JPH0743997Y2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPH0743997Y2 JPH0743997Y2 JP1988147797U JP14779788U JPH0743997Y2 JP H0743997 Y2 JPH0743997 Y2 JP H0743997Y2 JP 1988147797 U JP1988147797 U JP 1988147797U JP 14779788 U JP14779788 U JP 14779788U JP H0743997 Y2 JPH0743997 Y2 JP H0743997Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flat plate
- heat
- microwaves
- heater
- frequency heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 この考案は、電子レンジのような高周波加熱装置に関す
る。
る。
（ロ）従来の技術 従来の電子レンジにおいては、調理する食品に焦げ目を
付けるために加熱室の内部に抵抗発熱による加熱手段
（シーズヒーターやリボンヒーター）が設けられてい
る。
付けるために加熱室の内部に抵抗発熱による加熱手段
（シーズヒーターやリボンヒーター）が設けられてい
る。
第８図はその従来の加熱手段の１例を示す断面図であ
り、１はシーズヒーター、２は断熱シート、３はケース
上板、４はケース下板であり、シーズヒーター１はケー
ス下板４に穿設された孔５を介して食品を加熱するよう
にしている。
り、１はシーズヒーター、２は断熱シート、３はケース
上板、４はケース下板であり、シーズヒーター１はケー
ス下板４に穿設された孔５を介して食品を加熱するよう
にしている。
（ハ）考案が解決しようとする課題 しかしながら、このような従来の加熱手段においては、
ヒーターからの照射熱を平面状にムラなく分布させるこ
とが難しく、照射熱量のムラが被加熱物（食品）に焦げ
目ムラを生じさせる。また、そのために被加熱物の焦げ
目付けに時間を要するという問題点があった。
ヒーターからの照射熱を平面状にムラなく分布させるこ
とが難しく、照射熱量のムラが被加熱物（食品）に焦げ
目ムラを生じさせる。また、そのために被加熱物の焦げ
目付けに時間を要するという問題点があった。
この考案はこのような事情を考慮してなされたもので、
抵抗発熱による加熱手段とマイクロ波吸収発熱体とを併
用して食品を加熱することによりムラのない均一な焦げ
目を効率良くつけることが可能な高周波加熱装置を提供
するものである。
抵抗発熱による加熱手段とマイクロ波吸収発熱体とを併
用して食品を加熱することによりムラのない均一な焦げ
目を効率良くつけることが可能な高周波加熱装置を提供
するものである。
（ニ）課題を解決するための手段 この考案は、マイクロ波を照射するマイクロ波発生装置
を有した高周波加熱装置において、マイクロ波を照射す
ることによって発熱する材料からなる平板と、前記平板
に密着して蛇行するシーズヒーターとからなる発熱体を
備え、シーズヒーターへの通電中に前記マイクロ波発生
装置からのマイクロ波の照射によって平板から発生した
熱にシーズヒーターから発生した熱を重畳して被加熱物
へ供給することを特徴とする高周波加熱装置を提供する
ものである。
を有した高周波加熱装置において、マイクロ波を照射す
ることによって発熱する材料からなる平板と、前記平板
に密着して蛇行するシーズヒーターとからなる発熱体を
備え、シーズヒーターへの通電中に前記マイクロ波発生
装置からのマイクロ波の照射によって平板から発生した
熱にシーズヒーターから発生した熱を重畳して被加熱物
へ供給することを特徴とする高周波加熱装置を提供する
ものである。
マイクロ波を照射することによって発熱する材料からな
る平板によって、上記シーズヒーターを両面から挟むよ
うに構成してもよい。
る平板によって、上記シーズヒーターを両面から挟むよ
うに構成してもよい。
マイクロ波を照射することによって発熱する材料には、
例えば、SiCを85％程度含有するセラミック成形体が使
用される。また、シーズヒーターは、シーズ（金属パイ
プ）の内部にニクロム線が挿入され両者が耐熱性の絶縁
物、例えば酸化マグネシウムの粉末などによって絶縁さ
