JPS6042763B2 - 親和性の良好な化粧料 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、毛髪や皮膚に対する親和性がよく、フィルム
の柔軟性、保湿性などが良好で、かつ皮膚に対する安全
性が高い新規なりチオン化ヒドロキシアルキルデンプン
を含有してなる化粧料に関する。

一般に、毛髪化粧料や皮膚化粧料は、人体に対して無害
でなければならないので、これに使用される各成分も安
全性の高いことが要求される。

この人体に対して安全であるという条件を満足し、毛髪
や皮膚に対する親和性のよいものとして、天然物及びそ
の誘導体の使用が一般化しつつあり、例えば加水分解タ
ンパク質、ラノリン、脂質、ビタミン類、セルロースや
デンプンなどの多糖類及びこれらの誘導体がその用途に
供されている。この中で、水溶性のタンパク質や多糖類
及びその誘導体は、これまても保護コロイド、増粘剤、
フィルム形成剤などとして使用されているが、近年化粧
料の性能に対する要求が高度化しているため、これらの
従来使用されてきた原料では、必ずしも満足できる化粧
料が得られない状況になつている。

これらの従来の成分に代るものとして、最近セルロース
誘導体やデンプンをカチオン変性して得ヨられた水溶性
高分子化合物の利用が注目されつつある。

例えば、米国特許第３１８６９１１号明細書にはデンプ
ンの第三級アミノアルキルエーテルであつて、アミロー
スが２５〜印重量％、アミロペクチンが７５〜印重量％
のアミノ化デンプンを用いたヘア・セット組成物が記載
されているし、また特公昭４７−２０６３５号公報には
ジャンプーや毛髪化粧料に、水溶性カチオン性窒素含有
ポリマーを用いることが記載され、この場合の水溶性カ
チオン性窒素含有ポリマーとしては第四級窒素を導入し
たセルロース誘導体があげれている。しかし、これらの
第三級アミノ基及び第四級窒素含有のカチオン変性デン
プンはいずれも、毛髪への吸着性が十分でないこと、使
用後の毛髪の滑らかさなどの感触が劣ることなどの理由
でいまだ満足できるものではなかつた。本発明者らは、
これらの従来のカチオン化デンプンの欠点を克服するた
めの鋭意研究を重ねた結果、デンプンはアミロースとア
ミロペクチンとの混合物で、アミロペクチンの含有量が
多く、そのためそのフィルムは柔軟性に乏しいという難
点を有しているのに対し、これにアルキレンオキシドを
所定モル付加させたのち、第四級アンモニウム基を有す
るエーテル化剤でエーテル化して、所定量の第四級窒素
を含有させたカチオン化ヒドロキシアルキルデンプンで
は、このような難点を完全に除去でき、これを用いれば
、毛髪への吸着性に優れ、フィルムの柔軟性の向上した
化粧料が得られることを見出し、この知見に基いて本発
明をなすに至つた。

すなわち、本発明はデンプンに対しその無水グルコース
単位当り０．１〜２モルのアルキレンオキシドを付加し
てなるヒドロキシアルキルデンプンにおいて、その中の
ヒドロキシル基の一部が、一般式（式中のＲ１、Ｒ２、
Ｒ３は炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｘθは一価の
陰イオンである。

）で示される残基で置換された構造を有し、かつ窒素含
有率が０．５〜５重量％カチオン化ヒドロキシアルキル
デンプンを含有することを特徴とする親水性の良好な化
粧料を提供するものである。

本発明において使用されるカチオン化ヒドロキーシアル
キルデンプンは、デンプンに対し、その無水グルコース
単位当り０．１〜２モルのアルキレンオキシドを付加し
て得られるヒドロキシアルキルデンプンに、一般式（式
中のＨａｌはハロゲン原子であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及
びＸθは前記と同じ意味をもつ）で表わされる化合物を
反応させることによつて製造することができる。

前記のデンプンに付加させるアルキレンオキシドとして
は、炭素数２〜１４の１・２−アルキレンオキシド、す
なわちエチレンオキシド、１・２ープロピレンオキシド
、１●２−ブチレンオキシドが用いられる。

これらのアルキレンオキシドは、デンプンの無水グリコ
ース単位当りの平均付加モル数が０．１〜２刀好ましく
は０．３〜２．０の範囲になるような割合で用いられる
。この付加モル数が０．１未満では、皮膚や毛髪を被覆
するフィルムの柔軟性が乏しくなるため、感触、くし通
りが悪くなるし、またこの付加モル数が２．０を越える
と吸水性が増大し使用後にべとつく感じを与えるように
なるので好ましくない。

