JPH0770026B2 - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH0770026B2 JPH0770026B2 JP62126625A JP12662587A JPH0770026B2 JP H0770026 B2 JPH0770026 B2 JP H0770026B2 JP 62126625 A JP62126625 A JP 62126625A JP 12662587 A JP12662587 A JP 12662587A JP H0770026 B2 JPH0770026 B2 JP H0770026B2
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- film magnetic
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
- G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜磁気ヘッドの製造方法に関し、特に薄膜磁
気ヘッドの磁気コアに用いるNiFeめっきの組成制御方法
に関する。
気ヘッドの磁気コアに用いるNiFeめっきの組成制御方法
に関する。
従来この種の組成制御方法としては、原子吸光あるいは
EPMAなどにより、めっき液またはめっき膜の組成を化学
的に調べる方法、およびめっき液のPHから間接的に鉄イ
オン濃度を推定し組成調整行なう方法（例えば特公昭57
-9636）が知られている。
EPMAなどにより、めっき液またはめっき膜の組成を化学
的に調べる方法、およびめっき液のPHから間接的に鉄イ
オン濃度を推定し組成調整行なう方法（例えば特公昭57
-9636）が知られている。
上述した従来の組成調整方法のうち、化学的分析方法に
関しては設備が大かがりな上に測定に時間がかかるとい
う欠点があり、PHから調整を行なう方法には再現精度が
低いという欠点があった。
関しては設備が大かがりな上に測定に時間がかかるとい
う欠点があり、PHから調整を行なう方法には再現精度が
低いという欠点があった。
本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、製品となるウェ
ハと同時に厚さ1mm以下のモニタにもNiFeをめっきし、
モニタ上のNiFeの磁歪定数を測定することにより、NiFe
めっきの組成を制御することを特徴としている。
ハと同時に厚さ1mm以下のモニタにもNiFeをめっきし、
モニタ上のNiFeの磁歪定数を測定することにより、NiFe
めっきの組成を制御することを特徴としている。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図（ａ）は本発明の薄膜磁気ヘッドのコア部を形成
するためのNiFeめっきに用いるカソード部の平面図であ
る。厚さ4mmのセラミック製の二枚のウエハ２と厚さ0.3
mmのガラス製モニタ３がカソード板１にとりつけてあ
る。ウェハ２とモニタ３の表面にはNiFeのスパッタ膜が
付着されており、カソード板１との間に電気的な導通が
とられている。
するためのNiFeめっきに用いるカソード部の平面図であ
る。厚さ4mmのセラミック製の二枚のウエハ２と厚さ0.3
mmのガラス製モニタ３がカソード板１にとりつけてあ
る。ウェハ２とモニタ３の表面にはNiFeのスパッタ膜が
付着されており、カソード板１との間に電気的な導通が
とられている。
第１図（ｂ）はカソード部の側面図である。点線でめっ
き槽６が示してある。同じく点線で示したアノード４と
の間にNiFeめっき液５がある。NiFeめっき浴としては硫
酸塩浴あるいは硫酸塩と塩化物の混合浴が用いられる。
き槽６が示してある。同じく点線で示したアノード４と
の間にNiFeめっき液５がある。NiFeめっき浴としては硫
酸塩浴あるいは硫酸塩と塩化物の混合浴が用いられる。
ウェハ２およびモニタ３の各表面とカソード板１の表面
のアノード対向面にはなるべく均一なNiFeめっき膜が形
成されるように、かくはんパドルが用いられる（特公昭
57-9636）。
のアノード対向面にはなるべく均一なNiFeめっき膜が形
成されるように、かくはんパドルが用いられる（特公昭
57-9636）。
所定のめっきを終えた後、モニタ３をはずし、磁歪定数
を測定する。磁歪定数の測定には例えばひずみゲージを
用いる方法などがある（近角「磁気」共立出版）。
を測定する。磁歪定数の測定には例えばひずみゲージを
用いる方法などがある（近角「磁気」共立出版）。
磁歪定数をNiFeめっき膜組成の間には一定の関係があ
る。例えばNiの組成を80〜82wt.％にしたい場合は磁歪
定数を＋１×10-6〜−２×10-6にすれば良い。
る。例えばNiの組成を80〜82wt.％にしたい場合は磁歪
定数を＋１×10-6〜−２×10-6にすれば良い。
めっき液の調整には硫酸第一鉄（磁歪定数を正の方に向
かわせる場合）と硫酸ニッケル（硫歪定数を負の方に向
かわせる場合）を用いるのが好ましい。
かわせる場合）と硫酸ニッケル（硫歪定数を負の方に向
かわせる場合）を用いるのが好ましい。
なお調整の際には、消費した鉄イオン量およびイオン価
の変化を考慮に入れる方が調整に正確になる。
の変化を考慮に入れる方が調整に正確になる。
以上説明したように、本発明はモニタ上のめっき膜の磁
歪定数を測定することにより、正確かつ簡便にNiFeめっ
きの組成を調整することができる。
歪定数を測定することにより、正確かつ簡便にNiFeめっ
きの組成を調整することができる。
第１図は本発明の一実施例のカソード部を示し、（ａ）
はその平面図、（ｂ）はその側面図である。 １……カソード板、２……ウエハ、３……モニタ、４…
…アノード、５……めっき液、６……めっき槽。
はその平面図、（ｂ）はその側面図である。 １……カソード板、２……ウエハ、３……モニタ、４…
…アノード、５……めっき液、６……めっき槽。
Claims (1)
- 【請求項１】薄膜磁気ヘッドの磁気コアを形成するため
のNi-Feめっきにおいて、製品となるウェハと同時に厚
さ1mm以下のモニタにもNiFeをめっきし、モニタ上のNiF
eの磁歪定数を測定することによりNiFeめっきの組成を
制御することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62126625A JPH0770026B2 (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62126625A JPH0770026B2 (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63291207A JPS63291207A (ja) | 1988-11-29 |
| JPH0770026B2 true JPH0770026B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=14939822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62126625A Expired - Lifetime JPH0770026B2 (ja) | 1987-05-22 | 1987-05-22 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0770026B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58108728A (ja) * | 1981-12-22 | 1983-06-28 | Fujitsu Ltd | 成膜終点検知方法 |
| JPS58219724A (ja) * | 1982-06-16 | 1983-12-21 | Hitachi Ltd | 磁性薄膜の製造方法 |
| JPS6080110A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-08 | Hitachi Ltd | 金属磁性薄膜ヘツドとその製造方法 |
| JPS6095904A (ja) * | 1983-10-31 | 1985-05-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アモルフアス軟磁性膜 |
| JPS6176642A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Hitachi Ltd | Ｃｏ―Ｎｉ―Ｆｅ合金の電気めっき浴及び電気めっき方法 |
| JPS61255520A (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-13 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘツド |
-
1987
- 1987-05-22 JP JP62126625A patent/JPH0770026B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63291207A (ja) | 1988-11-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |