JPH0713128B2 - ポリエステルまたはポリエステルカーボネート樹脂 - Google Patents
ポリエステルまたはポリエステルカーボネート樹脂Info
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- JPH0713128B2 JPH0713128B2 JP1342329A JP34232989A JPH0713128B2 JP H0713128 B2 JPH0713128 B2 JP H0713128B2 JP 1342329 A JP1342329 A JP 1342329A JP 34232989 A JP34232989 A JP 34232989A JP H0713128 B2 JPH0713128 B2 JP H0713128B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規なポリエステルまたはポリエステルカーボ
ネート樹脂に関する。
ネート樹脂に関する。
本発明により提供されるポリエステルまたはポリエステ
ルカーボネート樹脂は低複屈折性、高耐熱性などの優れ
た性能を有しており、光デイスク、光カード等の光記録
媒体；レンズ、プリズム、回折格子等の光学素子などの
光学用成形品の材料に適する。
ルカーボネート樹脂は低複屈折性、高耐熱性などの優れ
た性能を有しており、光デイスク、光カード等の光記録
媒体；レンズ、プリズム、回折格子等の光学素子などの
光学用成形品の材料に適する。
近年、光学用部品や自動車用部品をはじめとする様々な
分野における成形品の材料として種々の特性に優れた透
明性の樹脂が要求されている。中でも光デイスクや光カ
ードといつた光記録媒体においては、追記型や消去可能
型等のユーザーが情報を記録できる方式のものが登場
し、かかる記録方式の発展にともない基体材料の諸特性
に対する要求のレベルも高くなつてきている。特に要求
されるのは低吸水性（低吸水反り性）、低複屈折性、高
耐熱性の３特性である。現在、基体材料として用いられ
ているものにガラスおよびプラスチツク材料があるが、
ガラスは量産性が低く、コストがかかり、重く、割れ易
いといつた短所があり、かかる短所のないプラスチツク
材料が基体材料の主流を占めているのが現状である。ま
た、凹／凸レンズやフレネルレンズ等のレンズ、回折格
子等の光学素子についても、用途の拡大に連れて光記録
媒体におけると同様の理由によりガラスよりもプラスチ
ツク材料が主流になりつつある。
分野における成形品の材料として種々の特性に優れた透
明性の樹脂が要求されている。中でも光デイスクや光カ
ードといつた光記録媒体においては、追記型や消去可能
型等のユーザーが情報を記録できる方式のものが登場
し、かかる記録方式の発展にともない基体材料の諸特性
に対する要求のレベルも高くなつてきている。特に要求
されるのは低吸水性（低吸水反り性）、低複屈折性、高
耐熱性の３特性である。現在、基体材料として用いられ
ているものにガラスおよびプラスチツク材料があるが、
ガラスは量産性が低く、コストがかかり、重く、割れ易
いといつた短所があり、かかる短所のないプラスチツク
材料が基体材料の主流を占めているのが現状である。ま
た、凹／凸レンズやフレネルレンズ等のレンズ、回折格
子等の光学素子についても、用途の拡大に連れて光記録
媒体におけると同様の理由によりガラスよりもプラスチ
ツク材料が主流になりつつある。
現在、透明光学材料として用いられているものにポリメ
チルメタクリレート（以下、これをPMMAと略称する）お
よびビスフエノールＡポリカーボネート（以下、これを
PCと略称する）がある。PMMAは複屈折が極めて低いもの
の吸水（吸湿）性が高く、吸水によつて反りや変形が生
じ、光学特性の低下を招き易いという欠点を有してい
る。特に、PMMAをデジタルオーデイオデイスクのような
１枚の基体からなる光記録媒体の材料として用いた場
合、情報の忠実な再生が不可能となることがある。ま
た、PMMAを基体材料とした光記録媒体は耐熱性に若干問
題を有する。一方、PCは吸水性が低く、吸水反りもほと
んどなく、耐熱性においても問題はないが、複屈折が大
きいという難点を有している。デジタルオーデイオデイ
スクや小径のレンズなどでは成形条件を高精度に制御す
ることにより複屈折を要求レベル以下に抑えることが可
能であるが、30cm径のレーザービジヨンや大径のレンズ
においては成形条件を高精度に制御することは極めて困
難である。
チルメタクリレート（以下、これをPMMAと略称する）お
よびビスフエノールＡポリカーボネート（以下、これを
PCと略称する）がある。PMMAは複屈折が極めて低いもの
の吸水（吸湿）性が高く、吸水によつて反りや変形が生
じ、光学特性の低下を招き易いという欠点を有してい
る。特に、PMMAをデジタルオーデイオデイスクのような
１枚の基体からなる光記録媒体の材料として用いた場
合、情報の忠実な再生が不可能となることがある。ま
た、PMMAを基体材料とした光記録媒体は耐熱性に若干問
題を有する。一方、PCは吸水性が低く、吸水反りもほと
んどなく、耐熱性においても問題はないが、複屈折が大
きいという難点を有している。デジタルオーデイオデイ
スクや小径のレンズなどでは成形条件を高精度に制御す
ることにより複屈折を要求レベル以下に抑えることが可
能であるが、30cm径のレーザービジヨンや大径のレンズ
においては成形条件を高精度に制御することは極めて困
難である。
従来、ノルボルナン骨格、ペルヒドロジメタノナフタレ
ン骨格またはペルヒドロトリメタノアントラセン骨格を
有するポリエステルのガラス転移温度はこの骨格の順で
高くなり、かつこれらのポリエステルはそれらの骨格を
有していないポリエステルに比べて高いガラス転移温度
を有することが報告されており〔ジヤーナル・オブ・ポ
リマー・サイエンス：ポリマー・ケミストリイ・エデイ
シヨン（Journal of Polymer Science:Polymer Che
mstry Edition）、10巻、3191頁（1972年）参照〕、ま
た上記の骨格を有するポリエステルは寸法安定性に優れ
ており、写真フイルムの基体などに用いられることが知
られている（米国防衛特許第896,033号明細書参照）。
ン骨格またはペルヒドロトリメタノアントラセン骨格を
有するポリエステルのガラス転移温度はこの骨格の順で
高くなり、かつこれらのポリエステルはそれらの骨格を
有していないポリエステルに比べて高いガラス転移温度
を有することが報告されており〔ジヤーナル・オブ・ポ
リマー・サイエンス：ポリマー・ケミストリイ・エデイ
シヨン（Journal of Polymer Science:Polymer Che
mstry Edition）、10巻、3191頁（1972年）参照〕、ま
た上記の骨格を有するポリエステルは寸法安定性に優れ
ており、写真フイルムの基体などに用いられることが知
られている（米国防衛特許第896,033号明細書参照）。
上述したように、従来、透明光学材料として用いられて
いるPMMAには吸水によつて反りや変形が生じ易く、かつ
耐熱性が不十分であるという欠点があり、またPCには複
屈折が大きいという欠点がある。
いるPMMAには吸水によつて反りや変形が生じ易く、かつ
耐熱性が不十分であるという欠点があり、またPCには複
屈折が大きいという欠点がある。
しかして、本発明の目的は、ガラス転移温度が高く耐熱
性に優れ、低複屈折性と優れた透明性を有し、かつ吸水
による反り、変形が少ない新規なポリエステルまたはポ
リエステルカーボネート樹脂を提供することにある。
性に優れ、低複屈折性と優れた透明性を有し、かつ吸水
による反り、変形が少ない新規なポリエステルまたはポ
リエステルカーボネート樹脂を提供することにある。
本発明によれば、上記の目的は、下記式（Ｉ）、（I
I）、（III）、（IV）および（Ｖ）で示される構造単位 （式中、ｍは０、１または２を表す。） （式中、Ａは２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式
炭化水素基または芳香族炭化水素基を表す。） （式中、ｎは０、１または２を表す。） （Ｖ）：Ｏ−Ｂ−Ｏ （式中、Ｂは２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式
炭化水素基または芳香族炭化水素基を表す。） からなり、構造単位（Ｉ）のモル分率と構造単位（II）
のモル分率と構造単位（III）のモル分率の和が構造単
位（IV）のモル分率と構造単位（Ｖ）のモル分率の和の
実質的に等しく、構造単位（Ｉ）のモル分率および構造
単位（IV）のモル分率がそれぞれ５モル％以上であり、
かつ該構造単位（Ｉ）のモル分率と構造単位（IV）のモ
ル分率の和が50〜95モル％である組成を有する数平均分
子量10,000〜100,000のポリエステルまたはポリエステ
ルカーボネート樹脂を提供することによつて達成され
る。
I）、（III）、（IV）および（Ｖ）で示される構造単位 （式中、ｍは０、１または２を表す。） （式中、Ａは２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式
炭化水素基または芳香族炭化水素基を表す。） （式中、ｎは０、１または２を表す。） （Ｖ）：Ｏ−Ｂ−Ｏ （式中、Ｂは２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式
炭化水素基または芳香族炭化水素基を表す。） からなり、構造単位（Ｉ）のモル分率と構造単位（II）