せることにより構成される。
例えば、SiCを85％程度含有するセラミック成形体が使
用される。また、シーズヒーターは、シーズ（金属パイ
プ）の内部にニクロム線が挿入され両者が耐熱性の絶縁
物、例えば酸化マグネシウムの粉末などによって絶縁さ
せることにより構成される。
（ホ）作用 平板にマイクロ波を照射することによって、平板が発熱
し、さらに平板に設けられたシーズヒーターが通電によ
って発熱するので、この両者が併用されることによって
食品が加熱されると、熱が食品に対して一様に分布して
照射されるので、食品に焦げ目がムラなく形成されると
共に、焦げ目付けの能率が向上する。
し、さらに平板に設けられたシーズヒーターが通電によ
って発熱するので、この両者が併用されることによって
食品が加熱されると、熱が食品に対して一様に分布して
照射されるので、食品に焦げ目がムラなく形成されると
共に、焦げ目付けの能率が向上する。
（ヘ）実施例 以下、図面に示す実施例に基づいて、この考案を詳述す
る。これによって、この考案が限定されるものではな
い。
る。これによって、この考案が限定されるものではな
い。
第１図はこの考案の一実施例を示す断面図、第２図は第
１図の下面図である。これらの図において、11は平面的
に蛇行するシーズヒーターであり、シーズヒーター11
は、金属パイプ11aとその内部に挿入されたニクロム線1
1bとパイプ11aに充填された酸化マグネシウムの粉末11c
から構成されている。12はマイクロ波を照射することに
よって発熱する材料からなる平板であり、この実施例に
おいては、平板には85％程度のSiCを含有するセラミッ
ク成形体によって構成され、蛇行するシーズヒーター11
の間隙を充填するように配置される。13は発熱体12を固
定するプレートであり、平板12と同種の材料で形成され
平板12に接着されている。
１図の下面図である。これらの図において、11は平面的
に蛇行するシーズヒーターであり、シーズヒーター11
は、金属パイプ11aとその内部に挿入されたニクロム線1
1bとパイプ11aに充填された酸化マグネシウムの粉末11c
から構成されている。12はマイクロ波を照射することに
よって発熱する材料からなる平板であり、この実施例に
おいては、平板には85％程度のSiCを含有するセラミッ
ク成形体によって構成され、蛇行するシーズヒーター11
の間隙を充填するように配置される。13は発熱体12を固
定するプレートであり、平板12と同種の材料で形成され
平板12に接着されている。
このような構成において、この発熱体に電子レンジのマ
グネトロンからマイクロ波が照射され、シーズヒーター
に電流が通電されると、平板12、プレート13および、シ
ーズヒーター11が発熱し、それによって、両者の発熱温
度が平面的に均一化され、熱放射面（第１図における平
板12の下面）が約600〜800℃の均一な温度分布となる。
従って、このような均一化された熱放射面によって食品
が加熱されると、ムラのない焦げ目が能率よく食品に形
成されることになる。
グネトロンからマイクロ波が照射され、シーズヒーター
に電流が通電されると、平板12、プレート13および、シ
ーズヒーター11が発熱し、それによって、両者の発熱温
度が平面的に均一化され、熱放射面（第１図における平
板12の下面）が約600〜800℃の均一な温度分布となる。
従って、このような均一化された熱放射面によって食品
が加熱されると、ムラのない焦げ目が能率よく食品に形
成されることになる。
第３図はこの考案の他の実施例を示す断面図であり、21
は平面的に蛇行するシーズヒーター、22はシーズヒータ
ー21の間隙を充填するように配設された平板であり、平
板22はマイクロ波を照射することによって発熱する材
料、例えばSiCを85％程度含有するセラミックによって
形成される。23は平板22を支持するプレートであり、プ
レート23はマイクロ波を透過する材料、例えばコージェ
ライトによって形成される。なお、この場合、シーズヒ
ーター21及び平板22で発熱した熱は、プレート23によっ
て断熱されるので、効率良く放射面（下面）から放散す
る。なお、平板22の暑さは、高速発熱をさせるために、
薄い方が好ましく0.1〜3mm程度がよい。そして、シーズ
ヒーター21と平板22との発熱により均一な熱放射面が形
成され、それによって加熱される食品はムラのない焦げ
目が形成される。
