JPH0717826A - 化粧品基材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ＭＳ値０．１〜１．８、窒素含有率０．２〜
３重量％、３０％水溶液粘度が３〜５００ｃｐｓである
低粘度カチオン化ヒドロキシアルキル澱粉からなる化粧
品基材。 【効果】 本発明の低粘度カチオン化ヒドロキシアルキ
ル澱粉を用いた化粧品は、良好な使用感、仕上り感を与
える。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は、毛髪や皮膚に対する親
和性がよく、良好な使用感、仕上り感を与える低粘度カ
チオン化ヒドロキシアルキル澱粉からなる化粧品基材に
関する。 【０００２】 【従来の技術】化粧品基材として、天然物およびその誘
導体の使用が一般化しつつあり、セルロース誘導体や澱
粉をカチオン変性して得られた水溶性高分子化合物の利
用が注目されている。例えば、特公昭４７−２０６３５
号公報にはシャンプーや毛髪化粧料に、第４級窒素を導
入したセルロース誘導体があげられている。また、特公
昭６０−４２７３３号公報には第４級窒素を導入したカ
チオン化ヒドロキシアルキル澱粉が、シャンプー、リン
ス、クリームなどに用いられることが記載されている。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】これらのカチオン変性
ポリマーの中で、ヒドロキシエチルセルロースヒドロキ
シプロピルトリメチルアンモニウムクロリドエーテルや
グアーガムヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウム
クロリドエーテルは、現在使用されているが、十分満足
できるものではない。例えば、これらを用いたシャンプ
ーや毛髪化粧料は洗髪時、すすぎ時のぬめり感、しっと
り感、柔らかさは付与されるものの、毛髪を乾燥させる
過程で不快なべたつきを生じたり、乾燥につれ、カチオ
ン変性ポリマーと界面活性剤のコンプレックスが固化
し、ごわつきを生じるなど乾燥後の髪に好ましい感触が
得られないなどの理由でいまだ満足できるものではなか
った。このような事情に鑑み、本発明は従来使用されて
きた原料では困難であった良好な使用感、仕上り感を与
える化粧品基材を提供することを目的とする。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明は前記の目的を達
成すべく種々検討した結果、ＭＳ値０．１〜１．８の澱
粉のヒドロキシアルキルエーテルにグリシジルトリアル
キルアンモニウム塩または３−ハロゲノ−２−ヒドロキ
シプロピルトリアルキルアンモニウム塩を第４級窒素含
有率０．２〜３重量％含有するように反応させる前、同
時または後に低分子化処理し、３０％水溶液の３０℃粘
度が３〜５００ｃｐｓである低粘度カチオン化ヒドロキ
シアルキル澱粉を用いることにより、本発明の目的を達
成する各種の化粧料を製造することができることを見出
し、本発明を完成するに至った。 【０００５】ここで澱粉のヒドロキシアルキルエーテル
化の程度を示すＭＳとは澱粉の無水グルコース単位当り
に付加したアルキレンオキサイドのモル級を示す数値で
す。澱粉のヒドロキシアルキルエーテルは、澱粉に炭素
数２〜４の１・２−アルキレンオキシド、すなわちエチ
レンオキシド、１・２−プロピレンオキシド、１・２−
ブチレンオキシドが用いられる。これらのアルキレンオ
キシドはＭＳ値が０．１〜１．８好ましくは０．３〜
１．０の範囲になるように付加される。 【０００６】本発明において使用される低粘度カチオン
化ヒドロキシアルキル澱粉は、澱粉ヒドロキシアルキル
エーテルに下記化２で示される一般式（ＩＩ）または下
記化３で示される一般式（ＩＩＩ）で示される化合物を
窒素含有率０．２〜３重量％になるよう反応させること
によって製造することができる。 【化２】【化３】 このカチオン化反応は公知のエーテル化方法に従って行
うことができる。例えば、アルカリ触媒の存在下で、澱
粉ヒドロキシアルキルエーテルの水性あるいはアルコー
ル性の懸濁液または溶媒の少ない乾式の状態に前記一般
式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の化合物を加えて、加熱反
応させ、反応終了後中和することにより行うことができ
る。前記一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の化合物とし
ては、グリシジルトリアルキルアンモニウム塩および３
−ハロ−２−ヒドロキシプロピルトリアルキルアンモニ
ウム塩例えばグリシジルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、グリシジルトリエチルアンモニウムクロリド、グリ
シジルトリプロピルアンモニウムクロリド、グリシジル
エチルジメチルアンモニウムクロリド、グリシジルジエ
