JPH0741528A - 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 - Google Patents
放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物Info
- Publication number
- JPH0741528A JPH0741528A JP20815493A JP20815493A JPH0741528A JP H0741528 A JPH0741528 A JP H0741528A JP 20815493 A JP20815493 A JP 20815493A JP 20815493 A JP20815493 A JP 20815493A JP H0741528 A JPH0741528 A JP H0741528A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- resin composition
- radiation
- curable resin
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 14
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 4
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- CZXGXYBOQYQXQD-UHFFFAOYSA-N methyl benzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CZXGXYBOQYQXQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 abstract 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 abstract 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 (2-hydroxy-3-acryloxypropyl) aminomethyl Chemical group 0.000 description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 6
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Natural products CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxy-1,5-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=C(OCCO)C=C1 LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 2
- DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- UROHSXQUJQQUOO-UHFFFAOYSA-M (4-benzoylphenyl)methyl-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(C[N+](C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UROHSXQUJQQUOO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- YVXDRFYHWWPSOA-BQYQJAHWSA-N 1-methyl-4-[(e)-2-phenylethenyl]pyridin-1-ium Chemical group C1=C[N+](C)=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 YVXDRFYHWWPSOA-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOCCOC(=O)C=C FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- WRKVUGVUFXQDMY-UHFFFAOYSA-N S(O)(O)(=O)=O.C=CC.C=CC Chemical compound S(O)(O)(=O)=O.C=CC.C=CC WRKVUGVUFXQDMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQMKCFNVDCCVCA-UHFFFAOYSA-N [3-[3-[bis(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl)amino]-N-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl)-2,4-dimethylanilino]-2-hydroxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=C(C(=C(C=C1)N(CC(COC(=O)C=C)O)CC(COC(=O)C=C)O)C)N(CC(COC(=O)C=C)O)CC(COC(=O)C=C)O QQMKCFNVDCCVCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNQFEJQGNGHIAP-UHFFFAOYSA-N [3-[3-[bis[2-hydroxy-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]amino]-N-[2-hydroxy-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]-2,4-dimethylanilino]-2-hydroxypropyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound OC(CN(C=1C(=CC=C(C=1C)N(CC(COC(=O)C(=C)C)O)CC(COC(=O)C(=C)C)O)C)CC(COC(=O)C(=C)C)O)COC(=O)C(=C)C NNQFEJQGNGHIAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDXSHCCBBGUFCK-UHFFFAOYSA-N [3-[[3-[[bis(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl)amino]methyl]cyclohexyl]methyl-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl)amino]-2-hydroxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CN(CC1CCCC(C1)CN(CC(COC(=O)C=C)O)CC(COC(=O)C=C)O)CC(COC(=O)C=C)O)O WDXSHCCBBGUFCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001347 alkyl bromides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000005524 benzylchlorides Chemical class 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- QPWMEOANIYCSQT-UHFFFAOYSA-N chloromethane;2-[3-(dimethylamino)-2-hydroxypropoxy]-3,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound ClC.C1=CC=C2C(=O)C(C=C(C(=C3C)C)OCC(O)CN(C)C)=C3SC2=C1 QPWMEOANIYCSQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- GHJOIQFPDMIKHT-UHFFFAOYSA-N propane-1,2,3-triol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCC(O)CO GHJOIQFPDMIKHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical class OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphite Chemical compound COP(OC)OC CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】水希釈が可能で、硬化処理後の未硬化部分は水
で再溶解ができ、その硬化部分(塗膜)が耐水性、耐溶
剤性、耐薬品性などに優れた放射線硬化性樹脂組成物を
提供する。 【構成】分子中に四級アンモニウム塩基を有する特定の
エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)、反応性希
釈剤および/または水(B)ならびに任意成分として光
重合開始剤(C)を含有することを特徴とする放射線硬
化性樹脂組成物。
で再溶解ができ、その硬化部分(塗膜)が耐水性、耐溶
剤性、耐薬品性などに優れた放射線硬化性樹脂組成物を
提供する。 【構成】分子中に四級アンモニウム塩基を有する特定の
エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)、反応性希
釈剤および/または水(B)ならびに任意成分として光
重合開始剤(C)を含有することを特徴とする放射線硬
化性樹脂組成物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は放射線硬化性樹脂組成物
およびその硬化物に関する。さらに詳細には、特定の構
造を有するエポキシ(メタ)アクリレートを四級化して
なる四級アンモニウム塩基を有する化合物を1成分とし
て含有する放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物に
関する。
およびその硬化物に関する。さらに詳細には、特定の構
造を有するエポキシ(メタ)アクリレートを四級化して
なる四級アンモニウム塩基を有する化合物を1成分とし
て含有する放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物に
関する。
【0002】
【従来の技術】紫外線あるいは電子線で硬化可能な放射
線硬化性樹脂組成物は、コーティング剤その他の用途
に、無溶剤の形で用いられる場合がある。しかし、諸性
能の向上をはかるべく有機溶剤が併用された形で用いら
れている場合が多く、この種の樹脂の水性化への要求が
根強い。それにもかかわらず、未だに満足すべき水溶性
放射線硬化性樹脂組成物が得られていない。また、印刷
製版材、印刷インキ、フォトレジストなどの感光性樹脂
組成物としても、アルコール可溶型、アルカリ可溶型あ
るいは有機溶剤可溶型などの種々のタイプのものがある
が、現像処理工程、廃液処理工程ならびに各種作業上の
安全性などの面から、水溶性のタイプのものが一段と注
目されるようになってきている。現在、こうした水溶性
の感光性樹脂組成物としては、主に、部分けん化ポリ酢
酸ビニルまたはポリ酢酸ビニルなどの水溶性エマルジョ
ンに、充填剤としてジアゾ化合物などを併用するという
形のものであって、それぞれ、製版材などとして用いら
れている。また、特開昭55−23163号公報には、
水溶性の高分子化合物それ自体に光架橋性を持たせたも
のとして、部分けん化ポリ酢酸ビニル重合体中にスチル
バゾリウム基を導入せしめた形の感光性樹脂ならびに感
光性樹脂組成物が開示されている。
線硬化性樹脂組成物は、コーティング剤その他の用途
に、無溶剤の形で用いられる場合がある。しかし、諸性
能の向上をはかるべく有機溶剤が併用された形で用いら
れている場合が多く、この種の樹脂の水性化への要求が
根強い。それにもかかわらず、未だに満足すべき水溶性
放射線硬化性樹脂組成物が得られていない。また、印刷
製版材、印刷インキ、フォトレジストなどの感光性樹脂
組成物としても、アルコール可溶型、アルカリ可溶型あ
るいは有機溶剤可溶型などの種々のタイプのものがある
が、現像処理工程、廃液処理工程ならびに各種作業上の
安全性などの面から、水溶性のタイプのものが一段と注
目されるようになってきている。現在、こうした水溶性
の感光性樹脂組成物としては、主に、部分けん化ポリ酢
酸ビニルまたはポリ酢酸ビニルなどの水溶性エマルジョ
ンに、充填剤としてジアゾ化合物などを併用するという
形のものであって、それぞれ、製版材などとして用いら
れている。また、特開昭55−23163号公報には、
水溶性の高分子化合物それ自体に光架橋性を持たせたも
のとして、部分けん化ポリ酢酸ビニル重合体中にスチル
バゾリウム基を導入せしめた形の感光性樹脂ならびに感
光性樹脂組成物が開示されている。
【0003】ところが、上述したような各種の感光性樹
脂ないしは感光性樹脂組成物には、それぞれ、致命的な
欠陥ないしは欠点のあるところから、実用に供するのに
は、余りにも問題が多すぎる。すなわち、まず、水性エ
マルジョンを形成する基体ポリマーそれ自体の耐溶剤性
が悪い。そこで、かかる感光性樹脂組成物における、こ
うした耐溶剤性を向上せしめるべく、部分けん化ポリ酢
酸ビニルの使用量を多くすることにすれば、今度は、耐
水性が低下する。しかも高分子エマルジョンの乳化のた
めには、界面活性剤などの使用が不可欠なものとなると
ころから、耐水性および耐溶剤性のすぐれたものが、益
々、得られ難くなるという欠点がある。さらに加えて、
ポリ酢酸ビニルとジアゾ化合物とからなる乳剤にあって
は、空気中の水分(湿気)を吸って、ジアゾ基が加水分
解を起こし、ひいては、感光性が失われると同時に、水
に不溶性の化合物に変化することとなり、その結果、ポ
リ酢酸ビニルとの混合状態では、常温においてさえ、僅
か2〜3週間位しか保存し得なく、したがって、保存安
定性の上において、大きく実用性を欠くこととなる。一
方、水溶性高分子化合物それ自体に光架橋性を付与せし
めた形のポリマーは、感度ならびに保存安定性などの面
でこそ優れてはいるものの、耐水性、耐溶剤性などの面
に、実用上の大きな問題が残る。
脂ないしは感光性樹脂組成物には、それぞれ、致命的な
欠陥ないしは欠点のあるところから、実用に供するのに
は、余りにも問題が多すぎる。すなわち、まず、水性エ
マルジョンを形成する基体ポリマーそれ自体の耐溶剤性
が悪い。そこで、かかる感光性樹脂組成物における、こ
うした耐溶剤性を向上せしめるべく、部分けん化ポリ酢
酸ビニルの使用量を多くすることにすれば、今度は、耐
水性が低下する。しかも高分子エマルジョンの乳化のた
めには、界面活性剤などの使用が不可欠なものとなると
ころから、耐水性および耐溶剤性のすぐれたものが、益
々、得られ難くなるという欠点がある。さらに加えて、
ポリ酢酸ビニルとジアゾ化合物とからなる乳剤にあって
は、空気中の水分(湿気)を吸って、ジアゾ基が加水分
解を起こし、ひいては、感光性が失われると同時に、水
に不溶性の化合物に変化することとなり、その結果、ポ
リ酢酸ビニルとの混合状態では、常温においてさえ、僅
か2〜3週間位しか保存し得なく、したがって、保存安
定性の上において、大きく実用性を欠くこととなる。一
方、水溶性高分子化合物それ自体に光架橋性を付与せし
めた形のポリマーは、感度ならびに保存安定性などの面
でこそ優れてはいるものの、耐水性、耐溶剤性などの面
に、実用上の大きな問題が残る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した如き従来技術
における種々の欠点を排除した樹脂組成物、すなわち、
水で現像が可能で、皮膜の乾燥後でも未硬化部分は簡単
に水で再溶解、除去され、またその硬化部分が耐水性、
耐溶剤性、耐薬品性などに優れた放射線硬化性樹脂組成
物を提供する。
における種々の欠点を排除した樹脂組成物、すなわち、
水で現像が可能で、皮膜の乾燥後でも未硬化部分は簡単
に水で再溶解、除去され、またその硬化部分が耐水性、
耐溶剤性、耐薬品性などに優れた放射線硬化性樹脂組成
