JPH0733367B2 - Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフエニル）−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類の製造方法 - Google Patents
Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフエニル）−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類の製造方法Info
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- JPH0733367B2 JPH0733367B2 JP20799086A JP20799086A JPH0733367B2 JP H0733367 B2 JPH0733367 B2 JP H0733367B2 JP 20799086 A JP20799086 A JP 20799086A JP 20799086 A JP20799086 A JP 20799086A JP H0733367 B2 JPH0733367 B2 JP H0733367B2
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、式（II）で示される新規のＮ−（２−クロロ
−４−ニトロフェニル）−３−トリフルオロメチルベゼ
ンスルホンアミド類 〔式中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子または塩素原子
を表す。〕 の製造方法に関する。
−４−ニトロフェニル）−３−トリフルオロメチルベゼ
ンスルホンアミド類 〔式中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子または塩素原子
を表す。〕 の製造方法に関する。
さらに詳しくは、 式（Ｉ） 〔式中、Ｘ、Ｙは式（II）中のＸ、Ｙと同じである。〕 で示されるＮ−（２−クロロフェニル）−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホンアミド類をニトロ化して、
式（II）化合物を得る方法に関する。
オロメチルベンゼンスルホンアミド類をニトロ化して、
式（II）化合物を得る方法に関する。
スルホンアミド構造を有するベンゼン系化合物は殺菌剤
などの農薬として従来より知られている有用な化合物で
ある。
などの農薬として従来より知られている有用な化合物で
ある。
〔従来の技術〕 特開昭58−219159号公報には下式 〔式中、R1、R2はそれぞれ水素原子、またはメチル基を
示し、Ｘはメチル基、ハロゲン原子、またはニトロ基を
示し、ｎは１〜３の整数を示す。ただし、R1がメチル
基、R2が水素原子、Ｘが２−クロロ−４−ニトロ基で表
わされる化合、及びR1とR2が同時に水素原子で、Ｘが４
−クロロと3,4−ジクロロである化合物を除く。〕 で表される３−ニトロベンゼンスルホンアミド系化合物
が提案されており、この化合物は殺菌効果がある記載が
なされている。
示し、Ｘはメチル基、ハロゲン原子、またはニトロ基を
示し、ｎは１〜３の整数を示す。ただし、R1がメチル
基、R2が水素原子、Ｘが２−クロロ−４−ニトロ基で表
わされる化合、及びR1とR2が同時に水素原子で、Ｘが４
−クロロと3,4−ジクロロである化合物を除く。〕 で表される３−ニトロベンゼンスルホンアミド系化合物
が提案されており、この化合物は殺菌効果がある記載が
なされている。
さらに、本発明と同じ出願人は、上記特開昭58−219159
号公報に開示された化合物よりも、より殺菌活性の大き
い化合物である、前記式（II）で示されるＮ−（２−ク
ロロ−４−ニトロフエニル）−３−トリフルオロメチル
ベンゼンスルホンアミド類化合物を見出し出願した（特
願昭60−36532）。
号公報に開示された化合物よりも、より殺菌活性の大き
い化合物である、前記式（II）で示されるＮ−（２−ク
ロロ−４−ニトロフエニル）−３−トリフルオロメチル
ベンゼンスルホンアミド類化合物を見出し出願した（特
願昭60−36532）。
本発明者らは、式（II）化合物の工業的製造法を確立す
