JPH0740521Y2 - 真空成膜装置の基板反転構造 - Google Patents
真空成膜装置の基板反転構造Info
- Publication number
- JPH0740521Y2 JPH0740521Y2 JP1990125334U JP12533490U JPH0740521Y2 JP H0740521 Y2 JPH0740521 Y2 JP H0740521Y2 JP 1990125334 U JP1990125334 U JP 1990125334U JP 12533490 U JP12533490 U JP 12533490U JP H0740521 Y2 JPH0740521 Y2 JP H0740521Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- film forming
- substrate holder
- vacuum film
- reversing
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は、円筒形治具台車上に反転可能な基板ホルダー
を設け、この基板ホルダーを反転させることにより、そ
の両面に固定した基板上に成膜できるようにした真空成
膜装置の基板反転構造に関するものである。
を設け、この基板ホルダーを反転させることにより、そ
の両面に固定した基板上に成膜できるようにした真空成
膜装置の基板反転構造に関するものである。
〈従来の技術〉 第３図及び第４図は、従来の真空成膜装置及びその基板
反転構造を示すもので、図中において、１は真空チャン
バーであり、その内部には円筒形の治具台車２がモータ
６を介して、夫々実線矢印，破線矢印方向に正逆回転可
能に設置されている。
反転構造を示すもので、図中において、１は真空チャン
バーであり、その内部には円筒形の治具台車２がモータ
６を介して、夫々実線矢印，破線矢印方向に正逆回転可
能に設置されている。
３は治具台車２の端面円周上に等間隔に設置された基板
ホルダーで、その中心に回転軸８を有し、図示していな
い歯車装置により回転軸８を中心に180度反転できるよ
うになっている。
ホルダーで、その中心に回転軸８を有し、図示していな
い歯車装置により回転軸８を中心に180度反転できるよ
うになっている。
4a,4bは基板ホルダーの表裏両面に固定された基板、５
は真空チャンバー１内を真空にする排気ポンプ、７は電
源に接続されたターゲットである。
は真空チャンバー１内を真空にする排気ポンプ、７は電
源に接続されたターゲットである。
上記の真空成膜装置においては、基板ホルダー３の表裏
両面に基板4a,4bを固定した後、真空チャンバー１の扉
を閉じ、内部を排気ポンプ５で排気して所定の真空圧に
し、然る後、モータ６により治具台車２を実線矢印方向
に回転させながら、ターゲット７より成膜物質を蒸発さ
せ、ターゲット７に面している側の基板4a上に膜を生成
する。各基板4a上に所定厚さの膜の成膜が完了すると、
治具台車２をモータ６により破線矢印方向に逆回転させ
る。この時、図示していない治具台車下部の歯車を介し
て基板ホルダー３が回転軸８を中心に180度反転され、
基板4bがターゲット７に面して固定されるので、治具台
車２を回転させながら上記と同様にして基板4b上に成膜
することができ、成膜完了後、基板4a,4bを基板ホルダ
ー３より取外す。
両面に基板4a,4bを固定した後、真空チャンバー１の扉
を閉じ、内部を排気ポンプ５で排気して所定の真空圧に
し、然る後、モータ６により治具台車２を実線矢印方向
に回転させながら、ターゲット７より成膜物質を蒸発さ
せ、ターゲット７に面している側の基板4a上に膜を生成
する。各基板4a上に所定厚さの膜の成膜が完了すると、
治具台車２をモータ６により破線矢印方向に逆回転させ
る。この時、図示していない治具台車下部の歯車を介し
て基板ホルダー３が回転軸８を中心に180度反転され、
基板4bがターゲット７に面して固定されるので、治具台
車２を回転させながら上記と同様にして基板4b上に成膜
することができ、成膜完了後、基板4a,4bを基板ホルダ
ー３より取外す。
〈考案が解決しようとする課題〉 従来の真空成膜装置は、上記したように基板ホルダーを
反転させる為の回転軸が基板ホルダーの中心に設けられ
ているので、反転の為真空チャンバー１及びターゲット
７と治具台車２との間にある程度のスペースが必要であ
り、この為真空チャンバー１の外径寸法が大きくなると
ともに、ターゲットと基板との間隔も大きくなり成膜時
間が長くなる等の問題点があった。
反転させる為の回転軸が基板ホルダーの中心に設けられ
ているので、反転の為真空チャンバー１及びターゲット
７と治具台車２との間にある程度のスペースが必要であ
り、この為真空チャンバー１の外径寸法が大きくなると
ともに、ターゲットと基板との間隔も大きくなり成膜時
間が長くなる等の問題点があった。
本考案は上記した問題点を解消する為に成されたもの
で、真空チャンバーの小型コンパクト化を図るとともに
成膜時間の短縮を図ることができる真空成膜装置の基板
反転構造を得ることを目的とするものである。
で、真空チャンバーの小型コンパクト化を図るとともに
成膜時間の短縮を図ることができる真空成膜装置の基板
反転構造を得ることを目的とするものである。
〈課題を解決するための手段〉 上記した課題を解決する為、本考案に係る真空成膜装置
の基板反転構造は、回転可能な円筒形治具台車の端面円
周上に180度反転可能な基板ホルダーを設け、同基板ホ
ルダーの表裏両面に基板を固定するようにした真空成膜
装置において、前記基板ホルダーの反転用回転軸をホル
ダーの一端側に設け、同ホルダーを治具台車の内側から
反転させるようにしたことを特徴とするものである。
の基板反転構造は、回転可能な円筒形治具台車の端面円
周上に180度反転可能な基板ホルダーを設け、同基板ホ
ルダーの表裏両面に基板を固定するようにした真空成膜
装置において、前記基板ホルダーの反転用回転軸をホル
ダーの一端側に設け、同ホルダーを治具台車の内側から
反転させるようにしたことを特徴とするものである。
〈作用〉 本考案の係る真空成膜装置の基板反転構造は上記のよう
に構成されているので、基板ホルダーを反転する際にお
ける基板ホルダーの治具台車外側への突出量を小さくす
ることができ、この為治具台車外周と真空チャンバー及
びターゲットとの間の間隔を小さくすることができる。
に構成されているので、基板ホルダーを反転する際にお
ける基板ホルダーの治具台車外側への突出量を小さくす
ることができ、この為治具台車外周と真空チャンバー及
びターゲットとの間の間隔を小さくすることができる。
〈実施例〉 以下に本考案の一実施例を第１図及び第２図に基づいて
説明する。
説明する。
図中において、１は真空チャンバー、２は円筒形治具台
車、３は基板ホルダー、4a,4bは基板、５は排気ポン
プ、６は治具台車２を回転させるモータ、７はターゲッ
ト、８は基板ホルダーの回転軸、９は基板ホルダー反転
時のストッパーであり、基板ホルダー３はその一端部側
に回転軸８を有し、反転する際治具台車２の内側から回
転されるようになっており、その回転端でストッパー９
に当接するように構成されている。
車、３は基板ホルダー、4a,4bは基板、５は排気ポン
プ、６は治具台車２を回転させるモータ、７はターゲッ
ト、８は基板ホルダーの回転軸、９は基板ホルダー反転
時のストッパーであり、基板ホルダー３はその一端部側
に回転軸８を有し、反転する際治具台車２の内側から回
転されるようになっており、その回転端でストッパー９
に当接するように構成されている。
上記の構成においては、基板上に成膜する際、先ず基板
ホルダー３の表裏両面に基板4a,4bを固定する。次に真
空チャンバー１の扉を閉じ、排気ポンプ５で所定の真空
圧とした後、モータ６により治具台車２を実線矢印方向
に回転させながらターゲット７より成膜物質を蒸発さ
せ、ターゲット７に面している側の基板4a上に膜を生成
する。
ホルダー３の表裏両面に基板4a,4bを固定する。次に真
空チャンバー１の扉を閉じ、排気ポンプ５で所定の真空
圧とした後、モータ６により治具台車２を実線矢印方向
に回転させながらターゲット７より成膜物質を蒸発さ
せ、ターゲット７に面している側の基板4a上に膜を生成
する。
基板4a上への成膜が完了すると、モータ６により治具台
車２を破線矢印方向へ逆回転させるとともに、基板ホル
ダー３を治具台車２の内側からストッパー９に当接する
まで破線矢印のように治具台車下部の図示されていない
歯車を介して反転させ、基板ホルダー３の裏面に固定さ
れている基板4bをターゲット７に対面させて基板4b上に
成膜する。
車２を破線矢印方向へ逆回転させるとともに、基板ホル
ダー３を治具台車２の内側からストッパー９に当接する
まで破線矢印のように治具台車下部の図示されていない
歯車を介して反転させ、基板ホルダー３の裏面に固定さ
れている基板4bをターゲット７に対面させて基板4b上に
成膜する。
この基板ホルダー反転の際、回転軸８が基板ホルダー３
の一端部側に設けられており、治具台車２の内側から基
板ホルダー３を反転させるようにしているので、基板ホ
ルダー３の治具台車外側への突出を少なくすることがで
き、この為治具台車２の外周と真空チャンバー１及びタ
ーゲット７との間の間隔を小さくすることができる。従
って、その分真空チャンバー１をコンパクトに設計する
ことが可能となるとともに、基板4a,4bとターゲット７
間の距離を小さくできるので成膜時間を短縮することが
できる。尚上記実施例では、真空成膜装置の一例として
スパッタリング装置について説明したが、抵抗加熱，電
子ビームによる蒸着装置にも適用することができる。
の一端部側に設けられており、治具台車２の内側から基
板ホルダー３を反転させるようにしているので、基板ホ
ルダー３の治具台車外側への突出を少なくすることがで
き、この為治具台車２の外周と真空チャンバー１及びタ
ーゲット７との間の間隔を小さくすることができる。従
って、その分真空チャンバー１をコンパクトに設計する
ことが可能となるとともに、基板4a,4bとターゲット７
間の距離を小さくできるので成膜時間を短縮することが
できる。尚上記実施例では、真空成膜装置の一例として
スパッタリング装置について説明したが、抵抗加熱，電
子ビームによる蒸着装置にも適用することができる。
〈考案の効果〉 以上に説明したように、本考案に係る真空成膜装置の基
板反転構造によると、治具台車と真空チャンバー及びタ
ーゲット間の間隔を小さくすることができる為、真空チ
ャンバーを小型コンパクト化し、コストダウンを図るこ
とができるとともに成膜時間を短縮し、成膜効率の向上
を図ることができる。
板反転構造によると、治具台車と真空チャンバー及びタ
ーゲット間の間隔を小さくすることができる為、真空チ
ャンバーを小型コンパクト化し、コストダウンを図るこ
とができるとともに成膜時間を短縮し、成膜効率の向上
を図ることができる。
第１図は、本考案の一実施例を示す真空成膜装置の平面
構成図、 第２図は、その基板反転構造を示す部分拡大平面図、 第３図は、従来の真空成膜装置の平面構成図、 第４図は、その基板反転構造を示す部分拡大平面図であ
る。 尚、図中１は真空チャンバー,2は治具台車,3は基板ホル
ダー,4a,4bは基板,5は排気ポンプ,6はモータ,7はターゲ
ット,8は回転軸,9はストッパーである。
構成図、 第２図は、その基板反転構造を示す部分拡大平面図、 第３図は、従来の真空成膜装置の平面構成図、 第４図は、その基板反転構造を示す部分拡大平面図であ
る。 尚、図中１は真空チャンバー,2は治具台車,3は基板ホル
ダー,4a,4bは基板,5は排気ポンプ,6はモータ,7はターゲ
ット,8は回転軸,9はストッパーである。
Claims (1)
- 【請求項１】回転可能な円筒形治具台車の端面円周上に
180度反転可能な基板ホルダーを設け、同基板ホルダー
の表裏両面に基板を固定するようにした真空成膜装置に
おいて、 前記基板ホルダーの反転用回転軸をホルダーの一端部側
に設け、同ホルダーを治具台車の内側から反転させるよ
うにしたことを特徴とする真空成膜装置の基板反転構
造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990125334U JPH0740521Y2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 真空成膜装置の基板反転構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990125334U JPH0740521Y2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 真空成膜装置の基板反転構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0481962U JPH0481962U (ja) | 1992-07-16 |
| JPH0740521Y2 true JPH0740521Y2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=31872935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990125334U Expired - Lifetime JPH0740521Y2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 真空成膜装置の基板反転構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740521Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100653468B1 (ko) * | 2000-05-31 | 2006-12-04 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 모듈의 반전 장치 |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP1990125334U patent/JPH0740521Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100653468B1 (ko) * | 2000-05-31 | 2006-12-04 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 모듈의 반전 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0481962U (ja) | 1992-07-16 |
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