JPH0726344Y2 - 幕掛け施釉用のタイル保持構造 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、幕掛け施釉を行う場合に用いられるタイル素
体の保持構造に関するものである。

（従来の技術） 幕掛け施釉は、釉薬をカーテンの如き膜状に流下させて
おき、この釉薬膜中へ焼成前のタイル素体（素焼後のも
のを含む）をくぐらせることで施釉を行う方法である。
上記の釉薬膜は、釉薬を一時的に貯留できる缶体を用意
し、この缶体の底部にスリットを設けることで（以下、
これを釉薬缶と言う）形成できるようにしてあった。該
釉薬缶は、一般にタイル素体の搬送路上い固定されてい
たが、最近では、タイル素体を停止させた状態としてお
き、反対に釉薬缶を走行させるようにして幕掛け施釉を
行う方法も開発されている。

（考案が解決しようとする課題） 停止状態にあるタイル素体に対して、走行する釉薬缶か
らの釉薬膜が接触すると、該釉薬膜はその接触後の一瞬
において釉薬缶の走行方向とは反対側へ屈折し、次の瞬
間には、釉薬がタイル素体の側面を伝ってその裏面へと
まわり込むようになっていた。従って、施釉後のタイル
素体には、その側面から裏面にかけて余剰釉が付着して
いた。

ところで、図示は省略するが施釉後のタイル素体は、そ
れ以後に、ベルトコンベアやローラコンベアなどの搬送
機構によって運ばれ、ローラーハースキルン（以下、RH
Kと言う）などの焼成炉内へと搬入される。しかし、上
記した如くタイル素体の裏面に余剰釉が付着している
と、該余剰釉は前記搬送機構のタイル受載面（搬送上
面）に転写してこれを汚し、またRHK内に設けられた搬
送用ローラに対しては融着するようになっていた。この
融着釉が徐々に生長すると、タイル素体はRHK内で蛇行
して錯綜し、ついには各ローラの架設間から落下して破
損するようになっていた。また、落下を免れたタイル素
体（タイル）であっても、その裏面の余剰釉がガラス化
して製品価値を滅失するものであり、他のタイルやロー
ラとひっつきを起こすようにもなっていた。そのため、
各種の搬送機構やRHKの搬送用ローラなどでは、それら
のタイル受載面につき清浄化作業を頻繁に行わなければ
ならず、焼成工程全体としての歩留り率や焼成能率など
にも悪影響を及ぼすものであった。

そこで従来は、幕掛け施釉を終えた後、焼成される前の
段階にあるタイル素体に対して、その裏面（及び周側面
など）の付着釉を除去するための施釉仕上工程が必要と
なっていた。このため、搬送機構などにおいて、その搬
送距離が長大化し、また設備の大型化を招来するものと
なっていた。

本考案は、上記の如き事情に鑑みてなされたものであっ
て、タイル素体に対する余剰釉の付着を防止して、施釉
後におけるタイル素体の搬送過程はもとより、焼成工程
全般にわたって生じていた従来の諸問題（余剰釉の付着
を要因とするもの）を一挙に解決できるようにした、幕
掛け施釉用の新規なタイル保持構造（以下、本案構造と
言う）を提供することを目的とする。

「考案の構成」 （課題を解決するための手段） 本案構造の要旨とするところは、平置き状態にあるタイ
ル素体の上方部で釉薬缶を通過走行させる幕掛け施釉に
対して用いられるタイル素体の保持構造であって、タイ
ル素体の裏面を少なくともその周辺部で浮き上がらせて
保持する受載カセットを具備して成り、該受載カセット
には走行する前記釉薬缶と先に交差する対応辺部でタイ
ル素体の上縁部へ向けられる余剰釉の吸取口が設けられ
ている点にある。

（作用） いま、釉薬缶の走行により、その釉薬膜が受載カセット
上に保持されたタイル素体と接触したとする。前記した
如く、この瞬間に釉薬膜は、釉薬缶の走行方向とは反対
側へ屈折されるようになるが、その屈折した先方には、
タイル素体の上縁部へ向く吸取口が設けられている。そ
のため、釉薬膜はそのまま吸取口から回収される。従っ
て、タイル素体に対してその裏面へ釉薬がまわり込むよ
うなことはなく、該タイル素体がその後、各種の搬送機
構やRHKの搬送用ローラなどによって運ばれても、それ
らのタイル受載面に釉薬が転写されるおそれはない。

（実施例） 以下、本考案を、その実施例を示す図面に基づいて説明
すると次の通りである。

第１図は、本案構造を模式的に示す側断面図である。本
案構造は、上方軌道６に沿って走行可能に設けられた釉
薬缶４の下方域で、タイル素体１を平置き状態に受載し
て保持する受載カセット２を具備している。該受載カセ
ット２は、ある程度の肉厚を有した四角形の盤体状に形
成されており、その平面大きさは１個のタイル素体１よ
りも一回り大きく形成されている。該受載カセット２の
上面には、タイル素体１に対応して複数個（例えば４
個）の突起3,3,…が突設されている。該突起3,3,…は、
その各突端部でタイル素体１を支持して、該タイル素体
１が、その裏面の少なくとも周辺部で受載カセット２の
上面から浮き上がるように保持する。浮き上げる高さは
適宜である。また、該受載カセット２は、その内部が空
洞に形成されている。なお、該受載カセット２は、釉薬
缶４の走行方向（白抜き矢符参照）と直交する方向に架
設されたチェンベルト７に対して、その複数個が互いに
所定間隔をおいて取り付けられるなどしたものであっ
て、この場合、該チェンベルト７は前記釉薬缶４が走行
を停止するのを待って、受載カセット2,2,…の設置間隔
に応じた間歇送り動作を行うようになっている。

