JPH0714898B2 - 光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法 - Google Patents
光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法Info
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- JPH0714898B2 JPH0714898B2 JP63189082A JP18908288A JPH0714898B2 JP H0714898 B2 JPH0714898 B2 JP H0714898B2 JP 63189082 A JP63189082 A JP 63189082A JP 18908288 A JP18908288 A JP 18908288A JP H0714898 B2 JPH0714898 B2 JP H0714898B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
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- C07C69/732—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids of unsaturated hydroxy carboxylic acids
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アミノ酸、医薬品、液晶材料等の合成中間体
として有用な次の一般式（Ｉ） （式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、R2は低級
アルキル基、フェニル基又はシクロアルキル基を示す
か、あるいはR1とR2が一緒になって低級アルキル基が置
換することのある５〜７員のシクロアルケニル環又はビ
シクロアルケニル環を形成する。R3は低級アルキル基を
示す） で表わされる光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステ
ルの製造法に関する。
として有用な次の一般式（Ｉ） （式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、R2は低級
アルキル基、フェニル基又はシクロアルキル基を示す
か、あるいはR1とR2が一緒になって低級アルキル基が置
換することのある５〜７員のシクロアルケニル環又はビ
シクロアルケニル環を形成する。R3は低級アルキル基を
示す） で表わされる光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステ
ルの製造法に関する。
従来、α−ヒドロキシカルボン酸エステルを製造する方
法としては、８−フエニルメントールのグリオキシル酸
エステルとオレフイン化合物とを、ルイス酸の存在下反
応せしめて特定の絶対配置をもつたα−ヒドロキシカル
ボン酸エステルを製造する方法が報告されている〔Tetr
ahedron.42巻、2993〜3001頁（1986）〕。
法としては、８−フエニルメントールのグリオキシル酸
エステルとオレフイン化合物とを、ルイス酸の存在下反
応せしめて特定の絶対配置をもつたα−ヒドロキシカル
ボン酸エステルを製造する方法が報告されている〔Tetr
ahedron.42巻、2993〜3001頁（1986）〕。
しかしながら、上記方法による光学活性体の製法は、グ
リオキシル酸エステル部のアルコールの絶対配置によつ
て、どちらか一方の絶対配置をもつ生成物しか得られな
いと共に、ルイス酸を原料と当モル使用しなければなら
ないという欠点があつた。
リオキシル酸エステル部のアルコールの絶対配置によつ
て、どちらか一方の絶対配置をもつ生成物しか得られな
いと共に、ルイス酸を原料と当モル使用しなければなら
ないという欠点があつた。
斯かる実状において、本発明者らは、上記問題点を解決
せんと鋭意研究を行つた結果、光学活性なビナフトール
−チタン錯体を触媒として使用すれば、効率よく高い光
学純度のα−ヒドロキシカルボン酸エステルが得られる
ことを見出し、本発明を完成した。
せんと鋭意研究を行つた結果、光学活性なビナフトール
−チタン錯体を触媒として使用すれば、効率よく高い光
学純度のα−ヒドロキシカルボン酸エステルが得られる
ことを見出し、本発明を完成した。
本発明方法は、次の反応式で示される。
（式中、R3は前記と同じものを示す。R1及びR2は一緒に
なる場合以外は前記と同じものを示し、あるいはR1とR2
が一緒になって低級アルキル基が置換することのある５
〜７員環の、（Ｉ）式ではシクロアルケニル環又はビシ
クロアルケニル環を、（II）式ではシクロアルキル環又
はビシクロアルキル環を形成する） すなわち、本発明は、オレフイン化合物（II）とグリオ
キシル酸エステル（III）とを、ビナフトール−チタン
錯体の存在下反応せしめて光学活性α−ヒドロキシカル
ボン酸エステル（Ｉ）を製造する方法である。
なる場合以外は前記と同じものを示し、あるいはR1とR2
が一緒になって低級アルキル基が置換することのある５
〜７員環の、（Ｉ）式ではシクロアルケニル環又はビシ
クロアルケニル環を、（II）式ではシクロアルキル環又
はビシクロアルキル環を形成する） すなわち、本発明は、オレフイン化合物（II）とグリオ
キシル酸エステル（III）とを、ビナフトール−チタン
錯体の存在下反応せしめて光学活性α−ヒドロキシカル
ボン酸エステル（Ｉ）を製造する方法である。
本発明の原料のオレフイン化合物（II）としては、例え
ば２−メチル−１−プロペン、２−メチル−１−ブテ
ン、２−メチル−１−ペンテン、２−メチル−１−ヘキ
セン、2,3−ジメチル−１−ブテン、2,3,3−トリメチル
