スピンコート法によ
り該基板の内周環状溝より外側に塗布形成されているこ
とを特徴とする情報記録媒体。
【請求項６】上記中間層の層厚が50〜5000オングストロ
ームの範囲にある特許請求の範囲第５項記載の情報記録
媒体。
【請求項７】上記非塗布型記録層が金属記録層である特
許請求の範囲第５項記載の情報記録媒体。
【請求項８】上記射出成型プラスチック基板が、ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタクリレートおよび非晶質ポ
リオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも一種よ
りなる特許請求の範囲第５項記載の情報記録媒体。