物を提供する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した如き従来技術
における種々の欠点を排除した樹脂組成物、すなわち、
水で希釈が可能で皮膜の乾燥後でも未硬化部分は簡単に
水で再溶解、除去され、またその硬化部分が耐水性、耐
溶剤性、耐薬品性などに優れた放射線硬化性樹脂組成物
を提供する。
における種々の欠点を排除した樹脂組成物、すなわち、
水で希釈が可能で皮膜の乾燥後でも未硬化部分は簡単に
水で再溶解、除去され、またその硬化部分が耐水性、耐
溶剤性、耐薬品性などに優れた放射線硬化性樹脂組成物
を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
鋭意研究を重ねた結果、分子中に四級アンモニウム塩基
と(メタ)アクリロイル基を有する特定の化合物を用い
ることにより、水で希釈が可能で相容性があって、保存
安定性に優れ、その硬化物が、耐水性、耐溶剤性、耐薬
品性などに優れた樹脂組成物を見い出し、本発明を完成
するに到った。
鋭意研究を重ねた結果、分子中に四級アンモニウム塩基
と(メタ)アクリロイル基を有する特定の化合物を用い
ることにより、水で希釈が可能で相容性があって、保存
安定性に優れ、その硬化物が、耐水性、耐溶剤性、耐薬
品性などに優れた樹脂組成物を見い出し、本発明を完成
するに到った。
【0007】すなわち、本発明は、分子中に式(1)で
表される基を有するエポキシ(メタ)アクリレートを四
級化してなる四級アンモニウム塩基を有する化合物
(A)、
表される基を有するエポキシ(メタ)アクリレートを四
級化してなる四級アンモニウム塩基を有する化合物
(A)、
【0008】
【化2】
【0009】(式(1)中、Rは水素原子またはメチル
基である。) 反応性希釈剤および/または水(B)ならびに任意成分
として光重合開始剤(C)を含有することを特徴とする
放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物に関する。
基である。) 反応性希釈剤および/または水(B)ならびに任意成分
として光重合開始剤(C)を含有することを特徴とする
放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物に関する。
【0010】本発明では、分子中に式(1)で表される
基を有するエポキシ(メタ)アクリレートを四級化して
なる四級アンモニウム塩基を有する化合物(A)を使用
する。化合物(A)の具体例としては、例えば
基を有するエポキシ(メタ)アクリレートを四級化して
なる四級アンモニウム塩基を有する化合物(A)を使用
する。化合物(A)の具体例としては、例えば
【0011】
【化3】
【0012】
【化4】
【0013】
【化5】
【0014】
【化6】
【0015】
【化7】
【0016】
【化8】
【0017】
【化9】
【0018】
【化10】
【0019】
【化11】
【0020】などの化合物(A)を挙げることができ
る。これら化合物(A)は、分子中に前記式(1)で表
される基を有するエポキシ(メタ)アクリレート(例え
ば、N,N,N′,N′−テトラ(2−ヒドロキシ−3
−アクリロキシプロピル)−m−キシレンジアミン、
1,3−ビス(N−N−ジ(2−ヒドロキシ−3−アク
リロキシプロピル)アミノメチル)シクロヘキサン、
N,N,N′,N′−テトラ(2−ヒドロキシ−3−メ
タクリロキシプロピル)−m−キシレンジアミン、1,
3−ビス(N,N−ジ(2−ヒドロキシ−3−メタクリ
ロキシプロピル)アミノメチル)シクロヘキサン、
る。これら化合物(A)は、分子中に前記式(1)で表
される基を有するエポキシ(メタ)アクリレート(例え
ば、N,N,N′,N′−テトラ(2−ヒドロキシ−3
−アクリロキシプロピル)−m−キシレンジアミン、
1,3−ビス(N−N−ジ(2−ヒドロキシ−3−アク
リロキシプロピル)アミノメチル)シクロヘキサン、
N,N,N′,N′−テトラ(2−ヒドロキシ−3−メ
タクリロキシプロピル)−m−キシレンジアミン、1,
3−ビス(N,N−ジ(2−ヒドロキシ−3−メタクリ
ロキシプロピル)アミノメチル)シクロヘキサン、
【0021】
【化12】
【0022】
【化13】
【0023】
【化14】
【0024】
【化15】
【0025】
【化16】
【0026】
【化17】
【0027】など。)と四級化剤により四級化すること
により得ることができる。四級化剤としては、例えば、
ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ジプロピレン硫酸などの
アルキル硫酸類、p−トルエンスルホン酸メチル、ベン
ゼンスルホン酸メチルなどのスルホン酸エステル類、ト
リメチルホスファイトなどのアルキルリン酸、アルキル
ベンゼンクロライド、ベンジルクロライド、アルキルク
ロライド、アルキルブロマイドなどの各種ハライドが用
いられる。前記エポキシ(メタ)アリクレートと前記四
級化剤との反応は常圧または加圧下で0〜150℃で反
応するのが好ましい。
により得ることができる。四級化剤としては、例えば、
ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ジプロピレン硫酸などの
アルキル硫酸類、p−トルエンスルホン酸メチル、ベン
ゼンスルホン酸メチルなどのスルホン酸エステル類、ト
リメチルホスファイトなどのアルキルリン酸、アルキル
ベンゼンクロライド、ベンジルクロライド、アルキルク
ロライド、アルキルブロマイドなどの各種ハライドが用
いられる。前記エポキシ(メタ)アリクレートと前記四
級化剤との反応は常圧または加圧下で0〜150℃で反
応するのが好ましい。
【0028】本発明では、反応性希釈剤および/または
水(B)を使用する。反応性希釈剤の具体例としては、
単官能性のものから多官能性のものまで幅広く用いられ
るが、それらのうちで特に好ましいものとしては、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリド
ン、アクリロイルモルホリン、カルビトール(メタ)ア
クリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、グリセリ
ンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレートなど水可
溶性のものを挙げることができる。
水(B)を使用する。反応性希釈剤の具体例としては、
単官能性のものから多官能性のものまで幅広く用いられ
るが、それらのうちで特に好ましいものとしては、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリド
ン、アクリロイルモルホリン、カルビトール(メタ)ア
クリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、グリセリ
ンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレートなど水可
溶性のものを挙げることができる。
【0029】次に、任意成分として使用する光重合開始
剤(C)の具体例としては、ベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピオフェノン、ベンジルジメチ
ルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、4(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒ
ドロキシ−2−プロピル)ケトン、(4−ベンゾイルベ
ンジル)トリメチルアンモニウムクロライド、2 −(3
−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロポキシ)−3,
4−ジメチル−9H−チオキサンテン−9−オン−メチ
ルクロライド、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)
フェニル〕−2−モルフォリノ−プロパノン−1,2−
ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリ
ノ−フェニル)−1−ブタノンなどを挙げることができ
る。
剤(C)の具体例としては、ベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピオフェノン、ベンジルジメチ
ルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、4(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒ
ドロキシ−2−プロピル)ケトン、(4−ベンゾイルベ
ンジル)トリメチルアンモニウムクロライド、2 −(3
−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロポキシ)−3,
4−ジメチル−9H−チオキサンテン−9−オン−メチ
ルクロライド、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)
フェニル〕−2−モルフォリノ−プロパノン−1,2−
ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリ
ノ−フェニル)−1−ブタノンなどを挙げることができ
る。
【0030】本発明の放射線硬化性樹脂組成物は各成分
(A)〜(C)を混合、溶解、分散、混練する方法など
によって得ることができる。本発明の各成分の使用割合
は、(A)成分は29〜95重量%が好ましく、特に好
ましくは39〜80重量%であり、(B)成分は5〜7
0重量%が好ましく、特に好ましくは20〜60重量%
であり、(C)成分は0〜15重量%が好ましく、特に
好ましくは0〜10重量%である。
(A)〜(C)を混合、溶解、分散、混練する方法など
によって得ることができる。本発明の各成分の使用割合
は、(A)成分は29〜95重量%が好ましく、特に好
ましくは39〜80重量%であり、(B)成分は5〜7
0重量%が好ましく、特に好ましくは20〜60重量%
であり、(C)成分は0〜15重量%が好ましく、特に
好ましくは0〜10重量%である。
【0031】本発明の放射線硬化性樹脂組成物には、さ
らに必要に応じて、本発明の目的を逸脱しない範囲、と
りわけ水希釈性、保存安定性ならびに耐水性、耐溶剤
性、耐薬品性などを保持しうる範囲内で、公知慣用の有
機溶剤、無機フィラー添加剤、他のタイプの水溶性樹脂
(例えば、ポリビニルピロリドンなど)などを添加せし
めることを妨げるものではない。また、公知慣用の光重
合促進剤を併用することができるが、かかる光重合促進
剤として特に代表的なものとしては、アミン類、尿素類
もしくはその他含窒素化合物などがあり、水溶性のもの
の使用が望ましい。
らに必要に応じて、本発明の目的を逸脱しない範囲、と
りわけ水希釈性、保存安定性ならびに耐水性、耐溶剤
性、耐薬品性などを保持しうる範囲内で、公知慣用の有
機溶剤、無機フィラー添加剤、他のタイプの水溶性樹脂
(例えば、ポリビニルピロリドンなど)などを添加せし
めることを妨げるものではない。また、公知慣用の光重
合促進剤を併用することができるが、かかる光重合促進
剤として特に代表的なものとしては、アミン類、尿素類
もしくはその他含窒素化合物などがあり、水溶性のもの
の使用が望ましい。
【0032】本発明でいう放射線とは電子線、α線、β
線、γ線、X線、中性子線または紫外線の如き、電離性
放射線や光などを総称するものである。本発明の放射線
硬化性樹脂組成物の硬化物は、通常は塗膜にした後、上
記した放射線を放射することにより硬化して得ることが
できる。本発明の樹脂組成物は、例えば塗料、接着剤、
印刷インキ、製版材、コーティング、フォオレジストな
どに用いることができる。
線、γ線、X線、中性子線または紫外線の如き、電離性
放射線や光などを総称するものである。本発明の放射線
硬化性樹脂組成物の硬化物は、通常は塗膜にした後、上
記した放射線を放射することにより硬化して得ることが
できる。本発明の樹脂組成物は、例えば塗料、接着剤、
印刷インキ、製版材、コーティング、フォオレジストな
どに用いることができる。
【0033】
【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。以下において、部は、特に断りのない限りすべ
て重量基準である。
明する。以下において、部は、特に断りのない限りすべ
て重量基準である。
【0034】化合物(A)の合成例 合成例1 N,N,N′,N′−テトラ(2−ヒドロキシ−3−ア
クリロキシプロピル)−m−キシレンジアミン(三菱ガ
ス化学(株)製,TETRAD T−XA)648部、
希釈剤としてKAYARAD PEG400DA(日本
化薬(株)製、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト)162部 2−ヒドロキシエチルアクリレート30
0部を仕込み、攪拌しながらジメチル硫酸247部を内
温60℃以下になるように滴下し、滴下終了後、60℃
で1時間攪拌し、四級アンモニウム塩基を有する化合物
(A−1)を得た。
クリロキシプロピル)−m−キシレンジアミン(三菱ガ
ス化学(株)製,TETRAD T−XA)648部、
希釈剤としてKAYARAD PEG400DA(日本
化薬(株)製、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト)162部 2−ヒドロキシエチルアクリレート30
0部を仕込み、攪拌しながらジメチル硫酸247部を内
温60℃以下になるように滴下し、滴下終了後、60℃
で1時間攪拌し、四級アンモニウム塩基を有する化合物
(A−1)を得た。
【0035】合成例2 1,3−ビス(N,N−ジ(2−ヒドロキシ−3−アク
リロキシプロピル)アミノメチル)シクロヘキサン(三
菱ガス化学(株)製、TETRAD T−CA)654
部、希釈剤としてメタノール163.5部を仕込み、攪
拌しながらジエチル硫酸302部を内温60℃以下にな
るように滴下し、滴下終了後、60℃で1時間攪拌し、
次いで、メタノールを蒸留、除却し、四級アンモニウム
塩基を有する化合物(A−2)を得た。
リロキシプロピル)アミノメチル)シクロヘキサン(三
菱ガス化学(株)製、TETRAD T−CA)654
部、希釈剤としてメタノール163.5部を仕込み、攪
拌しながらジエチル硫酸302部を内温60℃以下にな
るように滴下し、滴下終了後、60℃で1時間攪拌し、
次いで、メタノールを蒸留、除却し、四級アンモニウム
塩基を有する化合物(A−2)を得た。
【0036】合成例3 N,N,N′,N′−テトラ(2−ヒドロキシ−3−メ
タクリロキシプロピル)m−キシレンジアミン(三菱ガ
ス化学(株)製、TETRAD T−XM)704部、
希釈剤として、2−ヒドロキシプロピルアクリレート1
76部を仕込み、攪拌しながら、ジメチル硫酸247部
を内温60℃以下になるように滴下し、滴下終了後、6
0℃で1時間攪拌し、四級アンモニウム塩基を有する化
合物(A−3)を得た。
タクリロキシプロピル)m−キシレンジアミン(三菱ガ
ス化学(株)製、TETRAD T−XM)704部、
希釈剤として、2−ヒドロキシプロピルアクリレート1
76部を仕込み、攪拌しながら、ジメチル硫酸247部
を内温60℃以下になるように滴下し、滴下終了後、6
0℃で1時間攪拌し、四級アンモニウム塩基を有する化
合物(A−3)を得た。
【0037】実施例1〜5 表1に示す割合で各成分(数値は重量部を示す。)を混
合して本発明の放射線硬化性樹脂組成物を得て塗料化し
た。次いで、得られたそれぞれの塗料を軟鋼板上に、5
0μmの膜厚となるように塗布し、40℃で10分間乾
燥させた。かかる塗布乾燥後それぞれの塗膜(なおそれ
ぞれの塗膜は、いずれも水により再溶解が可能なもので
あった。)に対して、水銀ランプにより、500mJ/cm2
紫外線を照射し、硬化塗膜を得た。それぞれの硬化塗膜
について性能評価の結果は表1に示される通りである。
合して本発明の放射線硬化性樹脂組成物を得て塗料化し
た。次いで、得られたそれぞれの塗料を軟鋼板上に、5
0μmの膜厚となるように塗布し、40℃で10分間乾
燥させた。かかる塗布乾燥後それぞれの塗膜(なおそれ
ぞれの塗膜は、いずれも水により再溶解が可能なもので
あった。)に対して、水銀ランプにより、500mJ/cm2
紫外線を照射し、硬化塗膜を得た。それぞれの硬化塗膜
について性能評価の結果は表1に示される通りである。
【0038】
【表1】 表1 実 施 例 *7 1 2 3 4 5 ウレタンアクリレート(A−1) 100 50 ウレタンアクリレート(A−2) 70 35 ウレタンアクリレート(A−3) 65 50 35 カルビトールアクリレート 10 10 10 ポリエチレングリコールジアクリレート 20 グリセリンモノアクリレート 25 2−ヒドロキシエチルアクリレート 20 20 水 100 50 50 50 ダロキュアー2959 *1 5 5 5 5 未硬化塗膜の再溶解性 *2 ○ ○ ○ ○ ○ 硬化塗膜 耐水性 *3 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 耐溶剤性 *4 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 耐アルカリ性 *5 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 腐食性試験 *6 ○ ○ ○ ○ ○
【0039】注 *1 ダロキュアー2959:
チバ・ガイギー社製、光重合開始剤、4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロ
ピル)ケトン。 *2 評価基準 ○・・・・完全溶解 △・・・・不溶部分が残る ×・・・・再溶解せず *3,4,5 : ガーゼに、それぞれ、水、アセトン
または1%水酸化ナトリウム水溶液をふくませて、20
回擦ったのちの膜厚の減少の度合いに応じて評価 評価基準 ◎・・・・変化なし ○・・・・1〜5μm △・・・・5〜10μm ×・・・・10μm以上
チバ・ガイギー社製、光重合開始剤、4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロ
ピル)ケトン。 *2 評価基準 ○・・・・完全溶解 △・・・・不溶部分が残る ×・・・・再溶解せず *3,4,5 : ガーゼに、それぞれ、水、アセトン
または1%水酸化ナトリウム水溶液をふくませて、20
回擦ったのちの膜厚の減少の度合いに応じて評価 評価基準 ◎・・・・変化なし ○・・・・1〜5μm △・・・・5〜10μm ×・・・・10μm以上
【0040】腐食性試験 *6 : SUS304の試
験片を各実施例の組成物に浸し、60℃で1週間放置
し、試験片の外観を観察した。 ○・・・・外観に全く異常なし △・・・・極くわずかの腐食あり ×・・・・全面に腐食あり *7 : 実施例3の塗膜に対しては、電子線を5メガ
ラット照射し硬化塗膜を得た。
験片を各実施例の組成物に浸し、60℃で1週間放置
し、試験片の外観を観察した。 ○・・・・外観に全く異常なし △・・・・極くわずかの腐食あり ×・・・・全面に腐食あり *7 : 実施例3の塗膜に対しては、電子線を5メガ
ラット照射し硬化塗膜を得た。
【0041】表1から明らかなように、本発明の樹脂組
成物は、水希釈が可能であり、したがって環境や作業工
程に与える影響がなく、硬化処理後の未硬化部分は水で
再溶解(現像)可能なものである。またその硬化部分
(塗膜)が、耐水性、耐溶剤性、耐アルカリ性などに優
れている。
成物は、水希釈が可能であり、したがって環境や作業工
程に与える影響がなく、硬化処理後の未硬化部分は水で
再溶解(現像)可能なものである。またその硬化部分
(塗膜)が、耐水性、耐溶剤性、耐アルカリ性などに優
れている。
【0042】
【発明の効果】本発明の放射線硬化性樹脂組成物は、水
希釈が可能であり、硬化処理後の未硬化部分は水で再溶
解可能なものであり、その硬化部分(塗膜)が耐水性、
耐溶剤性、耐薬品性などに優れ、コーティング剤、フォ
トレジスト、印刷インキ、製版材などの広範な用途にお
いて極めて有用なものである。
希釈が可能であり、硬化処理後の未硬化部分は水で再溶
解可能なものであり、その硬化部分(塗膜)が耐水性、
耐溶剤性、耐薬品性などに優れ、コーティング剤、フォ
トレジスト、印刷インキ、製版材などの広範な用途にお
いて極めて有用なものである。
Claims (2)
- 【請求項1】分子中に式(1)で表される基を有するエ
ポキシ(メタ)アクリレートを四級化してなる四級アン
モニウム塩基を有する化合物(A) 【化1】 (式中、Rは水素原子またはメチル基である。) 反応性希釈剤および/または水(B)ならびに任意成分
として光重合開始剤(C)を含有することを特徴とする
放射線硬化性樹脂組成物。 - 【請求項2】請求項1記載の放射線硬化性樹脂組成物の
硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20815493A JPH0741528A (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20815493A JPH0741528A (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0741528A true JPH0741528A (ja) | 1995-02-10 |
Family
ID=16551546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20815493A Pending JPH0741528A (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0741528A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013506008A (ja) * | 2009-08-28 | 2013-02-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多官能性カチオンを含む重合性イオン性液体及び静電気防止コーティング |
| WO2018008580A1 (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | セメダイン株式会社 | 硬化性組成物、及び製品 |
| US11807795B2 (en) | 2009-08-28 | 2023-11-07 | 3M Innovative Properties Company | Optical device with antistatic coating |
-
1993
- 1993-08-02 JP JP20815493A patent/JPH0741528A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013506008A (ja) * | 2009-08-28 | 2013-02-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多官能性カチオンを含む重合性イオン性液体及び静電気防止コーティング |
| US11807795B2 (en) | 2009-08-28 | 2023-11-07 | 3M Innovative Properties Company | Optical device with antistatic coating |
| WO2018008580A1 (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | セメダイン株式会社 | 硬化性組成物、及び製品 |
| JPWO2018008580A1 (ja) * | 2016-07-06 | 2019-04-25 | セメダイン株式会社 | 硬化性組成物、及び製品 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO1997004361A1 (de) | Heterogene photoinitiatoren, photopolymerisierbare zusammensetzungen und deren verwendung | |
| JPH0397717A (ja) | 反応生成物、この製造方法及びこれを使用して得られる感放射線材料 | |
| JPH0741528A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPH06157694A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPH0741542A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPH06157695A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JPH06157693A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPH0762026A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPH0733840A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| KR20010088367A (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
| JPH0725958A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPH06100644A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP3251349B2 (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JPH0317113A (ja) | 水溶性活性エネルギー線硬化型樹脂およびそれを含んで成る樹脂組成物 | |
| US5939148A (en) | Visible laser-curable composition | |
| JP3293905B2 (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JPH06206956A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化物 | |
| KR100588326B1 (ko) | 반도체 레이저 경화형 수지 조성물 및 그 조성물을 사용한레지스트 패턴 형성 방법 | |
| JP3889866B2 (ja) | ポリウレタン樹脂系光硬化性被覆剤および光硬化性組成物 | |
| JPH06157691A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物およびその硬化物 | |
| JPH0693065A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化物 | |
| JP2001206922A (ja) | 水現像可能な光硬化性樹脂組成物 | |
| JP3310330B2 (ja) | 新規なエネルギー線硬化性樹脂組成物 | |
| JP2002121242A (ja) | 放射線硬化性樹脂組成物の硬化物 | |
| JPH04108813A (ja) | 光硬化性樹脂組成物,塗料及び合板 |