−１−ブテン、２−エチル−１−ブテン、α−メチルス
チレン、メチレンシクロペンタン、メチレンシクロヘキ
サン、メチレンシクロヘプタン、α−フェンケン、β−
ピネン、リモネン等が挙げられる。
ば２−メチル−１−プロペン、２−メチル−１−ブテ
ン、２−メチル−１−ペンテン、２−メチル−１−ヘキ
セン、2,3−ジメチル−１−ブテン、2,3,3−トリメチル
−１−ブテン、２−エチル−１−ブテン、α−メチルス
チレン、メチレンシクロペンタン、メチレンシクロヘキ
サン、メチレンシクロヘプタン、α−フェンケン、β−
ピネン、リモネン等が挙げられる。
また、もう一方の原料のグリオキシル酸エステル（II
I）としては、例えばグリオキシル酸メチル、グリオキ
シル酸エチル、グリオキシル酸イソプロピル、グリオキ
シル酸ｔ−ブチル等が挙げられ、これらはSynthesis,19
72年,544頁に記載の方法によつて製造される。
I）としては、例えばグリオキシル酸メチル、グリオキ
シル酸エチル、グリオキシル酸イソプロピル、グリオキ
シル酸ｔ−ブチル等が挙げられ、これらはSynthesis,19
72年,544頁に記載の方法によつて製造される。
触媒として使用される光学活性ビナフトール−チタン錯
体は次の一般式（IV） （式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す）で表わされ
る。
体は次の一般式（IV） （式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す）で表わされ
る。
このビナフトール−チタン錯体は、例えば次のようにし
て調製される。まず四ハロゲン化チタンとテトライソプ
ロポキシチタンをヘキサン中で混合してジイソプロポキ
シ−ジハロゲノチタンの結晶を製し、これをトルエンに
溶解する。別に基質1mMに対し0.5g以上の量の粉末のモ
レキュラーシーブ4Aを塩化メチレンに加え、これに上で
調製したジイソプロポキシ−ジハロゲノチタンのトルエ
ン溶液、次いでビナフトールを加えて約１時間攪拌する
ビナフトール−チタン錯体（IV）が得られる。
て調製される。まず四ハロゲン化チタンとテトライソプ
ロポキシチタンをヘキサン中で混合してジイソプロポキ
シ−ジハロゲノチタンの結晶を製し、これをトルエンに
溶解する。別に基質1mMに対し0.5g以上の量の粉末のモ
レキュラーシーブ4Aを塩化メチレンに加え、これに上で
調製したジイソプロポキシ−ジハロゲノチタンのトルエ
ン溶液、次いでビナフトールを加えて約１時間攪拌する
ビナフトール−チタン錯体（IV）が得られる。
本発明方法を実施するには、ビナフトール−チタン錯体
の有機溶媒溶液にオレフイン化合物（II）及びグリオキ
シル酸エステル（III）を加えて反応させる。
の有機溶媒溶液にオレフイン化合物（II）及びグリオキ
シル酸エステル（III）を加えて反応させる。
有機溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン等
の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテ
ル、ジメトキシエタン等の非プロトン性溶媒等が使用さ
れる。触媒のビナフトール−チタン錯体は原料（II）又
は（III）に対し0.02〜１モル倍、好ましくは0.05〜0.1
モル倍使用される。反応温度は−50℃〜０℃、特に−20
℃〜−10℃が好ましく、反応時間は10〜20時間が好まし
い。
化炭素等のハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン等
の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテ
ル、ジメトキシエタン等の非プロトン性溶媒等が使用さ
れる。触媒のビナフトール−チタン錯体は原料（II）又
は（III）に対し0.02〜１モル倍、好ましくは0.05〜0.1
モル倍使用される。反応温度は−50℃〜０℃、特に−20
℃〜−10℃が好ましく、反応時間は10〜20時間が好まし
い。
反応後、反応混合物に炭酸水素ナトリウム水溶液等のア
ルカリ剤を加え、エーテル、酢酸エチル等の溶媒で抽出
し、乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲル等のカラ
ムクロマトグラフイーで精製すれば、目的物の光学活性
α−ヒドロキシカルボン酸エステルが70〜90％の高収率
で得られる。
ルカリ剤を加え、エーテル、酢酸エチル等の溶媒で抽出
し、乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲル等のカラ
ムクロマトグラフイーで精製すれば、目的物の光学活性
α−ヒドロキシカルボン酸エステルが70〜90％の高収率
で得られる。
次に実施例を挙げて説明する。
尚、実施例中の分析は次の分析機器を用いて行つた。1 H核磁気共鳴スペクトル（以下1H NMRと略す） EM390型（90MHz）（バリアン社製） FX−90Q型（90MHz）（日本電子株式会社製） 施光度計:DIP−140（日本分光工業株式会社製） ガスクロマトグラフイー:GC−8A及びGC−9A （株式会社島津製作所製） カラム:ULBON−HR 20Mシリカキヤピラリ−φ0.25mm×25
m（信和化工株式会社製） PEG20Mφ0.25mm×25m （ガスクロ工業株式会社製） 高速液体クロマトグラフイー：ウオーターズ、 モデル510（ウオーターズ社製） カラム:Develosil 100−３（野村化学株式会社製） 展開溶媒：エーテル：ヘキサン＝1:9 1ml/分 検出器:UV検出器モデル481（UV254） （ウオーターズ社製） 実施例１ 予め、アルゴン置換を行つた50mlのシユレンク管に、チ