のモル分率と構造単位（III）のモル分率の和が構造単
位（IV）のモル分率と構造単位（Ｖ）のモル分率の和の
実質的に等しく、構造単位（Ｉ）のモル分率および構造
単位（IV）のモル分率がそれぞれ５モル％以上であり、
かつ該構造単位（Ｉ）のモル分率と構造単位（IV）のモ
ル分率の和が50〜95モル％である組成を有する数平均分
子量10,000〜100,000のポリエステルまたはポリエステ
ルカーボネート樹脂を提供することによつて達成され
る。
上記の構造単位を詳細に説明する。
構造単位（Ｉ）は具体的には次のものである。
構造単位（Ｉ）を有する樹脂の耐熱性は一般式（Ｉ）に
おけるｍが大きい方が優れていることから、樹脂はｍが
１または２であるもの、すなわち、次の構造単位を有す
る場合が好ましい。
おけるｍが大きい方が優れていることから、樹脂はｍが
１または２であるもの、すなわち、次の構造単位を有す
る場合が好ましい。
構造単位（II）は一般式（II）におけるＡが炭素数１〜
20の２価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数３〜20の２価
の飽和脂環式炭化水素基または炭素数６〜20の２価の芳
香族炭化水素基である場合が好ましく、なかでも炭素数
１〜12の２価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数４〜15の
２価の飽和脂環式炭化水素基または炭素数６〜12の２価
の芳香族炭化水素基である場合がより好ましい。
20の２価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数３〜20の２価
の飽和脂環式炭化水素基または炭素数６〜20の２価の芳
香族炭化水素基である場合が好ましく、なかでも炭素数
１〜12の２価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数４〜15の
２価の飽和脂環式炭化水素基または炭素数６〜12の２価
の芳香族炭化水素基である場合がより好ましい。
構造単位（II）の好適例を次に示す。
（ｉ） Ａが２価の飽和脂肪族炭化水素基を表す場合： （ii） Ａが２価の飽和脂環式炭化水素基を表す場合： （iii） Ａが２価の芳香族炭化水素基を表す場合： 上記の構造単位（II）のうち、特に次の構造単位が本発
明の樹脂に優れた耐熱性を付与する。
明の樹脂に優れた耐熱性を付与する。
さらに、次の構造単位が本発明の樹脂に最も優れた耐熱
性を与える。
性を与える。
なお、上記（iii）に属する構造単位（II）を有する本
発明の樹脂については、これを例えば光磁気記録媒体用
基体のような、特に低複屈折性が要求される用途に使用
する場合には、その構造単位のモル分率は低く抑えられ
ていることが必要である。
発明の樹脂については、これを例えば光磁気記録媒体用
基体のような、特に低複屈折性が要求される用途に使用
する場合には、その構造単位のモル分率は低く抑えられ
ていることが必要である。
構造単位（Ｉ）および構造単位（II）はいずれも対応す
るジカルボン酸またはその誘導体、例えばフエニルエス
テル、アルキルエステル、シクロアルキルエステル、酸
塩化物などから誘導される。本発明の樹脂を製造する際
の重合の容易さからフエニルエステルまたはアルキルエ
ステルを用いるのが好ましい。
るジカルボン酸またはその誘導体、例えばフエニルエス
テル、アルキルエステル、シクロアルキルエステル、酸
塩化物などから誘導される。本発明の樹脂を製造する際
の重合の容易さからフエニルエステルまたはアルキルエ
ステルを用いるのが好ましい。
構造単位（III）は炭酸誘導体、例えばジフエニルカー
ボネート、ジアルキルカーボネート、ジシクロカーボネ
ートまたはホスゲンから誘導される。本発明の樹脂の製
造の容易さからジフエニルカーボネートまたはジアルキ
ルカーボネートを用いるのが好ましい。
ボネート、ジアルキルカーボネート、ジシクロカーボネ
ートまたはホスゲンから誘導される。本発明の樹脂の製
造の容易さからジフエニルカーボネートまたはジアルキ
ルカーボネートを用いるのが好ましい。
構造単位（IV）は具体的には次のものである。
構造単位（IV）を有する樹脂の耐熱性は一般式（IV）に
おけるｎが大きい方が優れていることから、樹脂はｎが
１または２であるもの、すなわち、次の構造を有する場
合が好ましい。
おけるｎが大きい方が優れていることから、樹脂はｎが
１または２であるもの、すなわち、次の構造を有する場
合が好ましい。
構造単位（Ｖ）は一般式（Ｖ）におけるＢが炭素数１〜
20の２価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数３〜20の２価