は平面的に蛇行するシーズヒーター、22はシーズヒータ
ー21の間隙を充填するように配設された平板であり、平
板22はマイクロ波を照射することによって発熱する材
料、例えばSiCを85％程度含有するセラミックによって
形成される。23は平板22を支持するプレートであり、プ
レート23はマイクロ波を透過する材料、例えばコージェ
ライトによって形成される。なお、この場合、シーズヒ
ーター21及び平板22で発熱した熱は、プレート23によっ
て断熱されるので、効率良く放射面（下面）から放散す
る。なお、平板22の暑さは、高速発熱をさせるために、
薄い方が好ましく0.1〜3mm程度がよい。そして、シーズ
ヒーター21と平板22との発熱により均一な熱放射面が形
成され、それによって加熱される食品はムラのない焦げ
目が形成される。
第４図はこの考案の更に他の実施例を示す断面図であ
り、マイクロ波を吸収して発熱する材料、例えばSiC85
％含有のセラミックを成形焼結した平板32および33によ
って平面的に蛇行するシーズヒーター31を上下両面から
挟み付けて構成している。なお、平板33を熱伝導の小さ
い、例えば、コージェライト成形体によって置き換えて
も良い。この場合、コージェライト成形体にはマイクロ
波が透過するのでシーズヒーター31と平板32が一方の熱
放射面にのみ優先して発熱することになる。また、シー
ズヒーター31と平板32,33とを一体化する場合には、シ
ーズヒーター31の表面に接着性のセラミックフリットを
照射又はコーティングし、高温度で平板32,33と溶着さ
せて一体化することが好ましい。
り、マイクロ波を吸収して発熱する材料、例えばSiC85
％含有のセラミックを成形焼結した平板32および33によ
って平面的に蛇行するシーズヒーター31を上下両面から
挟み付けて構成している。なお、平板33を熱伝導の小さ
い、例えば、コージェライト成形体によって置き換えて
も良い。この場合、コージェライト成形体にはマイクロ
波が透過するのでシーズヒーター31と平板32が一方の熱
放射面にのみ優先して発熱することになる。また、シー
ズヒーター31と平板32,33とを一体化する場合には、シ
ーズヒーター31の表面に接着性のセラミックフリットを
照射又はコーティングし、高温度で平板32,33と溶着さ
せて一体化することが好ましい。
第５図はこの考案の更に他の実施例を示す断面図であ
り、41は平面的に蛇行するシーズヒーター、42はシーズ
ヒーター41をプレス成形金型枠に挿入して、SiC85％含
有の窒化硅素やバインダーなどのセラミック配合原料を
充填してプレス成形し、その後焼結して一体化したもの
である。この実施例においても上記の実施例と同様の効
果を得ることができる。
り、41は平面的に蛇行するシーズヒーター、42はシーズ
ヒーター41をプレス成形金型枠に挿入して、SiC85％含
有の窒化硅素やバインダーなどのセラミック配合原料を
充填してプレス成形し、その後焼結して一体化したもの
である。この実施例においても上記の実施例と同様の効
果を得ることができる。
なお、上記いずれの実施例においても、シーズヒーター
と平板とを一体形成することが可能であり、この場合に
は、シーズヒーターとセラミック材料との接着部が熱膨
張の差で空間を生じても差し支えがないが、もし完全に
接着したい場合には、シーズヒーター表面に接着性の良
いセラミックの照射又はコーティングによる前処理して
施してから成形焼結することが望ましい。
と平板とを一体形成することが可能であり、この場合に
は、シーズヒーターとセラミック材料との接着部が熱膨
張の差で空間を生じても差し支えがないが、もし完全に
接着したい場合には、シーズヒーター表面に接着性の良
いセラミックの照射又はコーティングによる前処理して
施してから成形焼結することが望ましい。
第６図は第１図に示す実施例の効果を従来例と比較する
ための電子レンジの構成説明図であり、発熱体Ｈは加熱
室Ｒの天井部に設置される。このように設置された発熱
体Ｈの熱放射面から20mm下方の水平距離に対する温度分
布を測定すると、第７図のようになった。曲線（イ）は
発熱体Ｈがこの第１図に示す実施例によるものであり、
曲線（ロ）は従来例によるものである。なお、シーズヒ
ーターには800Wのものを使用し、マイクロ波出力は500W
とした。また、温度分布測定はシーズヒーター及びマグ