前記受載カセット２は、釉薬缶４が白抜き矢符で示す如
く走行した場合に、先に交差するようになる一辺部が折
曲して起立されている。そして、この起立部2aの先端部
には、受載カセット２の上面へ向いて吸取口５が設けら
れている。該吸取口５は、受載カセット２の各突起3,3,
…上に支持されるタイル素体１に対して、その上面レベ
ルよりもやや低い位置で水平に開口されている。しか
し、タイル素体１の上縁部へ臨んでやや上向きの傾斜を
設けるようにすることもできるし、該上縁部と同じ高さ
で水平に開口させることもできる。また、該吸取口５
は、釉薬缶４の横幅方向（図面の奥方向き）に沿って細
長い開口形状をしたものであり、この方向に沿った開口
幅は、タイル素体１の一辺長さと対応した寸法に形成さ
れている。例えば、タイル素体１の一辺長さが450mmで
あるとき、吸取口５の開口幅は400〜500mm前後とするの
がよい。一方、受載カセット２の上記起立部2aは、受載
カセット２と同様にその内部が空洞に形成されているの
で、上記吸取口５は、受載カセット２の内部とも連通関
係を有したものとなっている。そして、該受載カセット
２は、その適所から、ポンプなどを利用して負圧を発生
させる吸引装置（図示省略）へと接続されている。その
ため、前記吸取口５からは、受載カセット２上の保持さ
れるタイル素体１に対して、その上面部周辺の空気を強
く吸引できるようになっている。

このようにして成る本案構造において、受載カセット２
上に保持されたタイル素体１へ向かって、釉薬缶４が近
接し交差する方向（白抜き矢符参照）に走行してきたと
する。そして、該釉薬缶４から流下形成されている釉薬
膜4aがタイル素体１の側面1aと接触したとする。この瞬
間、釉薬膜4aは、第２図に示す如く釉薬缶４の走行方向
とは反対側へ屈折するようになる。しかし、釉薬膜4aか
ら屈折した先方には、受載カセット２の起立部2aに設け
られた吸取口５が対向するように位置付けられているの
で、該釉薬膜4aは、吸取口５からそのまま回収されるこ
ととなる。すなわち、該釉薬膜4aは、タイル素体１の側
面1aから裏面1bへとまわり込もうとするより前に該側面
1aとの接触が断たれ、裏面1bへ余剰釉として付着するこ
とはない。

（別態様の検討） 受載カセット２は、前記釉薬缶４の走行方向に沿ってタ
イル素体１を複数個平置きできるものとしてもよい。こ
の場合、タイル素体１の各個は、相隣関係にあるものと
の間で密着させるようにすることが重要である。しか
し、第３図に示す如く、受載カセット２に対して、タイ
ル素体１の相互間を仕切る如く起立部2a,2aを形成さ
せ、且つタイル素体１と面するようになる全ての部分へ
吸取口5,5,…を設けるようにすれば、この限りでない。
なお、このような受載カセット２であれば、釉薬缶４を
往復走行させることも可能となり、その施釉能率を高め
ることができる。また、吸取口５を設けさせるにあた
り、わざわざ起立部2aを形成しなければならないもので
はない。すなわち、吸取口５をノズル状とするなどし
て、その保持を確実なものとすれば、起立部2aは不要に
できる。更に、該吸取口５に対して吸引力を発生させる
吸引装置（図示省略）は、必要のあるときだけ稼働させ
るようにしてもよいし、常時稼働させるようにしてもよ
い。このように、本案構造の構成及び形状は、実施の態
様に応じて適宜変更可能である。

「考案の効果」 以上の説明で明らかなように、本考案に係る幕掛け施釉
用のタイル保持構造によれば、施釉後のタイル素体にお
いて、その裏面にまで余剰釉が付着することはないの
で、搬送機構やRHKの搬送用ローラなどのタイル受載面
（搬送上面）に釉薬が転写されるおそれはなく、勿論、
この転写釉薬が生長することもない。従って、タイル素
体は、いずれの場合にもその搬送状況において蛇行や錯
綜が起こることはなくなり、これらのタイル受載面から
タイル素体が落下して破損することもない。また、これ
らのタイル受載面が余剰釉によっては汚れ難くなってい
るので、その清浄化作業の間隔を長期化乃至不要化でき
るものとなる。このように、焼成工程全体としての歩留
り率や焼成能率を向上させることができることができる
ものである。更に、幕掛け施釉工程から焼成工程へ至る
間で施釉仕上工程を介在させる必要がなくなるから、搬
送機構の搬送距離を短縮化できるのものであり、設備を
小型化することも可能となる等、幾多の優れた利点を有
している。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本案構造による施釉状況を模式的に
示す側断面図、第３図は別態様の実施例を模式的に示す
側断面図である。 １…タイル素体、1a…側面 1b…裏面、２…受載カセット 2a…起立部、３…突起 ４…釉薬缶、4a…釉薬膜 ５…吸取口

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】平置き状態にあるタイル素体の上方部で釉
   薬缶を通過走行させる幕掛け施釉に対して用いられるタ
   イル素体の保持構造であって、タイル素体の裏面を少な
   くともその周辺部で浮き上がらせて保持する受載カセッ
   トを具備して成り、該受載カセットには走行する前記釉
   薬缶と先に交差する対応辺部でタイル素体の上縁部へ向
   けられる余剰釉の吸取口が設けられていることを特徴と
   する幕掛け施釉用のタイル保持構造。