タンテトライソプロポキサイド2.98ml（10ミリモル）と
ヘキサン5mlを加え、これに四塩化チタン1.10ml（10ミ
リモル）を加え、室温で10分間攪拌する。その後、室温
で３時間放置すると白色の結晶が沈澱する。溶媒をシリ
ンジで抜き取り、ヘキサン5mlを加え再結晶を行う。こ
の操作を２回繰り返し、減圧下で乾燥すると白色のジイ
ソプロポキシジクロロチタンが3.09g得られた。これ
に、トルエン43mlを加えて、0.3Nの溶液を調製する。
m（信和化工株式会社製） PEG20Mφ0.25mm×25m （ガスクロ工業株式会社製） 高速液体クロマトグラフイー：ウオーターズ、 モデル510（ウオーターズ社製） カラム:Develosil 100−３（野村化学株式会社製） 展開溶媒：エーテル：ヘキサン＝1:9 1ml/分 検出器:UV検出器モデル481（UV254） （ウオーターズ社製） 実施例１ 予め、アルゴン置換を行つた50mlのシユレンク管に、チ
タンテトライソプロポキサイド2.98ml（10ミリモル）と
ヘキサン5mlを加え、これに四塩化チタン1.10ml（10ミ
リモル）を加え、室温で10分間攪拌する。その後、室温
で３時間放置すると白色の結晶が沈澱する。溶媒をシリ
ンジで抜き取り、ヘキサン5mlを加え再結晶を行う。こ
の操作を２回繰り返し、減圧下で乾燥すると白色のジイ
ソプロポキシジクロロチタンが3.09g得られた。これ
に、トルエン43mlを加えて、0.3Nの溶液を調製する。
25mlのフラスコにモレキユラーシープ4A（アルドリツチ
社製）の粉末0.5gを入れ、アルゴン置換を充分行つた
後、塩化メチレン5mlを加え、さらに上記で調製したジ
イソプロポキシジクロロチタンのトルエン溶液を0.33ml
（0.1ミリモル）、（Ｒ）−ビナフトール28.6mg（0.1ミ
リモル）を加え、室温で１時間攪拌し、（Ｒ）−ビナフ
トール−ジクロロチタン錯体を調製する。
社製）の粉末0.5gを入れ、アルゴン置換を充分行つた
後、塩化メチレン5mlを加え、さらに上記で調製したジ
イソプロポキシジクロロチタンのトルエン溶液を0.33ml
（0.1ミリモル）、（Ｒ）−ビナフトール28.6mg（0.1ミ
リモル）を加え、室温で１時間攪拌し、（Ｒ）−ビナフ
トール−ジクロロチタン錯体を調製する。
この溶液をドライアイス−アセトン浴で−70℃に冷却
し、２−メチル−１−プロペン0.56g（10ミリモル）を
吹き込み、グリオキシル酸メチル88mg（１ミリモル）を
加え、−30℃で15時間反応させる。反応液に、炭酸水素
ナトリウム水溶液10mlを加えて反応を停止し、セライト
上でろ過し、エーテル20mlで２回、酢酸エチル20mlで２
回抽出を行い、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を留去し、ヘキサンを加えビナフトールを結晶化させ、
残つた溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精
製すると、 0.10gの（Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−メチル−４−ペ
ンテン酸メチルがえられた。収率72％1 H NMR(CDCl3)δppm:1.80（s,3H）,2.35（d,d,J＝8.0,
14.0Hz,1H）,2.58（d,d,J＝5.0,14.0Hz,1H）,2.70（b,1
H）,3.78（s,3H）,4.35（d,d,J＝8.0,5.0Hz,1H）,5.38
（m,2H） ▲〔α〕20 D▼＋7.26°（Ｃ＝2.46,CHCl3） 生成物の光学純度の決定は、酸化銀とヨウ化メチルを用
いてメチルエーテルとし、光学活性なシフト試薬（＋）
Eu(DPPM)3（第一化学薬品株式会社製）〔DPPMは（＋）
−トリス〔ジ（ペルフルオロ−２−プロポキシプロピオ
ニル）メタナト〕−ユーロピウム（III）の略〕を用い
て、プロトンNMR測定により95％eeと決定した。
し、２−メチル−１−プロペン0.56g（10ミリモル）を
吹き込み、グリオキシル酸メチル88mg（１ミリモル）を
加え、−30℃で15時間反応させる。反応液に、炭酸水素
ナトリウム水溶液10mlを加えて反応を停止し、セライト
上でろ過し、エーテル20mlで２回、酢酸エチル20mlで２
回抽出を行い、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を留去し、ヘキサンを加えビナフトールを結晶化させ、
残つた溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精
製すると、 0.10gの（Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−メチル−４−ペ
ンテン酸メチルがえられた。収率72％1 H NMR(CDCl3)δppm:1.80（s,3H）,2.35（d,d,J＝8.0,
14.0Hz,1H）,2.58（d,d,J＝5.0,14.0Hz,1H）,2.70（b,1
H）,3.78（s,3H）,4.35（d,d,J＝8.0,5.0Hz,1H）,5.38
（m,2H） ▲〔α〕20 D▼＋7.26°（Ｃ＝2.46,CHCl3） 生成物の光学純度の決定は、酸化銀とヨウ化メチルを用
いてメチルエーテルとし、光学活性なシフト試薬（＋）
Eu(DPPM)3（第一化学薬品株式会社製）〔DPPMは（＋）
−トリス〔ジ（ペルフルオロ−２−プロポキシプロピオ
ニル）メタナト〕−ユーロピウム（III）の略〕を用い
て、プロトンNMR測定により95％eeと決定した。
絶対構造は生成物を酢酸エチル中、触媒として酸化白金
を用いて水素添加し、さらにけん化することにより２−
ヒドロキシイソカプロン酸に導き、施光度を測定し決定
した。
を用いて水素添加し、さらにけん化することにより２−
