JPH076537A - 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法Info
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- JPH076537A JPH076537A JP6072889A JP7288994A JPH076537A JP H076537 A JPH076537 A JP H076537A JP 6072889 A JP6072889 A JP 6072889A JP 7288994 A JP7288994 A JP 7288994A JP H076537 A JPH076537 A JP H076537A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
-
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- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 所望形状の段部分及び滑らかな表面を有する
段差平面をイオンミリングによって形成することのでき
る磁気ヘッド装置用スライダ及びこのスライダの製造方
法を提供する。 【構成】 ミリング速度の低い方の成分の粒子径がミリ
ング速度の高い方の成分の粒子径より小さく設定されて
いる。
段差平面をイオンミリングによって形成することのでき
る磁気ヘッド装置用スライダ及びこのスライダの製造方
法を提供する。 【構成】 ミリング速度の低い方の成分の粒子径がミリ
ング速度の高い方の成分の粒子径より小さく設定されて
いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、浮上型磁気ヘッド装置
用スライダ及びこのスライダの製造方法に関する。
用スライダ及びこのスライダの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】浮上型磁気ヘッド装置のスライダは、そ
の後端に記録再生用磁気ヘッド素子を有しており、磁気
ディスク等の高速で移動する磁気媒体表面とこのスライ
ダの浮上面（ＡＢＳ面）との間に押し込まれる空気流に
よって浮上力を発生する。スライダの浮上量（浮上高）
は、この浮上力と外部からスライダに印加されるばね力
とを釣り合わせて適切な値に調節される。
の後端に記録再生用磁気ヘッド素子を有しており、磁気
ディスク等の高速で移動する磁気媒体表面とこのスライ
ダの浮上面（ＡＢＳ面）との間に押し込まれる空気流に
よって浮上力を発生する。スライダの浮上量（浮上高）
は、この浮上力と外部からスライダに印加されるばね力
とを釣り合わせて適切な値に調節される。
【０００３】しかしながら、この種のスライダを一方の
端部を支点として回動するスウィングアームの他端部に
取り付けて支持した場合、スライダに対する磁気ディス
クの相対的移動速度の相違やスキューによって、ディス
クの内周部と外周部とでは浮上量が異なってしまう。図
３はこの現象を説明するための実測した特性図であり、
横軸は磁気ディスクとの相対的移動速度及びスキュー角
度、縦軸はスライダの浮上量をそれぞれ示している。同
図において、３０は相対速度の相違に基づく浮上量変化
特性、３１はスキューに基づく浮上量変化特性、３２は
実際の浮上量変化特性でありこれは変化特性３０及び３
１を合成したものに対応している。
端部を支点として回動するスウィングアームの他端部に
取り付けて支持した場合、スライダに対する磁気ディス
クの相対的移動速度の相違やスキューによって、ディス
クの内周部と外周部とでは浮上量が異なってしまう。図
３はこの現象を説明するための実測した特性図であり、
横軸は磁気ディスクとの相対的移動速度及びスキュー角
度、縦軸はスライダの浮上量をそれぞれ示している。同
図において、３０は相対速度の相違に基づく浮上量変化
特性、３１はスキューに基づく浮上量変化特性、３２は
実際の浮上量変化特性でありこれは変化特性３０及び３
１を合成したものに対応している。
【０００４】スライダのＡＢＳ面側に設けられるレール
の断面形状を工夫することにより、このようなスキュー
及び周速による浮上量の差を補償し、磁気ディスクの内
周部と外周部とで同一浮上量となるようにしたＴＰＣ
（Ｔｒａｖｅｒｓｅ Ｐｒｅｓｓｕｒｉｚａｔｉｏｎ
Ｃｏｎｔｏｕｒ）技術は公知である（例えば、米国特許
第４，６７３，９９６号（特開昭６１−２７８０８７号
に対応）、米国特許第４，８７０，５１９号及び特公昭
６３−２１２７１号）。
の断面形状を工夫することにより、このようなスキュー
及び周速による浮上量の差を補償し、磁気ディスクの内
周部と外周部とで同一浮上量となるようにしたＴＰＣ
（Ｔｒａｖｅｒｓｅ Ｐｒｅｓｓｕｒｉｚａｔｉｏｎ
Ｃｏｎｔｏｕｒ）技術は公知である（例えば、米国特許
第４，６７３，９９６号（特開昭６１−２７８０８７号
に対応）、米国特許第４，８７０，５１９号及び特公昭
６３−２１２７１号）。
【０００５】図４はこの公知技術によるスライダのレー
ル部分の断面を示す図である。同図において、４０はス
ライダ４１の一方の面に突出してＡＢＳ面４１ａを形成
するレール部、４２及び４３はレール部４０のＡＢＳ面
の一部に磁気ディスクの内周側及び外周側に対応してそ
れぞれ設けられた段差平面部を示している。段差平面部
４２及び４３は、スライダ４１を横方向に加圧して上述
の浮上量の差を補償するためのものであり、その深さは
０．６〜１．２μｍ程度となっており、所定深さに対し
て、バラツキを±０．１５μｍ程度に抑える必要があ
る。
ル部分の断面を示す図である。同図において、４０はス
ライダ４１の一方の面に突出してＡＢＳ面４１ａを形成
するレール部、４２及び４３はレール部４０のＡＢＳ面
の一部に磁気ディスクの内周側及び外周側に対応してそ
れぞれ設けられた段差平面部を示している。段差平面部
４２及び４３は、スライダ４１を横方向に加圧して上述
の浮上量の差を補償するためのものであり、その深さは
０．６〜１．２μｍ程度となっており、所定深さに対し
て、バラツキを±０．１５μｍ程度に抑える必要があ
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような浮上量補償
用の段差平面部をイオンビームミリングによって形成し
ようとすると、その段差平面部の表面が粗くなりその深
さが部分的に変化してしまうことがあり、特にイオンビ
ームの入射角度が垂直に近い場合には、この傾向がかな
り強くなる。図５の（Ａ）及び（Ｂ）は、従来技術によ
って入射角度が垂直に近いイオンビームによりミリング
した場合の段差平面部４２及び４３の断面形状の実測値
をそれぞれ示している。
用の段差平面部をイオンビームミリングによって形成し
ようとすると、その段差平面部の表面が粗くなりその深
さが部分的に変化してしまうことがあり、特にイオンビ
ームの入射角度が垂直に近い場合には、この傾向がかな
り強くなる。図５の（Ａ）及び（Ｂ）は、従来技術によ
って入射角度が垂直に近いイオンビームによりミリング
した場合の段差平面部４２及び４３の断面形状の実測値
をそれぞれ示している。
【０００７】このように段差平面部の表面が粗くなる
と、空気の乱流が生じて負圧が発生しまた段差平面部の
深さのバラツキが例えば±０．１５μｍという有効範囲
に納まらなくなる。このため、段差平面部による横方向
加圧効果が損なわれてしまう可能性がある。
と、空気の乱流が生じて負圧が発生しまた段差平面部の
深さのバラツキが例えば±０．１５μｍという有効範囲
に納まらなくなる。このため、段差平面部による横方向
加圧効果が損なわれてしまう可能性がある。
【０００８】なお、イオンビームの入射角度をＡＢＳ面
に対して傾斜させれば表面が粗くなることをある程度防
止できるが、段差平面部の段部分が斜めにミリングされ
てしまう。段部分がテーパ状に削られると横方向加圧効
果が大幅に損われてしまう。
に対して傾斜させれば表面が粗くなることをある程度防
止できるが、段差平面部の段部分が斜めにミリングされ
てしまう。段部分がテーパ状に削られると横方向加圧効
果が大幅に損われてしまう。
【０００９】従って本発明は、所望形状の段部分及び滑
らかな表面を有する段差平面をイオンミリングによって
形成することのできる磁気ヘッド装置用スライダ及びこ
のスライダの製造方法を提供するものである。
らかな表面を有する段差平面をイオンミリングによって
形成することのできる磁気ヘッド装置用スライダ及びこ
のスライダの製造方法を提供するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明によれ
ば、ミリング速度（エッチング速度）の互いに異なる複
数の成分から構成されるセラミクス部材によって形成さ
れた磁気ヘッド装置用スライダであって、ミリング速度
の低い方の成分の粒子径がミリング速度の高い方の成分
の粒子径より小さく設定されている磁気ヘッド装置用ス
ライダが提供される。
ば、ミリング速度（エッチング速度）の互いに異なる複
数の成分から構成されるセラミクス部材によって形成さ
れた磁気ヘッド装置用スライダであって、ミリング速度
の低い方の成分の粒子径がミリング速度の高い方の成分
の粒子径より小さく設定されている磁気ヘッド装置用ス
ライダが提供される。
【００１１】磁気ヘッド装置用スライダは、ほとんどの
場合に２種類以上の成分からなるセラミクス部材で構成
されている。これら成分はミリング速度が互いに異なっ
ており、従来の組成のものをそのままイオンビームミリ
ング加工すると、ミリング速度の高い方の成分が早く削
れてしまって、図５に示すような粗い表面が形成されて
しまうのである。しかしながら、本発明のごとく、ミリ
ング速度の低い方の成分の粒子径をミリング速度の高い
方の成分の粒子径より小さく設定しておくと、ミリング
速度の低い方の成分のミリング速度が早くなって両成分
のミリング速度が実質的に等しくなり、垂直に近いビー
ム入射角であっても表面が滑らかに仕上がるのである。
場合に２種類以上の成分からなるセラミクス部材で構成
されている。これら成分はミリング速度が互いに異なっ
ており、従来の組成のものをそのままイオンビームミリ
ング加工すると、ミリング速度の高い方の成分が早く削
れてしまって、図５に示すような粗い表面が形成されて
しまうのである。しかしながら、本発明のごとく、ミリ
ング速度の低い方の成分の粒子径をミリング速度の高い
方の成分の粒子径より小さく設定しておくと、ミリング
速度の低い方の成分のミリング速度が早くなって両成分
のミリング速度が実質的に等しくなり、垂直に近いビー
ム入射角であっても表面が滑らかに仕上がるのである。
【００１２】セラミクス部材の組成がＡｌ2 Ｏ3 −Ｔｉ
Ｃであることが好ましい。
Ｃであることが好ましい。
【００１３】その場合、粒子径の比が、ＴｉＣの粒子径
を１とした場合にＡｌ2 Ｏ3 の粒子径が１．３〜３に設
定されていることが望ましい。
を１とした場合にＡｌ2 Ｏ3 の粒子径が１．３〜３に設
定されていることが望ましい。
【００１４】セラミクス部材の組成がＡｌ2 Ｏ3 −Ｔｉ
Ｃ−ＴｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 −ＺｒＯ2 又はＡｌ2 Ｏ3 −
ＳｉＣであることも好ましい。
Ｃ−ＴｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 −ＺｒＯ2 又はＡｌ2 Ｏ3 −
ＳｉＣであることも好ましい。
【００１５】さらに本発明によれば、ミリング速度の互
いに異なる複数の成分で形成されたセラミクス部材上に
複数の磁気ヘッド素子を形成した後、ＡＢＳ面の少なく
とも一部の段差平面をイオンミリングによって形成する
磁気ヘッド装置用スライダの製造方法であって、セラミ
クス部材における、ミリング速度の低い方の成分の粒子
径がミリング速度の高い方の成分の粒子径より小さくな
るように形成されている磁気ヘッド装置用スライダの製
造方法が提供される。これにより、前述の場合と同様
に、ミリング速度の低い方の成分のミリング速度が早く
なって両成分のミリング速度が実質的に等しくなり、垂
直に近いビーム入射角であっても表面が滑らかに仕上が
る。
いに異なる複数の成分で形成されたセラミクス部材上に
複数の磁気ヘッド素子を形成した後、ＡＢＳ面の少なく
とも一部の段差平面をイオンミリングによって形成する
磁気ヘッド装置用スライダの製造方法であって、セラミ
クス部材における、ミリング速度の低い方の成分の粒子
径がミリング速度の高い方の成分の粒子径より小さくな
るように形成されている磁気ヘッド装置用スライダの製
造方法が提供される。これにより、前述の場合と同様
に、ミリング速度の低い方の成分のミリング速度が早く
なって両成分のミリング速度が実質的に等しくなり、垂
直に近いビーム入射角であっても表面が滑らかに仕上が
る。
【００１６】イオンミリングが、ＡＢＳ面に対して０〜
２０°の実質的に垂直の入射角のビームによって行われ
ることが好ましい。これにより、テーパの形成防止を図
ることができる。
２０°の実質的に垂直の入射角のビームによって行われ
ることが好ましい。これにより、テーパの形成防止を図
ることができる。
【００１７】
【実施例】図１は本発明の一実施例における磁気ヘッド
装置用スライダの後端側の一部の構成を概略的に示す斜
視図である。
装置用スライダの後端側の一部の構成を概略的に示す斜
視図である。
【００１８】同図において、１０及び１１はスライダ１
２の浮上面（ＡＢＳ面）１２ａ側に突出するレール部、
１３及び１４並びに１５及び１６はレール部１０及び１
１のＡＢＳ面側の両端部にそれぞれ設けられたＴＰＣ段
差平面部を示している。段差平面部１３及び１５は磁気
ディスクの内周側に対応した位置に、段差平面部１４及
び１６は磁気ディスクの外周側に対応した位置にそれぞ
れ設けられており、スライダ１１を横方向に加圧して、
スライダ１１に対する磁気ディスクの相対的移動速度の
相違及びスキューに基づく浮上量の差を補償するための
ものであり、そのレール表面からの深さ（段差）は０．
６〜１．２μｍ程度となっている。
２の浮上面（ＡＢＳ面）１２ａ側に突出するレール部、
１３及び１４並びに１５及び１６はレール部１０及び１
１のＡＢＳ面側の両端部にそれぞれ設けられたＴＰＣ段
差平面部を示している。段差平面部１３及び１５は磁気
ディスクの内周側に対応した位置に、段差平面部１４及
び１６は磁気ディスクの外周側に対応した位置にそれぞ
れ設けられており、スライダ１１を横方向に加圧して、
スライダ１１に対する磁気ディスクの相対的移動速度の
相違及びスキューに基づく浮上量の差を補償するための
ものであり、そのレール表面からの深さ（段差）は０．
６〜１．２μｍ程度となっている。
【００１９】スライダ１１は、Ａｌ2 Ｏ3 （〜７０重量
％）及びＴｉＣ（〜３０重量％）の組成を有するセラミ
クス部材から構成されている。粒子径が同一である場
合、垂直に入射するイオンビームによるＴｉＣのミリン
グ速度とＡｌ2 Ｏ3 のミリング速度との比はおよそ１：
１．５である。本実施例においては、ＴｉＣの粒子径を
Ａｌ2 Ｏ3 の粒子径より小さくしてＴｉＣのミリング速
度を高めることにより、Ａｌ2 Ｏ3 及びＴｉＣのミリン
グ速度を実質的に等しくさせている。実際には、ＴｉＣ
の粒子径が１、Ａｌ2 Ｏ3 の粒子径が１．３〜３となる
ような粒子径比としている。粒子径を小さくするとミリ
ング速度が高まる理由は、ビームの入射角を実際に変え
なくともあたかも入射角を傾斜したことと同等の結晶面
効果が生じてミリング速度が大きくなる（入射角効果の
増大）と推察される。
％）及びＴｉＣ（〜３０重量％）の組成を有するセラミ
クス部材から構成されている。粒子径が同一である場
合、垂直に入射するイオンビームによるＴｉＣのミリン
グ速度とＡｌ2 Ｏ3 のミリング速度との比はおよそ１：
１．５である。本実施例においては、ＴｉＣの粒子径を
Ａｌ2 Ｏ3 の粒子径より小さくしてＴｉＣのミリング速
度を高めることにより、Ａｌ2 Ｏ3 及びＴｉＣのミリン
グ速度を実質的に等しくさせている。実際には、ＴｉＣ
の粒子径が１、Ａｌ2 Ｏ3 の粒子径が１．３〜３となる
ような粒子径比としている。粒子径を小さくするとミリ
ング速度が高まる理由は、ビームの入射角を実際に変え
なくともあたかも入射角を傾斜したことと同等の結晶面
効果が生じてミリング速度が大きくなる（入射角効果の
増大）と推察される。
【００２０】レール部にこのような段差平面部１３及び
１４並びに１５及び１６を有するスライダ１１の製造方
法について以下説明する。
１４並びに１５及び１６を有するスライダ１１の製造方
法について以下説明する。
【００２１】まず、ＴｉＣの粒子径が１、Ａｌ2 Ｏ3 の
粒子径が１．３〜３となるような粒子径比を有するＡｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣ組成のセラミクスウエハを用意する。こ
のウエハ上に複数の磁気ヘッド素子を薄膜技術によって
マトリクス状に形成する。次いで、複数の磁気ヘッド素
子が一列に並んでなるバーにこのウエハを切断した後、
レール部１０及び１１間の凹部１７を機械加工、化学的
エッチング、プラズマエッチング又はイオンミリング等
の化学又は物理加工により、レール部１０及び１１を形
成する。
粒子径が１．３〜３となるような粒子径比を有するＡｌ
2 Ｏ3 −ＴｉＣ組成のセラミクスウエハを用意する。こ
のウエハ上に複数の磁気ヘッド素子を薄膜技術によって
マトリクス状に形成する。次いで、複数の磁気ヘッド素
子が一列に並んでなるバーにこのウエハを切断した後、
レール部１０及び１１間の凹部１７を機械加工、化学的
エッチング、プラズマエッチング又はイオンミリング等
の化学又は物理加工により、レール部１０及び１１を形
成する。
【００２２】レール部１０及び１１の形成後レール面を
研磨加工する。この後に段差平面部１３及び１４並びに
１５及び１６をイオンミリングによって加工形成する。
即ち、フォトレジスト材料をスピンコートする。このフ
ォトレジスト材料をパターン化して段差平面部１３及び
１４並びに１５及び１６とする部分のみを除去すること
により段差平面部のみが開口したマスクが形成される。
このようにスライダの他のＡＢＳ表面をフォトレジスト
層で保護したままほぼ垂直の（０〜２０°の垂直入射
角）ビームによってイオンミリングする。この場合、ミ
リングの深さは、約０．６〜１．２μｍ程度である。そ
の後、フォトレジスト層を取り除く。以後、バーを個々
のスライダに切断する。
研磨加工する。この後に段差平面部１３及び１４並びに
１５及び１６をイオンミリングによって加工形成する。
即ち、フォトレジスト材料をスピンコートする。このフ
ォトレジスト材料をパターン化して段差平面部１３及び
１４並びに１５及び１６とする部分のみを除去すること
により段差平面部のみが開口したマスクが形成される。
このようにスライダの他のＡＢＳ表面をフォトレジスト
層で保護したままほぼ垂直の（０〜２０°の垂直入射
角）ビームによってイオンミリングする。この場合、ミ
リングの深さは、約０．６〜１．２μｍ程度である。そ
の後、フォトレジスト層を取り除く。以後、バーを個々
のスライダに切断する。
【００２３】フォトレジストを用いる代わりに、特公平
５−８４８８号に開示されているように、スライダ表面
に厚いドライフィルムレジスト層をパターン化してなる
マスクを用いてもよい。また、金属マスクとフォトレジ
ストとの２層マスクとしてもよい。
５−８４８８号に開示されているように、スライダ表面
に厚いドライフィルムレジスト層をパターン化してなる
マスクを用いてもよい。また、金属マスクとフォトレジ
ストとの２層マスクとしてもよい。
【００２４】図２の（Ａ）及び（Ｂ）は、本実施例によ
る段差平面部１３（１５）及び１４（１６）の断面形状
の実測値をそれぞれ示している。同図と図５とを比較す
れば明らかであるように、本実施例の段差平面部は従来
技術によるものより凹凸がなくはるかに滑らかな表面を
有している。従って、精度の高い深さを有する段差平面
部を得ることができ、また不要な負圧発生がないから非
常に効果的な横方向加圧効果を得ることができる。しか
も、垂直に近いビームのみを用いて１回の工程でミリン
グを行えるため、段部分（境界部分）にテーパが形成さ
れるようなこともないのでその意味でも効果的な横方向
加圧効果を得ることができる。このため、スライダに対
する磁気ディスクの相対的移動速度の相違及びスキュー
に基づく浮上量の差を補償することができ、内周から外
周まで同一浮上量に制御することができる。その結果、
ゾーンビット法による高密度記録を行う場合の磁気ヘッ
ドとして用いることが可能となる。
る段差平面部１３（１５）及び１４（１６）の断面形状
の実測値をそれぞれ示している。同図と図５とを比較す
れば明らかであるように、本実施例の段差平面部は従来
技術によるものより凹凸がなくはるかに滑らかな表面を
有している。従って、精度の高い深さを有する段差平面
部を得ることができ、また不要な負圧発生がないから非
常に効果的な横方向加圧効果を得ることができる。しか
も、垂直に近いビームのみを用いて１回の工程でミリン
グを行えるため、段部分（境界部分）にテーパが形成さ
れるようなこともないのでその意味でも効果的な横方向
加圧効果を得ることができる。このため、スライダに対
する磁気ディスクの相対的移動速度の相違及びスキュー
に基づく浮上量の差を補償することができ、内周から外
周まで同一浮上量に制御することができる。その結果、
ゾーンビット法による高密度記録を行う場合の磁気ヘッ
ドとして用いることが可能となる。
【００２５】セラミクス部材の組成としては、Ａｌ2 Ｏ
3 −ＴｉＣの他に、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ−ＴｉＯ2 、Ａ
ｌ2 Ｏ3 −ＺｒＯ2 又はＡｌ2 Ｏ3 −ＳｉＣを用いても
よい。もちろんこの場合も、ミリング速度の低い方の成
分の粒子径をミリング速度の高い方の成分の粒子径より
小さく設定して、各成分のミリング速度が実質的に等し
くなるようにすることはいうまでもない。
3 −ＴｉＣの他に、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ−ＴｉＯ2 、Ａ
ｌ2 Ｏ3 −ＺｒＯ2 又はＡｌ2 Ｏ3 −ＳｉＣを用いても
よい。もちろんこの場合も、ミリング速度の低い方の成
分の粒子径をミリング速度の高い方の成分の粒子径より
小さく設定して、各成分のミリング速度が実質的に等し
くなるようにすることはいうまでもない。
【００２６】以上述べた実施例は、同一浮上量とするた
めのＴＰＣ段差平面部をイオンミリングする場合である
が、本発明は、負圧スライダにおいて負圧を発生させる
凹部をＡＢＳ面にイオンミリングによって形成する場合
（特公平５−８４８８号参照）にも適用することができ
る。
めのＴＰＣ段差平面部をイオンミリングする場合である
が、本発明は、負圧スライダにおいて負圧を発生させる
凹部をＡＢＳ面にイオンミリングによって形成する場合
（特公平５−８４８８号参照）にも適用することができ
る。
【００２７】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、ミリング速度の低い方の成分の粒子径がミリング速
度の高い方の成分の粒子径より小さく設定されているた
め、所望形状の段部分及び滑らかな表面を有する段差平
面をイオンミリングによって形成することができる。し
かもそのためにミリングの工程数が増えるような不都合
もない。
ば、ミリング速度の低い方の成分の粒子径がミリング速
度の高い方の成分の粒子径より小さく設定されているた
め、所望形状の段部分及び滑らかな表面を有する段差平
面をイオンミリングによって形成することができる。し
かもそのためにミリングの工程数が増えるような不都合
もない。
【図１】本発明の一実施例における磁気ヘッド装置用ス
ライダの後端側の一部の構成を概略的に示す斜視図であ
る。
ライダの後端側の一部の構成を概略的に示す斜視図であ
る。
【図２】図１の実施例における段差平面部の断面形状の
実測値を示す図である。
実測値を示す図である。
【図３】ディスクの内周部と外周部とで浮上量が異なる
ことを説明するための実測した特性図である。
ことを説明するための実測した特性図である。
【図４】従来技術によるスライダのレール部分の断面を
示す図である。
示す図である。
【図５】従来技術によるスライダの段差平面部の断面形
状の実測値を示す図である。
状の実測値を示す図である。
１０、１１ レール部 １２ スライダ １２ａ ＡＢＳ面 １３、１４、１５、１６ 段差平面部
Claims (6)
- 【請求項１】 ミリング速度の互いに異なる複数の成分
から構成されるセラミクス部材によって形成された磁気
ヘッド装置用スライダであって、ミリング速度の低い方
の前記成分の粒子径がミリング速度の高い方の前記成分
の粒子径より小さく設定されていることを特徴とする磁
気ヘッド装置用スライダ。 - 【請求項２】 前記セラミクス部材の組成がＡｌ2 Ｏ3
−ＴｉＣであることを特徴とする請求項１に記載のスラ
イダ。 - 【請求項３】 粒子径の比が、ＴｉＣの粒子径を１とし
た場合にＡｌ2 Ｏ3の粒子径が１．３〜３に設定されて
いることを特徴とする請求項２に記載のスライダ。 - 【請求項４】 前記セラミクス部材の組成がＡｌ2 Ｏ3
−ＴｉＣ−ＴｉＯ2、Ａｌ2 Ｏ3 −ＺｒＯ2 又はＡｌ2
Ｏ3 −ＳｉＣであることを特徴とする請求項１に記載の
スライダ。 - 【請求項５】 ミリング速度の互いに異なる複数の成分
で形成されたセラミクス部材上に複数の磁気ヘッド素子
を形成した後、浮上面の少なくとも一部の段差平面をイ
オンミリングによって形成する磁気ヘッド装置用スライ
ダの製造方法であって、前記セラミクス部材における、
ミリング速度の低い方の前記成分の粒子径がミリング速
度の高い方の前記成分の粒子径より小さくなるように形
成されていることを特徴とする磁気ヘッド装置用スライ
ダの製造方法。 - 【請求項６】 前記イオンミリングが、浮上面に対して
０〜２０°の垂直入射角のビームによって行われること
を特徴とする請求項５に記載の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6072889A JP2500479B2 (ja) | 1993-04-22 | 1994-03-18 | 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 |
| US08/416,323 US5685064A (en) | 1993-04-22 | 1995-04-04 | Process of manufacturing a magnetic head slider assembly |
| US08/562,756 US5636087A (en) | 1993-04-22 | 1995-11-27 | Magnetic head slider assembly |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11759493 | 1993-04-22 | ||
| JP5-117594 | 1993-04-22 | ||
| JP6072889A JP2500479B2 (ja) | 1993-04-22 | 1994-03-18 | 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH076537A true JPH076537A (ja) | 1995-01-10 |
| JP2500479B2 JP2500479B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=26414020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6072889A Expired - Fee Related JP2500479B2 (ja) | 1993-04-22 | 1994-03-18 | 磁気ヘッド装置用スライダ及び該スライダの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JP2500479B2 (ja) |
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| US6004472A (en) * | 1997-05-14 | 1999-12-21 | International Business Machines Corporation | Dual etch step process for making a three etch depth air bearing slider |
| US6055128A (en) * | 1997-05-14 | 2000-04-25 | International Business Machines Corporation | Dual etch step pad air bearing design with three etch depths |
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1994
- 1994-03-18 JP JP6072889A patent/JP2500479B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-04-04 US US08/416,323 patent/US5685064A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-27 US US08/562,756 patent/US5636087A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5636087A (en) | 1997-06-03 |
| JP2500479B2 (ja) | 1996-05-29 |
| US5685064A (en) | 1997-11-11 |
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