の飽和脂環式炭化水素基または炭素数６〜20の２価の芳
香族炭化水素基である場合が好ましく、なかでも炭素数
１〜12の２価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数４〜15の
２価の飽和脂環式炭化水素基または炭素数６〜12の２価
の芳香族炭化水素基である場合がより好ましい。なお、
飽和脂環式炭化水素基は酸素原子を含んでいてもよいス
ピロ環を有するものをも含む。
20の２価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数３〜20の２価
の飽和脂環式炭化水素基または炭素数６〜20の２価の芳
香族炭化水素基である場合が好ましく、なかでも炭素数
１〜12の２価の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数４〜15の
２価の飽和脂環式炭化水素基または炭素数６〜12の２価
の芳香族炭化水素基である場合がより好ましい。なお、
飽和脂環式炭化水素基は酸素原子を含んでいてもよいス
ピロ環を有するものをも含む。
構造単位（Ｖ）の好適例を次に示す。
（イ） Ｂが２価の飽和脂肪族炭化水素基を表す場合： −OCH2CH2O−、−OCH2CH2CH2O−、−OCH2CH2CH2CH2O
−、 （ロ） Ｂが２価の飽和脂環式炭化水素基を表す場合： （ハ） Ｂが２価の芳香族炭化水素基を表す場合： 上記の構造単位（Ｖ）のうち、特に次の構造単位が本発
明の樹脂に優れた耐熱性および機械的強度を付与する。
−、 （ロ） Ｂが２価の飽和脂環式炭化水素基を表す場合： （ハ） Ｂが２価の芳香族炭化水素基を表す場合： 上記の構造単位（Ｖ）のうち、特に次の構造単位が本発
明の樹脂に優れた耐熱性および機械的強度を付与する。
−OCH2CH2O−、−OCH2CH2CH2CH2O−、 さらに、次の構造単位が本発明の樹脂に最も優れた耐熱
性および機械的強度を与える。
性および機械的強度を与える。
−OCH2CH2O−、−OCH2CH2CH2CH2O−、 なお、上記（ハ）に属する構造単位（Ｖ）を有する本発
明の樹脂については、これを例えば光磁気記録媒体用基
体のような、特に低複屈折性が要求される用途に使用す
る場合には、その構造単位のモル分率は低く抑えられて
いることが必要である。
明の樹脂については、これを例えば光磁気記録媒体用基
体のような、特に低複屈折性が要求される用途に使用す
る場合には、その構造単位のモル分率は低く抑えられて
いることが必要である。
構造単位（IV）および構造単位（Ｖ）はいずれも対応す
るジヒドロキシル化合物から誘導される。
るジヒドロキシル化合物から誘導される。
本発明の樹脂において構造単位（Ｉ）および構造単位
（II）は構造単位（IV）または構造単位（Ｖ）とエステ
ル結合により結合する。また、構造単位（III）は構造
単位（IV）または構造単位（Ｖ）とカーボネート結合に
より結合する。
（II）は構造単位（IV）または構造単位（Ｖ）とエステ
ル結合により結合する。また、構造単位（III）は構造
単位（IV）または構造単位（Ｖ）とカーボネート結合に
より結合する。
本発明の樹脂において構造単位（Ｉ）のモル分率ｖおよ
び構造単位（IV）のモル分率ｙはそれぞれ５モル％以上
であり、かつそれらの和（ｖ＋ｙ）は50〜95モル％であ
る。モル分率の和（ｖ＋ｙ）は60〜95モル％の範囲であ
ることが好ましく、70〜90モル％の範囲であることがよ
り好ましい。該モル分率が50モル％未満である場合、樹
脂は十分な耐熱性を有していないことがあり、また95モ
ル％を越える場合、樹脂は充分な耐熱性を有するもの
の、その機械的強度が低く、いずれも実用的ではない。
構造単位（II）、（III）および（Ｖ）のモル分率ｗ、
ｘおよびｚは、式ｖ＋ｗ＋ｘ＝50、ｙ＋ｚ＝50を満た
す。
び構造単位（IV）のモル分率ｙはそれぞれ５モル％以上
であり、かつそれらの和（ｖ＋ｙ）は50〜95モル％であ
る。モル分率の和（ｖ＋ｙ）は60〜95モル％の範囲であ
ることが好ましく、70〜90モル％の範囲であることがよ
り好ましい。該モル分率が50モル％未満である場合、樹
脂は十分な耐熱性を有していないことがあり、また95モ
ル％を越える場合、樹脂は充分な耐熱性を有するもの
の、その機械的強度が低く、いずれも実用的ではない。
構造単位（II）、（III）および（Ｖ）のモル分率ｗ、
ｘおよびｚは、式ｖ＋ｗ＋ｘ＝50、ｙ＋ｚ＝50を満た
す。
本発明の樹脂は、ゲルパーミエイシヨンクロマトグラフ
イー（以下、これをGPCと略称する）により求めた数平
均分子量（ポリスチレン換算）が10,000〜100,000の範
囲にあるものである。本発明の樹脂の数平均分子量は1
5,000〜80,000の範囲にあることが好ましく、20,000〜8
0,000の範囲にあることがより好ましい。数平均分子量
が10,000より小さい樹脂は脆く、実用上充分な強度を有
しておらず、また数平均分子量が100,000より大きい樹
脂は製造が困難となる。
イー（以下、これをGPCと略称する）により求めた数平
均分子量（ポリスチレン換算）が10,000〜100,000の範
囲にあるものである。本発明の樹脂の数平均分子量は1
5,000〜80,000の範囲にあることが好ましく、20,000〜8
0,000の範囲にあることがより好ましい。数平均分子量
が10,000より小さい樹脂は脆く、実用上充分な強度を有
しておらず、また数平均分子量が100,000より大きい樹
脂は製造が困難となる。
本発明の樹脂は公知の方法に従つて製造することができ
る。公知の方法は、例えば、ジカルボン酸のジフエニル
エステルおよび／またはジアルキルエステルとジフエニ
ルカーボネートおよび／またはジアルキルカーボネート
とジヒドロキシル化合物の混合物からの脱フエノール反
応および／または脱アルコール反応、ホスゲンとジカル
ボン酸塩化物とジヒドロキシル化合物の混合物からの脱
塩化水素反応、ホスゲンとジカルボン酸塩化物とジヒド
ロキシル化合物のアルカリ金属塩の混合物からの脱アル
カリ金属塩化物反応等の反応を必要に応じて適当な触媒
の存在下に行うことにより実施される。反応の形態とし
ては反応の種類に応じて溶融法や溶液法等の手法を採用
できるが、反応の容易さから溶融法が好ましい。
る。公知の方法は、例えば、ジカルボン酸のジフエニル
エステルおよび／またはジアルキルエステルとジフエニ
ルカーボネートおよび／またはジアルキルカーボネート
とジヒドロキシル化合物の混合物からの脱フエノール反
応および／または脱アルコール反応、ホスゲンとジカル
ボン酸塩化物とジヒドロキシル化合物の混合物からの脱
塩化水素反応、ホスゲンとジカルボン酸塩化物とジヒド
ロキシル化合物のアルカリ金属塩の混合物からの脱アル
カリ金属塩化物反応等の反応を必要に応じて適当な触媒
の存在下に行うことにより実施される。反応の形態とし
ては反応の種類に応じて溶融法や溶液法等の手法を採用
できるが、反応の容易さから溶融法が好ましい。
以下に本発明の樹脂を溶融法により製造する場合につい
て説明する。触媒としては、例えばテトラアルキルオル
ソチタネート、酢酸亜鉛、酸化アンチモン、酸化ゲルマ
ニウム；ナトリウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシ
ド等の種々の金属アルコキシド；リチウム、ナトリウム
等のアルカリ金属；水素化リチウム、水素化ナトリウム
等のアルカリ金属水素化物；水酸化リチウム、水酸化ナ
トリウム等のアルカリ金属水酸化物；金属ハロゲン化物
などが使用される。原料化合物として、芳香族ジヒドロ
キシル化合物を用いる場合は、反応性の高さからアルカ
リ金属、アルカリ金属水素化物またはアルカリ金属水酸
化物を触媒として用いるのが好ましい。触媒の使用量は
特に制限されないが、通常は原料化合物全体に対して0.
0001〜１モル％の範囲である。触媒の使用量が少ない場
合には、反応速度が極端に低下し、また触媒の使用量が
多過ぎる場合には、得られる樹脂の吸水率が上昇した
り、着色を招くことがある。重縮合反応は窒素、アルゴ
ン、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気中で触媒の存在下
に加熱しながら原料化合物を撹拌し、発生するアルコー
ルまたはフエノールを留出させることにより行われる。
反応温度は原料化合物および発生するアルコールまたは
フエノールの沸点ならびに要求される反応速度によつて
異なるが、通常150〜300℃の範囲である。反応の後半で
は必要に応じて系を減圧にして反応を追い込む。この際
の圧は0.001〜100mmHgの範囲である。反応終了後、得ら
れた樹脂を反応器よりストランド状に押し出ししたのち
ペレタイザにてペレツト化するか、または塊状で取り出
して粉砕する。
て説明する。触媒としては、例えばテトラアルキルオル
ソチタネート、酢酸亜鉛、酸化アンチモン、酸化ゲルマ
ニウム；ナトリウムメトキシド、カリウムｔ−ブトキシ
ド等の種々の金属アルコキシド；リチウム、ナトリウム
等のアルカリ金属；水素化リチウム、水素化ナトリウム
等のアルカリ金属水素化物；水酸化リチウム、水酸化ナ
トリウム等のアルカリ金属水酸化物；金属ハロゲン化物
などが使用される。原料化合物として、芳香族ジヒドロ
キシル化合物を用いる場合は、反応性の高さからアルカ
リ金属、アルカリ金属水素化物またはアルカリ金属水酸
化物を触媒として用いるのが好ましい。触媒の使用量は
特に制限されないが、通常は原料化合物全体に対して0.
0001〜１モル％の範囲である。触媒の使用量が少ない場
合には、反応速度が極端に低下し、また触媒の使用量が
多過ぎる場合には、得られる樹脂の吸水率が上昇した
り、着色を招くことがある。重縮合反応は窒素、アルゴ
ン、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気中で触媒の存在下
に加熱しながら原料化合物を撹拌し、発生するアルコー
ルまたはフエノールを留出させることにより行われる。
反応温度は原料化合物および発生するアルコールまたは
フエノールの沸点ならびに要求される反応速度によつて
異なるが、通常150〜300℃の範囲である。反応の後半で
は必要に応じて系を減圧にして反応を追い込む。この際
の圧は0.001〜100mmHgの範囲である。反応終了後、得ら
れた樹脂を反応器よりストランド状に押し出ししたのち
ペレタイザにてペレツト化するか、または塊状で取り出
して粉砕する。
上記のようにして製造された本発明の樹脂は、ガラス転
移温度が高く耐熱性に優れ、低複屈折性と優れた透明性
を有する。また本発明の樹脂は吸水によつて反りまたは
変形を生じない。
移温度が高く耐熱性に優れ、低複屈折性と優れた透明性
を有する。また本発明の樹脂は吸水によつて反りまたは
変形を生じない。
本発明の樹脂は公知の任意の方法、例えば、プレス成
形、押出成形、射出成形、射出圧縮成形等の溶融成形法
により成形することができる。また、本発明の樹脂を適
当な溶媒に溶解することによりキヤスト法によりフイル
ムにすることもできる。溶融成形の場合、樹脂温度は通
常200〜400℃、金型温度は40〜150℃の範囲にそれぞれ
設定される。成形の際には、必要に応じて本発明の樹脂
に熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、潤滑剤、無機また
は有機の充填剤、染料、顔料等を加えてもよい。
形、押出成形、射出成形、射出圧縮成形等の溶融成形法
により成形することができる。また、本発明の樹脂を適
当な溶媒に溶解することによりキヤスト法によりフイル
ムにすることもできる。溶融成形の場合、樹脂温度は通
常200〜400℃、金型温度は40〜150℃の範囲にそれぞれ
設定される。成形の際には、必要に応じて本発明の樹脂
に熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、潤滑剤、無機また
は有機の充填剤、染料、顔料等を加えてもよい。
本発明の樹脂は一旦平板や簡単な形状に成形したのちに
無機または有機の材料と積層することも、接着あるいは
融着により複雑な形状とすることも、表面にエンボス加
工などの高次加工を施すことも可能である。
無機または有機の材料と積層することも、接着あるいは
融着により複雑な形状とすることも、表面にエンボス加
工などの高次加工を施すことも可能である。
本発明の樹脂を例えば読み出し専用光記録媒体用基体の
材料として用いる場合には、まず本発明の樹脂をグルー
ブや信号等を記録した金型を用いて射出成形等により成
形することにより、該基体を得る。この基体にアルミニ
ウム等の金属を真空蒸着等の方法により情報面上に成膜
し、次いで保護ポリマー層を成形するか、または該表面
が金属で成膜された情報面を面と面で２枚貼り合わせ
る。情報記録層は本発明の樹脂からなる平担な基体の上
に光硬化性の樹脂を用いて2P法によつて設けてもよい。
また、例えば、成形した基体の表面に酸化テルル、テル
ビウム−鉄−コバルト系合金等の無機物またはシアニン
系色素等の有機物の薄膜を設けることによつても情報記
録層を構成することができる。
材料として用いる場合には、まず本発明の樹脂をグルー
ブや信号等を記録した金型を用いて射出成形等により成
形することにより、該基体を得る。この基体にアルミニ
ウム等の金属を真空蒸着等の方法により情報面上に成膜
し、次いで保護ポリマー層を成形するか、または該表面
が金属で成膜された情報面を面と面で２枚貼り合わせ
る。情報記録層は本発明の樹脂からなる平担な基体の上
に光硬化性の樹脂を用いて2P法によつて設けてもよい。
また、例えば、成形した基体の表面に酸化テルル、テル
ビウム−鉄−コバルト系合金等の無機物またはシアニン
系色素等の有機物の薄膜を設けることによつても情報記
録層を構成することができる。
本発明の樹脂は上記のような優れた特性を活かして、次
のような用途に用いることができる。
のような用途に用いることができる。
照明器具部品 各種看板類 窓、風防等の分野におけるガラス代替品 液晶等各種表示素子用基板 眼鏡、カメラ、ルーペ、ビデオプロジエクタ等に用
いられる凹／凸レンズ、フレネルレンズ等の各種レンズ 光デイスクプレーヤピツクアツプ、分光素子、光学
的ローパスフイルタ等の回折格子 プリズム、光導波路、ビームスプリツタ等の各種光
学素子 光フアイバ 光デイスク、光カード等の光記録媒体用基体 〔実施例〕 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。なお、
物性値は下記の方法に従つて測定した。
いられる凹／凸レンズ、フレネルレンズ等の各種レンズ 光デイスクプレーヤピツクアツプ、分光素子、光学
的ローパスフイルタ等の回折格子 プリズム、光導波路、ビームスプリツタ等の各種光
学素子 光フアイバ 光デイスク、光カード等の光記録媒体用基体 〔実施例〕 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。なお、
物性値は下記の方法に従つて測定した。
数平均分子量:GPC（ポリスチレン換算）により求め
た。
た。
ガラス転移温度：示差熱分析法（窒素中、昇温速度
10℃／分）により測定した。
10℃／分）により測定した。
光透過率：熱プレスにより2mm厚に成形した試料の
波長400nm、600nmおよび800nmの光の透過率を分光光度
計により測定した。
波長400nm、600nmおよび800nmの光の透過率を分光光度
計により測定した。
複屈折（リターデーシヨン）：直径40mm、厚さ6mm
に成形した試料を熱プレスにより1mm厚に圧延し、中心
から30mmの点について偏光顕微鏡（波長589nm）を用い
て測定した。
に成形した試料を熱プレスにより1mm厚に圧延し、中心
から30mmの点について偏光顕微鏡（波長589nm）を用い
て測定した。
表面硬度：鉛筆硬度試験（JIS K5400）により求め
た。
た。
飽和吸水率:23℃の蒸留水中にて吸水による重量増
加が認められなくなつた時の重量増加率を求めることに
より測定した。
加が認められなくなつた時の重量増加率を求めることに
より測定した。
吸水反り:2cm×10cm×2mm厚の板状試料の片面にア
ルミニウムを1000Å厚に蒸着し、これを23℃の蒸留水に
浸漬して発生した反りの最大値を吸水反りとした。
ルミニウムを1000Å厚に蒸着し、これを23℃の蒸留水に
浸漬して発生した反りの最大値を吸水反りとした。
アイゾツト衝撃強度:JIS K7110（ノツチ付）に準
拠して測定し、ビスフエノールＡポリカーボネートのア
イゾツト衝撃強度を基準として、それと同程度のアイゾ
ツト衝撃強度を有するものを並とし、それよりも高いア
イゾツト衝撃強度を有するものを良とし、また低いアイ
ゾツト衝撃強度を有するものを不良とした。
拠して測定し、ビスフエノールＡポリカーボネートのア
イゾツト衝撃強度を基準として、それと同程度のアイゾ
ツト衝撃強度を有するものを並とし、それよりも高いア
イゾツト衝撃強度を有するものを良とし、また低いアイ
ゾツト衝撃強度を有するものを不良とした。
実施例１ 撹拌装置、窒素ガス流入口および冷却管を備えた１容
三つ口フラスコに、ペルヒドロ−1,4:5,8−ジメタノナ
フタレン−2,3−ジカルボン酸ジメチル139g（0.50モ
ル）、トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジ
メチル100g（0.50モル）、ペルヒドロ−1,4:5,8−ジメ
タノナフタレン−2,3−ジメタノール222g（1.0モル）お
よびテトラブチルオルソチタネート0.34g（１ミリモ
ル）を仕込み、窒素気流中にてオイルバスで200℃に加
熱して30分間撹拌した。次いで、230℃で50分間、250℃
で80分間撹拌したのち、系内を1.0mmHgに減圧し、この
減圧下にさらに60分間撹拌して、淡黄色透明の樹脂380g
を得た。この樹脂の1HNMRスペクトル（90MHz、重クロロ
ホルム中、テトラメチルシラン基準）を第１図に示す。
三つ口フラスコに、ペルヒドロ−1,4:5,8−ジメタノナ
フタレン−2,3−ジカルボン酸ジメチル139g（0.50モ
ル）、トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジ
メチル100g（0.50モル）、ペルヒドロ−1,4:5,8−ジメ
タノナフタレン−2,3−ジメタノール222g（1.0モル）お
よびテトラブチルオルソチタネート0.34g（１ミリモ
ル）を仕込み、窒素気流中にてオイルバスで200℃に加
熱して30分間撹拌した。次いで、230℃で50分間、250℃
で80分間撹拌したのち、系内を1.0mmHgに減圧し、この
減圧下にさらに60分間撹拌して、淡黄色透明の樹脂380g
を得た。この樹脂の1HNMRスペクトル（90MHz、重クロロ
ホルム中、テトラメチルシラン基準）を第１図に示す。
得られた樹脂の各種物性についての測定結果を第２表に
示す。
示す。
実施例２〜８ 実施例１において原料化合物および／またはその仕込量
を変える以外は同様にして反応を行うことにより各種の
樹脂を得た。ただし、原料化合物の一部にジフエニルカ
ーボネートを用いた場合には、テトラブチルオルソチタ
ネート0.34g（１ミリモル）の代わりに水素化リチウム
8.0mg（１ミリモル）を使用した。用いた原料化合物お
よび仕込量を第１表に示す。
を変える以外は同様にして反応を行うことにより各種の
樹脂を得た。ただし、原料化合物の一部にジフエニルカ
ーボネートを用いた場合には、テトラブチルオルソチタ
ネート0.34g（１ミリモル）の代わりに水素化リチウム
8.0mg（１ミリモル）を使用した。用いた原料化合物お
よび仕込量を第１表に示す。
実施例２〜３で得られた樹脂の各種物性についての測定
結果を第２表に示す。同表に、比較例１とてビスフエノ
ールＡポリカーボネートの物性を示した。
結果を第２表に示す。同表に、比較例１とてビスフエノ
ールＡポリカーボネートの物性を示した。
実施例４〜８で得られた樹脂もガラス転移温度が130℃
以上と高く、リターデーシヨンは5nm程度以下と低く、
良好な物性を有していた。
以上と高く、リターデーシヨンは5nm程度以下と低く、
良好な物性を有していた。
なお、実施例１〜８で得られた樹脂はいずれも飽和吸水
率が0.4％以下と低く、吸水反りが0.1mm以下と小さく、
また表面硬度がＨ以上と高いものであつた。
率が0.4％以下と低く、吸水反りが0.1mm以下と小さく、
また表面硬度がＨ以上と高いものであつた。
〔発明の効果〕 本発明により次の特長を有し、光学用成形品をはじめと
する各種用途に好適に用いられるポリエステルまたはポ
リエステルカーボネート樹脂が提供される。
する各種用途に好適に用いられるポリエステルまたはポ
リエステルカーボネート樹脂が提供される。
優れた透明性を有すること。
ガラス転移点が高く、耐熱性が良好であること。
表面硬度がＨ以上と高いこと。
飽和吸水率が0.4％以下と低く、吸水による反り・
変形がほとんど生じないこと。
変形がほとんど生じないこと。
成形品の複屈折がビスフエノールＡポリカーボネー
トの1/4程度以下と非常に小さいこと。
トの1/4程度以下と非常に小さいこと。
第１図は実施例１で得られたポリエステル樹脂の1H NM
Rスペクトルである。
Rスペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５２６ Ｈ 7215−5Ｄ
Claims (1)
- 【請求項１】下記式（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）
および（Ｖ）で示される構造単位 （式中、ｍは０、１または２を表す。） （式中、Ａは２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式
炭化水素基または芳香族炭化水素基を表す。） （式中、ｎは０、１または２を表す。） （Ｖ）：Ｏ−Ｂ−Ｏ （式中、Ｂは２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式
炭化水素基または芳香族炭化水素基を表す。） からなり、構造単位（Ｉ）のモル分率と構造単位（II）
のモル分率と構造単位（III）のモル分率の和が構造単
位（IV）のモル分率と構造単位（Ｖ）のモル分率の和の
実質的に等しく、構造単位（Ｉ）のモル分率および構造
単位（IV）のモル分率がそれぞれ５モル％以上であり、
かつ該構造単位（Ｉ）のモル分率と構造単位（IV）のモ
ル分率の和が50〜95モル％である組成を有する数平均分
子量10,000〜100,000のポリエステルまたはポリエステ
ルカーボネート樹脂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1342329A JPH0713128B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | ポリエステルまたはポリエステルカーボネート樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1342329A JPH0713128B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | ポリエステルまたはポリエステルカーボネート樹脂 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28064291A Division JPH055026A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | ポリエステル樹脂 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03200830A JPH03200830A (ja) | 1991-09-02 |
| JPH0713128B2 true JPH0713128B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=18352887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1342329A Expired - Lifetime JPH0713128B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | ポリエステルまたはポリエステルカーボネート樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713128B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005011449B4 (de) | 2004-03-22 | 2019-01-31 | Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. | Verfahren zur Herstellung von Polyesterharzen |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ATE276304T1 (de) * | 1999-05-07 | 2004-10-15 | Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo Kk | Flüssigkristallines polymer |
| US6309719B1 (en) | 2000-05-04 | 2001-10-30 | Arteva North America S.A.R.L. | Amorphous copolyester resin composition |
| US8012571B2 (en) | 2008-05-02 | 2011-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Optical film comprising birefringent naphthalate copolyester having branched or cyclic C4-C10 alkyl units |
| JP6041180B1 (ja) | 2015-03-25 | 2016-12-07 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ノルボルナン骨格を有する二官能性化合物、及びその製造方法 |
| JPWO2023058632A1 (ja) | 2021-10-05 | 2023-04-13 |
-
1989
- 1989-12-28 JP JP1342329A patent/JPH0713128B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005011449B4 (de) | 2004-03-22 | 2019-01-31 | Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. | Verfahren zur Herstellung von Polyesterharzen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03200830A (ja) | 1991-09-02 |
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