チルメチルアンモニウムクロリドおよびこれらに対応す
る臭化物、ヨウ化物や、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピルトリメチルアンモニウムクロリド、３−クロロ−
２−ヒドロキシプロピルトリエチルアンモニウムクロリ
ド、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルトリプロピル
アンモニウムクロリド、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピルエナルジメチルアンモニウムクロリドおよびこれ
らに対応する臭化物、ヨウ化物があげられる。 【０００７】本発明において使用される低粘度カオチン
化ヒドロキシアルキル澱粉は、澱粉ヒドロキシアルキル
エーテルをカチオン化反応させる前、同時または後に澱
粉を低分子化させることによって得られる。低分子化の
方法としては、塩酸、硝酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの
酸、ガラクトマンナン分解酵素、次亜塩素酸ソーダ、過
酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムなどの
酸化剤を用いて澱粉分子を加水分解することによって得
られる。これらの低分子化反応は公知の方法に従って行
うことができる。例えば、澱粉ヒドロキシアルキルエー
テルの水性あるいはアルコール性の懸濁液または溶媒の
少ない乾式の状態に、酸、分解酵素、酸化剤などを加え
て、加熱反応させ反応終了後中和することによって得ら
れる。低分子化には酸、分解酵素、酸化剤のいずれを用
いてもよいが、カチオン化反応と同時に低分子化させる
には、高アルカリ条件下でも作用する酸化剤が好まし
い。低分子化の程度は、３０％水溶液の３０℃粘度が３
〜５００ｃｐｓ、好ましくは１０〜４００ｃｐｓになる
まで低分子化される。 【０００８】本発明において使用される澱粉ヒドロキシ
アルキルエーテルのＭＳ値は、０．１未満では皮膚や毛
髪を被覆するフィルムの柔軟性が乏しくなるため、感
触、くし通りが悪くなるし、またこの付加モル数が１．
８を越えると吸水性が増大し使用後にべとつく感じを与
えるようになるので好ましくない。またカチオン化反応
によって導入される窒素の含有率は０．２重量％未満で
はこれを化粧料に配合しても毛髪や皮膚に対する親和性
が低くなるし、またそれが３重量％を越えると、化粧料
の使用時にべとくつ感じを与えるようになるので好まし
くない。窒素含有率の特に好ましい範囲は０．５〜２．
０重量％である。さらに、低分子化の程度は、３０％水
溶液の３０℃粘度が３ｃｐｓ未満では、これをシャンプ
ーなどに配合したとき、ぬめり感が不足し、５００ｃｐ
ｓを越えると毛髪を乾燥させる過程で不快なべたつきを
生じたり、乾燥につれ、界面活性剤とのコンプレックス
が固化しごわつきを生ずる。粘度の好ましい範囲は１０
〜４００ｃｐｓである。 【０００９】この低粘度カチオン化ヒドロキシアルキル
澱粉を、公知の処方の毛髪化粧料、皮膚化粧料などに所
要量配合することによって、本発明の化粧料が得られ
る。化粧料としては上記のものに限らないが特に好まし
いのは、シャンプー、リンス、クレンジングクリームな
どの使用時に水で洗い流す化粧料である。本発明の化粧
品基材を用いる化粧料中の他の成分は特に限定されず、
通常の化粧品用担体、希釈剤または添加物〔例、各種の
界面活性剤、油性物質（例、長鎖脂肪酸エステル、炭化
水素など）、加水分解タンパク質、ラノリン、脂質、香
料、紫外線吸収剤、ハイドロトロープなど〕が使用でき
る。また、ビタミン類や他の栄養学的または医薬的に有
効な成分を添加してもよい。 【００１０】本発明の化粧品基材の配合量は、用途など
に応じて異なるが通常０．１〜７重量％の範囲が好まし
い。０．１重量％未満では効果が十分に発揮されず、７
重量％を越えると好ましくない感触となる場合がある。 【００１１】 【実施例】つぎに実施例を挙げて本発明をさらに詳しく
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。以下の実施例で用いる「部」は、特に示さない限り
重量部を示す。 実施例１ １％水酸化ナトリウム水溶液３００ｇを入れたガラス製
耐圧反応器に、澱粉６０ｇを撹拌しながら加える。次い
でエチレンオキシド３５ｇを、窒素を用いて１．５ｋｇ
／ｃｍ^２の圧力で導入したのち５０℃で反応させる。反
応の進行とともに、系内の圧力の低下が観察された。圧
力の低下が認められなくなったのち、さらに５０℃で１
時間反応させ、反応系の圧を抜き、グリシジルトリメチ
ルアンモニウムクロリド４０ｇを水溶液として加え、さ
らに３５％過酸化水素水２５ｇを加え５０℃で５時間反
応させる。反応終了後１０％塩酸水溶液３０ｇを加え、
室温で１時間中和を行う。中和終了後多量のメタノール
中に反応液を注ぎ、反応生成物を沈澱させ▲ろ▼別し
た。得られた沈澱物を、各５００ｇのメタノールで３回
洗浄したのち、減圧下で乾燥し、反応物１０３ｇを得
た。このようにして得られた低粘度カチオン化ヒドロキ
シアルキル澱粉の付加されたエチレンオキシドのＭＳ値
は１．２、窒素含有率２．４重量％、３０％水溶液の３
０℃粘度は３２０ｃｐｓであった。（試料番号１） 【００１２】実施例２ 実施例１の方法に準じてアルキレンオキシド、第４級窒
素含有率および粘度の異なる低粘度カチオン化ヒドロキ
シアルキル澱粉を合成した。この結果を表１、表２およ
び表３に示した。 【表１】 【表２】 【表３】 【００１３】実施例３ 実施例１および実施例２で得た低粘度カチオン化ヒドロ
キシアルキル澱粉を用いて表４に示した組成（Ａ）のシ
ャンプーを調製した。なお組成（Ｂ）は比較のために調
製した。低粘度カチオン化ヒドロキシアルキル澱粉を配
合しない組成物である。 【表４】 低粘度カチオン化ヒドロキシアルキル澱粉として、実施
例２の試料の中から試料番号１、２、４、５、６、７、
８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１８、
２０、２１および２２の１８種類を選んだ。この１８種
類のシャンプーに組成（Ｂ）のものを併せた１９種類の
シャンプーをそれぞれ、１５名の女性に使用させて、泡
立ち、ぬめり感、使用後の髪の柔らかさなどの性能を比
較した。この結果を表５、表６および表７に示した。こ
れらの表に示した数値は組成（Ａ）が優れているとした
人数から組成（Ｂ）が優れているとした人数を差し引い
た値である。 【表５】【表６】 【表７】この表５の結果よりアルキレンオキシド付加のＭＳ値が
０．１以上であれば、使用時、使用後とも感触が改善さ
れることがわかる。（表５の試料番号２に対する１、
４、５、６、７の比較より）また表６の結果より窒素含
有率が０．２重量％以上であれば、シャンプーの性能が
改善されるが、窒素含有率が３重量％以上になると、使
用後のべとつきが大きくなり、総合的な好みにおいてマ
イナス要因となることがわかる。（表６の試料番号８に
対する９、１０、１１、１２、１３の比較より）さら
に、表７の結果より３０％水溶液の３０℃粘度が３ｃｐ
ｓより低いときはぬめり感が不足し、５００ｃｐｓより
高いときはべとつき感があることがわかる。（試料番号
１４、２２に対する１５、１８、２０、２１の比較よ
り） 【００１４】実施例４ 本発明で用いる低粘度カチオン化澱粉と比較するため
に、エチレンオキシドの付加ＭＳ値１．６５、窒素含有
率１．８重量％、３０％水溶液の３０℃粘度が２０万ｃ
ｐｓ以上（５％で３万ｃｐｓ）のカチオン変化ヒドロキ
シエチルセルロースを用いて実施例３の表４に示した組
成（Ａ）のシャンプーを作成した。そして同様に１５名
の女性によるテストをした結果、本発明の基材はカチオ
ン変性ヒドロキシエチルセルロースより使用後のべとつ
きのなさやくし通りの良さの点で優れているということ
がわかった。 【００１５】実施例５ 本発明の化粧品基材として表１の試料番号１、表２の試
料番号１３を用いて下記表５の組成のクリームタイプの
ヘアリンスを調製した。 【表５】 このヘアーリンスは、本発明の化粧品基材を配合しない
ものに比べて、使用時および使用後の風合が優れてい
た。 【００１６】実施例６ 本発明の化粧品基材として実施例５と同じ試料を用いて
下記表６の組成のクレンジングクリームを調製した。 【表６】 このクレンジングクリームは、本発明の化粧品基材を配
合しないものに比べて伸びがよく、使用中の油性感が優
れていた。 【００１７】実施例７ 本発明の化粧品基材として実施例５と同じ試料を用いて
下記表７の組成の中性クリームを調製した。 【表７】 この中性クリームは、本発明の化粧品基材を配合しない
ものに比べて滑らかさおよびしっとり感に優れ、しかも
その効果は長時間持続した。 【００１８】 【発明の効果】本発明の化粧品基材は以下の利点があ
る。 （１）毛髪や皮膚への親和性が良好で、フィルム形成性
も良く、それらへの吸着性が優れる。 （２）保湿性が優れ、毛髪や皮膚をしっとりさせ、毛髪
に腰のある柔軟性を与え、毛髪のつやを向上させる。し
かもこれらの効果は持続性がある。 （３）毛髪や皮膚に平滑性を付与するので、使用後の感
触が滑らかとなり、シャンプーに用いた場合には毛髪の
くし通りが良くなり、きしみ感がなくなり、クリームな
どに用いた場合には良好な使用感と仕上感を付与するこ
とができる。 【表８】【表９】 【表１０】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項の数】 ＭＳ値０．１〜１．８の澱粉のヒドロ
   キシアルキルエーテルにおいて、その中のヒドロキシル
   基の一部が下記化１の一般式（Ｉ）で示される残基で置
   換された構造を有し、かつ窒素含有率が０．２〜３重量
   ％で３０％水溶液の３０℃粘度が３〜５００ｃｐｓであ
   る低粘度カチオン化ヒドロキシアルキル澱粉からなる化
   粧品基材。 【化１】