ネットロンに通電開始後３分後に行った。第７図はこの
考案による発熱体の温度分布は従来例に比べて、非常に
均一化されることを示している。
ための電子レンジの構成説明図であり、発熱体Ｈは加熱
室Ｒの天井部に設置される。このように設置された発熱
体Ｈの熱放射面から20mm下方の水平距離に対する温度分
布を測定すると、第７図のようになった。曲線（イ）は
発熱体Ｈがこの第１図に示す実施例によるものであり、
曲線（ロ）は従来例によるものである。なお、シーズヒ
ーターには800Wのものを使用し、マイクロ波出力は500W
とした。また、温度分布測定はシーズヒーター及びマグ
ネットロンに通電開始後３分後に行った。第７図はこの
考案による発熱体の温度分布は従来例に比べて、非常に
均一化されることを示している。
（ト）考案の効果 この考案によれば、電子レンジのような高周波加熱装置
において、食品に均一に能率良く焦げ目を形成すること
ができる。
において、食品に均一に能率良く焦げ目を形成すること
ができる。
第１図はこの考案の一実施例を示す断面図、第２図は第
１図の下面図、第３図〜第５図はこの考案の他の実施例
を示す断面図、第６図は第１図に示す実施例の温度分布
測定の状況を示す説明図、第７図は第１図に示す実施例
の熱放射面の温度分布を従来と比較して示すグラフ、第
８図は従来例を示す断面図である。 11……シーズヒーター、12……平板、13……プレート、
11a……金属パイプ、11b……ニクロム線、11c……絶縁
物。
１図の下面図、第３図〜第５図はこの考案の他の実施例
を示す断面図、第６図は第１図に示す実施例の温度分布
測定の状況を示す説明図、第７図は第１図に示す実施例
の熱放射面の温度分布を従来と比較して示すグラフ、第
８図は従来例を示す断面図である。 11……シーズヒーター、12……平板、13……プレート、
11a……金属パイプ、11b……ニクロム線、11c……絶縁
物。
Claims (1)
- 【請求項１】マイクロ波を照射するマイクロ波発生装置
を有した高周波加熱装置において、マイクロ波を照射す
ることによって発熱する材料からなる平板と、前記平板
に密着して蛇行するシーズヒーターとからなる発熱体を
備え、シーズヒーターへの通電中に前記マイクロ波発生
装置からのマイクロ波の照射によって平板から発生した
熱にシーズヒーターから発生した熱を重畳して被加熱物
へ供給することを特徴とする高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988147797U JPH0743997Y2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988147797U JPH0743997Y2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0267597U JPH0267597U (ja) | 1990-05-22 |
| JPH0743997Y2 true JPH0743997Y2 (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=31418533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988147797U Expired - Fee Related JPH0743997Y2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0743997Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61208789A (ja) * | 1985-03-13 | 1986-09-17 | 松下電器産業株式会社 | 電子レンジオ−ブン |
| JPS62113377A (ja) * | 1985-11-13 | 1987-05-25 | バブコツク日立株式会社 | 遠赤外線ヒ−タ |
-
1988
- 1988-11-11 JP JP1988147797U patent/JPH0743997Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0267597U (ja) | 1990-05-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |