JPH0136492B2 - - Google Patents
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- JPH0136492B2 JPH0136492B2 JP57036796A JP3679682A JPH0136492B2 JP H0136492 B2 JPH0136492 B2 JP H0136492B2 JP 57036796 A JP57036796 A JP 57036796A JP 3679682 A JP3679682 A JP 3679682A JP H0136492 B2 JPH0136492 B2 JP H0136492B2
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- butyl
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- phosphite
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/40—Oxygen atoms
- C07D211/44—Oxygen atoms attached in position 4
- C07D211/46—Oxygen atoms attached in position 4 having a hydrogen atom as the second substituent in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3435—Piperidines
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Fats And Perfumes (AREA)
Description
本発明は、安定化された合成樹脂組成物、詳し
くは２，２，６，６―テトラメチルピペリジル基
を有する特定の四価カルボン酸エステルを含有せ
しめてなる、特に光安定性の改善された合成樹脂
組成物に関する。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル等の合成樹脂は一般に光の効果に対して敏感で
あり、その作用により劣化し、変色あるいは機械
的強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐え
ないことが知られている。 そこでこの光による合成樹脂の劣化を防止する
ために、従来種々の安定剤が用いられてきたが、
従来用いられてきた光安定剤はその安定化効果が
まだ不十分であり、また安定剤自体が熱あるいは
酸化に対して不安定であつたり、水等の溶剤によ
つて樹脂から抽出されやすいものが多く、さらに
樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点をもつて
おり、長期にわたつて合成樹脂を安定化すること
ができなかつた。 これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピ
ペリジン系の化合物はそれ自体が非着色性であ
り、また紫外線吸収剤としてではなく、消光剤と
して作用するなどの特徴を有しており近年特に注
目されている。例えば特公昭46−42618号公報に
は２，２，６，６―テトラメチル―４―ピペリジ
ノールのカルボン酸エステルが開示され、特公昭
54−20977号公報には２，２，６，６―テトラメ
チル―４―ピペリドンスピロケタールアルコール
のカルボン酸エステルが開示され、特開昭48−
65180号公報にはＮ―置換２，２，６，６―テト
ラメチル―４―ピペリジノールのカルボン酸エス
テルが開示され、特開昭52−63183号公報には、
２，２，６，６―テトラメチルピペリジノール類
の脂肪族四価カルボン酸エステルが開示され、及
び特開昭51−126385号公報には２，２，６，６―
テトラメチルピペリジノール類の有橋脂環式カル
ボン酸エステルが開示されている。 しかしながら、これらの従来知られているピペ
リジン系の化合物は光安定化能が不十分であり、
また、水によつて樹脂から容易に抽出されてしま
うという欠点もあつた。 本発明者等は、合成樹脂の光安定性を大巾に改
善し得るピペリジン系化合物を見い出すべく鋭意
検討を重ねた結果、下記一般式（）で表わされ
る化合物が光安定化能に優れていることを見い出
し、本発明に到達したものである。 即ち、本発明は、合成樹脂100重量部に次の一
般式（）で表わされる化合物0.001〜５重量部
を添加することにより耐光性が十分満足できるま
で改善された合成樹脂組成物を提供するものであ
る。 （式中、は
くは２，２，６，６―テトラメチルピペリジル基
を有する特定の四価カルボン酸エステルを含有せ
しめてなる、特に光安定性の改善された合成樹脂
組成物に関する。 ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル等の合成樹脂は一般に光の効果に対して敏感で
あり、その作用により劣化し、変色あるいは機械
的強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐え
ないことが知られている。 そこでこの光による合成樹脂の劣化を防止する
ために、従来種々の安定剤が用いられてきたが、
従来用いられてきた光安定剤はその安定化効果が
まだ不十分であり、また安定剤自体が熱あるいは
酸化に対して不安定であつたり、水等の溶剤によ
つて樹脂から抽出されやすいものが多く、さらに
樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点をもつて
おり、長期にわたつて合成樹脂を安定化すること
ができなかつた。 これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピ
ペリジン系の化合物はそれ自体が非着色性であ
り、また紫外線吸収剤としてではなく、消光剤と
して作用するなどの特徴を有しており近年特に注
目されている。例えば特公昭46−42618号公報に
は２，２，６，６―テトラメチル―４―ピペリジ
ノールのカルボン酸エステルが開示され、特公昭
54−20977号公報には２，２，６，６―テトラメ
チル―４―ピペリドンスピロケタールアルコール
のカルボン酸エステルが開示され、特開昭48−
65180号公報にはＮ―置換２，２，６，６―テト
ラメチル―４―ピペリジノールのカルボン酸エス
テルが開示され、特開昭52−63183号公報には、
２，２，６，６―テトラメチルピペリジノール類
の脂肪族四価カルボン酸エステルが開示され、及
び特開昭51−126385号公報には２，２，６，６―
テトラメチルピペリジノール類の有橋脂環式カル
ボン酸エステルが開示されている。 しかしながら、これらの従来知られているピペ
リジン系の化合物は光安定化能が不十分であり、
また、水によつて樹脂から容易に抽出されてしま
うという欠点もあつた。 本発明者等は、合成樹脂の光安定性を大巾に改
善し得るピペリジン系化合物を見い出すべく鋭意
検討を重ねた結果、下記一般式（）で表わされ
る化合物が光安定化能に優れていることを見い出
し、本発明に到達したものである。 即ち、本発明は、合成樹脂100重量部に次の一
般式（）で表わされる化合物0.001〜５重量部
を添加することにより耐光性が十分満足できるま
で改善された合成樹脂組成物を提供するものであ
る。 （式中、は
【式】または
【式】を示し、Ｒは
【式】を示し、R1は水素原子、Ｏ・、
アルキル基またはアシル基を示し、Ｘは
【式】または
【式】を示し、R2は低級アルキル
基を示す。）
以下本発明で用いられる前記一般式（）で表
わされる化合物について詳述する。 前記一般式（）においてR1で表わされるア
ルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、２―エチルヘキシル、ノニル、
デシル、イソデシル、ドデシル、オクタデシル、
ベンジル、フエニルエチル、２―ヒドロキシエチ
ル、２―ヒドロキシプロピル、２―ヒドロキシブ
チル、２，３―エポキシプロピルなどがあげら
れ、アシル基としては、アセチル、プロピオニ
ル、ブチロイル、アクリロイル、オクタノイル、
ベンゾイルなどがあげられる。 また、R2で表わされる低級アルキルとしては、
メチル、エチル、プロピル、ブチルなどがあげら
れる。 本発明で用いられる前記一般式（）で表わさ
れる化合物の代表例を次の表―１に示す。尚、表
中、
わされる化合物について詳述する。 前記一般式（）においてR1で表わされるア
ルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、２―エチルヘキシル、ノニル、
デシル、イソデシル、ドデシル、オクタデシル、
ベンジル、フエニルエチル、２―ヒドロキシエチ
ル、２―ヒドロキシプロピル、２―ヒドロキシブ
チル、２，３―エポキシプロピルなどがあげら
れ、アシル基としては、アセチル、プロピオニ
ル、ブチロイル、アクリロイル、オクタノイル、
ベンゾイルなどがあげられる。 また、R2で表わされる低級アルキルとしては、
メチル、エチル、プロピル、ブチルなどがあげら
れる。 本発明で用いられる前記一般式（）で表わさ
れる化合物の代表例を次の表―１に示す。尚、表
中、
【式】は
【式】を示し、A1
は
【式】を示し、A2は
【式】を示す。
【表】
【表】
【表】
本発明で用いられる前記一般式（）で表わさ
れる化合物は、例えば、Ｒ―OHで表わされる
２，２，６，６―テトラメチルピペリジル基を有
するアルコールと、―（COOH）4で表わされるカ
ルボン酸、エステル、無水物あるいは酸塩化物と
反応させることにより容易に製造することができ
る。 また、上記の―（COOH）4で表わされるカルボ
ン酸はピペリレンと無水マレイン酸との反応によ
りその二酸無水物として得られることが特開昭55
−36406号公報に開示されており、必要に応じて
水素添加、加水分解、エステル化等の操作を加え
ることにより、原料として用いることができる。 次に本発明で用いられる前記一般式（）で表
わされる化合物の具体的な合成例を記すが、本発
明は下記合成例によつて制限を受けるものではな
い。 合成例 （表―１のNo.１化合物の合成） ２，２，６，６―テトラメチル―４―ピペリジ
ノール13.2ｇ、５―（1′，2′―ビスカルボメトキ
シ）エチル―３―メチル―３―シクロヘキセン―
１，２―ジカルボン酸ジメチルエステル7.1ｇ、
キシレン50c.c.及びテトライソプロピルチタネート
1.5c.c.をとり、窒素気流下130〜140℃で８時間撹
拌した。これを冷却後、キシレン50c.c.を加えて、
水洗、乾燥後、減圧下に溶媒を溜去した。生成物
をｎ―ヘキサンより再結晶して、白色粉末の生成
物を得た。 元素分析 Ｃ％ Ｈ％ Ｎ％ 測定値 68.83 9.85 6.43 計算値 68.69 9.81 6.54 （C49H84N4O8として） 本発明における耐光性改善の対象となる合成樹
脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブテン、ポリ―３―メチルブテン、な
どのα―オレフイン重合体またはエチレン―酢酸
ビニル共重合体、エチレン―プロピレン共重合体
などのポリオレフインおよびこれらの共重合体、
ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリフツ化ビニリデ
ン、臭素化ポリオチレン、塩化ゴム、塩化ビニル
―酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル―エチレン共
重合体、塩化ビニル―プロピレン共重合体、塩化
ビニル―スチレン共重合体、塩化ビニル―イソブ
チレン共重合体、塩化ビニル―塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビニル―スチレン―無水マレイン酸
三元共重合体、塩化ビニル―スチレン―アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニル―ブタジエン共重
合体、塩化ビニル―イソプレン共重合体、塩化ビ
ニル―塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル―
塩化ビニリデン―酢酸ビニル三元共重合体、塩化
ビニル―アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル―マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル―
メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル―ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビ
ニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマ
ロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アク
リル樹脂、スチレンと他の単量体（例えば無水マ
レイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルなど）
との共重合体、アクリロニトリル―ブタジエン―
スチレン共重合体、アクリル酸エステル―ブタジ
エン―スチレン共重合体、メタクリル酸エステル
―ブタジエン―スチレン共重合体、ポリメチルメ
タクリレートなどのメタクリレート樹脂、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフエニ
レンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、
あるいはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
シリコーン樹脂などを挙げることができる。更
に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル―ブタジエン共重合ゴム、スチレン―ブ
タジエン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂
のブレンド品であつてもよい。 また、過酸化物あるいは放射線等によつて架橋
させた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡
重合体も包含される。 本発明の組成物にさらにフエノール系の抗酸化
剤を添加することによつて酸化安定性を改善する
ことができる。これらのフエノール系抗酸化剤と
しては、例えば、２，６―ジ―第３ブチル―ｐ―
クレゾール、ステアリル―（３，５―ジ―メチル
―４―ヒドロキシベンジル）チオグリコレート、
ステアリル―β―（４―ヒドロキシ―３，５―ジ
―第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステ
アリル―３，５―ジ―第３ブチル―４―ヒドロキ
シベンジルホスホネート、２，４，６―トリス
（3′，5′―ジ―第３ブチル―4′―ヒドロキシベンジ
ルチオ）―１，３，５―トリアジン、ジステアリ
ル（４―ヒドロキシ―３―メチル―５―第３ブチ
ル）ベンジルマロネート、２，2′―メチレンビス
（４―メチル―６―第３ブチルフエノール）、４，
4′―メチレンビス（２，６―ジ―第３ブチルフエ
ノール）、２，2′―メチレンビス〔６―（１―メ
チルシクロヘキシル）ｐ―クレゾール〕、ビス
〔３，５―ビス（４―ヒドロキシ―３―第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアシド〕グリコールエス
テル、４，4′―ブチリデンビス（６―第３ブチル
―ｍ―クレゾール）、２，2′―エチリデンビス
（４，６―ジ―第３ブチルフエノール）、２，2′―
エチリデンビス（４―第２ブチル―６―第３ブチ
ルフエノール）、１，１，３―トリス（２―メチ
ル―４―ヒドロキシ―５―第３ブチルフエニル）
ブタン、ビス〔２―第３ブチル―４―メチル―６
―（２―ヒドロキシ―３―第３ブチル―５―メチ
ルベンジル）フエニル〕テレフタレート、１，
３，５―トリス（２，６―ジメチル―３―ヒドロ
キシ―４―第３ブチル）ベンジルイソシアヌレー
ト、１，３，５―トリス（３，５―ジ―第３ブチ
ル―４―ヒドロキシベンジル）―２，４，６―ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン―３―
（３，５―ジ―第３ブチル―４―ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５―ト
リス（３，５―ジ―第３ブチル―４―ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５―トリ
ス〔（３，５―ジ―第３ブチル―４―ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２―オクチルチオ―４，６―ジ（４―
ヒドロキシ―３，５―ジ―第３ブチル）フエノキ
シ―１，３，５―トリアジン、４，4′―チオビス
（６―第３ブチル―ｍ―クレゾール）などのフエ
ノール類及び４，4′―ブチリデンビス（２―第３
ブチル―５―メチルフエノール）の炭酸オリゴエ
ステル（例えば重合度２，３，４，５，６，７，
８，９，10など）などの多価フエノール炭酸オリ
ゴエステル類があげられる。 本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加
えてその酸化安定性の改善をはかることもでき
る。これらの硫黄系抗酸化剤としては、例えばジ
ラウリル―、ジミリスチル―、ジステアリル―な
どのジアルキルチオジプロピオネート及びブチル
―、オクチル―、ラウリル―、ステアリル―など
のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール
（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエ
ステル（例えばペンタエリスリトールテトララウ
リルチオプロピオネート）があげられる。 本発明の組成物に、さらにホスフアイト等の含
リン化合物を添加することによつて、耐光性及び
耐熱性を改善することができる。この含リン化合
物としては、例えば、トリオクチルホスフアイ
ト、トリラウリルホスフアイト、トリデシルホス
フアイト、オクチル―ジフエニルホスフアイト、
トリス（２，４―ジ―第３ブチルフエニル）ホス
フアイト、トリフエニルホスフアイト、トリス
（ブトキシエチル）ホスフアイト、トリス（ノニ
ルフエニル）ホスフアイト、ジステアリルペンタ
エリスリトールジホスフアイト、テトラ（トリデ
シル）―１，１，３―トリス（２―メチル―５―
第３ブチル―４―ヒドロキシフエニル）ブタンジ
ホスフアイト、テトラ（C12〜15混合アルキル）―
４，4′―イソプロピリデンジフエニルジホスフア
イト、テトラ（トリデシル）―４，4′―ブチリデ
ンビス（３―メチル―６―第３ブチルフエノー
ル）ジホスフアイト、トリス（３，５―ジ―第３
ブチル―４―ヒドロキシフエニル）ホスフアイ
ト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホス
フアイト、水素化―４，4′―イソプロピリデンジ
フエノールポリホスフアイト、ビス（オクチルフ
エニル）・ビス〔４，4′―ブチリデンビス（３―
メチル―６―第３ブチルフエノール）〕・１，６―
ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニル・
４，4′―イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、ビス（２，４―
ジ―第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトール
ジホスフアイト、ビス（２，６―ジ―第３ブチル
―４―メチルフエニル）ペンタエリスリトールジ
ホスフアイト、トリス〔４，4′―イソプロピリデ
ンビス（２―第３ブチルフエノール）〕ホスフア
イト、フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ
（ノニルフエニル）ペンタエリスリトールジホス
フアイト、トリス（１，３―ジ―ステアロイルオ
キシイソプロピル）ホスフアイト、４，4′―イソ
プロピリデンビス（２―第３ブチルフエノー
ル）・ジ（ノニルフエニル）ホスフアイト、９，
10―ジ―ハイドロ―９―オキサ―10―フオスフア
フエナンスレン―10―オキサイド、テトラキス
（２，４―ジ―第３ブチルフエニル）―４，4′―
ビフエニレンジホスフアイトなどがあげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性をさらに改善することができ
る。これらの光安定剤としては、例えば、２―ヒ
ドロキシ―４―メトキシベンゾフエノン、２―ヒ
ドロキシ―４―ｎ―オクトキシベンゾフエノン、
２，2′―ジ―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフ
エノン、２，４―ジヒドロキシベンゾフエノン等
のヒドロキシベンゾフエノン類、２―（2′―ヒド
ロキシ―3′―ｔ―ブチル―5′―メチルフエニル）
―５―クロロベンゾトリアゾール、２―（2′―ヒ
ドロキシ―3′，5′―ジ―ｔ―ブチルフエニル）―
５―クロロベンゾトリアゾール、２―（2′―ヒド
ロキシ―5′―メチルフエニル）ベンゾトリアゾー
ル、２―（2′―ヒドロキシ―3′，5′―ジ―ｔ―ア
ミルフエニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾト
リアゾール類、フエニルサリシレート、ｐ―ｔ―
ブチルフエニルサリシレート、２，４―ジ―ｔ―
ブチルフエニル―３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―
ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル―３，５
―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシベンゾエート
等のベンゾエート類、２，2′―チオビス（４―ｔ
―オクチルフエノール）Ni塩、〔２，2′―チオビ
ス（４―ｔ―オクチルフエノラート）〕―ｎ―ブ
チルアミンNi、（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―
ヒドロキシベンジル）ホスホン酸モノエチルエス
テルNi塩等のニツケル化合物類、α―シアノ―
β―メチル―β―（ｐ―メトキシフエニル）アク
リル類メチル等の置換アクリロニトリル類及びＮ
―２―エチルフエニル―N′―２―エトキシ―５
―第３ブチルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ―２
―エチルフエニル―N′―２―エトキシフエニル
シユウ酸ジアミド等のシユウ酸ジアニリド類があ
げられる。 その他必要に応じて、本発明組成物は重金属不
活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、
可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡
剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包
含させることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら本発明はこれらの実施例によつ
て限定されるものではない。 実施例 １ ポリプロピレン 100重量部 ステアリル―β―３，５―ジ―第３ブチル―４
―ヒドロキシフエニルプロピオネート
0.2 試 料（表―２） 0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行なつ
た。また80℃の熱水に15時間浸漬後のシートにつ
いても耐光性試験を行なつた。その結果を表―２
に示す。
れる化合物は、例えば、Ｒ―OHで表わされる
２，２，６，６―テトラメチルピペリジル基を有
するアルコールと、―（COOH）4で表わされるカ
ルボン酸、エステル、無水物あるいは酸塩化物と
反応させることにより容易に製造することができ
る。 また、上記の―（COOH）4で表わされるカルボ
ン酸はピペリレンと無水マレイン酸との反応によ
りその二酸無水物として得られることが特開昭55
−36406号公報に開示されており、必要に応じて
水素添加、加水分解、エステル化等の操作を加え
ることにより、原料として用いることができる。 次に本発明で用いられる前記一般式（）で表
わされる化合物の具体的な合成例を記すが、本発
明は下記合成例によつて制限を受けるものではな
い。 合成例 （表―１のNo.１化合物の合成） ２，２，６，６―テトラメチル―４―ピペリジ
ノール13.2ｇ、５―（1′，2′―ビスカルボメトキ
シ）エチル―３―メチル―３―シクロヘキセン―
１，２―ジカルボン酸ジメチルエステル7.1ｇ、
キシレン50c.c.及びテトライソプロピルチタネート
1.5c.c.をとり、窒素気流下130〜140℃で８時間撹
拌した。これを冷却後、キシレン50c.c.を加えて、
水洗、乾燥後、減圧下に溶媒を溜去した。生成物
をｎ―ヘキサンより再結晶して、白色粉末の生成
物を得た。 元素分析 Ｃ％ Ｈ％ Ｎ％ 測定値 68.83 9.85 6.43 計算値 68.69 9.81 6.54 （C49H84N4O8として） 本発明における耐光性改善の対象となる合成樹
脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブテン、ポリ―３―メチルブテン、な
どのα―オレフイン重合体またはエチレン―酢酸
ビニル共重合体、エチレン―プロピレン共重合体
などのポリオレフインおよびこれらの共重合体、
ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリフツ化ビニリデ
ン、臭素化ポリオチレン、塩化ゴム、塩化ビニル
―酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル―エチレン共
重合体、塩化ビニル―プロピレン共重合体、塩化
ビニル―スチレン共重合体、塩化ビニル―イソブ
チレン共重合体、塩化ビニル―塩化ビニリデン共
重合体、塩化ビニル―スチレン―無水マレイン酸
三元共重合体、塩化ビニル―スチレン―アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニル―ブタジエン共重
合体、塩化ビニル―イソプレン共重合体、塩化ビ
ニル―塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル―
塩化ビニリデン―酢酸ビニル三元共重合体、塩化
ビニル―アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル―マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル―
メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル―ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビ
ニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマ
ロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アク
リル樹脂、スチレンと他の単量体（例えば無水マ
レイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルなど）
との共重合体、アクリロニトリル―ブタジエン―
スチレン共重合体、アクリル酸エステル―ブタジ
エン―スチレン共重合体、メタクリル酸エステル
―ブタジエン―スチレン共重合体、ポリメチルメ
タクリレートなどのメタクリレート樹脂、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフエニ
レンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、
あるいはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
シリコーン樹脂などを挙げることができる。更
に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロ
ニトリル―ブタジエン共重合ゴム、スチレン―ブ
タジエン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹脂
のブレンド品であつてもよい。 また、過酸化物あるいは放射線等によつて架橋
させた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡
重合体も包含される。 本発明の組成物にさらにフエノール系の抗酸化
剤を添加することによつて酸化安定性を改善する
ことができる。これらのフエノール系抗酸化剤と
しては、例えば、２，６―ジ―第３ブチル―ｐ―
クレゾール、ステアリル―（３，５―ジ―メチル
―４―ヒドロキシベンジル）チオグリコレート、
ステアリル―β―（４―ヒドロキシ―３，５―ジ
―第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステ
アリル―３，５―ジ―第３ブチル―４―ヒドロキ
シベンジルホスホネート、２，４，６―トリス
（3′，5′―ジ―第３ブチル―4′―ヒドロキシベンジ
ルチオ）―１，３，５―トリアジン、ジステアリ
ル（４―ヒドロキシ―３―メチル―５―第３ブチ
ル）ベンジルマロネート、２，2′―メチレンビス
（４―メチル―６―第３ブチルフエノール）、４，
4′―メチレンビス（２，６―ジ―第３ブチルフエ
ノール）、２，2′―メチレンビス〔６―（１―メ
チルシクロヘキシル）ｐ―クレゾール〕、ビス
〔３，５―ビス（４―ヒドロキシ―３―第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアシド〕グリコールエス
テル、４，4′―ブチリデンビス（６―第３ブチル
―ｍ―クレゾール）、２，2′―エチリデンビス
（４，６―ジ―第３ブチルフエノール）、２，2′―
エチリデンビス（４―第２ブチル―６―第３ブチ
ルフエノール）、１，１，３―トリス（２―メチ
ル―４―ヒドロキシ―５―第３ブチルフエニル）
ブタン、ビス〔２―第３ブチル―４―メチル―６
―（２―ヒドロキシ―３―第３ブチル―５―メチ
ルベンジル）フエニル〕テレフタレート、１，
３，５―トリス（２，６―ジメチル―３―ヒドロ
キシ―４―第３ブチル）ベンジルイソシアヌレー
ト、１，３，５―トリス（３，５―ジ―第３ブチ
ル―４―ヒドロキシベンジル）―２，４，６―ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン―３―
（３，５―ジ―第３ブチル―４―ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５―ト
リス（３，５―ジ―第３ブチル―４―ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５―トリ
ス〔（３，５―ジ―第３ブチル―４―ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２―オクチルチオ―４，６―ジ（４―
ヒドロキシ―３，５―ジ―第３ブチル）フエノキ
シ―１，３，５―トリアジン、４，4′―チオビス
（６―第３ブチル―ｍ―クレゾール）などのフエ
ノール類及び４，4′―ブチリデンビス（２―第３
ブチル―５―メチルフエノール）の炭酸オリゴエ
ステル（例えば重合度２，３，４，５，６，７，
８，９，10など）などの多価フエノール炭酸オリ
ゴエステル類があげられる。 本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加
えてその酸化安定性の改善をはかることもでき
る。これらの硫黄系抗酸化剤としては、例えばジ
ラウリル―、ジミリスチル―、ジステアリル―な
どのジアルキルチオジプロピオネート及びブチル
―、オクチル―、ラウリル―、ステアリル―など
のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール
（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエ
ステル（例えばペンタエリスリトールテトララウ
リルチオプロピオネート）があげられる。 本発明の組成物に、さらにホスフアイト等の含
リン化合物を添加することによつて、耐光性及び
耐熱性を改善することができる。この含リン化合
物としては、例えば、トリオクチルホスフアイ
ト、トリラウリルホスフアイト、トリデシルホス
フアイト、オクチル―ジフエニルホスフアイト、
トリス（２，４―ジ―第３ブチルフエニル）ホス
フアイト、トリフエニルホスフアイト、トリス
（ブトキシエチル）ホスフアイト、トリス（ノニ
ルフエニル）ホスフアイト、ジステアリルペンタ
エリスリトールジホスフアイト、テトラ（トリデ
シル）―１，１，３―トリス（２―メチル―５―
第３ブチル―４―ヒドロキシフエニル）ブタンジ
ホスフアイト、テトラ（C12〜15混合アルキル）―
４，4′―イソプロピリデンジフエニルジホスフア
イト、テトラ（トリデシル）―４，4′―ブチリデ
ンビス（３―メチル―６―第３ブチルフエノー
ル）ジホスフアイト、トリス（３，５―ジ―第３
ブチル―４―ヒドロキシフエニル）ホスフアイ
ト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホス
フアイト、水素化―４，4′―イソプロピリデンジ
フエノールポリホスフアイト、ビス（オクチルフ
エニル）・ビス〔４，4′―ブチリデンビス（３―
メチル―６―第３ブチルフエノール）〕・１，６―
ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニル・
４，4′―イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、ビス（２，４―
ジ―第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトール
ジホスフアイト、ビス（２，６―ジ―第３ブチル
―４―メチルフエニル）ペンタエリスリトールジ
ホスフアイト、トリス〔４，4′―イソプロピリデ
ンビス（２―第３ブチルフエノール）〕ホスフア
イト、フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ
（ノニルフエニル）ペンタエリスリトールジホス
フアイト、トリス（１，３―ジ―ステアロイルオ
キシイソプロピル）ホスフアイト、４，4′―イソ
プロピリデンビス（２―第３ブチルフエノー
ル）・ジ（ノニルフエニル）ホスフアイト、９，
10―ジ―ハイドロ―９―オキサ―10―フオスフア
フエナンスレン―10―オキサイド、テトラキス
（２，４―ジ―第３ブチルフエニル）―４，4′―
ビフエニレンジホスフアイトなどがあげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性をさらに改善することができ
る。これらの光安定剤としては、例えば、２―ヒ
ドロキシ―４―メトキシベンゾフエノン、２―ヒ
ドロキシ―４―ｎ―オクトキシベンゾフエノン、
２，2′―ジ―ヒドロキシ―４―メトキシベンゾフ
エノン、２，４―ジヒドロキシベンゾフエノン等
のヒドロキシベンゾフエノン類、２―（2′―ヒド
ロキシ―3′―ｔ―ブチル―5′―メチルフエニル）
―５―クロロベンゾトリアゾール、２―（2′―ヒ
ドロキシ―3′，5′―ジ―ｔ―ブチルフエニル）―
５―クロロベンゾトリアゾール、２―（2′―ヒド
ロキシ―5′―メチルフエニル）ベンゾトリアゾー
ル、２―（2′―ヒドロキシ―3′，5′―ジ―ｔ―ア
ミルフエニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾト
リアゾール類、フエニルサリシレート、ｐ―ｔ―
ブチルフエニルサリシレート、２，４―ジ―ｔ―
ブチルフエニル―３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―
ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル―３，５
―ジ―ｔ―ブチル―４―ヒドロキシベンゾエート
等のベンゾエート類、２，2′―チオビス（４―ｔ
―オクチルフエノール）Ni塩、〔２，2′―チオビ
ス（４―ｔ―オクチルフエノラート）〕―ｎ―ブ
チルアミンNi、（３，５―ジ―ｔ―ブチル―４―
ヒドロキシベンジル）ホスホン酸モノエチルエス
テルNi塩等のニツケル化合物類、α―シアノ―
β―メチル―β―（ｐ―メトキシフエニル）アク
リル類メチル等の置換アクリロニトリル類及びＮ
―２―エチルフエニル―N′―２―エトキシ―５
―第３ブチルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ―２
―エチルフエニル―N′―２―エトキシフエニル
シユウ酸ジアミド等のシユウ酸ジアニリド類があ
げられる。 その他必要に応じて、本発明組成物は重金属不
活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、
可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡
剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を包
含させることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら本発明はこれらの実施例によつ
て限定されるものではない。 実施例 １ ポリプロピレン 100重量部 ステアリル―β―３，５―ジ―第３ブチル―４
―ヒドロキシフエニルプロピオネート
0.2 試 料（表―２） 0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行なつ
た。また80℃の熱水に15時間浸漬後のシートにつ
いても耐光性試験を行なつた。その結果を表―２
に示す。
【表】
実施例 ２
通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解
等によりその効果が著るしく失なわれることが知
られている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行なうこ
とにより高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分
間混合した後、押し出し機でコンパウンドを作成
した。（シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダ
イス温度250℃、回転数20rpm）押し出しを５回
繰り返し行なつた後このコンパウンドを用いて試
験片を射出成形機で作成した。（シリンダー温度
240℃、ノズル温度250℃、射出圧475Kg／cm3） 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行なつた。また、押し出し１回のものに
ついても同様に試験した。その結果を表―３に示
す。 〈配合〉 エチレン―プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2重量部 ステアリル―β―３，５―ジ―第３ブチル―４
―ヒドロキシフエニルプロピオネート
0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 試 料（表―３） 0.2
等によりその効果が著るしく失なわれることが知
られている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行なうこ
とにより高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分
間混合した後、押し出し機でコンパウンドを作成
した。（シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダ
イス温度250℃、回転数20rpm）押し出しを５回
繰り返し行なつた後このコンパウンドを用いて試
験片を射出成形機で作成した。（シリンダー温度
240℃、ノズル温度250℃、射出圧475Kg／cm3） 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行なつた。また、押し出し１回のものに
ついても同様に試験した。その結果を表―３に示
す。 〈配合〉 エチレン―プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2重量部 ステアリル―β―３，５―ジ―第３ブチル―４
―ヒドロキシフエニルプロピオネート
0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 試 料（表―３） 0.2
【表】
実施例 ３
ポリエチレン 100重量部
Ca―ステアレート 1.0
テトラキス〔メチレン―３―（３，５―ジ―第
３ブチル―４―ヒドロキシフエニル）プロピオ
ネート〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 試 料（表―４） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表―４に示す。
３ブチル―４―ヒドロキシフエニル）プロピオ
ネート〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 試 料（表―４） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表―４に示す。
【表】
実施例 ４
エチレン―酢酸ビニルコポリマー 100重量部
２，６―ジ―第３ブチル―ｐ―クレゾール
0.1 Ca―ステアレート 0.1 Zn―ステアレート 0.1 ジイソデシルフエニルホスフアイト 0.2 試 料（表―５） 0.2 上記配合物をロール上130℃で混練後、140℃で
プレスして厚さ0.4mmのシートを作成した。この
シートをウエザオメーター中で500時間照射後の
抗張力残率を測定した。その結果を表―５に示
す。
0.1 Ca―ステアレート 0.1 Zn―ステアレート 0.1 ジイソデシルフエニルホスフアイト 0.2 試 料（表―５） 0.2 上記配合物をロール上130℃で混練後、140℃で
プレスして厚さ0.4mmのシートを作成した。この
シートをウエザオメーター中で500時間照射後の
抗張力残率を測定した。その結果を表―５に示
す。
【表】
【表】
実施例 ５
ポリ塩化ビニル 100重量部
ジオクチルフタレート 48
エポキシ化大豆油 ２
トリスノニルフエニルホスフアイト 0.2
Ca―ステアレート 1.0
Zn―ステアレート 0.1
試 料（表―６） 0.3
上記配合物をロール上で混練し厚さ１mmのシー
トを作成した。このシートを用いウエザオメータ
ー中での耐光性試験を行なつた。その結果を表―
６に示す。
トを作成した。このシートを用いウエザオメータ
ー中での耐光性試験を行なつた。その結果を表―
６に示す。
【表】
【表】
実施例 ６
ABS樹脂 100重量部
４，4′―ブチリデンビス（２―第３ブチル―ｍ
―クレゾール） 0.1 試 料（表―７） 0.3 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーターで1000時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表―７に示す。
―クレゾール） 0.1 試 料（表―７） 0.3 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーターで1000時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表―７に示す。
【表】
実施例 ７
ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ―100）
100重量部 Ba―ステアレート 0.7 Zn―ステアレート 0.3 ２，６―ジ―第３ブチル―ｐ―クレゾール
0.1 試 料（表―８） 0.3 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃で５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートをフエードメーターにて30時
間照射後の伸び残率を測定した。その結果を表―
８に示す。
100重量部 Ba―ステアレート 0.7 Zn―ステアレート 0.3 ２，６―ジ―第３ブチル―ｐ―クレゾール
0.1 試 料（表―８） 0.3 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃で５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートをフエードメーターにて30時
間照射後の伸び残率を測定した。その結果を表―
８に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 合成樹脂100重量部に対し、次の一般式（）
で表わされる化合物0.001〜５重量部を含有せし
めてなる安定化合成樹脂組成物。 （式中、は【式】または 【式】を示し、Ｒは 【式】を示し、R1は水素原子、Ｏ・、 アルキル基またはアシル基を示し、Ｘは
【式】【式】または 【式】を示し、R2は低級アルキル 基を示す。）
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57036796A JPS58154739A (ja) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | 安定化合成樹脂組成物 |
| US06/471,913 US4477616A (en) | 1982-03-09 | 1983-03-03 | Tetra-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)-3-methyl-5-(1'2'-biscarboxylate)-ethyl-cyclohexane or 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylates and synthetic resin compositions containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57036796A JPS58154739A (ja) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | 安定化合成樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58154739A JPS58154739A (ja) | 1983-09-14 |
| JPH0136492B2 true JPH0136492B2 (ja) | 1989-08-01 |
Family
ID=12479744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57036796A Granted JPS58154739A (ja) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | 安定化合成樹脂組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4477616A (ja) |
| JP (1) | JPS58154739A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1247978B (it) * | 1991-06-04 | 1995-01-05 | Ciba Geigy Spa | Composti piperidinici contenenti l'anello tetraidrofuranico atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici |
| US8716472B2 (en) * | 2006-10-16 | 2014-05-06 | University Of Rochester | Tripodal cyclohexane derivatives and their use as carbohydrate receptors |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4101508A (en) * | 1976-10-26 | 1978-07-18 | Argus Chemical Corporation | 2,2,6,6-Tetramethyl-4-piperidyl bicyclic heptane and octane carboxylic acid esters as stabilizers for synthetic polymers |
| JPS5379935A (en) * | 1976-12-24 | 1978-07-14 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilized synthetic resin composition |
| DE2964284D1 (en) * | 1978-09-07 | 1983-01-20 | Dainippon Ink & Chemicals | 5-(2,5-diketotetrahydrofuryl)-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylicanhydride, its use as curing agent for epoxy resins and as raw material for the production of polyimides, epoxy resins containing it, and their use in the preparation of various articles, and powder coating compositions |
-
1982
- 1982-03-09 JP JP57036796A patent/JPS58154739A/ja active Granted
-
1983
- 1983-03-03 US US06/471,913 patent/US4477616A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58154739A (ja) | 1983-09-14 |
| US4477616A (en) | 1984-10-16 |