ヒドロキシイソカプロン酸に導き、施光度を測定し決定
した。
▲〔α〕22 D▼＋25.6°（Ｃ＝1,1N NaOH） （−）はＳ体であることより、生成物はＲ体と決定し
た。
た。
実施例２ 実施例１と同様に調製した（Ｓ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体（0.1ミリモル）溶液を−10℃に冷却
し、これにシクロヘキシリデン96mg（１ミリモル）とグ
リオキシル酸メチル88mg（１ミリモル）加え、８時間反
応させる。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液10mlを加
えて反応を停止し、溶液をセライトでろ過し、エーテル
20mlで２回、酢酸エチル20mlで２回抽出を行い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、ヘキサンを
加え、ビナフトールを結晶化させ、残つた溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーで精製すると、0.13gの
（Ｓ）−２−ヒドロキシ−３−（１−シクロヘキセニ
ル）プロパン酸メチルがえられた。収率73％。1 H NMR(CDCl3)δppm:1.60（m,4H）,2.27（d,d,J＝7.5,
13.5Hz,1H）,2.40（b,1H）,2.48（d,d,J＝5.5,13.5Hz,1
H）,3.77（s,1H）,4.30（d,d,J＝5.5,7.5Hz,1H）,5.60
（m,1H） ▲〔α〕19 D▼＋9.72°（Ｃ＝2.45,CHCl3） 光学純度の決定は、実施例１と同様に、メチルエーテル
とし、光学活性なシフト試薬を用いてプロトンNMRより7
7％eeと決定した。
ロロチタン錯体（0.1ミリモル）溶液を−10℃に冷却
し、これにシクロヘキシリデン96mg（１ミリモル）とグ
リオキシル酸メチル88mg（１ミリモル）加え、８時間反
応させる。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液10mlを加
えて反応を停止し、溶液をセライトでろ過し、エーテル
20mlで２回、酢酸エチル20mlで２回抽出を行い、無水硫
酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、ヘキサンを
加え、ビナフトールを結晶化させ、残つた溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーで精製すると、0.13gの
（Ｓ）−２−ヒドロキシ−３−（１−シクロヘキセニ
ル）プロパン酸メチルがえられた。収率73％。1 H NMR(CDCl3)δppm:1.60（m,4H）,2.27（d,d,J＝7.5,
13.5Hz,1H）,2.40（b,1H）,2.48（d,d,J＝5.5,13.5Hz,1
H）,3.77（s,1H）,4.30（d,d,J＝5.5,7.5Hz,1H）,5.60
（m,1H） ▲〔α〕19 D▼＋9.72°（Ｃ＝2.45,CHCl3） 光学純度の決定は、実施例１と同様に、メチルエーテル
とし、光学活性なシフト試薬を用いてプロトンNMRより7
7％eeと決定した。
実施例３ 実施例１と同様に調製した（Ｒ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体溶液を−70℃に冷却し、これに２−メチ
ル−１−プロペン0.56g（10ミリモル）を吸き込み、更
にグリオキシル酸イソプロピル116mg（１ミリモル）を
加え、−30℃で15時間反応させる。反応液に炭酸水素ナ
トリウム水溶液10mlを加えて反応を停止し、セライト上
でろ過し、エーテル20mlで２回、酢酸エチル20mlで２回
抽出を行い、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を
留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製す
ると0.13gの（Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−メチル−４
−ペンテン酸イソプロピルがえられた。収率78％。1 H NMR δ ppm:1.27（d,6.2Hz,6H）,1.81（bs,3H）,2.3
5（d,d,J＝8.1,15.0Hz,1H）,2.50（d,d,J＝4.5,15.0Hz,
1H）,2.78（b,1H）,4.34（d,d,J＝8.1,4.5Hz,1H）,4.91
（m,1H）,4.95（m,1H） ▲〔α〕20 D▼＋8.64°（Ｃ＝1.59,CHCl3） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、シフト試薬を用いてプロトンNMR測定により、65％e
eと決定した。
ロロチタン錯体溶液を−70℃に冷却し、これに２−メチ
ル−１−プロペン0.56g（10ミリモル）を吸き込み、更
にグリオキシル酸イソプロピル116mg（１ミリモル）を
加え、−30℃で15時間反応させる。反応液に炭酸水素ナ
トリウム水溶液10mlを加えて反応を停止し、セライト上
でろ過し、エーテル20mlで２回、酢酸エチル20mlで２回
抽出を行い、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を
留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製す
ると0.13gの（Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−メチル−４
−ペンテン酸イソプロピルがえられた。収率78％。1 H NMR δ ppm:1.27（d,6.2Hz,6H）,1.81（bs,3H）,2.3
5（d,d,J＝8.1,15.0Hz,1H）,2.50（d,d,J＝4.5,15.0Hz,
1H）,2.78（b,1H）,4.34（d,d,J＝8.1,4.5Hz,1H）,4.91
（m,1H）,4.95（m,1H） ▲〔α〕20 D▼＋8.64°（Ｃ＝1.59,CHCl3） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、シフト試薬を用いてプロトンNMR測定により、65％e
eと決定した。
絶対構造の決定は実施例１と同様に水添、ケン化後、施
光度を測定することにより（Ｒ）体と決定した。
光度を測定することにより（Ｒ）体と決定した。
実施例４ 実施例１と同様にして調製した（Ｓ）−ビナフトール−
ジクロロチタン錯体溶液を−30℃に冷却し、ｄ−α−フ
エンケン0.68g（５ミリモル）とグリオキシル酸メチル
0.44g（５ミリモル）を加え、16時間反応させる。反応
液に炭酸水素ナトリウム水溶液20mlを加えて反応を停止
し、溶液をセライト上でろ過し、エーテル20mlで２回、
酢酸エチル20mlで２回抽出を行い、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し、ヘキサンを加え、ビナフ
トールを結晶化させる。残つた溶液を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーで精製すると0.73gの３−（７′,
7′−ジメチルビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−２′−エン−
１′−イル）−２−ヒドロキシプロパン酸メチルがえら
れた。収率65％。1 H NMR δ ppm:0.90（s,3H）,0.99（s,3H）,1.16−1.29
（m,2H）,1.73−2.07（m,4H）,2.47−2.52（m,1H）,2.7
6（d,J＝5.8Hz,1H）,3.76（s,3H）,4.13−4.16（m,1
H）,5.15−5.23（m,1H） 光学純度の決定は、α−トリフロロメチル−α−メトキ
シフエニル酢酸クロライドをピリジン中で反応させてエ
ステルとし、HPLCにより78.6％eeと決定した。
ジクロロチタン錯体溶液を−30℃に冷却し、ｄ−α−フ
エンケン0.68g（５ミリモル）とグリオキシル酸メチル
0.44g（５ミリモル）を加え、16時間反応させる。反応
液に炭酸水素ナトリウム水溶液20mlを加えて反応を停止
し、溶液をセライト上でろ過し、エーテル20mlで２回、
酢酸エチル20mlで２回抽出を行い、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し、ヘキサンを加え、ビナフ
トールを結晶化させる。残つた溶液を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーで精製すると0.73gの３−（７′,
7′−ジメチルビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−２′−エン−
１′−イル）−２−ヒドロキシプロパン酸メチルがえら
れた。収率65％。1 H NMR δ ppm:0.90（s,3H）,0.99（s,3H）,1.16−1.29
（m,2H）,1.73−2.07（m,4H）,2.47−2.52（m,1H）,2.7
6（d,J＝5.8Hz,1H）,3.76（s,3H）,4.13−4.16（m,1
H）,5.15−5.23（m,1H） 光学純度の決定は、α−トリフロロメチル−α−メトキ
シフエニル酢酸クロライドをピリジン中で反応させてエ
ステルとし、HPLCにより78.6％eeと決定した。
実施例５ 実施例１と同様に調製した（Ｒ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体溶液を−30℃に冷却し、これに２−エチ
ル−１−ブテン84mg（１ミリモル）とグリオキシル酸メ
チル88mg（１ミリモル）とを加え、６時間反応させる。
反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液10mlを加えて反応を
停止し、溶液をセライト上でろ過し、エーテル20mlで２
回、酢酸エチル20mlで２回抽出し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し、ヘキサンを加え、ビナフ
トールを結晶化させる。残つた溶液をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーで精製すると、117mgの（Ｒ）−２
−ヒドロキシ４−エチル−２−ヘキセン酸メチルがえら
れた。収率68％。
ロロチタン錯体溶液を−30℃に冷却し、これに２−エチ
ル−１−ブテン84mg（１ミリモル）とグリオキシル酸メ
チル88mg（１ミリモル）とを加え、６時間反応させる。
反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液10mlを加えて反応を
停止し、溶液をセライト上でろ過し、エーテル20mlで２
回、酢酸エチル20mlで２回抽出し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し、ヘキサンを加え、ビナフ
トールを結晶化させる。残つた溶液をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーで精製すると、117mgの（Ｒ）−２
−ヒドロキシ４−エチル−２−ヘキセン酸メチルがえら
れた。収率68％。
このものはガスクロマトグラフイーで分析の結果89％の
Ｅ体と11％のＺ体の混合物であつた。
Ｅ体と11％のＺ体の混合物であつた。
Ｅ体1 H NMR δ ppm:0.98（t,J＝6.6Hz,3H）,1.63（d,J＝7.3
Hz,3H）,2.11（q,J＝7.8Hz,2H）,2.5（m,2H）,2.6（b,1
H）,3.85（s,3H）,4.35（m,1H）,5.41（q,J＝7.3Hz,1
H）Ｚ体1 H NMR δ ppm:1.00（t,J＝6.6Hz,3H）,1.63（d,J＝7.3
Hz,3H）,2.09（q,J＝7.8Hz,2H）,2.5（m,2H）,2.6（b,1
H）,3.85（s,3H）,4.35（m,1H）,5.55（q,J＝7.3Hz,1
H） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、シフト試薬を用いてプロトンNMR測定により、Ｅ体
は72％ee、Ｚ体は61％eeと決定した。
Hz,3H）,2.11（q,J＝7.8Hz,2H）,2.5（m,2H）,2.6（b,1
H）,3.85（s,3H）,4.35（m,1H）,5.41（q,J＝7.3Hz,1
H）Ｚ体1 H NMR δ ppm:1.00（t,J＝6.6Hz,3H）,1.63（d,J＝7.3
Hz,3H）,2.09（q,J＝7.8Hz,2H）,2.5（m,2H）,2.6（b,1
H）,3.85（s,3H）,4.35（m,1H）,5.55（q,J＝7.3Hz,1
H） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、シフト試薬を用いてプロトンNMR測定により、Ｅ体
は72％ee、Ｚ体は61％eeと決定した。
実施例６ 50mlのシユレンク管に四臭化チタン3.68g（10ミリモ
ル）を入れ、アルゴン置換を行い、ヘキサン5mlを加
え、これにチタンテトライソプロポキサイド2.98ml（10
ミリモル）を加え、室温で10分間攪拌する。その後、室
温で３時間放置すると白色の結晶が沈澱する。溶媒をシ
リンジで抜き取り、ヘキサン5mlを加え、再結晶を行
う。この操作を２回繰り返し、減圧下で乾燥すると白色
のジイソプロポキシジブロモチタンが4.65gえられた。
これにトルエン45mlを加えて0.3Nの溶液を調製する。
ル）を入れ、アルゴン置換を行い、ヘキサン5mlを加
え、これにチタンテトライソプロポキサイド2.98ml（10
ミリモル）を加え、室温で10分間攪拌する。その後、室
温で３時間放置すると白色の結晶が沈澱する。溶媒をシ
リンジで抜き取り、ヘキサン5mlを加え、再結晶を行
う。この操作を２回繰り返し、減圧下で乾燥すると白色
のジイソプロポキシジブロモチタンが4.65gえられた。
これにトルエン45mlを加えて0.3Nの溶液を調製する。
25mlのフラスコにモレキユラーシーブ4A（アルドリツチ
社製）の粉末0.5gを入れ、アルゴン置換を充分行つた
後、塩化メチレン5mlを加え、さらに上記で調製したジ
イソプロポキシジブロモチタンのトルエン溶液を0.16ml
（0.05ミリモル）、（Ｒ）−ビナフトール14.3mg（0.05
ミリモル）を加え、室温で１時間攪拌し、（Ｒ）−ビナ
フトール−ジブロモチタン錯体を調製する。この溶液を
ドライアイスアセトン浴で−30℃に冷却し、これにメチ
レンシクロヘキサン（アルドリツチ社製）96mg（１ミリ
モル）とグリオキシル酸メチル88mg（１ミリモル）加
え、３時間反応させる。反応液に炭酸水素ナトリウム水
溶液10mlを加えて反応を停止し溶液をセライト上でろ過
し、エーテル20mlで２回、酢酸エチル20mlで２回抽出を
行い、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、ヘキサンを加え、ビナフトールを結晶化させ、残つ
た溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製す
ると、0.16gの（Ｓ）−２−ヒドロキシ−３（１−シク
ロヘキセニル）プロピオン酸メチルがえられた。収率89
％ 〔α〕D＋13.25°（Ｃ＝2.12,CHCl3）1 H NMR(CDCl3)δ ppm:1.60（m,4H）,2.27（d,d,J＝7.
5,13.5Hz,1H）,2.40（b,1H）,2.48（d,d,J＝5.5,13.5H
z,1H）,3.77（s,1H）,4.30（d,d,J＝5.5,7.5Hz,1H）,5.
60（m,1H） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、光学活性なシフト試薬を用いてプロトンNMRより86
％eeと決定した。
社製）の粉末0.5gを入れ、アルゴン置換を充分行つた
後、塩化メチレン5mlを加え、さらに上記で調製したジ
イソプロポキシジブロモチタンのトルエン溶液を0.16ml
（0.05ミリモル）、（Ｒ）−ビナフトール14.3mg（0.05
ミリモル）を加え、室温で１時間攪拌し、（Ｒ）−ビナ
フトール−ジブロモチタン錯体を調製する。この溶液を
ドライアイスアセトン浴で−30℃に冷却し、これにメチ
レンシクロヘキサン（アルドリツチ社製）96mg（１ミリ
モル）とグリオキシル酸メチル88mg（１ミリモル）加
え、３時間反応させる。反応液に炭酸水素ナトリウム水
溶液10mlを加えて反応を停止し溶液をセライト上でろ過
し、エーテル20mlで２回、酢酸エチル20mlで２回抽出を
行い、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去
し、ヘキサンを加え、ビナフトールを結晶化させ、残つ
た溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製す
ると、0.16gの（Ｓ）−２−ヒドロキシ−３（１−シク
ロヘキセニル）プロピオン酸メチルがえられた。収率89
％ 〔α〕D＋13.25°（Ｃ＝2.12,CHCl3）1 H NMR(CDCl3)δ ppm:1.60（m,4H）,2.27（d,d,J＝7.
5,13.5Hz,1H）,2.40（b,1H）,2.48（d,d,J＝5.5,13.5H
z,1H）,3.77（s,1H）,4.30（d,d,J＝5.5,7.5Hz,1H）,5.
60（m,1H） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、光学活性なシフト試薬を用いてプロトンNMRより86
％eeと決定した。
実施例７ 実施例１と同様に調製した（Ｒ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体溶液を−30℃に冷却し、これにα−メチ
ルスチレン118mg（１ミリモル）とグリオキシル酸メチ
ル88mg（１ミリモル）とを加え、15時間反応させる。反
応液に炭酸水素ナトリウム水溶液10mlを加えて反応を停
止し、溶液をセライト上でろ過し、エーテル20mlで２
回、酢酸エチル20mlで２回抽出し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し、ヘキサンを加え、ビナフ
トールを結晶化させる。残つた溶液をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーで精製すると200mgの（Ｒ）−２−
ヒドロキシ−４−フエニル−４−ペンテン酸メチルがえ
られた。収率97％。
ロロチタン錯体溶液を−30℃に冷却し、これにα−メチ
ルスチレン118mg（１ミリモル）とグリオキシル酸メチ
ル88mg（１ミリモル）とを加え、15時間反応させる。反
応液に炭酸水素ナトリウム水溶液10mlを加えて反応を停
止し、溶液をセライト上でろ過し、エーテル20mlで２
回、酢酸エチル20mlで２回抽出し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去し、ヘキサンを加え、ビナフ
トールを結晶化させる。残つた溶液をシリカゲルカラム
クロマトグラフイーで精製すると200mgの（Ｒ）−２−
ヒドロキシ−４−フエニル−４−ペンテン酸メチルがえ
られた。収率97％。
▲〔α〕23 D▼−30.55°（Ｃ＝4.83,CHCl3）1 H NMR(CDCl3)δppm:2.76（bs,1H）,2.88（d,d,J＝8.1,
13.5Hz,1H）、3.13（d,d,J＝4.5,13.5Hz,1H）,3.68（s,
3H）,4.33（m,1H）,5.28（bs,1H）,5.48（bs,1H）7.45
（m,5H） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、光学活性なシフト試薬を用いてプロトンNMRより97
％eeと決定した。
13.5Hz,1H）、3.13（d,d,J＝4.5,13.5Hz,1H）,3.68（s,
3H）,4.33（m,1H）,5.28（bs,1H）,5.48（bs,1H）7.45
（m,5H） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、光学活性なシフト試薬を用いてプロトンNMRより97
％eeと決定した。
実施例８ 実施例６と同様に調製した（Ｒ）−ビナフトール−ジブ
ロモチタン錯体溶液を−30℃に冷却し、これにメチレン
シクロペンタン（アルドリツチ社製）82mg（１ミリモ
ル）とグリオキシル酸メチル88mg（１ミリモル）とを加
え、３時間反応させる。反応液に炭酸水素ナトリウム水
溶液10mlを加えて反応を停止し、溶液をセライト上でろ
過し、エーテル20mlで２回、酢酸エチル20mlで２回抽出
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、
ヘキサンを加え、ビナフトールを結晶化させる。残つた
溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製する
と、156mgの（Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−（１−シク
ロペンテニル）プロピオン酸メチルがえられた。収率92
％。
ロモチタン錯体溶液を−30℃に冷却し、これにメチレン
シクロペンタン（アルドリツチ社製）82mg（１ミリモ
ル）とグリオキシル酸メチル88mg（１ミリモル）とを加
え、３時間反応させる。反応液に炭酸水素ナトリウム水
溶液10mlを加えて反応を停止し、溶液をセライト上でろ
過し、エーテル20mlで２回、酢酸エチル20mlで２回抽出
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去し、
ヘキサンを加え、ビナフトールを結晶化させる。残つた
溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精製する
と、156mgの（Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−（１−シク
ロペンテニル）プロピオン酸メチルがえられた。収率92
％。
▲〔α〕23 D▼＋7.55°（Ｃ＝4.20,CHCl3）1 H NMR δ ppm:1.90（m,2H）,2.30（m,4H）,2.58（m,2
H）,2.73（m,2H）,3.85（s,3H）,4.40（m,1H）,5.62
（m,1H） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、光学活性なシフト試薬を用いてプロトンNMRより89
％eeと決定した。
H）,2.73（m,2H）,3.85（s,3H）,4.40（m,1H）,5.62
（m,1H） 光学純度の決定は、実施例１と同様にメチルエーテルと
し、光学活性なシフト試薬を用いてプロトンNMRより89
％eeと決定した。
本発明は、触媒として光学活性のビナフトール−チタン
錯体を使用することにより、オレフイン化合物とグリオ
キシル酸エステルとから効率よく光学活性α−ヒドロキ
シカルボン酸エステルを製造することのできる工業的に
優れた方法である。
錯体を使用することにより、オレフイン化合物とグリオ
キシル酸エステルとから効率よく光学活性α−ヒドロキ
シカルボン酸エステルを製造することのできる工業的に
優れた方法である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−134352（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−8346（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（II） （式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、R2は低級
アルキル基、フェニル基又はシクロアルキル基を示す
か、あるいはR1とR2が一緒になって低級アルキル基が置
換することのある５〜７員のシクロアルキル環又はビシ
クロアルキル環を形成する） で表わされるオレフィン化合物と一般式（III） （式中、R3は低級アルキル基を示す） で表わされるグリオキシル酸エステルとを、式（IV） （式中、Ｘは塩素原子又は臭素原子を示す） で表わされるビナフトール−チタン錯体の存在下反応せ
しめることを特徴とする一般式（Ｉ） （式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、R2は低級
アルキル基、フェニル基又はシクロアルキル基を示す
か、あるいはR1とR2が一緒になって低級アルキル基が置
換することのある５〜７員のシクロアルケニル環又はビ
シクロアルケニル環を形成する） で表わされるα−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63189082A JPH0714898B2 (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | 光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法 |
| EP89307613A EP0353053B1 (en) | 1988-07-28 | 1989-07-27 | Catalytic process for producing optically active alpha-hydroxycarboxylates |
| DE89307613T DE68910033T2 (de) | 1988-07-28 | 1989-07-27 | Katalytisches Verfahren zur Herstellung von optisch-aktiven Alpha-Hydroxycarboxylaten. |
| US07/386,480 US4965398A (en) | 1988-07-28 | 1989-07-28 | Process for producing optically active alpha-hydroxycarboxylates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63189082A JPH0714898B2 (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | 光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0240344A JPH0240344A (ja) | 1990-02-09 |
| JPH0714898B2 true JPH0714898B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=16235012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63189082A Expired - Fee Related JPH0714898B2 (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | 光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4965398A (ja) |
| EP (1) | EP0353053B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0714898B2 (ja) |
| DE (1) | DE68910033T2 (ja) |
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| JP3782149B2 (ja) * | 1995-03-22 | 2006-06-07 | 長瀬産業株式会社 | 不斉合成用の金属錯体、触媒及びこれを用いた不斉化合物の製造方法 |
| JP3382127B2 (ja) | 1996-07-04 | 2003-03-04 | エフ．ホフマン−ラ ロシュ アーゲー | キラルなコハク酸誘導体の製造方法 |
| US6090950A (en) * | 1996-08-23 | 2000-07-18 | Zeeland Chemicals, Inc. | Chiral hydride complexes |
| KR100870227B1 (ko) | 2007-07-20 | 2008-11-24 | (주)그린포뮬라 | 강력한 수소결합 제공기를 갖는 알라닌 라스메이즈 모방키랄 바이나프톨 유도체 및 이 유도체를 이용한 광학 분할및 변환 방법 |
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|---|---|---|---|---|
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| DE2533335C2 (de) * | 1974-07-27 | 1986-05-22 | Nisshin Flour Milling Co., Ltd., Tokio/Tokyo | 3-Methyl-3-aryl-brenztraubensäureester und Verfahren zur Herstellung substituierter Brenztraubensäureester |
| DE3103308A1 (de) * | 1981-01-31 | 1982-08-26 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur herstellung von (alpha)-hydroximethylenarylessigestern |
| DK354085A (da) * | 1984-08-28 | 1986-03-01 | Hoffmann La Roche | Fremgangsmaade til fremstilling af optisk aktive forbindelser |
| DE3444097A1 (de) * | 1984-12-04 | 1986-06-05 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | 2-(1-hydroxycarbalkoxymethyl)-acrylnitril und -acrylester und verfahren zu deren herstellung |
| NL8500804A (nl) * | 1985-03-20 | 1986-10-16 | Stamicarbon | Werkwijze voor de bereiding van 2-(hydroxyalkyl)acrylverbindingen. |
| AU597042B2 (en) * | 1986-04-07 | 1990-05-24 | Ici Australia Limited | Enantioselective process for the preparation of a homallyl alcohol |
| JPH01165355A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-29 | Kiyoumaru:Kk | 保存性を高めた肝すいの製造方法 |
-
1988
- 1988-07-28 JP JP63189082A patent/JPH0714898B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-07-27 DE DE89307613T patent/DE68910033T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-27 EP EP89307613A patent/EP0353053B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-28 US US07/386,480 patent/US4965398A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68910033T2 (de) | 1994-05-05 |
| EP0353053A2 (en) | 1990-01-31 |
| US4965398A (en) | 1990-10-23 |
| JPH0240344A (ja) | 1990-02-09 |
| DE68910033D1 (de) | 1993-11-25 |
| EP0353053B1 (en) | 1993-10-20 |
| EP0353053A3 (en) | 1990-08-08 |
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|---|---|---|---|
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