次に、本発明におけるカチオン化ヒドロキシアルキルデ
ンプンのベースとなるデンプンとしては、普通のデンプ
ン例えばばれいしよデンプン、かんしよデンプン、コー
ンスターチなど任意のものを用いることができる。通常
、デンプンはアミロースとアミロペクチンからなり、ア
ミロース含量は３０重量％以下であるが、近年品種改良
により、アミロース含量を増大させたものが現われてき
ている。本発明においては、このような改質デンプンや
また分画法等によつて分離されたアミロースも用いるこ
とができる。次に、前記一般式（■）又は（■）″の化
合物とヒドロキシアルキルデンプンとの反応は公知のエ
ーテル化方法に従つて行うことができる。

例えば、アルカリ触媒の存在下で、ヒドロキシアルキル
デンプンの水性懸濁液に前記一般式（■）又は（■）″
の化合物を加えて加熱反応させ、反応終了後中和するこ
とにより行うことができる。このようにして、ヒドロキ
シアルキルデンプンに第四級アンモニウム基が導入され
る。

前記一般式（■）又は（■）″の化合物としては、グリ
シジルトリアルキルアンモニウム塩及び３−ハロー２−
ヒドロキシプロピルトリアルキルアンモニウム塩、例え
ばグリシジルトリメチルアンモニウムクロリド、グリシ
ジルトリエチルアンモニウムクロリド、グリシジルトリ
プロピルアンモニウムクロリド、グリシジルエチルジメ
チルアンモニウムクロリド、グリシジルジエチルメチル
アンモニウムクロリド及びこれらに対応する臭化物、ヨ
ウ化物や、３−クロロー２−ヒドロキシプロピルトリメ
チルアンモニウムクロリド、３−クロロー２−ヒドロキ
シプロピルトリエチルアンモニウムクロリド、３−クロ
ロー２−ヒドロキシプロピルトリプロピルアンモニウム
クロリド、３ークロロー２−ヒドロキシプロピルエチル
ジメチルアンモニウムクロリド及びこれらに対応する臭
化物、ヨウ化物があげられる。

本発明の化粧料に用いるカチオン化ヒドロキシアルキル
デンプンは窒素含有率０．５〜５重量％の範囲にあるこ
とが必要である。

含有率が０．５重量％未満では、これを化粧料に配合し
ても毛髪や皮膚に対する親和性が低くなるし、またそれ
が５重量％を越えると、化粧料の使用時にべとつく感じ
を与えるようなるので好ましくない。窒素含有率の特に
好ましい範囲は１．０〜３．踵量％である。このように
して得られたカチオン性ヒドロキシアルキルデンプンは
、反応終了後、中和などを行つたのち、常法により反応
液から分離される。これは、必要に応じ、再沈殿などに
より精製される。このカチオン化ヒドロキシアルキルデ
ンプンを、公知の処方の毛髪化粧料、皮膚化粧料などに
所要量配合することによつて、本発明の化粧料が得られ
る。

化粧料としては上記のものに限らないが特に好ましいの
は、クレンジングクリーム、ジャンプー、リンスなどの
使用時に水で洗い流す化粧料である。その配合量は用途
などに応じて異なるが通常０．１〜５重量％の範囲が好
ましい。本発明の化粧料には、必要に応じて、界面活性
剤、炭化水素や脂肪酸エステルなどの油分、加水分解タ
ンパク質、ラノリン、脂質、ビタミン類、香料、色素、
殺菌剤、ハイドロトロープなどの従来用いられている成
分を配合することができる。本発明の化粧料に用いるカ
チオン化ヒドロキシアルキルデンプンは次のような特徴
を有する。（イ）デンプンをヒドロキシアルキル化し、
さらに第四級アンモニウム基を導入してカチオン化して
あるので毛髪や皮膚に対する親和性が良好である。（ロ
）陰イオン界面活性剤及び両性界面活性剤と複合塩を形
成するが、この複合塩は界面活性剤水溶液に溶解するの
で、陰イオン界面活性剤又は両性界面活性剤と併用でき
る。

（ハ）保護コロイド効果に優れる。

（ニ）泡安定性がよい。

（ホ）フィルム形成性に優れる。

したがつて、これを用いた化粧料は次のような優れた効
果を奏する。

（イ）毛髪や皮膚への親水性が良好で吸着量が多い。

（ロ）陰イオン又は両性界面活性剤を併用しても何ら、
カチオン化ヒドロキシアルキルデンプンの有する性能が
そこなわれることはない。

（ハ）乳化安定性及び分散安定性に優れる。

（ニ）豊かな泡立が持続できる。（ホ）柔軟性のあるフ
ィルムを与える。

（へ） （吸着性、フィルム形成性がよいので）、保湿
性が優れ、毛髪や皮膚をしつとりさせ、毛髪に腰のある
柔軟性を与え、カール保持性を有し、毛髪のつやを向上
させる。

しかも、これらの効果は持続性がある。（ト）毛髪や皮
膚に平滑性を付与するので、使つたあとの感触が滑らか
となり、毛髪のくしの通りがよく、きしみ感（摩擦が大
きいために、毛髪がからまつて引つかかる感じ）が減少
する。

次に本発明を実施例及び参考例に基き、さらに詳細に説
明する。参考例１ １％水酸化ナトリウム水溶液３００ｇを入れたガラス製
耐圧反応器に、ばれいしよデンプン６０ｆをかきまぜな
がら加える。

次いでエチレンオキシド３３ｙを、窒素を用いて１．５
ｋ９ノｄの圧力で導入したｌのち５０℃で反応させる。
加温することによりデンプンは溶解する。反応の進行と
ともに、系内の圧力の低下が観察された。圧力の低下が
認められなくなつたのち、さらに５０℃で１時間反応さ
せ、反応系の圧を抜き、グリシジルトリメチルアンモニ
ウムクロリド４１．４ｙを水溶液として加え５０℃で３
時間反応させる。反応終了後１０％塩酸水溶液３０ｇを
加え、室温で１時間中和を行う。中和終了後多量のメタ
ノール中に反応液を注ぎ、反応生成物を沈殿させ沖別し
た。得られた沈殿を、各５００ｆのメタノールで３回洗
浄したのち、減圧下で乾燥し、反応生成物１０８ｆを得
た。このようにして得られカチオン変性ヒドロキシエチ
ルデンプンの、エチレンオキシド付加モル数は、無水グ
ルコース単位当り１．３モル、窒素含有率は２．鍾量％
であつた。

参考例２ 参考例１の方法に準じてアルキレンオキシド及び第四級
窒素基の含有量の異なるカチオン化ヒドロキシアルキル
デンプンを合成し、それらのフィルムの柔軟性を測定し
た。

この結果を第１表及び第２表に示した。この際のフィル
ムの厚さは０．０２５Ｔｎ！ｎであり、測定条件を２５
℃、５０％ＲＨとした。なお、試料符号（ホ）は参考例
１で合成したものである。実施例１ 参考例２で得たカチオン化ヒドロキシアルキルデンプン
を用いて、第３表に示した組成（４）のジャンプーを調
製した。

なお組成（Ｂ）は比較のために調製した、カチオン化ヒ
ドロキシアルキルデンプンを配合しない組成物である。
この第４表の結果よりアルキレンオキシドの付加モル数
が無水グルコース単位当り０．１モル以上であれば使用
時、使用後とも惑触が改善されることがわかる。

（（イ）、（口）、（ハ）、（ホ）及び（卜）の比較よ
り）。また、窒素含有率が０．５重量％以上であれば、
ジャンプーの性能が改善されるが、窒素含有率が５重量
％以上になると、使用後のべとつきが大きくなり、総合
的な好みにおいてマイナス要因となることがわかる（（
ホ）、（ル）、け）、（ヨ）及び（夕）の比較より）。
実施例２ カチオン化ヒドロキシアルキルデンプンとしカチオン化
ヒドロキシアルキルデンプンとして、参考例２の試料の
中から（イ）、（口）、（ハ）、（ホ）、（ト）、（ル
）、け）、（ヨ）、（夕）の９種類を選んだ。

この９種類のジャンプーに組成（Ｂ）のものを併せた１
唯類のジャンプーそれぞれを、１銘の女性に使用させて
、泡立ち、ぬめり感、使用後の皮の柔らかさなどの性能
を比較した。この結果を第４表に示した。この第４表に
示した数値は組成（４）が優れているとした人数から組
成（Ｂ）が優れているとした人数を差し引いた値である
。て、試料符号（ホ）を用いて、次の組成の透明タイプ
シヤンプーを調製した。

このジャンプーは実施例１で同じカオチン化ヒドロキシ
アルキルデンプンを用いたジャンプーよりも、使用時の
泡立ち、使用後の髪の滑らかさ、くし通りのよさ及び柔
らかさの点で優れていた。

