JPH0758663B2 - 厚膜コンデンサ - Google Patents

厚膜コンデンサ

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JPH0758663B2
JPH0758663B2 JP1329101A JP32910189A JPH0758663B2 JP H0758663 B2 JPH0758663 B2 JP H0758663B2 JP 1329101 A JP1329101 A JP 1329101A JP 32910189 A JP32910189 A JP 32910189A JP H0758663 B2 JPH0758663 B2 JP H0758663B2
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JP
Japan
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upper electrode
thick film
film capacitor
capacitance
center
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JP1329101A
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JPH03190117A (ja
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耕造 高田
文男 岩見
悟 鈴木
功 石垣
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、容量調整可能な厚膜コンデンサに関する。
従来の技術 第4図は従来の厚膜コンデンサの構成を示し、第5図は
第4図のV−V線に沿う断面図である。第4図および第
5図において、1はアルミナセラミック等の絶縁基板、
2はAg−Pd等の下部電極、3はAg−Pd等の櫛歯状の上部
電極、4はガラス系の誘電体層、5はオーバコートであ
る。これらは絶縁基板1上にスクリーン印刷法により所
定の形状に順次印刷、焼成を繰り返すことにより積層状
態で形成される。
このような厚膜コンデンサの静電容量は、次の式から求
めることができる。
C=εo・ε・S/d ここで、εoは比誘電率、εは誘電体材料の誘電率、S
は有効面積(下部電極と上部電極の重なり合った面
積)、dは誘電体層の厚さである。したがって、面積S
を変化させることにより厚膜コンデンサの静電容量を変
化させることができる。
上記従来例では、櫛歯状の上部電極3の櫛歯部分3aに対
し1本ずつレーザビームにより切断溝6を入れて他の部
分から切断することにより、上部電極3の面積を変え、
静電容量の調整を行なっている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記従来の厚膜コンデンサの櫛歯状上部
電極3のトリミングによる容量調整法では、容量値の調
整は、第3図に示すように、櫛歯部分3aを1本切断する
毎に2pFずつ段階的に調整され、容量値を連続的に微調
整することができないという問題があった。
本発明は、このような従来の問題を解決するものであ
り、容量値を連続的に微調整することのできる優れた厚
膜コンデンサを提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 本発明は、上記目的を達成するために、厚膜コンデンサ
の上部電極を中心部に円形の開口を有する円板状に形成
するようにしたものである。
作用 したがって、本発明によれば、上部電極をその中心部か
ら扇型に切除することにより上部電極の面積を連続的に
変化させることができるため、容量調整を連続的に微調
整することがきるという効果を有する。
実施例 第1図は本発明の一実施例の構成を示し、第2図は第1
図のII−II線に沿う断面図である。第1図および第2図
において、11はアルミナセラミック製の絶縁基板、12は
Ag−Pd合金製の矩形の下部電極、13はAg−Pd合金製の中
心部に円形開口14を有する円板状の上部電極、15はガラ
ス系の矩形の誘電体層、16はオーバコートである。これ
らは絶縁基板11上にスクリーン印刷法により所定の形状
に順次印刷、焼成を繰り返すことにより積層状態で形成
される。
次に上記実施例における容量調整動作について説明す
る。まずこの厚膜コンデンサをレーザトリミング装置に
セットし、レーザビームを上部電極13の中心部から放射
方向に移動させて切断溝17を入れる。次に、この切断溝
17から角度θをもって同様に放射方向に切断溝18を入れ
て、上部電極13を扇形に切除する。これにより切断溝17
および18により囲まれた部分は上部電極13の他の部分か
ら電気的に切り離されるので、その減少した面積分だけ
静電容量が小さくなる。
このように、上記実施例によれば、上部電極13から切除
される面積は、切断溝17と18とがなす角度θによって決
まるので、容量値の調整も第3図に示すように角度θを
適切に変化させることにより容易に連続的に微調整する
ことができるという利点を有する。
発明の効果 本発明は、上記実施例から明らかなように、上部電極を
中心部に円形開口を有する円板状に形成したので、上部
電極を中心部から扇形に切除することにより、容量値を
連続的に微調整することができるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における厚膜コンデンサの概
略平面図、第2図は第1図のII−II線に沿う断面図、第
3図は同厚膜コンデンサにおける容量調整特性図、第4
図は従来の厚膜コンデンサの概略平面図、第5図は第4
図のV−V線に沿う断面図、第6図は従来の厚膜コンデ
ンサにおける容量調整特性図である。 1、11…絶縁基板、2、12…下部電極、3、13…上部電
極、14…円形開口、4、15…誘電体層、5、16…オーバ
コート、17、18…切断溝。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石垣 功 神奈川県横浜市港北区綱島東4丁目3番1 号 松下通信工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−102727(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁基板上に順次積層された下部電極、誘
    電体層および上部電極を備え、前記上部電極が中心部に
    円形開口を有する円板状に形成されるとともに、この上
    部電極の中心部の円形開口より外周に至るまでの間に切
    断溝を扇形状に形成して成り、下部電極と相対する上部
    電極の面積が連続的に変化するようにしたことを特徴と
    する厚膜コンデンサ。
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