べく、その有利な方法を鋭意検討した。
べく、その有利な方法を鋭意検討した。
前記特開昭58−219159号公報には、例えばＮ−（２−ク
ロロ−５−ニトロフェニル）−３−ニトロ−４−メチル
ベンゼンスルホンアミド を得るため、トルエン溶媒中で、２−クロロ−５−ニト
ロアニリンと等モルの３−ニトロ−４−メチルベンゼン
スルホニルクロリドとを、等モル量のピリジンの存在
下、還流下にかかまぜながら縮合反応を実施する記載が
ある。
ロロ−５−ニトロフェニル）−３−ニトロ−４−メチル
ベンゼンスルホンアミド を得るため、トルエン溶媒中で、２−クロロ−５−ニト
ロアニリンと等モルの３−ニトロ−４−メチルベンゼン
スルホニルクロリドとを、等モル量のピリジンの存在
下、還流下にかかまぜながら縮合反応を実施する記載が
ある。
しかしながら、目的生成物の収率はせいぜい50数％であ
り、該方法を、本発明に係る式（II）化合物の製造方法
に適用した場合も目的物は殆ど同程度の収率でしか得る
ことはできなかった。
り、該方法を、本発明に係る式（II）化合物の製造方法
に適用した場合も目的物は殆ど同程度の収率でしか得る
ことはできなかった。
このように、目的生成物が高収率で得られない原因の一
つは、縮合反応の基質の片方にニトロ基を有するアニリ
ン類を用いるためと推定される。
つは、縮合反応の基質の片方にニトロ基を有するアニリ
ン類を用いるためと推定される。
事実、本発明者らの検討によれば、例えば片方の反応基
質に３−トリフルオロメチル−４−クロロベンゼンスル
ホニルクロリドを選び、これに２−クロロ−４−ニトロ
アニリンと２−クロロアニリンとを夫々縮合反応させた
場合、縮合反応生成物の収率には約10％近くもひらきが
あり、明らかにニトロ基で核置換されていない後者を反
応に用いたほうが有利であることがわかった。
質に３−トリフルオロメチル−４−クロロベンゼンスル
ホニルクロリドを選び、これに２−クロロ−４−ニトロ
アニリンと２−クロロアニリンとを夫々縮合反応させた
場合、縮合反応生成物の収率には約10％近くもひらきが
あり、明らかにニトロ基で核置換されていない後者を反
応に用いたほうが有利であることがわかった。
その上、２−クロロ−４−ニトロアニリンを用いる場合
はその製造は通常、ジクロロベンゼンを出発原料とし、
これのニトロ化、アンモノリシスと工程が長いため高価
な上に高純度のものが得がたいので、原料的にも不利で
ある。
はその製造は通常、ジクロロベンゼンを出発原料とし、
これのニトロ化、アンモノリシスと工程が長いため高価
な上に高純度のものが得がたいので、原料的にも不利で
ある。
本発明の目的は、これらの問題を解決し、安価で、しか
も高収率で式（II）の化合物 〔式中、Ｘ、Ｙは式（Ｉ）中のＸ、Ｙと同じである。〕 を製造する方法を提供することにある。
も高収率で式（II）の化合物 〔式中、Ｘ、Ｙは式（Ｉ）中のＸ、Ｙと同じである。〕 を製造する方法を提供することにある。
上記問題点を踏まえて鋭意検討し、本発明の目的生成物
の一方の反応基質に、安価な２−クロロアニリン類を選
択し、これにより高収率で式（Ｉ）化合物を得、引続き
特定のニトロ化反応条件下で、式（Ｉ）化合物をニトロ
化すれば、目的生成物の式（II）化合物を工業的に有利
な方法で得られることを見出した。
の一方の反応基質に、安価な２−クロロアニリン類を選
択し、これにより高収率で式（Ｉ）化合物を得、引続き
特定のニトロ化反応条件下で、式（Ｉ）化合物をニトロ
化すれば、目的生成物の式（II）化合物を工業的に有利
な方法で得られることを見出した。
すなわち、式（Ｉ）化合物を特定条件下でニトロ化した
場合、ほぼ選択的にアニリド基に対して４位にのみニト
ロ基を導入できることがわかり、本発明に適したもので
ある。
場合、ほぼ選択的にアニリド基に対して４位にのみニト
ロ基を導入できることがわかり、本発明に適したもので
ある。
即ち、本発明は式（Ｉ） 〔式中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子または塩素原子
を表わす。〕 で示されるＮ−（２−クロロフェニル）−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホンアミド類を、濃硫酸の存在
下または不存在下、式（Ｉ）化合物１重量部に対し、0.
05〜10重量部の氷酢酸中または0.01〜２重量部の無水酢
酸中で、10〜120℃でニトロ化反応を行い、式（II） 〔式中、Ｘ、Ｙは式（Ｉ）中のＸ、Ｙと同じ。〕 で示されるＮ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類を得
る製造方法である。
を表わす。〕 で示されるＮ−（２−クロロフェニル）−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホンアミド類を、濃硫酸の存在
下または不存在下、式（Ｉ）化合物１重量部に対し、0.
05〜10重量部の氷酢酸中または0.01〜２重量部の無水酢
酸中で、10〜120℃でニトロ化反応を行い、式（II） 〔式中、Ｘ、Ｙは式（Ｉ）中のＸ、Ｙと同じ。〕 で示されるＮ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類を得
る製造方法である。
本発明方法において、式（Ｉ）化合物から製造できる、
相応のニトロ化合物である式（II）化合物としては、Ｎ
−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２−クロロ
−４−ニトロフェニル）−３−トリフルオロメチル−４
−クロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２−クロロ−
４−ニトロフェニル）−２−クロロ−５−トリフルオロ
メチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２−クロロ−４
−ニトロフェニル）−2,4−ジクロロ−５−トリフルオ
ロメチルベンゼスルホンアミド等が挙げられる。
相応のニトロ化合物である式（II）化合物としては、Ｎ
−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２−クロロ
−４−ニトロフェニル）−３−トリフルオロメチル−４
−クロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２−クロロ−
４−ニトロフェニル）−２−クロロ−５−トリフルオロ
メチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２−クロロ−４
−ニトロフェニル）−2,4−ジクロロ−５−トリフルオ
ロメチルベンゼスルホンアミド等が挙げられる。
また、本発明に用いる式（Ｉ）化合物は、相応するベン
ゼンスルホニルクロリド類と２−クロロアニリンの縮合
により高収率で容易に得ることができる。
ゼンスルホニルクロリド類と２−クロロアニリンの縮合
により高収率で容易に得ることができる。
ベンゼンスルホニルクロリド類は、例えば、３−トリフ
ルオロメチル−４−クロロベンゼンスルホニルクロリド
を例にとれば、 のように、Ｏ−トリフルオロメチルクロロベンゼンにク
ロロスルホン酸を反応させて得ることができ、また２−
クロロアニリン類は公知の化合物である安価で容易に入
手できる。
ルオロメチル−４−クロロベンゼンスルホニルクロリド
を例にとれば、 のように、Ｏ−トリフルオロメチルクロロベンゼンにク
ロロスルホン酸を反応させて得ることができ、また２−
クロロアニリン類は公知の化合物である安価で容易に入
手できる。
本発明は、以下のようにして実施される。
Ｎ−（２−クロロフェニル）−３−トリフルオロメチル
ベンゼンスルホンアミド類の式（Ｉ）化合物１モルに対
し、通常0.9〜２モル、好ましくは1.0〜1.3モルの硝酸
及び式（Ｉ）化合物１重量部に対し0.01〜２重量部、好
ましくは0.05〜１重量部の無水酢酸、または0.05〜10重
量部、好ましくは0.05〜５重量部の氷酢酸を使用してニ
トロ化反応を行う。
ベンゼンスルホンアミド類の式（Ｉ）化合物１モルに対
し、通常0.9〜２モル、好ましくは1.0〜1.3モルの硝酸
及び式（Ｉ）化合物１重量部に対し0.01〜２重量部、好
ましくは0.05〜１重量部の無水酢酸、または0.05〜10重
量部、好ましくは0.05〜５重量部の氷酢酸を使用してニ
トロ化反応を行う。
通常のニトロ化反応において混酸として使用される多重
の硫酸の使用は、本発明方法では、副生物が増大するの
で好ましくない。また硝酸のみの使用では反応が遅いの
で、無水酢酸や氷酢酸とともに硫酸を共存させてもよい
が、その場合は式（Ｉ）化合物に対し0.1重量部以下で
使用するのが好ましい。また無水酢酸や氷酢酸の使用量
がこれらの範囲をはずれた場合も反応が遅くなり、異性
体やジニトロ体化合物などの副生物の生成も増加し、目
的生成物の式（II）化合物の収率が低下する傾向にあ
る。
の硫酸の使用は、本発明方法では、副生物が増大するの