なお上記の組成においてラウリルエーテルサルフェート
のマグネシウム塩の代りに、そのトリエタノールアミン
塩、ラウリルサルフェートのナトリウム塩、マグネシウ
ム塩、トリエタノールアミン塩、オレフィンスルホン酸
塩などを用いて、同様のジャンプーを調製することがで
きた。また、このジャンプーに非イオン性活性剤を使用
することもできる。実施例３ カチオン化ヒドロキシアルキルデンプンとして、試料符
号（ホ）を用いて、下記の組成のジャンプーを調製した
。

このジャンプーは実施例２のジャンプーと同等の性能を
示した。

実施例４ カチオン化ヒドロキシアルキルデンプンとして試料符号
（ホ）を用いて、下記組成のバール状ジャンプーを調製
した。

引目才ｋ小
スロＰこのジャンプー
は、カチオン化ヒドロキシアルキルデンプンを配合しな
いものに比べて、使用時及び使用後の髪の滑らかさ及び
柔らかさが優れていた。

実施例５ カチオン化ヒドロキシアルキルデンプンとして、試料符
号（ホ）を用いて、下記の組成の透明タイプのヘヤーリ
ンスを調製した。

このヘアーリンスはカチオン化ヒドロキシアルキルデン
プンを配合しないものに比べて、使用時及び使用後の風
合いが優れていた。

実施例６ カチオン化ヒドロキシアルキルデンプンとして、試料符
号（ホ）を用いて、下記の組成のクリームタイプのヘア
リンスを調製した。

このヘアーリンスは、カチオン化ヒドロキシアルキルデ
ンプンを配合しないものに比べて、使用時及び使用後の
風合が優れていた。

実施例７ カチオン化ヒドロキシアルキルデンプンとして試料符号
（ホ）を用いて下記の組成のクレンジングクリームを調
製した。

次に、このクリームとカチオン化ヒドロキシアルキルデ
ンプンを配合しないクリームとを、それぞれ１５名の女
性に使用させて、その伸びやすさ、油性感、しつとり感
、滑らかさなどの性能を評価した。

その結果を第５表に示す。ただし、表中のＩは本実施例
のクリームが優れているとした者、■はカチオン化ヒド
ロキシアルキルデンプンを配合しないクリームが優れて
いるとした者、■は両者とも差がないとした者を意味し
、各数字は人数である。この表から明らかなように、本
発明のクリームはカチオン化ヒドロキシアルキルデンプ
ンを配合しないものに比べて伸びがよく、使用中の油性
感も優れている。

実施例８ カチオン化ヒドロキシアルキルデンプンとして試料符号
（ホ）を用いて下記組成の中性クリームを調製した。

このクリームはカチオン化ヒドキシアルキルデンプンを
配合しないものに比べて滑らかさ及びしつとり感に優れ
、しかも、その効果は長時間持続した。

比較例 本発明で用いるカチオン変性デンプンと、その効果を比
較するために、特公昭４５−２０３１８号公報に記載さ
れている実施例７の方法に従つて、重合度約１５００１
エチレンオキシド平均付加モル数１．６５．窒素含有量
１．鍾量％のカチオン変性ヒドロキシセルロースを製造
した。

次に実施例１で得た本発明のジャンプー（４）と、この
ジャンプー（４）の中のカチオン化ヒドロキシアルキル
デンプン１重量部の代わりに上記のカチオン変性ヒドロ
キシエチルセルロース１重量部を配合したジャンプー（
Ｂ）を調製し、それぞれ１５人の女性に使用させ性能評
価を行゜つた。

この結果を第６表に示す。ただし、第６表中のＩはジャ
ンプー（４）が優れているとした者の数、■はジャンプ
ー（Ｂ）が優れているとした者の数、■は両者に差がな
いとした者の数である。この表から明らかなように、本
発明のカチオン化ヒドロキシルアルキルデンプンを配合
したジャンプーは使用後のべとつきのなさやくし通りの
良さの点で優れている。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ デンプンに対しその無水グルコース単位当り０．１
   〜２モルのアルキレンオキシドを付加してなるヒドロキ
   シアルキルデンプンにおいて、その中のヒドロキシル基
   の一部が、一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中のＲ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３は炭素数１〜３のアル
   キル基であり、Ｘ■は一価の陰イオンである）で示され
   る残基で置換された構造を有し、かつ窒素含有率が０．
   ２〜５重量％のカチオン化ヒドロキシアルキルデンプン
   を含有することを特徴とする親和性の良好な化粧料。 ２ アルキレンオキシドがエチレンオキシド、１・２−
   プロピレンオキシド又は１・２−ブチレンオキシドであ
   る特許請求の範囲第１項記載の化粧料。