で好ましくない。また硝酸のみの使用では反応が遅いの
で、無水酢酸や氷酢酸とともに硫酸を共存させてもよい
が、その場合は式（Ｉ）化合物に対し0.1重量部以下で
使用するのが好ましい。また無水酢酸や氷酢酸の使用量
がこれらの範囲をはずれた場合も反応が遅くなり、異性
体やジニトロ体化合物などの副生物の生成も増加し、目
的生成物の式（II）化合物の収率が低下する傾向にあ
る。
また本発明方法においては、溶媒は用いても用いなくて
も、いずれでもよいが、溶媒を用いる場合には、1,1,2
−トリクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭
素等を例示できる。その使用量は、式（Ｉ）化合物１重
量部に対し、２〜10重量部が好ましい。
も、いずれでもよいが、溶媒を用いる場合には、1,1,2
−トリクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭
素等を例示できる。その使用量は、式（Ｉ）化合物１重
量部に対し、２〜10重量部が好ましい。
ニトロ化反応においては、式（Ｉ）化合物、溶媒および
無水酢酸または氷酢酸、さらには必要に応じて硫酸を反
応容器に入れ、10〜120℃、好ましくは60〜100℃に加熱
して、硝酸を通常１〜２時間で滴下装入し、その後さら
に、0.5〜10時間撹拌して反応を終了させる。反応温度
がこの範囲外であると副生成物が増大する傾向にある。
無水酢酸または氷酢酸、さらには必要に応じて硫酸を反
応容器に入れ、10〜120℃、好ましくは60〜100℃に加熱
して、硝酸を通常１〜２時間で滴下装入し、その後さら
に、0.5〜10時間撹拌して反応を終了させる。反応温度
がこの範囲外であると副生成物が増大する傾向にある。
反応後は、例えば次のような方法で処理する。
反応液から減圧下に溶媒を留去して得られる残渣に水を
加え、析出した結晶を濾過、乾燥後、目的生成物である
（II）化合物が得られる。これを必要なら、カラムクロ
マトグラフィーもしくは再結晶に付す。
加え、析出した結晶を濾過、乾燥後、目的生成物である
（II）化合物が得られる。これを必要なら、カラムクロ
マトグラフィーもしくは再結晶に付す。
このようにして、本発明方法により、式（Ｉ）化合物の
アニリド基に対して４位にのみ選択的にニトロ基を導入
して、Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−
トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類を得るこ
とができる。
アニリド基に対して４位にのみ選択的にニトロ基を導入
して、Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−
トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類を得るこ
とができる。
また本発明においては、原料に用いる式（Ｉ）化合物
は、前記特開昭58−219159号公報に記載された方法に準
じて有機塩基性触媒の存在下に、ベンゼンスルホニルク
ロリドと２−クロロアニリン類の縮合反応を実施すれば
よい。
は、前記特開昭58−219159号公報に記載された方法に準
じて有機塩基性触媒の存在下に、ベンゼンスルホニルク
ロリドと２−クロロアニリン類の縮合反応を実施すれば
よい。
あるいは、ベンゼンスルホニルクロリド類と２−クロロ
アニリン類との縮合反応は本願発明者らが別途見出し、
特許出願した方法を用いることにより、即ち、塩基性触
媒の存在下、必要に応じてキシレンやＯ−ジクロロベン
ゼンなどの溶媒の共存下に130〜200℃の反応温度を維持
して不活性ガスを反応系中に吹き込みながら反応させる
方法で、より効率良く製造できる。
アニリン類との縮合反応は本願発明者らが別途見出し、
特許出願した方法を用いることにより、即ち、塩基性触
媒の存在下、必要に応じてキシレンやＯ−ジクロロベン
ゼンなどの溶媒の共存下に130〜200℃の反応温度を維持
して不活性ガスを反応系中に吹き込みながら反応させる
方法で、より効率良く製造できる。
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。
合成例 Ｎ−（２−クロロフェニル）−３−トリフルオロメチル
−４−クロロベンゼンスルホンアミドの合成 500ml四ツ口フラスコに２−クロロアニリン25.5g、塩基
性触媒としてピリジン15.8g、トルエン150mlを装入し、
110℃に昇温し、かきまぜながらトルエン50mlに溶かし
た３−トリフルオロメチル−４−クロロベンゼンスルホ
ニルクロリド55.8gを100〜110℃で１時間を要し滴下装
入した。引き続き、同温で４時間保温かきまぜを行い、
反応を終了した。反応溶液を室温まで冷却後、５％塩酸
水200mlを加え、30分間かきまぜを行い分液した。
−４−クロロベンゼンスルホンアミドの合成 500ml四ツ口フラスコに２−クロロアニリン25.5g、塩基
性触媒としてピリジン15.8g、トルエン150mlを装入し、
110℃に昇温し、かきまぜながらトルエン50mlに溶かし
た３−トリフルオロメチル−４−クロロベンゼンスルホ
ニルクロリド55.8gを100〜110℃で１時間を要し滴下装
入した。引き続き、同温で４時間保温かきまぜを行い、
反応を終了した。反応溶液を室温まで冷却後、５％塩酸
水200mlを加え、30分間かきまぜを行い分液した。
得られた有機層を、水100mlで３回洗浄した後、減圧下
でトルエンを留去し、得られた残留物をベンゼンで洗浄
し、減圧下に濾取、乾燥してＮ−（２−クロロフェニ
ル）−３−トリフルオロメチル−４−クロロベンゼンス
ルホンアミド67.5g（収率91.2％）を得た。
でトルエンを留去し、得られた残留物をベンゼンで洗浄
し、減圧下に濾取、乾燥してＮ−（２−クロロフェニ
ル）−３−トリフルオロメチル−４−クロロベンゼンス
ルホンアミド67.5g（収率91.2％）を得た。
また反応温度を130℃に維持し、窒素を反応液中に50ml/
分の流速で吹き込みながら実施した場合は、収率が95％
であった。
分の流速で吹き込みながら実施した場合は、収率が95％
であった。
実施例−１ Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−トリフ
ルオロメチル−４−クロロベンゼンスルホンアミドの合
成 Ｎ−（２−クロロフェニル）−３−トリフルオロメチル
−４−クロロベンゼンスルホンアミド18.5gおよび氷酢
酸50ml、濃硫酸1.0gを100ml四ツ口フラスコに装入し、9
5℃でかきまぜながら発煙硝酸3.5gを氷酢酸10mlに混合
し、これを１時間を要し滴下した。さらに、100℃で２
時間保温かきまぜを行い、反応を終了した。冷却後、反
応混合物を砕氷100g中に排出し、析出した結晶を濾取
し、メタノール50mlで洗浄後、乾燥を行い、融点169.5
〜171.5℃を有し、純度99.75％（GC内部標準法分析）の
Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−トリフ
ルオロメチル−４−クロロベンゼスルホンアミド18.3g
（収率88.9％）を得た。
ルオロメチル−４−クロロベンゼンスルホンアミドの合
成 Ｎ−（２−クロロフェニル）−３−トリフルオロメチル
−４−クロロベンゼンスルホンアミド18.5gおよび氷酢
酸50ml、濃硫酸1.0gを100ml四ツ口フラスコに装入し、9
5℃でかきまぜながら発煙硝酸3.5gを氷酢酸10mlに混合
し、これを１時間を要し滴下した。さらに、100℃で２
時間保温かきまぜを行い、反応を終了した。冷却後、反
応混合物を砕氷100g中に排出し、析出した結晶を濾取
し、メタノール50mlで洗浄後、乾燥を行い、融点169.5
〜171.5℃を有し、純度99.75％（GC内部標準法分析）の
Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−トリフ
ルオロメチル−４−クロロベンゼスルホンアミド18.3g
（収率88.9％）を得た。
実施例−２ Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−２−クロロ
−５−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミドの合
成 合成例において、３−トリフルオロメチル−４−クロロ
ベンゼンスルホニルクロリドの代わりに、２−クロロ−
５−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリドを
用いた以外は全く同様にして得られたＮ−（２−クロロ
フェニル）−２−クロロ−５−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホンアミド18.5g、無水酢酸1.0gおよび溶媒の
1,1,2−トリクロロエタン50mlを200ml四ツ口フラスコに
装入し、95℃に昇温し、かきまぜつつ15mlの1,1,2−ト
リクロロエタンに溶解した発煙硝酸3.5gを、１時間要し
94〜96℃で滴下装入した。引き続き、同温で２時間保温
かきまぜを行い、反応を終了させ、室温まで冷却した。
得られた反応混合物を減圧下で溶媒を留去し、残留物を
水100mlで洗浄後、濾取した。粗結晶をメタノール50ml
で洗浄した後、乾燥し、Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロ
フェニル）−２−クロロ−５−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホンアミド（融点157.5〜158.5℃）17.5g（収
率84.3％）を得た。
−５−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミドの合
成 合成例において、３−トリフルオロメチル−４−クロロ
ベンゼンスルホニルクロリドの代わりに、２−クロロ−
５−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリドを
用いた以外は全く同様にして得られたＮ−（２−クロロ
フェニル）−２−クロロ−５−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホンアミド18.5g、無水酢酸1.0gおよび溶媒の
1,1,2−トリクロロエタン50mlを200ml四ツ口フラスコに
装入し、95℃に昇温し、かきまぜつつ15mlの1,1,2−ト
リクロロエタンに溶解した発煙硝酸3.5gを、１時間要し
94〜96℃で滴下装入した。引き続き、同温で２時間保温
かきまぜを行い、反応を終了させ、室温まで冷却した。
得られた反応混合物を減圧下で溶媒を留去し、残留物を
水100mlで洗浄後、濾取した。粗結晶をメタノール50ml
で洗浄した後、乾燥し、Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロ
フェニル）−２−クロロ−５−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホンアミド（融点157.5〜158.5℃）17.5g（収
率84.3％）を得た。
実施例−３ Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−トリフ
ルオロメチルベンゼンスルホンアミドの合成 Ｎ−（２−クロロフェニル）−３−トリフルオロメチル
ベンゼンスルホンアミド16.8g、触媒の無水酢酸0.3g、
1,1,2−トリクロロエタン40mlの混合物を95℃に昇温さ
せ、同温にて98％−硝酸3.5gを含む1,1,2−トリクロロ
エタン10mlの溶液を１時間を要して滴下した。その後90
〜95℃で１時間保温しながらかきまぜ、反応を終了し
た。反応液を冷却後、減圧下に溶媒を留去し、残留物を
水100mlに注加し結晶化させ、濾別した。
ルオロメチルベンゼンスルホンアミドの合成 Ｎ−（２−クロロフェニル）−３−トリフルオロメチル
ベンゼンスルホンアミド16.8g、触媒の無水酢酸0.3g、
1,1,2−トリクロロエタン40mlの混合物を95℃に昇温さ
せ、同温にて98％−硝酸3.5gを含む1,1,2−トリクロロ
エタン10mlの溶液を１時間を要して滴下した。その後90
〜95℃で１時間保温しながらかきまぜ、反応を終了し
た。反応液を冷却後、減圧下に溶媒を留去し、残留物を
水100mlに注加し結晶化させ、濾別した。
結晶を水100mlで洗浄し、乾燥後、メタノール40mlを用
い再結晶を行い、Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニ
ル）−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド
（融点126〜127℃）13.2g（収率69.3％）を得た。
い再結晶を行い、Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニ
ル）−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド
（融点126〜127℃）13.2g（収率69.3％）を得た。
参考例 400mlフラスコ内にＯ−ジクロロベンゼン200ml、ピリジ
ン1mlおよび２−クロロ−４−ニトロアニリン1.7g（0.0
1モル）を装入し、かきまぜながら３−トリフルオロメ
チルベンゼンスルホニルクロリド2.5g（0.01モル）を室
温で30分を要して滴下した。その後加温し還流下（175
〜180℃）に10時間かきまぜて、反応を終えた。室温ま
で冷却後、反応液を希塩酸ついで水で十分洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下にＯ−ジクロロベンゼ
ンを留去した。その残分を実施例−３に準じて精製し、
Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−トリフ
ルオロメチルベンゼンスルホンアミド1.9g（収率50％）
を得た。
ン1mlおよび２−クロロ−４−ニトロアニリン1.7g（0.0
1モル）を装入し、かきまぜながら３−トリフルオロメ
チルベンゼンスルホニルクロリド2.5g（0.01モル）を室
温で30分を要して滴下した。その後加温し還流下（175
〜180℃）に10時間かきまぜて、反応を終えた。室温ま
で冷却後、反応液を希塩酸ついで水で十分洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下にＯ−ジクロロベンゼ
ンを留去した。その残分を実施例−３に準じて精製し、
Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−３−トリフ
ルオロメチルベンゼンスルホンアミド1.9g（収率50％）
を得た。
Claims (3)
- 【請求項１】式（Ｉ） 〔式中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子または塩素原子
を表す。〕 で示されるＮ−（２−クロロフェニル）−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホンアミド類を、濃硫酸の存在
下または不存在下、式（Ｉ）化合物１重量部に対し0.01
〜２重量部の無水酢酸中、10〜120℃でニトロ化反応を
行う、式（II） 〔式中、Ｘ、Ｙは式（Ｉ）中のＸ、Ｙと同じである。〕 で示されるＮ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類の製
造方法。 - 【請求項２】式（Ｉ） 〔式中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子または塩素原子
を表す。〕 で示されるＮ−（２−クロロフェニル）−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホンアミド類を、濃硫酸の存在
下または不存在下、式（Ｉ）化合物１重量部に対し0.05
〜10重量部の氷酢酸中、10〜120℃でニトロ化反応を行
う、式（II） 〔式中、Ｘ、Ｙは式（Ｉ）中のＸ、Ｙと同じである。〕 で示されるＮ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類の製
造方法。 - 【請求項３】濃硫酸を、式（Ｉ）化合物１重量部に対
し、０〜0.1重量部存在させる特許請求の範囲第１項ま
たは第２項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20799086A JPH0733367B2 (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフエニル）−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20799086A JPH0733367B2 (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフエニル）−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6363652A JPS6363652A (ja) | 1988-03-22 |
| JPH0733367B2 true JPH0733367B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=16548852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20799086A Expired - Fee Related JPH0733367B2 (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフエニル）−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホンアミド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733367B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102491924A (zh) * | 2011-12-14 | 2012-06-13 | 天津市筠凯化工科技有限公司 | N-(2-氯-4-苯基)-4-氯-3-三氟甲基苯磺酰胺的制备方法 |
-
1986
- 1986-09-05 JP JP20799086A patent/JPH0733367B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6363652A (ja) | 1988-03-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |