JPH0770067A - 安定剤としてのヒンダードアミン−エポキシドの付加物 - Google Patents

安定剤としてのヒンダードアミン−エポキシドの付加物

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JPH0770067A
JPH0770067A JP6183950A JP18395094A JPH0770067A JP H0770067 A JPH0770067 A JP H0770067A JP 6183950 A JP6183950 A JP 6183950A JP 18395094 A JP18395094 A JP 18395094A JP H0770067 A JPH0770067 A JP H0770067A
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carbon atoms
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substituted
alkyl
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JP6183950A
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Alfred Steinmann
シュタインマン アルフレッド
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Ciba Geigy AG
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Abstract

(57)【要約】 【目的】新規の有機材料用安定剤を提供する 【構成】式I又はII: 【化1】 〔式中、例えば、R1 はアルキルオキシ、シクロアルキ
ルオキシ又はアルキル基を表し、A1 とA2 はフェニ
ル、アルキル又はアルケニル置換フェニル、アルキル又
はアルケニル基を表しそしてmとnは1ないし3の範囲
からの数を表す。〕のエステル又はフェノールエーテ
ル。上記化合物は、光、酸素及び/又は熱の損傷影響に
対して有機材料、特に合成ポリマーを安定化するのに適
している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、エポキシド基を含有す
るヒンダードアミンのフェノール又はカルボン酸との反
応により得られる新規の化合物;それらの、光線、酸素
及び/又は熱の損傷影響に対する有機材料の安定剤とし
て使用;並びに該当する安定化した組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】2,2,6,6−テトラメチル−4−
(2,3−エポキシプロポキシ)ピペリジン型化合物の
製造とそれらの、有機材料のための安定剤としての使用
は、例えばラストン及びヴァスによる Makromol. Che
m., Macromol. Symp.27,231(1989)に記載されている。
【0003】これらのエポキシドとトルエンスルホン酸
とエチレンジスルホン酸との反応生成物及びそれらの、
ペイント中の触媒と光安定剤としての複合使用は欧州特
許公開公報(EP−A−)第097616号に記述され
ている。
【0004】遊離カルボキシル基を含有するフッ素ポリ
マーへの反応性ポリアルキルピペリジンの結合は、欧州
特許公開公報(EP−A−)第526399号に記載さ
れている。
【0005】欧州特許公開公報(EP−A−)第001
835号の刊行物は、エポキシド基を含有するピペリジ
ン類をジカルボン酸無水物と反応させてポリエステルに
する別の反応を開示している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】使用特性が改善された
テトラアルキル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)
ピペリジン型の新規の安定剤への需要は依然としてあ
る。
【0007】従って、本発明は第1に、式I:
【化32】 又は式II:
【化33】 〔式中、mとnの各々は、1ないし6の範囲からの整数
を表し:A1 は炭素原子数1ないし30のm価の炭化水
素基;又はヘテロ原子である酸素原子、窒素原子及び/
又は硫黄原子、及び炭素原子上に位置する自由原子価を
を含有する、炭素原子数2ないし30のm価の炭化水素
基を表し;そしてm=2である場合、A1 は追加して直
接結合を表し;A2 は炭素原子数6ないし30のn価の
芳香族又はアルアリファチック(araliphatic) の炭化水
素基;又は又はヘテロ原子である酸素原子、窒素原子及
び/又は硫黄原子を含有しそして芳香族環の構成員であ
る炭素原子上に位置するn個の自由原子価を持つ、炭素
原子数5ないし30の芳香族又はアルアリファチック(a
raliphatic) の炭化水素基を表し;R1 は水素原子;未
置換の又は−CO−N(R3 2 により置換されている
か又は−CO−N(R3 )−又は−N(R3 )−CO−
又は1ないし6個の酸素原子又は硫黄原子により中断さ
れている炭素原子数1ないし36の炭化水素基又は炭化
水素オキシ基;各々が1ないし3個の炭素原子数1ない
し4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基により置換されているベンゾイル基又はナフトイル
基;又は−CO−R2 (R2 は炭素原子数1ないし18
のアルキル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基;フェニル基;ナフチル基;炭素原子数7ないし9の
フェニルアルキル基;又は炭素原子数11ないし14の
ナフチルアルキル基を表し;そしてR3 はR2 と同意味
であるか又は水素原子を表す。)を表す。〕のエステル
又はフェノールエーテルに関する。式IとIIの化合物
は、光、酸素及び/又は熱の損傷影響に対して有機材料
を安定化するために都合よく使用できる。
【0008】ヘテロ原子の酸素原子、窒素原子及び/又
は硫黄原子を含む炭素原子数2ないし30のm価の炭化
水素基A1 では、これらヘテロ原子は概して−O−、タ
ーシャリ−OH、−N(R2 )−、>N−及び/又は−
S−の形である。そしてヘテロ原子の酸素原子、窒素原
子及び/又は硫黄原子を含む炭素原子数5ないし30の
n価の芳香族又はアルアリファチック(araliphatic) 炭
化水素基A2 では、これらヘテロ原子は概して−O−、
ターシャリ−OH、−N(R2 )−、>N−及び/又は
−S−の形である。アリール基は芳香族炭化水素、例え
ばフェニル基又はナフチル基を表す。アルアルキル基は
芳香族炭化水素基により置換されているアルキル基例え
ば炭素原子数6ないし10の炭化水素基であり;アルア
ルキルの例はベンジル基とα−メチルベンジル基を包含
する。
【0009】上述の二価又は三価のヘテロ原子は、同じ
隣接する原子又は異なる隣接する原子に結合でき;隣接
する原子は原則的には炭素原子である。かくして、例え
ば−O−はエーテル基またはカルボニル基を形成でき
る。同様のことは−S−と>N−にも相当して適用で
き;かくして>N−は、例えば脂肪族第三アミン、環構
造例えばピリジン、又はシアノ基の要素であり得る。タ
ーシャリ・ヒドロキシル基は第三炭素原子上の−OH型
であると理解されるべきである。これは、それが3個の
別の炭素原子への他の3個の自由価で持って結合し、得
られた化合物も第三級アルコールとよ呼ばれるという事
実により識別される(参照;「有機化学の教科書」(Leh
rbuch der Organischen Chemie),第20版,第59頁と
111頁,シュタットガルト在,S.Hirzel Verlag, 198
4 年) 。従って、ターシャリ・ヒドロキシル基を含有す
る基は少なくとも4個の炭素原子を含有する。
【0010】−O−、−S−、>N−、−CO−N(R
3 )−、−N(R3 )CO−又は−N(R2 )−により
中断されていると定義されるアルキル基又はアルキレン
基:A1 、A2 又はR2 は、少なくとも2個、好ましく
は4個の炭素原子を持つアルキル基又はアルキレン基で
あって、それは好ましくは1ないし6個の−O−又は−
S−基又は1ないし3個の>N−及び/又は−N
(R2 )−基により、特に1ないし6個の−O−、又は
1ないし2個の−S−、>N−又は−N(R2 )−によ
り中断されており、ヘテロ原子又はカルボニル基は好ま
しくは飽和炭素原子に結合しておりそして他のヘテロ原
子又はカルボニル基には結合していなく;ペルオキソ又
はヒドラジン構造は原則的には存在しない。末端が炭素
原子数1ないし8のアルキル基で終了しているポリオキ
シエチレン鎖は、これらの基の可能な定義の例である。
【0011】同一の式における同型の2個の基は同一又
は異なり得る;例えば部分式−CO−N(R3 2 にお
ける2個の基:R3 の一つは水素原子であり得るが、そ
の他方他の基:R3 はR2 の意味の一つを持つ。
【0012】一価の基:A1 は例えば下記の如く定義さ
れる:分枝した又は分枝してないアルキル基、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert
−ブチル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、イ
ソペンチル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチ
ルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、
n−ヘプチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テ
トラエチルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチ
ルヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル
基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,
3−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、
1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、ト
リデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサ
デシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシ
ル基、ドコシル基、ペンタコシル基又はトリアコシル
基;分枝してないアルキル基が好ましくそして分枝して
ない炭素原子数6ないし18のアルキル基が特に好まし
い;分枝した又は分枝してない炭素原子数2ないし30
のアルケニル基は例えばビニル基、α−メチルビニル
基、プロペニル基(アリル基)、ブテニル基、ペンテニ
ル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノ
ネニル基、デセニル基、ドデセニル基、ペンタデセニル
基又はオクタデセニル基;
【0013】炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
により置換されたアルキル基、例えばシクロペンチルメ
チル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチルメチ
ル基、シクロオクチルメチル基、シクロヘキシルエチル
基、2−シクロヘキシル−n−プロピル基、3−シクロ
ヘキシル−n−プロピル基又は4−シクロヘキシル−n
−ブチル基;
【0014】炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
又は1個以上、好ましくは1ないし3個の基:−S−、
−O−及び/又は−NR2 −により中断されている炭素
原子数2ないし25のアルキル基、例えば式:
【化34】 −CH2 −S−C4 9 、−C2 4 −O−C2 4
O−C1225又は−C1836−N(C4 9 2 ;未置
換の又は炭素原子数1ないし12のアルキル基又は炭素
原子数2ないし12のアルケニル基により置換されてい
る炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基又は炭素原
子数6ないし8のシクロアルケニル基、例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基、2−又は4−メチルシクロヘキシル基、
ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル
基、tert−ブチルシクロヘキシル基、2−シクロヘ
キセニル基、3−シクロヘプテニル基、シクロオクタテ
トラエニル基又は4−tert−ブチル−2−シクロヘ
キセニル基、好ましくはシクロヘキシル基及びシクロヘ
キセニル基、特にシクロヘキシル基;
【0015】炭素原子数6ないし10のビシクロアルケ
ニル基、例えばビシクロ−(2,2,1)−ヘプタ−5
−エン−2−イル基、炭素原子数7ないし12のフェニ
ルアルキル基、炭素原子数7ないし12のフェニルアル
ケニル基、炭素原子数11ないし16のナフチルアルキ
ル基、炭素原子数11ないし16のナフチルアルケニル
基、炭素原子数13ないし18のビフェニルアルキル基
又は炭素原子数13ないし18のビフェニルアルケニル
基、例えばフェニル基、ナフチル基又はビフェニル基に
より置換された炭素原子数1ないし6のアルキル基又は
炭素原子数2ないし6のアルケニル基、例えばベンジル
基、フェネチル基、β−フェニルビニル基、3−フェニ
ルプロピル基、α−メチルベンジル基、α,α−ジメチ
ルベンジル基、2−フェニルエテニル基、1−フェニル
−2−プロペン−1−イル基、6−フェニルヘキシル
基、1−ナフチルメチル基、2−ナフチルメチル基、1
−ナフチルエタン−1−イル基、2−(4−ビフェニリ
ル)−プロパン−2−イル基又は1−(4−ビフェニリ
ル)−3−ペンテン−1−イル基。
【0016】一価のアルアリファチック(araliphatic)
又は芳香族基A1 とA2 は例えば下記の如く定義され
る:フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、トリアジ
ニル基、2,4−ジフェニル−1,3,5−トリアジン
−6−イル−フェニル基、ベンゾイルフェニル基、ベン
ジルフェニル基、α−メチルベンジルフェニル基又は
α,α−ジメチルベンジルフェニル基;炭素原子数1な
いし12のアルキル基又は炭素原子数2ないし12のア
ルケニル基により置換されたフェニル基、ナフチル基、
ビフェニル基、トリアジニル基、2,4−ジフェニル−
1,3,5−トリアジン−6−イル−フェニル基、ベン
ゾイルフェニル基、ベンジルフェニル基、α−メチルベ
ンジルフェニル基又はα,α−ジメチルベンジルフェニ
ル基、例えばメチルフェニル基、ジメチルフェニル基、
トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ビニルフェ
ニル基、ジエチルフェニル基、イソプロピルフェニル
基、tert−ブチルフェニル基、ジ−tert−ブチ
ルフェニル基、メチル−ジ−tert−ブチルフェニル
基、1,1,3,3−テトラメチルブチルフェニル基及
び1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシルフェ
ニル基、ドデセニルフェニル基、1−メチルナフチル
基、2−メチルナフチル基、1−エチルナフチル基、2
−プロピル−ビフェニル−4−イル基又は4−(1−ヘ
キス−3−エニル)−ビフェニル−8−イル基、好まし
くは未置換の又は1ないし3個、例えば1ないし2個、
特に1個の炭素原子数1ないし4のアルキル基、特にメ
チル基により置換されたフェニル基。
【0017】(m=2又はn=2の場合の)二価の、
(m=3又はn=3の場合の)三価の、(m=4又はn
=4の場合の)四価の、(m=5又はn=5の場合の)
五価の及び(m=6又はn=6の場合の)六価の基:A
1 とA2 は、上述の一価の基から誘導される。二価の基
は、それが水素原子の代わりに解放結合を含有している
という点で、該当する一価の基と異なる;三価の基は、
それが2個の水素原子の代わりに2個の解放結合を含有
しているという点で、該当する一価の基と異なる;四価
の基は、それが3個の水素原子の代わりに3個の解放結
合を含有しているという点で、該当する一価の基と異な
る;五価の基は、それが4個の水素原子の代わりに4個
の解放結合を含有しているという点で、該当する一価の
基と異なる;六価の基は、それが5個の水素原子の代わ
りに5個の解放結合を含有しているという点で、該当す
る一価の基と異なる。
【0018】かくして、例えば、定義したとおりの二価
の基:A1 は、メチレン基、エチレン基、−CH2 −C
(CH3 2 −CH2 −、プロプ−2−エン−イリデン
基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1,
5−ペンチレン基、1,6−ヘキシレン基、
【化35】 −CH2 −S−CH2 −、−C2 4 −S−C2 4
又は−C2 4 −O−C2 4 −又はシクロヘキシレン
基であり得る;
【0019】定義したとおりの三価の基:A1 は、例え
ば、
【化36】 であり得る;定義したとおりの四価の基:A1 は、例え
ば、
【化37】 であり得る; 基:A1 とA2 のための共通の可能性あ
る基は、例えばo−、m−又はp−フェニレン基、−C
6 4 −C(CH3 2 −C6 4 −、−C6 4 −C
O−C6 4 −である;三価の基:A1 とA2 のための
それは例えば
【化38】 であり得る;又は四価の基:A1 とA2 のためのそれは
例えば
【化39】 であり得る;A2 は、例えば、式:
【化40】 (式中、X1 ないしX5 は互いに独立して水素原子、メ
チル基又はOHであり得る。)のn価のフェノールから
誘導できる。
【0020】式I中の[−O−CO]m −A1 基はm−
塩基性カルボン酸から誘導される。これは、芳香族、脂
肪族又は混合・芳香族−脂肪族酸であって、環式脂肪族
及び二環式脂肪族酸及び/又は不飽和酸は明白に包含さ
れる。それらの酸は例えば下記のものであり得る:カプ
リル酸、酢酸、ステアリン酸、ポリイソブテニル−コハ
ク酸、n−ヘキサコサン酸、トリメチル酢酸、プロピオ
ン酸、イソバレリアン酸、ラウリン酸、オレイン酸、ア
クリル酸、メタクリル酸、ソルビン酸、リノレン酸、マ
レイン酸、イタコン酸、グルタコン酸;二塩基酸、例え
ばシュウ酸、マロン酸、ジブチルマロン酸、ジベンジル
マロン酸、コハク酸、イソ−ドデシルコハク酸、グルタ
ル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライ
ン酸又はセバシン酸;脂肪酸の重合物、例えばそれらの
二量体又は三量体、例えば、Ind.and Eng. Chem. 33, 8
6-89(1941)に記載されているもの;ヘテロ原子を含有す
るブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、例えば
チオジグリコール酸、クエン酸、ニトリロトリ酢酸、エ
チレンジアミンテトラ酢酸及び1,3,5−トリアジン
−2,4,6−トリカルボン酸、環式脂肪酸、例えばシ
クロヘキサンカルボン酸、1,2−及び1,4−シクロ
ヘキサンジカルボン酸及びナフテン酸(例えばシクロペ
ンタンカルボン酸、シクロペンタン−1,2,3,4−
テトラカルボン酸、シクロペンチル酢酸、3−メチルシ
クロペンチル酢酸、樟脳酸、4−メチルシクロヘキサン
カルボン酸及び2,4,6−トリメチルシクロヘキサン
カルボン酸、ビシクロ[2.2.2]オクタ−5−エン
−2,3−ジカルボン酸及びビシクロ[2.2.1]ヘ
プタ−5−エン−2−カルボン酸、芳香族カルボン酸、
例えば安息香酸、ベンゾイル安息香酸、o−、m−及び
p−トルイル酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、1,2,4,5−ベ
ンゼンテトラカルボン酸、ジフェン酸、1−ナフトエ
酸、2−ナフトエ酸、ナフタレン−1,8−ジカルボン
酸、ナフタレン−1,4−ジカルボン酸、ナフタレン−
1,4,5−トリカルボン酸等、パラフィン・ω−アリ
ール酸例えばフェニル酢酸、ヒドロケイ皮酸、フェニル
酪酸、γ−(1−ナフチル)酪酸、δ−フェニレン−n
−バレリアン酸、ε−フェニル−n−カプロン酸、o
−、m−又はp−フェニレンジ酢酸又はo−フェニレン
アセチック−β−プロピオン酸、及び不飽和フェニル
酸、例えばケイ皮酸。
【0021】R1 は例えば下記のように定義される:分
枝した又は分枝してない炭素原子数1ないし36のアル
キル基例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチ
ル基、tert−ブチル基、2−エチルブチル基、n−
ペンチル基、イソペンチル基、1−メチルペンチル基、
1,3−ジメチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチ
ルヘキシル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、1,
1,3,3−テトラエチルブチル基、1−メチルヘプチ
ル基、3−メチルヘプチル基、n−オクチル基、2−エ
チルヘキシル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、
1,1,3,3−テトラメチルペンチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、1−メチルウンデシル基、ド
デシル基、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキ
シル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル
基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル
基、エイコシル基、ドコシル基、ペンタコシル基又はト
リアコシル基;分枝してないアルキル基が好ましくそし
て分枝してない炭素原子数1ないし18のアルキル基が
特に好ましい;
【0022】分枝した又は分枝してない炭素原子数1な
いし36のアルキルオキシ基、特に炭素原子数6ないし
18のアルキルオキシ基例えばヘキシルオキシ基、ヘプ
チルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デ
シルオキシ基、ウンデシルオキシ基又はドデシルオキシ
基;
【0023】炭素原子数3ないし36のアルケニル基例
えばプロペニル(アリル)基、ブテニル基、ペンテニル
基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネ
ニル基、デセニル基、ドデセニル基、ペンタデセニル
基、オクタデセニル基;炭素原子数3ないし36のアル
ケニルオキシ基;
【0024】炭素原子数3ないし9のアルキニル基、例
えばプロパルギル基;炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基により置換されているアルキル基又はアルキル
オキシ基、例えばシクロペンチルメチル基、シクロヘキ
シルメチル基、シクロヘプチルメチル基、シクロオクチ
ルメチル基、シクロヘキシルエチル基、2−シクロヘキ
シル−n−プロピル基、3−シクロヘキシル−n−プロ
ピル基、4−シクロヘキシル−n−ブチル基;
【0025】炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
又は1ないし6個の−O−により中断されているアルキ
ル基又はアルキルオキシ基、例えば
【化41】 −C2 4 −O−C2 4 −O−C1225、−(C2
4 −O)4 −C4 9 又は−(C2 4 −O)6 −C4
9
【0026】未置換の又は炭素原子数1ないし12のア
ルキル基又は炭素原子数2ないし12のアルケニル基に
より置換されている炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキルオキシ
基、炭素原子数6ないし8のシクロアルケニル基又は炭
素原子数6ないし8のシクロアルケニルオキシ基例え
ば、シクロペンチル基、シクロペンチルオキシ基、シク
ロヘキシル基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチ
ル基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチル基、シ
クロオクチルオキシ基、2−又は4−メチルシクロヘキ
シルオキシ基、ジメチルシクロヘキシルオキシ基、トリ
メチルシクロヘキシル基、tert−ブチルシクロヘキ
シル基又は2−シクロヘキセニル基、特にシクロヘキシ
ル基とシクロヘキシルオキシ基;
【0027】フェニル基、フェノキシ基、ベンジルフェ
ニル基又はベンジルフェニルオキシ基;炭素原子数1な
いし12のアルキル基又は炭素原子数2ないし12のア
ルケニル基により置換されているフェニル基又はフェニ
ルオキシ基;
【0028】炭素原子数7ないし12のフェニルアルキ
ル基、炭素原子数7ないし12のフェニルアルケニル
基、炭素原子数7ないし12のフェニルアルキルオキシ
基、炭素原子数7ないし12のフェニルアルケニルオキ
シ基例えばベンジル基、ベンジルオキシ基、フェネチル
オキシ基、3−フェニルプロピルオキシ基、α−メチル
ベンジル基、α−メチルベンジルオキシ基、α,α−ジ
メチルベンジル基又はα,α−ジメチルベンジルオキシ
基。
【0029】式IとIIの好ましい化合物は、mとnが他
と独立して1ないし4の範囲からの数であるそれら、そ
して特にmが1ないし4の範囲からの数でありそしてn
が1ないし3の範囲からの数であるそれらである。特に
興味のある式IとIIの化合物は、mとnが1又は2、特
に2であるそれらである。
【0030】式IとIIの好ましい化合物は、式中、mと
nが1,2,3又は4を表し;A1 が、m=1である場
合は、未置換の又は炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基により置換されている炭素原子数1ないし25の
アルキル基;又は炭素原子数5ないし8のシクロアルキ
ル基、−S−、−O−又は−NR2 −又はこれらの基の
いろいろにより中断されている炭素原子数2ないし25
のアルキル基を表すか;又はA1 は、m=1である場合
は、未置換の又は又は炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基により置換されている炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基;未置換の又は炭素原子数1ないし12の
アルキル基により置換されている炭素原子数6ないし8
のシクロアルケニル基;未置換の又は1ないし3個の炭
素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数2ないし
4のアルケニル基又は炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基及び/又は式:
【化42】 の基により置換されているフェニル基;又は炭素原子数
2ないし25のアルケニル基;−O−により中断されて
いる炭素原子数3ないし25のアルケニル基;未置換の
又は炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭素原子数
2ないし4のアルケニル基又は炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換されている炭素原子数7ないし
12のフェニルアルキル基を表し;A1 は、m=2であ
る場合は、直接結合;炭素原子数1ないし18のアルキ
レン基;炭素原子数2ないし18のアルケニレン基;未
置換の又は炭素原子数1ないし12のアルキル基により
置換されている炭素原子数5ないし8のシクロアルキレ
ン基;未置換の又は炭素原子数1ないし12のアルキル
基により置換されている炭素原子数6ないし8のシクロ
アルケニレン基;未置換の又は1又は2個の炭素原子数
1ないし4のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアル
ケニル基又は炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び
/又は式:
【化43】 の基により置換されているフェニレン基;式:
【化44】 の二価の基;フラン、チオフェン又は窒素原子上が水素
原子又は基:−R2 により置換されているピロールから
なる群からの二価の複素環基を表すか;又は、A1 は、
m=2である場合は、炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキレン基、フェニレン基、−S−、−O−又は−NR
2 −又はこれらの基のいろいろにより中断されている炭
素原子数2ないし18のアルキレン基を表し;そしてA
1 は、m=3である場合は、炭素原子数1ないし8のア
ルカントリイル基;炭素原子数2ないし8のアルケント
リイル基;ベンゼントリイル基;式:
【化45】 の三価の基;式:−R5 −N(−R6 −)−R7 −の三
価の基;1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイ
ル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルカントリイル
基;又は−S−、−O−又は−NR2 −により中断され
ている及び/又はターシャリ−OHにより置換されてい
る炭素原子数2ないし18のアルカントリイル基;A1
は、m=4である場合は、4個の自由価を持つベンゼ
ン、シクロペンチル又はシクロヘキシル基又は式:
【化46】 の四価の基;式:
【化47】 の四価の基;又は炭素原子数1ないし8のアルカンテト
ライル基を表し;A2 は、n=1である場合は、未置換
の又は1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル
基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基又は炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基及び/又は式:
【化48】 の基により置換されているフェニル基;式:
【化49】 のトリアジニルフェニル基;又はナフチル基を表し;A
2 は、n=2である場合は、未置換の又は1又は2個の
炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数2ない
し4のアルケニル基又は炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基及び/又は式:
【化50】 の基により置換されているフェニレン基;式:
【化51】 の二価の基;又はナフチレン基を表し;A2 は、n=3
である場合は、ベンゼントリイル基;又は式:
【化52】 の三価の基を表し;A2 は、n=4である場合は、4個
の自由価を持つベンゼン基又は式:
【化53】 の四価の基を表し;又はA2 は式:
【化54】 (式中、基X1 ないしX6 の1ないし4個は各々の場合
において解放結合でありそして他は互いに独立して、水
素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
す。)のn価のトリフェニルトリアジニル基を表し;D
は直接結合;炭素原子数1ないし10のアルキレン基;
又は基:−CO−、−S−、−O−又は−SO2 −の一
つを表し;R1 は炭素原子数1ないし36のアルキル
基;炭素原子数3ないし36のアルケニル基;炭素原子
数3ないしし9のアルキニル基;炭素原子数1ないし3
6のアルコキシ基;炭素原子数3ないし36のアルケニ
ルオキシ基;未置換の又は1ないし3個の炭素原子数1
ないし4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基により置換されている炭素原子数5ないし12
のシクロアルキル基;未置換の又は1ないし3個の炭素
原子数1ないし4のアルキル基又は炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基により置換されている炭素原子数5な
いし12のシクロアルコキシ基;未置換の又は1ないし
3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基により置換されているフェ
ニル基;未置換の又は1ないし3個の炭素原子数1ない
し4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基により置換されているナフチル基;未置換の又は1
ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換されてい
るフェノキシ基;未置換の又は1ないし3個の炭素原子
数1ないし4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換されているナフトキシ基;未置
換の又はフェニル環上が1ないし3個の炭素原子数1な
いし4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基により置換されている炭素原子数7ないし12の
フェニルアルキル基;未置換の又はフェニル環上が1な
いし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭素
原子数1ないし4のアルコキシ基により置換されている
炭素原子数7ないし12のフェニルアルコキシ基;又は
−CO−R2 (式中、R2 は炭素原子数1ないし18の
アルキル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基;フェニル基;ナフチル基;炭素原子数7ないし9の
フェニルアルキル基;又は炭素原子数11ないし14の
ナフチルアルキル基を表す。)を表し;そしてR3 はR
2 と同じ意味を持つか又は水素原子を表し;R4 とR4'
は互いに独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表し;R5 、R6 とR7 は互いに独立して
炭素原子数1ないし3のアルキレン基を表し;R8 は水
素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
9 とR10は互いに独立して炭素原子数3ないし18の
アルキル基又は炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基を表し;そしてR11は炭素原子数2ないし6のアルキ
レン基を表すそれらである。
【0031】型:
【化55】 の上述の式では、フェニル核に突入している、記号R4
又はR4'付きの線は、橋員Dに関してo−、m−又はp
−位置にある置換基である;記号付きでない線は橋員に
関してo−、m−又はp−位置にある未だ置換されてい
ない他の位置への解放結合を意味する。Dは好ましくは
基:−CO−、−CH2 −、−O−又は−C(−C
3 2 −の一つを表す。R4 とR4'は好ましくは水素
原子、メチル基又はtert−ブチル基;特に水素原子
を表す。
【0032】R1 は特に好ましくは、炭素原子数1ない
し6のアルキル基;炭素原子数6ないし12のアルコキ
シ基;シクロヘキシル基、シクロヘキシルオキシ基、シ
クロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基又は炭素原子数
7ないし9のフェニルアルコキシ基;特にメチル基、シ
クロヘキシルオキシ基、ベンジル基、ベンジルオキシ
基、α−メチルベンジル基、α−メチルベンジルオキシ
基、オクチルオキシ基及びドデシルオキシ基、特にメチ
ル基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジル基又はオクチ
ルオキシ基を表す。特に顕著に興味のある化合物は、式
中、A1 がm−又はp−フェニレン基;1,3,5−ベ
ンゼントリイル基;エチレン基;1,4−シクロヘキシ
レン基;n−ヘプタデシル基;n−ウンデシル基;1,
6−ヘキシレン基;1,8−オクチレン基;1,10−
デシレン基又は1,12−ドデシレン基;特にm−フェ
ニレン基;エチレン基;1,8−オクチレン基;1,1
0−デシレン基;1,4−シクロヘキシレン基又はn−
ウンデシル基である式Iの化合物、並びに式中、A2
m−フェニレン基又は式:
【化56】 の二価の基を表す式IIのそれらである。
【0033】式IとIIの好ましい化合物は、式中、A1
は、m=1である場合は、炭素原子数6ないし18のア
ルキル基;炭素原子数2ないし12のアルケニル基;シ
クロヘキシル基;シクロヘキセニル基;未置換の又は1
ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基又は
式:
【化57】 の基、又は炭素原子数2ないし4のアルケニル基により
置換されているフェニル基;−O−により中断されてい
る炭素原子数3ないし12のアルケニル基;又は未置換
の又はフェニル環上が炭素原子数1ないし4のアルキル
基又は炭素原子数2ないし4のアルケニル基又は炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基により置換されている炭
素原子数7ないし12のフェニルアルキル基を表し;A
1 は、m=2である場合は、直接結合;炭素原子数1な
いし18のアルキレン基;−O−又は−S−により中断
されている炭素原子数2ないし18のアルキレン基;炭
素原子数2ないし18のアルケニレン基;炭素原子数5
ないし9のシクロアルキレン基;未置換の又は1又は2
個の炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭素原子数
1ないし4のアルコキシ基及び/又は式:
【化58】 の基,又は炭素原子数2ないし4のアルケニル基により
置換されているフェニレン基;又は式:
【化59】 の二価の基を表し;A1 は、m=3である場合は、炭素
原子数3ないし8のアルカントリイル基;ターシャリ・
ヒドロキシル基により置換されている炭素原子数3ない
し8のアルカントリイル基;ベンゼントリイル基;N
[(CH2 )−]3 ;炭素原子数5ないし8のシクロア
ルカントリイル基;又は1,3,5−トリアジン−2,
4,6−トリイル基を表し;A1 は、m=4である場合
は、4個の自由価を持つベンゼン基、シクロペンチル基
又はシクロヘキシル基;又は
【化60】 を表し;A2 は、n=1である場合は、未置換の又は炭
素原子数1ないし4のアルキル基又は式:
【化61】 の基、又は炭素原子数2ないし4のアルケニル基により
置換されているフェニル基;又はナフチル基を表し;A
2 は、n=2である場合は、未置換の又は炭素原子数1
ないし4のアルキル基又は式:
【化62】 の基により置換されているフェニレン基;式:
【化63】 の二価の基;又はナフチレン基を表し;A2 は、n=3
である場合は、ベンゼントリイル基を表し;A2 は、n
=4である場合は、4個の自由価を持つベンゼン基を表
すか又はA2 は式:
【化64】 (式中、X1 ないしX6 の1ないし4個は各々の場合に
おいて解放結合でありそして他は互いに独立して水素原
子又はメチル基を表す。)のn価のトリフェニルトリア
ジニル基を表し;Dは直接結合又は基:−CO−、−S
−、−O−、−SO2 −又は−C(−R4 )(−R4'
の一つを表し;R1 は炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基;炭素原子数4ないし22のアルコキシ基;炭素原
子数3ないし8のアルケニル基;炭素原子数3ないしし
8のアルキニル基;炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基;
炭素原子数7ないし12のフェニルアルキル基;炭素原
子数7ないし12のフェニルアルコキシ基;炭素原子数
1ないし8のアルカノイル基;炭素原子数3ないし5の
アルケノイル基;又はベンゾイル基を表し;そしてR4
とR4'は互いに独立して水素原子又は炭素原子数1ない
し4のアルキル基を表すそれらである。
【0034】特に興味のある式IとIIの化合物は、式
中、mとnの各々は1ないし4の範囲からの整数を表
し;A1 は、m=1である場合は、炭素原子数6ないし
18のアルキル基を表し;A1 は、m=2である場合
は、炭素原子数2ないし18のアルキレン基;シクロヘ
キシレン基;フェニレン基;式:
【化65】 の二価の基を表し;A1 は、m=3である場合は、ベン
ゼントリイル基又はシクロヘキサントリイル基を表し;
そしてA1 は、m=4である場合は、4個の自由価を持
つベンゼン基を表し;A2 は、n=1である場合は、未
置換の又は炭素原子数1ないし4のアルキル基により置
換されているフェニル基;又はナフチル基を表し;A2
は、n=2である場合は、未置換の又は炭素原子数1な
いし4のアルキル基又は式:
【化66】 の基により置換されているフェニレン基;ナフチレン
基;又は式:
【化67】 の二価の基を表し;A2 は、n=3である場合は、ベン
ゼントリイル基を表し;そしてA2 は、n=4である場
合は、4個の自由価を持つベンゼン基を表し;Dは基:
−CH2 −、−CO−又は−C(−CH3 )(−C
3 )−の一つをを表し;そしてR4 とR4'は互いに独
立して水素原子、メチル基又はtert−ブチル基を表
すそれらである。
【0035】式IとIIの特に好ましい化合物は、式中、
mは1ないし4の範囲からの整数を表しそしてnは1な
いし3の範囲からの整数を表し;A1 は、m=1である
場合は、炭素原子数10ないし18のアルキル基を表
し;A1 は、m=2である場合は、炭素原子数2ないし
18のアルキレン基;シクロヘキシレン基;又はフェニ
レン基を表し;A1 は、m=3である場合は、ベンゼン
トリイル基又はシクロヘキサントリイル基を表し;A1
は、m=4である場合は、ベンゼンテトライル基を表
し;A2 は、n=1である場合は、フェニル基を表し;
2 は、n=2である場合は、フェニレン基又は式:
【化68】 の二価の基を表し;そしてA2 は、n=3である場合
は、ベンゼントリイル基を表し;Dは基:−CO−又は
−C(−CH3 )(−CH3 )−の一つをを表し;R1
は炭素原子数1ないし6のアルキル基;炭素原子数6な
いし12のアルコキシ基;シクロヘキシル基;シクロヘ
キシルオキシ基;シクロヘプチルオキシ基;シクロオク
チルオキシ基又は炭素原子数7ないし9のフェニルアル
キル基を表し;そしてR4 とR4'は互いに独立して水素
原子、メチル基又はtert−ブチル基を表すそれらで
ある。
【0036】特に重要な式I又は式IIの化合物は、脂肪
族部分においてエチレン性不飽和であるカルボン酸か
ら、又は脂肪族部分においてエチレン性不飽和であるフ
ェノール誘導体から誘導されたそれらである。そのよう
な化合物は、一方では上述の安定化作用を持ち、そして
他方では重合により高分子量安定剤にも誘導できかくし
て高分子性の光安定剤の製造のために有用な中間体であ
る。
【0037】そのような化合物の例は、式中、mは1又
は2を表しそしてnは1を表し;A1 は、m=1である
場合は、炭素原子数2ないし12のアルケニル基;シク
ロヘキシレン基;炭素原子数2ないし4のアルケニル基
により置換されそして炭素原子数1ないし4のアルキル
基又は式:
【化69】 の基により置換されていてもよいフェニル基:−O−に
より中断されている炭素原子数3ないし12のアルケニ
ル基;又はフェニル環上が炭素原子数2ないし4のアル
ケニル基により置換されている炭素原子数7ないし12
のフェニルアルキル基を表し;A1 は、m=2である場
合は、炭素原子数2ないし18のアルケニレン基;又は
フェニル環上が炭素原子数2ないし4のアルケニル基に
より置換されているフェニレン基を表し;A2 は、n=
1である場合は、炭素原子数2ないし4のアルケニル基
により置換されているフェニル基を表し;Dは直接結合
又は基:−O−又は−C(−R4 )(−R4')−の一つ
を表し;R1 は炭素原子数1ないし18のアルキル基;
炭素原子数4ないし22のアルコキシ基;炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基;炭素原子数5ないし8の
シクロアルコキシ基;炭素原子数7ないし12のフェニ
ルアルキル基;炭素原子数1ないし8のアルカノイル
基;又はベンゾイル基を表し;そしてそしてR4 とR4'
は互いに独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表す式IとIIの化合物である。
【0038】特に有利に使用できるエチレン性不飽和の
カルボン酸とアルケニルフェノールは、mとnの各々の
場合に1であるそれらであり、そしてこれらの中で特に
1がビニル基;α−メチルビニル基;ビニルオキシ基
により置換されている炭素原子数1ないし4のアルキル
基;ビニルフェニル基又はビニルベンジル基を表し;そ
してA2 がビニルフェニル基を表すそれらである。
【0039】本発明が同様に関わる、式Iの又は式IIの
化合物の製造のための好ましい方法は、式III :
【化70】 のピペリジン化合物から出発する。式III の化合物は既
知であり、それらの或るものは市販品である。
【0040】初めに、HClを除きながら、式III のピ
ペリジン化合物を、それ自体知られている方法でエピク
ロルヒドリンと反応させて、式IV:
【化71】 の中間体を取得しそして次にこれを(a)式V:
【化72】 のカルボン酸と反応させて式Iのエステルを形成せしめ
るか、又は(b)式VI:
【化73】 のフェノールと反応させて式IIのフェノールエーテルを
形成せしめる。記号m、n、R1 、A1 とA2 は上述の
定義とおりである。
【0041】式IV(エポキシド)の中間体は、欧州特許
公開公報(EP−A−)第001835号に記載されて
いる方法により又はラストンとヴァス,Makromol. Che
m.,Macromol. Symp. 27, 231(1989) による方法により
製造できる。エピクロルヒドリンの過剰を強塩基、例え
ばアルカリ金属水酸化物濃水溶液の存在下、適当ならば
有機溶媒の存在下、式III のピペリジン化合物にゆっく
りと滴下すると有利である。
【0042】式III の化合物に基づいて約2−ないし2
0−倍モル過剰で;例えば、ピペリジン化合物モル当り
50%水溶液としての水酸化ナトリウム又は水酸化カリ
ウムを3−15モル、好ましくは4−12モルで、塩基
を使用すると有利である。有機溶媒の量は、式III の化
合物が完全に溶解するように選択すると便利である;適
当な溶媒は、例えば、不活性溶媒、例えば炭化水素又は
エーテルであり、トルエンが好ましい。
【0043】1ないし4、好ましくは1.2ないし3、
特に1.5ないし2.5当量のエピクロルヒドリンを、
例えば、式III のピペリジン化合物の当量当り使用でき
る。更に、第三アミン例えば塩化テトラメチルアンモニ
ウム又は臭化テトラブチルアンモニウムのようなハロゲ
ン化テトラアルキルアンモニウムの、又はホスホニウム
塩、例えば臭化エチルトリフェニルホスホニウムのよう
なハロゲン化第四ホスホニウムの1−30モル%、好ま
しくは5ないし25モル%をその混合物に触媒として添
加すると有利である。
【0044】反応中の温度は0ないし100℃、好まし
くは20ないし80℃、特に30ないし70℃であると
有利である。
【0045】反応が完了したら、後処理は常法により実
施できる;例えば1ないし4倍量の氷水に反応混合物を
添加することにより、その混合物を初めに水で希釈し;
次いで有機相を直接により又は抽出(例えば酢酸エチル
は抽出のために便利である。)により分別できる。有機
相を乾燥した後、生成物を溶媒を除去して単離する。活
性炭の分散、ろ過又はろ過のような他の精製段階を包含
させることも可能である。
【0046】式I又はIIの化合物を得るための、エポキ
シド基を開環することによる式IVの中間体の別の反応
は、無溶媒で又は溶媒を使用して実施できる;使用でき
る溶媒は、適当な場合は、極性又は非極性、不活性そし
て式IIの場合は好ましくは高沸点性である。かくして、
例えば、芳香族又は脂肪族炭化水素は使用でき、同じ
く、複素環系溶媒、エーテル、スルホン、スルホキシド
又はアミドも使用でき;好ましい溶媒は就中、比較的高
い沸点の炭化水素留分、例えばリグロイン又は石油エー
テル、芳香族炭化水素、例えばトルエン又はキシレン、
デカリン、環式又は開環鎖状のエーテル、例えばジブチ
ルエーテル又はジオキサン、ジメチルホルムアミド又は
ジメチルスルホキシドである;トルエン又はキシレンが
特に好ましい。
【0047】反応混合物の温度は、反応の間、沸点範囲
(還流)に保ってよい。このために、溶媒を含有する反
応混合物を、通常大気圧下で、沸点まで加熱し、そして
蒸発した溶媒を適当な凝縮器で凝縮しそして反応混合物
に再循環する。適当な場合は、純粋な溶媒の沸点範囲を
60ないし180℃、例えば60ないし140℃の範囲
内にしてよい。式Vのカルボン酸を反応に使用する場合
は、温度を30ないし130℃、特に40ないし90℃
の範囲内に保つのが好ましく、反応持続時間は、例えば
1ないし20時間である。式VIのフェノールを使用する
場合は、温度を80ないし180℃、特に100ないし
160℃の範囲内に保つのが好ましく、反応持続時間
は、例えば3ないし36時間である。
【0048】反応は好ましくは不活性ガス、例えば窒素
又はアルゴン下で実施するのが好ましく、反応混合物は
攪拌するのが有利である。式IVのエポキシドは、式Vの
反応体のカルボキシル基又は式VIの反応体のフェノール
性ヒドロキシル基に関して約当量で又はやや過剰にし
て、例えばフェノール性OH又はカルボキシル基の当量
当り1.0ないし1.3当量、特に1.0ないし1.1
5当量で使用するのが好ましい。
【0049】反応は、触媒としての、第四アンモニウム
塩、例えばハロゲン化テトラアルキルアンモニウム、例
えば塩化テトラメチルアンモニウム又は臭化テトラブチ
ルアンモニウム、又はホスホニウム塩、例えば臭化エチ
ルトリフェニルホスホニウムのようなハロゲン化第四ホ
スホニウムの存在下実施するのが好ましい。触媒は、式
IVの化合物に関して1ないし5モル%の量で使用すると
有利である。
【0050】反応の後の後処理は常法により実施でき
る;例えば冷却した混合物を初めに塩基の水溶液、例え
ば非常に希釈したアルカリ金属水酸化物水溶液、次いで
水で洗浄し、乾燥した後、例えば減圧及び/又は加熱を
利用して溶媒を留去する。乾燥の後、活性炭の分散、ろ
過、蒸留等のような他の精製過程も含ませることができ
る。
【0051】本発明の化合物の他の可能な製造法では、
初めにエピクロルヒドリンを式Vのカルボン酸と又は式
VIのフェノールと反応させ、次に得られた中間体を、エ
ポキシド環を開環させて、式III のピペリジン化合物と
反応させ、式Iの所望のエステル又は式IIのフェノール
エーテルを得る。
【0052】式IとIIの化合物は、熱的、酸化的または
化学線分解に対して有機材料を安定化するのに適してい
る。
【0053】そのような材料の例を下記する: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
1、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリイソプレンま
たはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシ
クロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、(所望に
より架橋結合できる)ポリエチレン、例えば高密度ポリ
エチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDP
E)および線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、分
枝低密度ポリエチレン(BLDPE)。
【0054】ポリオレフィン、即ち前出の文節に例示し
たモノオレフィン類のポリマー、好ましくはポリエチレ
ンとポリプロピレンは異なる方法、そして特に下記の方
法により製造できる: a)ラジカル重合(通常は高圧下そして高温下で) b)通常周期表の第IVb、Vb、VIb又はVIII族の一種
以上の金属を含有する触媒を使用する触媒重合。これら
の金属は通常は、π−又はσ−配位していてよい一種以
上のリガンド、典型的にはオキシド、ハライド、アルコ
レート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アル
ケニル及び/又はアリールを持つ。これらの金属錯体
は、遊離型であってもよく又は担体上、典型的には活性
化塩化マグネシウム、塩化チタン(III )、アルミナ又
は酸化ケイ素上に固定された形であってもよい。これら
の触媒は重合媒体中に溶解性又は不溶性であってもよ
い。その触媒は、重合中にそれ自体が使用されてもよく
又は別の活性剤、典型的にはアルキル金属、金属水素化
物、アルキル金属ハライド、アルキル金属オキシド又は
アルキル金属オキサン(これら金属は周期表の第Ia、II
a 及び/又はIIIaの元素である。) であってよい。活性
剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエー
テル基で有利に変形されてもよい。これらの触媒系は通
常は、フィリップス触媒、スタンダード・オイル・イン
ジアナ触媒、チーグラー(−ナッター)触媒、TNZ
(デュポン)触媒、メタロセン触媒又は単座触媒(SS
C)と呼ばれる。
【0055】2.1.に記載したポリマーの混合物、例
えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポ
リプロピレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP/
HDPE,PP/LDPE)およびポリエチレンの異な
るタイプの混合物(例えば、LDPE/HDPE)。
【0056】3.モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレン−コポリマー、線状低密度ポリエチレン
(LLDPE)およびその低密度ポリエチレン(LDP
E)との混合物、プロピレン/ブテン−1−コポリマ
ー、プロピレン/イソブチレン−コポリマー、エチレン
/ブテン−1−コポリマー、エチレン/ヘキセン−コポ
リマー、エチレン/メチルペンテン−コポリマー、エチ
レン/ヘプテン−コポリマー、エチレン/オクテン−コ
ポリマー、プロピレン/ブタジエン−コポリマー、イソ
ブチレン/イソプレン−コポリマー、エチレン/アルキ
ルアクリレート−コポリマー、エチレン/アルキルメタ
クリレート−コポリマー、エチレン/ビニルアセテート
−コポリマーおよび一酸化炭素とのそれらのコポリマー
又はエチレン/アクリル酸−コポリマーおよびそれらの
塩類(アイオノマー)、およびエチレンとプロピレンと
ジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまた
はエチリデン−ノルボルネンのようなものとのターポリ
マー;並びにそのようなコポリマーの混合物と1.に記
載したポリマーとのそれらの混合物、例えばポリプロピ
レン/エチレン−プロピレン−コポリマー、LDPE/
エチレン−酢酸ビニル−コポリマー(EVA)、LDP
E/エチレン−アクリル酸−コポリマー(EAA)、L
LDPE/EVA,LLDPE/EAAおよびランダム
な又は交互のポリアルキレン/一酸化炭素−コポリマー
並びに他のポリマー、例えばポリアミドとのそれらの混
合物。
【0057】4.炭化水素樹脂(例えばC5 −C9 )お
よびそれらの水素化変性体(例えば粘着付与剤)および
ポリアルキレンと澱粉との混合物。
【0058】5.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルス
チレン)、ポリ−(α−メチルスチレン)。
【0059】6.スチレンまたはα−メチルスチレンと
ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばス
チレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリル、ス
チレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエ
ン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエン/ア
ルキルメタアクリレート、スチレン/無水マレイン酸、
スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;ス
チレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレ
ート、ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジ
エン−ターポリマーからの高耐衝撃性混合物、;および
スチレンのブロックコポリマー例えばスチレン/ブタジ
エン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、ス
チレン/エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレン
/エチレン/プロピレン/スチレン。
【0060】7.スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン/スチレンまたはポリブタジエン/
アクリロニトリル−コポリマーにスチレン;ポリブタジ
エンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタア
クリロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリ
ロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエ
ンにスチレンと無水マレイン酸;ポリブタジエンにスチ
レン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマ
レインイミド;ポリブタジエンにスチレンとマレインイ
ミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリ
レートまたはメタアクリレート;エチレン/プロピレン
/ジエン−ターポリマーにスチレンおよびアクリロニト
リル;ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメ
タクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル;アク
リレート/ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、並びにこれらと6.に列挙したコポリマ
ーとの混合物、例えばABS−、MBS−、ASA−ま
たはAES−ポリマーとして知られているコポリマー混
合物。
【0061】8.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホン
化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンのコポリマ
ー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特に
ハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
【0062】9.α,β−不飽和酸およびその誘導体か
ら誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよび
ポリメタアクリレート、アクリル酸ブチルで耐衝撃化改
質したポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。
【0063】10.前項9.に挙げたモノマー相互のま
たは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリ
ロニトリル/ブタジエン−コポリマー、アクリロニトリ
ル/アルキルアクリレート−コポリマー、アクリロニト
リル/アルコキシアルキルアクリレート−コポリマー又
はアクリロニトリル/ハロゲン化ビニル−コポリマー又
はアクリロニトリル/アルキルメタアクリレート/ブタ
ジエン−ターポリマー。
【0064】11.不飽和アルコールおよびアミンまた
はそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから
誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベ
ンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラ
ール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン;
並びにそれらと上記1.に記載したオレフィンとのコポ
リマー。
【0065】12.環状エーテルのホモポリマーおよび
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれら
とビス−グリシジルエーテルとのコポリマー。
【0066】13.ポリアセタール、例えばポリオキシ
メチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして含
むポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタンで変性さ
せたポリアセタール、アクリレートまたはMBS。
【0067】14.ポリフェニレンオキシドおよびスル
フィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。
【0068】15.一方の成分としてヒドロキシ末端基
を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエ
ンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシア
ネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆物
質。
【0069】16.ジアミン及びジカルボン酸及び/又
はアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導さ
れたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド
4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、6/
9、6/12、4/6、12/12、ポリアミド11、
ポリアミド12、m−キシレンジアミン及びアジピン酸
の縮合によって得られる芳香族ポリアミド;ヘキサメチ
レンジアミン及びイソフタル酸及び/又はテレフタル酸
および所望により変性剤としてのエラストマーから製造
されるポリアミド、例えはポリ(2,4,4−トリメチ
ルヘキサメチレン)テレフタルアミドまたはポリ−m−
フェニレンイソフタルアミド。前記ポリアミドとポリオ
レフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは
化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとの別の
コポリマー;またはこれらとポリエーテル、例えばポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたは
ポリテトラメチレングリコールとのコポリマー。更に、
EPDMまたはABSで変性させたポリアミドまたはコ
ポリアミド。加工の間に縮合させたポリアミド(RIM
−ポリアミド系)。
【0070】17.ポリ尿素、ポリイミドおよびポリア
ミド−イミド及びポリベンズイミダゾール。
【0071】18.ジカルボン酸およびジオールおよび
/ またはヒドロキシカルボン酸または相当するラクトン
から誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,
4−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレート及び
ポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を
含有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエ
ーテルエステル;及びポリカーボネート又はMBSで変
性したポリエステル。
【0072】19.ポリカーボネートおよびポリエステ
ル−カーボネート。
【0073】20.ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ンおよびポリエーテルケトン。
【0074】21.一方の成分としてアルデヒドおよび
他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから
誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムア
ルデヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂及びメラミ
ン/ホルムアルデヒド樹脂。
【0075】22.乾性および不乾性アルキド樹脂。
【0076】23.飽和および不飽和ジカルボン酸と多
価アルコールのコポリエステル、及び架橋剤としてのビ
ニル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポ
リエステル樹脂並びに燃焼性の低いそれらのハロゲン含
有変性物。
【0077】24.置換アクリル酸エステル、例えばエ
ポキシアクリレート、ウレタン−アクリレートまたはポ
リエステル−アクリレートから誘導された熱硬化性アク
リル樹脂。
【0078】25.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソ
シアネートまたはエポキシ樹脂と架橋してあるアルキド
樹脂、ポリエステル樹脂またはアクリレート樹脂。
【0079】26.ポリエポキシドから、例えばビス−
グリシジルエーテルから、または脂環式ジエポキシドか
ら誘導された架橋エポキシ樹脂。
【0080】27.天然ポリマー、例えばセルロース、
天然ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた
同族誘導体のようなもの、例えば酢酸セルロース、プロ
ピオン酸セルロースおよび酪酸セルロースのようなも
の、またはセルロースエーテル、例えばメチルセルロー
スのようなもの;ロジンおよびそれらの誘導体。
【0081】28.前記したポリマーの混合物(ポリブ
レンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド6/EP
DMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、
PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、P
C/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/
アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑
性PUR、POM/アクリレート、POM/MBS、P
P0/HIPS、PPE/PA6.6およびコポリマ
ー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
【0082】従って、本発明は更に、(a)酸化的、熱
的または化学線分解を受け易い有機材料及び(b)請求
項1記載の式I及び/又はIIの化合物の少なくとも1種
からなる組成物、酸化的、熱的または化学線分解に対し
て有機材料を安定化するために式I及び/又はIIの化合
物を使用する方法に関する。本発明は又、有機材料に式
I及び/又はIIの少なくとも一種の化合物を添加するこ
とからなる、熱的、酸化的または化学線分解に対して該
有機材料を安定化する方法に関する。
【0083】合成有機ポリマー中の安定剤として式Iと
IIの化合物を使用することは、特に興味がある。
【0084】保護される有機材料は、好ましくは天然、
半合成又は、好ましくは合成有機材料である。合成有機
ポリマー又はそのようなポリマーの混合物、特に熱可塑
性ポリマー、例えばポリオレフィン、特にポリエチレン
とポリプロピレン(PP)は、特に好ましい。塗料組成
物も特に好ましい有機材料である。写真材料は、特に、
写真複写と他の複写技術のために Research Disclosu
re 1990,31429(474-480 頁) に記述されているものを意
味すると理解されるべきである。本発明の明細書におい
て安定化されると有利である塗料組成物は、例えば、"U
llmann's Encyclodepedia of Industrial Chemistry,第
5 版,A18巻,359-464頁,VCH Verlagsgesselscaft, Weinh
eim 在" に記載されており、その塗料組成物は、他の添
加物、例えば下記のそれら、特に紫外線吸収剤を含有し
ていることが頻繁にある。
【0085】概して、式I及び/又は式IIの化合物は、
安定化した組成物の重量を基準にして約0.01ないし
約10%、好ましくは0.01ないし5%、特に0.0
1ないし2%で添加される。0.05ないし1.5重量
%、特に0.1ないし1.5重量%の量で本発明の化合
物を使用することは特に好ましい。
【0086】材料中への混和は、例えば式I及び/又は
式IIの化合物そして適当ならば他の添加剤を当技術の常
法により混合又は適用することにより実施できる。材料
がポリマー、特に合成ポリマーである場合は、混和は、
成形の前又は間、又はポリマーへの溶解した又は分散し
た化合物の適用により、適当ならばその次に溶媒を蒸発
することにより実施できる。エラストマーの場合は、こ
れらはラテックスとしても安定化できる。ポリマー中へ
の式I及び/又はIIの化合物の混和のための別の可能性
は、該当するモノマーの重合の前、間又は直後又は架橋
の前の、化合物の添加からなる。式Iの化合物は、カプ
セル型又はそのようなもの(例えば、ワックス中、油中
又はポリマー中)の型で添加できる。式I及び/又はII
の化合物を重合の間に添加する場合は、それらはポリマ
ーの鎖長の調節剤(連鎖停止剤)としても作用する。
【0087】式I及び/又はIIの化合物は、この化合物
を例えば2.5ないし25重量%の濃度で含有している
マスターバッチの形で、安定化するプラスチックに添加
することもできる。
【0088】式I及び/又はIIの化合物は下記の方法に
より混和すると有利である: −エマルジョン又は分散液として(例えばラテックス又
はエマルジョンポリマーへ) −追加成分又はポリマー混合物の混合の間の乾燥混合物
として −加工装置への直接添加により(例えば押出機、内部混
合機等) −溶液又は融解物として。
【0089】本発明のポリマー組成物は、いろいろな形
で、例えばフィルム、ファイバー、テープ、成形組成物
又は形材(へ)、又はペイント、接着剤又はパテのため
の結合剤として、使用又は加工できる。
【0090】式I及び/又はIIの化合物に加えて、本発
明の組成物は常用の添加剤、例えば下記に定義したそれ
らを追加して含有できる。
【0091】常用の添加剤は、安定化するポリマーを基
準にして0.1−10、例えば0.2−5重量%の量で
使用できる。
【0092】1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール類、 例えば、2,6
−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−
tert−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,
6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール、
2,6−ジ−tert−ブチル−4−n−ブチルフェノ
ール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−イソブチル
フェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフ
ェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6
−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−
メチルフェノ−ル、2,4,6−トリシクロヘキシルフ
ェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキ
シメチルフェノール,2,6−ジノニル−4−メチルフ
ェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−メチル−ウ
ンデク−1′−イル)フェノール、2,4−ジメチル−
6−(1′−メチルヘプタデシル−1′−イル)フェノ
ール,2,4−ジメチル−6−(1′−メチル−トリデ
ク−1′−イル)−フェノールおよびそれらの混合物。
【0093】1.2.アルキルチオメチルフェノール
類、例えば2,4−ジオクチルチオメチル−6−ter
t−ブチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル
−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチ
ル−6−メチルフェノール、2,6−ジ−ドテジルチオ
メチル−4−ノニルフェノール。
【0094】1.3.ハイドロキノン類とアルキル化ハ
イドロキノン類、例えば、2,6−ジ−tert−ブチ
ル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−tert−
ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−tert−アミル
ハイドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシ
ルオキシフェノール,2,6−ジ−tert−ブチル−
ハイドロキノン,2,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシアニソール、ステアリン酸3,5−ジ
−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル、アジピ
ン酸ビス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)。
【0095】1.4.トコフェロール類、例えばα−ト
コフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロール及びそれらの混合物(ビタミン
E)。
【0096】1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル類、例えば、2,2′−チオビス(6−tert
−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2′−チオビ
ス(4−オクチルフェノール)、4,4′−チオビス
(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、
4,4′−チオビス(6−tert−ブチル−2−メチ
ルフェノール)、4,4′−チオ−ビス(3,6−ジ−
sec−アミルフェノール)、4,4′−ビス(2,6
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。
【0097】1.6.アルキリデンビスフェノール類、
例えば、2,2′−メチレンビス(6−tert−ブチ
ル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチ
ルシクロヘキシル)フェノール]、2,2′−メチレン
ビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェ
ノール)、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−te
rt−ブチルフェノール)、2,2′−エチリデンビス
(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,
2′−エチリデンビス(6−tert−ブチル−4−イ
ソブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス[6−
(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、
2,2′−メチレンビス[6−(α,α−ジメチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール]、4,4′−メチレン
ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、
4,4′−メチレンビス(6−tert−ブチル−2−
メチルフェノール)、1,1−ビス(5−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、
2,6−ビス(3−tert−ブチル−5−メチル−2
−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,
1,3−トリス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−
tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニ
ル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレング
リコールビス[3,3−ビス(3′−tert−ブチル
−4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3
−tert−ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3′−te
rt−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジ
ル)−6−tert−ブチル−4−メチルフェニル]テ
レフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−
ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメル
カプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−tert
−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ペ
ンテン。
【0098】1.7.O−,N−およびS−ベンジル化
合物、例えば、3,5,3′,5′−テトラ−tert
−ブチル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテ
ル、オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル
ベンジル−メルカプトアセテート、トリス(3,5−ジ
−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)アミ
ン、ジチオテレフタル酸ビス(4−tert−ブチル−
3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンシル)、ビス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセ
テート。
【0099】1.8.ヒドロキシベンジル化マロン酸エ
ステル類、例えば、2,2−ビス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロン酸ジオク
タデシル、2−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シ−5−メチルベンジル)マロン酸ジオクタデシル、
2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)マロン酸=ジ−ドデシルメルカプト
エチル、2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)マロン酸=ジ[4−1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニル]。
【0100】1.9.ヒドロキシベンジル芳香族化合
物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−
トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,
5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)フェノール。
【0101】1.10.トリアジン化合物、例えば、
2,4−ビスオクチルメルカプト−6−(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,
3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6
−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチル
メルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリ
アジン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−ト
リアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert
−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト、1,3,5−トリス(4−tert−ブチル−3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレ
ート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−
トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘ
キサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−ト
リス−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベ
ンジル)イソシアヌレート。
【0102】1.11.ベンジルホスホン酸エステル
類、例えば、2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホン酸ジメチル、3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジエ
チル、5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メ
チルベンジルホスホン酸ジオクタデシル、3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジ
ルホスホン酸ジオクタデシル、3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチル
エステルのカルシウム塩。
【0103】1.12.アシルアミノフェノール類、
えば、ラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸4−ヒドロキシアニリド、オクチル N−(3,5−
ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カ
ルバメート。
【0104】1.13.β−(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の下記
の一価または多価アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
【0105】1.14.β−(5−tert−ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の
以下の一価または多価アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
【0106】1.15.β−(3,5−ジシクロヘキシ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
【0107】1.16.3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル類、 アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒ
ドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。
【0108】1.17.β−(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミ
ド類、例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサ
メチレンジアミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)
トリメチレンジアミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヒドラジン。
【0109】2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1.2−( 2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾール類、 例えば、2−( 2′−ヒドロキシ−5′−
メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′,
5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニ
ル) ベンゾトリアゾール、2−( 5′−tert−ブチ
ル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾール、
2−( 2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テ
トラメチルブチル) フェニル) ベンゾトリアゾール、2
−( 3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロ
キシフェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾール類、
2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−
5′−メチル−フェニル) −5−クロロ−ベンゾトリア
ゾール、2−( 3′−sec−ブチル−5′−tert
−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾ
ール、2−( 2′−ヒドロキシ−4′−オクトキシ−フ
ェニル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′,5′−ジ−
tert−アミル−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾ
トリアゾール、2−( 3′,5′−ビス(α,α−ジメ
チルベンジル)−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール、2−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒ
ドロキシ−5′−(2−オクチルカルボニルエチル)フ
ェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾールの混合物、
2−( 3′−tert−ブチル−5′−[2−(2−エ
チルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル]−2′−ヒ
ドロキシフェニル) −5−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、2−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ
−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)
−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−( 3′−te
rt−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキ
シカルボニルエチル)フェニル) ベンゾトリアゾール、
2−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−
5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニ
ル) ベンゾトリアゾール、2−( 3′−tert−ブチ
ル−5′−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カル
ボニルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル) ベンゾト
リアゾール、2−( 3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ
−5′−メチルフェニル) ベンゾトリアゾールおよび2
−( 3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′
−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニ
ル) ベンゾトリアゾール、2,2′−メチレン−ビス
[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−
ベンゾトリアゾール−2−イル−フェノール]:ポリエ
チレングリコール300との2−[3′−tert−ブ
チル−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′
−ヒドロキシ−フェニル]−2H−ベンズトリアゾール
のエステル交換生成物;[R−CH2 CH2 −COO
(CH2 3 −]2 (式中、R=3′−tert−ブチ
ル−4′−ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾー
ル−2−イル−フェニル)。
【0110】2.2.2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン
類、例えば4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オ
クトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ
−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒド
ロキシ−および2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキ
シ誘導体。
【0111】2.3.置換されたおよび非置換安息香酸
のエステル類、例えばサリチル酸4−tert−ブチル
フェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチルフ
ェニル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−te
rt−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイル
レゾルシノール、3,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシ安息香酸2,4−ジ−tert−ブチルフェ
ニル、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
安息香酸ヘキサデシル、3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシ安息香酸オクタデシル、3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸2−メチル
−4,6−ジ−tert−ブチルフェニル。
【0112】2.4.アクリレート類、、例えばα−シ
アノ−β, β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル、
α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸イソオクチ
ルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステ
ル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ桂皮酸メチ
ルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ桂
皮酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ−p −メトキ
シ桂皮酸メチルエステル、およびN−(β−カルボメト
キシ−β−シアノビニル) −2−メチルインドリン。
【0113】2.5.ニッケル化合物、例えば2,2′
−チオビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル) −フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1ま
たは1:2錯体であって、所望によりn−ブチルアミ
ン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシル
−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の;ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロ
キシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスホン
酸モノアルキルエステル、例えばメチルもしくはエチル
エステルのニッケル塩、2−ヒドロキシ−4−メチル−
フェニルウンデシルケトキシムのようなケトキシムのニ
ッケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒド
ロキシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により
他の配位子を伴うもの。
【0114】2.6.立体障害性アミン、例えばセバシ
ン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ル)、コハク酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジル)、セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジル)、n−ブチル−3,5−ジ−t
ert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロン酸=ビ
ス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、
1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮
合生成物、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−
tert−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,
3,5−トリアジンとの縮合生成物、ニトリロトリ酢酸
トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸テトラ
キス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)、1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス
(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−
ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジル)マロン酸
ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−
2,4−ジオン、セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、コハク
酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジル)、N,N′−ビス(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)−ヘキサメチレンジ
アミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,
5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−
ジ(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−
ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成
物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピ
ルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−
ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8
−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、
3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ド
デシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン。
【0115】2.7.シュウ酸ジアミド類、、例えば、
4,4′−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2′−
ジエトキシオキサニリド、2,2′−ジオクチルオキシ
−5,5′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、2,
2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ−tert−ブ
チルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキサ
ニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロピ
ル)オキサミド、2−エトキシ−5−tert−ブチル
−2′−エチルオキサニリドおよび該化合物と2−エト
キシ−2′−エチル−5,4′−ジ−tert−ブチル
−オキサニリドとの混合物、およびo−およびp−メト
キシ−二置換オキサニリドの混合物、およびo−および
p−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【0116】2.8.2−(2−ヒドロキシフェニル)
−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6−トリス
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル) −
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−ブチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,6
−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3
−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−4,
6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジ
ン。
【0117】3. 金属不活性化剤、例えばN,N′−
ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラル−N′−
サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイ
ル)ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒ
ドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリ
アゾール、ビス(ベンジリデン)オキサロジヒドラジッ
ド [bis(benzylidene)oxalodihydrazide]、オキサニリ
ド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸ビスフェニ
ルヒドラジド、N,N′−ジアセタール−アジピン酸ジ
ヒドラジド、N,N′−ビスサリチロイル−シュウ酸ジ
ヒドラジド、N,N′−ビスサリチロイル−チオプロピ
オン酸ジヒドラジド。
【0118】4. 亜リン酸エステル類およびホスホナ
イト類、例えば亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェ
ニル=アルキル、亜リン酸フェニル=ジアルキル、亜リ
ン酸トリス(ノニルフェニル)、亜リン酸トリラウリ
ル、亜リン酸トリオクタデシル、ジステアリル=ペンタ
エリトリトール=ジホスフィット、亜リン酸トリス
(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)、ジイソデ
シル=ペンタエリトリトール=ジホスフィット、ビス
(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)=ペンタエ
リトリトール=ジホスフィット、ビス(2,6−ジ−t
ert−ブチル−4−メチルフェニル)=ペンタエリト
リトール=ジホスフィット、ビス−イソデシルオキシ−
ペンタエリスリトール=ジホスフィット、ビス(2,4
−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)=ペン
タエリスリトール=ジホスフィット、ビス(2,4,6
−トリ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)=ペ
ンタエリスリトール=ジホスフィット、トリステアリル
=ソルビトール=トリホスフィット、テトラキス(2,
4−ジ−tert−ブチルフェニル)=4,4′−ビフ
ェニレン=ジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−
2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12H
−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシ
ン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−ter
t−ブチル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−1,
3,2−ジオキサホスホシン、メチルホスフィン酸ビス
(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニ
ル)、エチルホスフィン酸ビス(2,4−ジ−tert
−ブチル−6−メチルフェニル)。
【0119】5. 過酸化物スカベンジャー、例えば、
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トール=テトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピ
オネート。
【0120】6.ポリアミド安定剤、例えば、ヨウ化物
および/またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価
マンガンの塩。
【0121】7. 塩基性補助安定剤、例えば、メラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン
酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウ
ム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウ
ムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アン
チモン、またはピロカテコール酸亜鉛。
【0122】8. 核剤、例えば、4−tert−ブチ
ル安息香酸、アジピン酸およびジフェニル酢酸。
【0123】9. 充填剤および強化剤、例えば、炭酸
カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト。
【0124】10. その他の添加剤、例えば、可塑
剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止
剤および発泡剤。
【0125】11.ベンゾフラノン類とインドリノン
、例えば米国特許(US−A−)第4325863
号、米国特許(US−A−)第4338244号、米国
特許(US−A−)第5175312号、米国特許(U
S−A−)5216052号、米国特許(US−A−)
5252643号、西独特許公開公報(DE−A−)第
4316611号、西独特許公開公報(DE−A−)第
4316622号、西独特許公開公報(DE−A−)第
4316876号、欧州特許公開公報(EP−A−)第
0589839号又は欧州特許公開公報(EP−A−)
第0591102号に開示されているそれら、又は3−
[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7
−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン−2−オン、
5,7−ジ−tert−ブチル−3−[4−(2−ステ
アロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−2
−オン、3,3′−ビス[5,7−ジ−tert−ブチ
ル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)
ベンゾフラン−2−オン]、5,7−ジ−tert−ブ
チル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン−2
−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェ
ニル)−5,7−ジ−tert−ブチル−ベンゾフラン
−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイル
オキシフェニル)−5,7−ジ−tert−ブチルベン
ゾフラン−2−オン。
【0126】
【実施例】下記の実施例は本発明を更に説明するもので
ある。実施例並びに明細書の下記の残部と特許請求の範
囲においては、部とパーセントの全部は、特記のない限
り重量%である。下記の略語を実施例中で使用する。 GC:ガスクロマトグラフィー; HPLC:高速液体クロマトグラフィー; GPC:ゲル浸透クロマトグラフィー; MALDI:マトリックス援助レーザ脱着イオン化(Mat
rix assisted Laser Desorption Ionization) ; DSC:示差熱分析; DMF:ジメチルホルムアミド; THF:テトラヒドロフラン; DMSO:ジメチルスルホキシド; Tg:ガラス転移温度; Mn :数平均分子量(単位:g/モル); Mw :重量平均分子量(単位:g/モル);
【0127】製造実施例(A,B) A)エポキシドの製造 A1)1−ベンジル−4−(2,3−エポキシプロポキ
シ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの製造 ガラス攪拌機、内部温度計、滴下ロート及び水凝縮器を
備えた1.5lのスルホン化フラスコ中の200mlの
水に、水酸化ナトリウム200gを溶解する。次いで、
トルエン500ml、臭化テトラブチルアンモニウム3
2.2g(0.1モル)と1−ベンジル−4−ヒドロキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン247.
4g(1モル)を添加する。混合物を激しく攪拌しなが
ら、エピクロルヒドリン185g(2モル)を50℃−
55℃で滴下し、次いで攪拌しながら温度を55℃に2
−3時間にわたり保つ。次いで、混合物を2lの氷水上
に注ぎそして各回50mlの酢酸エチルで2回抽出す
る。有機相を乾燥しそして蒸発する。残留分を120℃
(8×10-3mmHg)で蒸留する。収量:165g
(54%)。
【0128】HPLC分析:純度96% 1H−NMR(CDCl3 ): 0.98ppmと1.11ppm(12H,s):CH
3 − 1.44−1.54ppmと1.89−1.97ppm
(4H,m):ピペリジン環の−CH2 − 2.62−2.64ppmと2.79−2.83ppm
(2H,m):CH2 エポキシド環 3.13−3.19ppm(1H,m):CHエポキシ
ド環 3.45−3.51と3.77−3.81ppm(2
H,m):−O−CH2 − 3.68−3.80ppm(1H,m):ピペリジン環
の−CH− 3.81ppm(2H,s):N−CH2 − 7.11−7.43ppm(5H,m):芳香族プロト
【0129】A2)1,2,2,6,6−ペンタメチル
−4−(2,3−エポキシプロポキシ)−ピペリジンの
製造 機械攪拌機、凝縮器、内部温度計及び500mlの滴下
ロートを備えた2.5lのスルホン化フラスコ中のアル
ゴン雰囲気下の300mlの水に、水酸化ナトリウム3
00g(7.5モル)を溶解する。トルエン750m
l、臭化テトラブチルアンモニウム48.4g(0.1
5モル)と4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン257g(1.5モル)を添加す
る。エピクロルヒドリン347g(3.75モル)を6
0℃で1.5時間の間に滴下し、次いで攪拌しながら温
度を60℃に更に4時間にわたり保つ。反応溶液を3l
の氷水上に注ぎそして有機相を分離し、硫酸ナトリウム
で乾燥しそして蒸発する。残留分をヴィグローカラム上
で、0.05mmHgで蒸留し、沸点71−72℃の留
分を集める。収量:205g(60%),GC:>99
【0130】 1H−NMR(CDCl3 ): 1.02と1.16ppm(12H,s):ピペリジン
環のCH3 基、 1.32−1.4ppmと1.83−1.91ppm
(4H,m):ピペリジン環の−CH2 −基、 2.23ppm(3H,s):N−CH3 、 2.60−2.62ppmと2.78−2.82ppm
(2H,m):エポキシド環のCH2 基、 3.11−3.16ppm(1H,m):エポキシド環
のCH 3.42−3.47と3.71−3.76ppm(2
H,m):−O−CH2 −基 3.57−3.67ppm(1H,m):ピペリジン環
の−CH−O、
【0131】A3)1−オクチルオキシ−4−(2,3
−エポキシプロポキシ)−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジンの製造 ガラス攪拌機、内部温度計、滴下ロート及び水凝縮器を
備えた750mlのスルホン化フラスコ中の100ml
の水に、水酸化ナトリウム100gを溶解する。次い
で、1−オクチルオキシ−4−ヒドロキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン71.4g(0.25
モル)と臭化テトラブチルアンモニウム16.1g(5
0ミリモル)とを添加する。混合物を30℃で激しく攪
拌する。そして、エピクロルヒドリン277.5g(3
モル)中の1−オクチルオキシ−4−ヒドロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン71.4g(0.
25モル)を33−35℃で滴下する。混合物を35℃
で24時間にわたり激しく攪拌する。それを1lの氷水
上に注ぎそして食塩で飽和し、そして有機相を酢酸エチ
ル500mlで抽出しそして硫酸ナトリウム上で乾燥す
る。溶媒をロータリエバポレータにより留去した後、残
留分を130−134℃(0.01mmHg)で蒸留す
る。収量:109.8g(64%)
【0132】 1H−NMR(CDCl3 ): 0.83−0.93ppm(3H,m):CH3 (オク
チル) 1.11−1.17ppm(12H,m):CH3 (ピ
ペリジン) 1.28−1.81ppm(18H,m):CH2 (オ
クチル、ピペリジン) 2.59−2.61ppmと2.77−2.81ppm
(2H,m):CH2 (エポキシド環) 3.10−3.14ppm(1H,m):CH(エポキ
シド環) 3.32−3.44と3.68−3.72ppm(2
H,m):CH2 (エポキシド) 3.56−3.68ppm(1H,m):CH(ピペリ
ジン)。
【0133】A4)2,2,6,6−テトラメチル−4
−(2,3−エポキシプロポキシ)ピペリジンの製造 機械攪拌機、凝縮器、温度計及び100mlの滴下ロー
トを備えた750mlのスルホン化フラスコ中のアルゴ
ン下の64mlの水に、水酸化ナトリウム64.0g
(1.6モル)を溶解する。トルエン170ml、臭化
テトラブチルアンモニウム10.3g(31.8ミリモ
ル)と4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン50g(318ミリモル)を添加する。エピ
クロルヒドリン58.8g(636ミリモル)を45℃
で滴下する。次いで混合物を50℃で4時間攪拌する。
反応混合物を室温に冷却しそして1lの氷水上に注ぎそ
して有機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥しそしてロ
ータリエバポレータ上で濃縮する。残留分を8×10-3
mmHgで蒸留する;沸点:48℃。表記化合物の28
g(理論収量の41%)を、98%(GC)の純度で得
る。
【0134】 1H−NMR(CDCl3 ): 0.577ppm(1H):NH、 0.81−0.98ppm(2H,m)(ピペリジン
環)、 1.01と1.05ppm(12H,s):CH3 基、 1.77−1.87ppm(2H,m):CH2 (ピペ
リジン環)、 2.47−2.50と2.66−2.69ppm(2
H,m):CH2 (エポキシド環)、 2.99−3.04ppm(1H,m):CH(エポキ
シド環)、 3.31−3.37と3.61−3.67ppm(3
H,m):CH2 (エポキシド基)とCH−O(ピペリ
ジン環)、
【0135】A5)1−シクロヘキシルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチル−4−(2,3−エポキシプ
ロポキシ)ピペリジン A5a)4−アセチルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン 初めに、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン786.5g(5モル)を、窒素雰囲気
下、機械攪拌機、温度計、凝縮器及び滴下ロートを付け
た擦り合わせジョイント付の10lの容器中へ導入す
る。酢酸300g(5モル)と無水酢酸1531g(1
5モル)を添加する。濃硫酸約10滴をゆっくりと滴下
し、混合物を12時間にわたり60℃で攪拌する。水3
l中の酸化ナトリウム1.2kgの溶液を30℃以下の
内部温度で添加する。有機相をジエチルエーテル1lで
2回抽出し、硫酸ナトリウム上で乾燥しそして溶媒を留
去する。目的物質を水流ポンプ真空下で蒸留する:沸点
103℃/15mmHg.収量:700g(70%) GCによる純度>95%
【0136】 IR(KBrディスク):1740cm-1(C=O)1 H−NMR(CDCl3 ): 1.03−1.18ppm(2H,m):−CH2 −、 1.15ppm(6H,s):CH3 −C、 1.24ppm(6H,s):CH3 −C、 1.89−1.95ppm(2H,m):−CH2 −、 2.03ppm(3H,s):CH3 COO−。
【0137】A5b)1−シクロヘキシルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチル−4−アセトキシピペリジン 磁気攪拌子、水分離器、温度計及び滴下ロートを備えた
1.5lのスルホン化フラスコ中の窒素雰囲気下のシク
ロヘキサン300ml中に4−アセトキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン60gを溶解する。
4.3g(30ミリモル)の酸化モリブデンを添加す
る。tert−ブチルハイドロパーオキシドの70%水
溶液154g(1.2モル)を各回シクロヘキサン35
mlで3回抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し
そして滴下ロート中へ移す。反応混合物を還流下加熱し
てtert−ブチルハイドロパーオキシド溶液を2時間
かけて滴下する。更に2時間後、水の除去を終わる。混
合物を還流温度に一夜保つ。次いでそれを25℃に冷却
し、触媒をろ過して除く。氷を添加し、少量の亜硫酸ナ
トリウムを添加して過剰のハイドロパーオキシドを分解
しそして有機相を分離する。これを水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥しそして溶媒をロータリエバポレータ
上で留去する。収量:85g(95%)液体を分析する
目的のためにバルブチューブ(bulb tube) 中で蒸留す
る。無色の液体は115℃/0.05mmHgで沸騰す
る。GC解析:96%
【0138】 1H−NMR(CDCl3 ): 1.19ppm(12H,s):CH2 −C−、 1.08−2.02ppm(14H,m):−CH
2 −、 2.01ppm(3H,s):CH3 COO−、 4.95−5.05ppm(1H,m):COO−CH
<。
【0139】A5c)1−シクロヘキシルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン 水酸化カリウム24g(428ミリモル)を、コニカル
フラスコ中のメタノール600mlに溶解する。1−シ
クロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−
4−アセトキシピペリジン85g(286ミリモル)を
温かい溶液中に攪拌しながら注入する。次いで、混合物
を氷上に注ぎそしてジエチルエーテルで抽出する。硫酸
ナトリウム上で乾燥後、エーテルを留去し、そして粘稠
性の温かいアセトニトリル300ml中に溶解する。そ
の溶液をろ過し、ろ液から結晶を析出せしめる;収量:
50g(68%)。無色の物質は78.5℃の融点を持
つ;GC分析による純度は96%である。
【0140】 1H−NMR(CDCl3 ): 1.14ppmと1.24ppm(12H,s):CH
3 、 1.08−2.07ppm(14H,m):−CH
2 −、 3.57−3.62(1H,m)、 4.95−5.05ppm(1H,m):N−O−CH
<、 3.90−3.99(1H,m):−O−CH<。
【0141】A5d)1−シクロヘキシルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチル−4−(2,3−エポキシプ
ロポキシ)ピペリジン 攪拌機、温度計及び滴下ロートを備えた750mlのス
ルホン化フラスコ中のアルゴン下の80mlの水に、水
酸化ナトリウム78・4g(1.96モル)を溶解す
る。トルエン250mlに溶解した1−シクロヘキシル
オキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキ
シピペリジン100g(392ミリモル)と臭化テトラ
ブチルアンモニウム12.6g(39.2ミリモル)を
添加する。混合物を50−55℃に加熱し、そしてエピ
クロルヒドリン90.7g(980ミリモル)を45分
間にわたり滴下する。この操作の間、混合物を激しく攪
拌する。反応混合物を更に3時間、55℃で攪拌する。
次いでそれを1lの氷水上に注ぎそして有機相を分離し
そして水で一度洗浄する。有機相を硫酸ナトリウム上で
乾燥し、活性炭で脱色し、ろ過しそして蒸発する。残留
分をヴィグローカラム上で蒸留する:沸点116−11
7℃/0.06mmHg。収量:78.7g(64
%)。GCによる純度:98%
【0142】 1H−NMR(CDCl3 ): 1.13ppmと1.19ppm(12H,s):CH
3 −、 1.08ppm−2.04ppm(14H,m):−C
2 − 2.59ppm−2.81ppm(2H,m):CH2
エポキシド環、 3.10ppm−3.43ppm(2H,m):CH2
エポキシド、 3.56ppm−3.73ppm(3H,m):CHエ
ポキシド環と6員環のCH−O。 別のエポキシドは上述の生成物A1ないしA5と同様に
して製造される。
【0143】B)付加物の製造 B1)エポキシドA1上へのビスフェノールAの付加 エポキシドA1を50g(165ミリモル)、ビスフェ
ノールAを17g(75ミリモル)、キシレンを200
ml及び臭化エチルトリフェニルホスホニウムを1.4
g(3.8ミリモル)を、初めに、磁気攪拌子、凝縮器
及びアルゴンバルブを付けた500mlの丸底フラスコ
中に導入する。混合物を、攪拌しながら還流下加熱し、
転化率をHPLCにより測定する。15時間後に、混合
物を氷上に注ぎ、トルエンで抽出する。有機相を水で2
回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥する。蒸発後、生成
物をシリカゲル60(製造業者:E.Merck, Darmstadt)
上、ヘキサン/酢酸エチル2:1を使用してクロマトグ
ラフィーし、高真空下乾燥する。式:
【化74】 の生成物を無色、高粘稠性液体として得る。収量:37
g(59%)
【0144】 1H−NMR(CDCl3 ): 0.97と1.09ppm(24H,s):CH3 (ピ
ペリジン)、 1.44−1.52ppmと1.89−1.95ppm
(8H,m):CH2 (ピペリジン)、 1.68ppm(6H,s):CH3 (ビスフェノール
A)、 2.63−2.65ppm(2H,d):OH、 3.60−3.75ppm(6H,m):CH−O(ピ
ペリジン)及びCH2 −O−ピペリジン、 3.80ppm(4H,s):N−CH2 、 4.01−4.08(4H,d)ar−O−CH2 、 4.10−4.16(2H,m):C−CH(−O)−
C、 6.81−6.84及び7.11−7.14ppm(8
H,m):H−ar(ビスフェノールA)、 7.13−7.42ppm(10H,m):H−ar
(ベンジル基)、 2.7と3.5ppmの間の範囲にシグナルが見えず、
換言すれば、エポキシド基の転換が完全に行われてい
る。
【0145】B2)エポキシドA2上へのレゾルシンの
付加 初めに、エポキシドA2 100g(440ミリモ
ル)、レゾルシン22g(200ミリモル)、臭化エチ
ルトリフェニルホスホニウム3.7g(10ミリモル)
及びキシレン400mlを、磁気攪拌子、凝縮器及びア
ルゴンバルブを付けた1lの丸底フラスコ中に導入す
る。混合物を、攪拌しながら、還流下24時間にわたり
加熱する。冷却した透明な液を1N水酸化ナトリウム液
で次いで水で洗浄しそして硫酸ナトリウム上乾燥する。
活性炭で処理した後、溶液を蒸発しそして残留分を高い
真空下で乾燥する。式:
【化75】 の生成物を定量的収量で高粘稠性透明液体として得る。
【0146】 1H−NMR(CDCl3 ):もはやエポキシド基を示
さない。 GPC(THF):Mn :522 Mw :579
【0147】B3)4−(3−アクリルオキシ−2−ヒ
ドロキシプロピルオキシ)−1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン 初めに、アルゴン下、キシレン1.5l中の4−(2,
3−エポキシプロポキシ)−1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン375g(1.65モル)を、磁気
攪拌子、温度計及び凝縮器を備えた2.5lのスルホン
化フラスコ中へ導入する。アクリル酸108g(1.5
モル)と臭化エチルトリフェニルホスホニウム27.8
g(75ミリモル)を添加する。混合物を70℃で18
時間にわたり反応させる。冷却した生成物を氷水上に注
ぎそして有機相を分離する。有機相を1N水酸化ナトリ
ウム溶液で2回洗浄し、乾燥しそして蒸発する。残留分
を短いヴィグローカラム上で蒸留する。沸点119−1
25℃(=0.06mmHg)の透明液体193g(4
3%)を得る。
【0148】 1H−NMR(CDCl3 ): 1.02と1.16ppm(12H,s):CH3 (ピ
ペリジン)、 1.33−1.40と1.84−1.89ppm(4
H,m):CH2 (ピペリジン)、 2.23ppm(3H,s):N−CH3 、 2.59ppm(1H,s):OH、 3.46−3.63と3.71−3.72と3.84−
3.86と3.98−4.05と4.18−4.29p
pm(6H,m):O−CH2 −CH(−O)−CH2
−OとCH(ピペリジン)、 5.84−5.88と6.12−6.22と6.42−
6.48ppm(3H,m):CO−CH=CH2
【0149】B4)4−(3−メタクリルオキシ−2−
ヒドロキシプロピルオキシ)−1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジン 不活性気体下、キシレン1l中に4−(2,3−エポキ
シプロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピ
ペリジン250g(1.1モル)を、磁気攪拌子、温度
計及び凝縮器を備えた1.5lのスルホン化フラスコ中
へ導入する。メタクリル酸86g(1モル)と臭化エチ
ルトリフェニルホスホニウム18.6g(50ミリモ
ル)を添加する。混合物を70℃で18時間にわたり反
応させる。冷却後、それをを氷水上に注ぎそして有機相
を分離する。これを1N水酸化ナトリウム溶液で2回洗
浄し、乾燥する。溶媒をロータリエバポレータ上で留去
しそして残留分を0.07mmHg下蒸留する。沸点1
28−130℃(0.07mmHg)の透明液体17
6.5g(56%)を得る。
【0150】 1H−NMR(CDCl3 ): 1.01と1.16ppm(12H,s):CH3 (ピ
ペリジン)、 1.32−1.40と1.83−1.88ppm(4
H,m):CH2 (ピペリジン)、 1.96ppm(3H,s):CH3 (メタクリレー
ト)、 2.23ppm(3H,s):CH3 −N、 2.68ppm(1H,s):OH、 3.46−4.26(6H,m):O−CH2 −CH
(−O)−CH2 −OとCH(ピペリジン)、 5.59と6.14ppm(2H,s):CH2 =C、
【0151】B5)4−(3−[4−ビニルベンゾイル
オキシ]−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン 初めに、4−ビニル安息香酸32.6g(220ミリモ
ル)、4−(2,3−エポキシプロポキシ)−1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジン45.5g(20
0ミリモル)、臭化エチルトリフェニルホスホニウム
3.7g(10ミリモル)及びキシレン200mlを、
磁気攪拌子、凝縮器、温度計及びアルゴンバルブを附し
た500mlの丸底フラスコ中に導入する。混合物を不
活性気体中65℃に加熱する。透明な液を65℃で15
時間保ち、次いで氷上に注ぐ。有機相を0℃で1N水酸
化ナトリウム溶液で2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥しそして蒸発する。残留分をシリカゲルカラム(TH
F)上で精製し、60℃で高真空下乾燥する。透明、粘
稠性の液体52.7g(70%)を得る。
【0152】 1H−NMR(CDCl3 ): 1.01と1.15ppm(12H,s):CH3 、 1.33−1.43と1.84−1.89ppm(4
H,m):CH2 (ピペリジン)、 2.23ppm(3H,s):N−CH3 、 2.81ppm(1H,s):OH、 3.42−4.40(6H,m):O−CH2 −CH
(−O)−CH2 −OとCH(ピペリジン)、 5.36−5.40と5.83−5.89ppm(2
H,d):CH2 =、 6.70−6.79ppm(1H,q):CH= 7.44−7.47ppmと7.99−8.02ppm
(4H,d):芳香族、
【0153】B6)4−(3−[4−ビニルフェノキ
シ]−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジン 実施例B2)と同様にして、4−ビニルフェノール2
8.8g(240ミリモル)を、4−(2,3−エポキ
シプロポキシ)−1,2,2,6,6−ペンタメチルピ
ペリジン45.5g(200ミリモル)と反応させる。
収量:66g(95%)
【0154】 1H−NMR(CDCl3 ): 1.01と1.15ppm(12H,s):CH3 (ピ
ペリジン) 、 1.32−1.41ppmと1.84−1.89ppm
(4H,m):CH2 (ピペリジン)、 2.23ppm(3H,s):N−CH3 、 2.72ppm(1H,s):OH、 3.54−3.69(3H,m):ピペリジン−O−C
2 −CH−、 3.98−4.03ppm(2H,d):芳香環−OC
2 、 4.06−4.12ppm(1H,m):>CH−O− 5.11−5.14ppmと5.58−5.64(2
H,d):CH2 = 6.60−6.70ppm(1H,q):CH= 6.86−6.89ppmと7.32−7.35ppm
(4H,d)d:H−芳香環、
【0155】実施例B7−B12:下記の表に記載した
付加物は、B3に記載した方法に従って、該当する酸と
該当するエポキシドとの反応により製造される:
【表1】
【0156】
【表2】
【0157】実施例B13:イソフタル酸ビス[2−ヒ
ドロキシプロピルオキシ−3−(1,2,2,6,6−
ペンタメチルピペリジン−4−イル)] 初めに、エポキシドA2の100g(440ミリモ
ル)、イソフタル酸33g(200ミリモル)、臭化エ
チルトリフェニルホスホニウム3.7g(10ミリモ
ル)とキシレン400mlを、アルゴン下、磁気攪拌子
と凝縮器を備えた1lの丸底フラスコに導入する。混合
物を攪拌しながら24時間還流下加熱する。次いでそれ
を0℃に冷却し、そして溶液を1N水酸化ナトリウム溶
液で2回そして水で1回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥する。活性炭による処理とろ過の後、溶液をロータリ
エバポレータ上で蒸発しそして残留分を50℃で高真空
下乾燥する。表題の化合物を定量的収率で得る:生成物
の別のデータは下記の第1表中に見い出される筈であ
る。
【0158】
【0159】実施例B14−B25:第1表に掲載した
別の付加物B14ないしB25は、実施例B2とB13
に記載の方法により製造される。第2欄は使用する出発
エポキシドの型と最終生成物中に使用されるカルボン酸
又はフェノールに対するそのモル比を示しており;例え
ば第1表の1行中の2×A2は、実施例B13の化合物
はイソフタル酸モル当り2モルのエポキシドA2の生成
物であることを示している。表中で使用する略語を下記
する: GPC:ゲル浸透クロマトグラフィーの結果 Mn :数平均分子量 Mw :重量平均分子量 T.:ガラス転移温度
【0160】
【表3】
【0161】B26)1,2,2,6,6−ペンタメチ
ル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)ピペリジンと
1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸の付加物 1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸10g(3
9.3ミリモル)、1,2,2,6,6−ペンタメチル
−4−(2,3−エポキシプロポキシ)ピペリジン(=
エポキシドA2)35.8g(157.4ミリモル)と
臭化エチルトリフェニルホスホニウム0.75g(2ミ
リモル)を100mlのDMSO中に溶解しそして溶液
をアルゴン下150℃へ加熱する。20時間後に、混合
物を室温に冷却しそして水上に注ぐ。それを酢酸エチル
で3回抽出しそして有機相を1N水酸化ナトリウム溶液
で洗浄する。有機相を活性炭と硫酸ナトリウムで処理
し、ろ過しそして蒸発する。残留分を少量のエーテル中
に溶解しそしてn−ヘキサン中で沈澱する。表記の化合
物5.5gを淡とび色粉末として得る;Tg=60−6
5℃。 分子量(MALDI):Mn =1800, Mw =21
00
【0162】B27)4−(3−[4−ビニルフェキキ
シ]−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−1−シクロヘ
キシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
4−ビニルフェノールを、実施例B6)と同様にして4
−(2,3−エポキシプロポキシ)−1−シクロヘキシ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
(=エポキシドA5)と反応させて表題の化合物を得
る。
【0163】B28)4−(3−[ビニルフェノキシ]
−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−1−オクチルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 4−ビニルフェノールを、実施例B6)と同様にして4
−(2,3−エポキシプロポキシ)−1−オクチルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(=エポ
キシドA3)と反応させて表題の化合物を得る。
【0164】C)使用例 実施例C1:ポリプロピレンシートの安定化 各々の場合、表C1に示した本発明の安定剤1gを、メ
ルトフローインデックス4.0g/10分(230℃;
2.16kg)のプロピレン(ノルウエー国,Stathele
在,Statoil製)1000g及び下記の添加剤と共に混合
する: ペンタエリスリチル・テトラキス(3−[3’−
[3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒドロキ
シフェニル]プロピオネート・・・0.5g; 亜リン酸トリス(2,4−ジ−tert−ブチル−フェ
ニル)・・・1.0g; フィロフィン(FILOFIN)(登録商標)ブルーG(Blue
G)(顔料;イタリー国,Orrigio, チバ- ガイギー S.p.A)
・・・1.0g; ステアリン酸カルシウム・・・1.0g。 ピペリジン(=エポキシドA2) 比較のために、本発明の安定剤を含まない混合物を調製
する。
【0165】混合物を200−230℃で押し出す(Be
rstorff KE 30x32D)。得られた粒体を、200−220
℃における射出成形加工により、2mm厚のシートに加
工する。ASTM D2565−85に従って、シート
を、ウェザロメータ65WR(Weather-O-Meter) (登録
商標)(米国、シカゴ市在、Atlas Electric Devices)
中、黒パネル温度63±3℃において、露光する。試料
を定期的に検査する;表面の脆化(チョーキング)開始
を測定する。脆化が発生する前の露光時間は、下記の表
C1に見られる通りである。
【0166】
【表4】 本発明に従って安定化した試料は、顕著な光安定性を示
す。
【0167】実施例C2:二層仕上げの安定化 透明塗膜を下記の組成物から製造する: アクリル樹脂(ウラクロン(Uracron)(登録商標)226
3XB,DSM樹脂BV)(キシレン中、50%)・・
・54.5部; メラミン樹脂(シメル(Cymel)(登録商標) 327,Ame
r. Cyanamid Co.) (90%溶液)・・・16.3部; キシレン・・・19.4部; ブチルグリコール・アセテート・・・5.5部; ブタノール・・・3.3部 及び 流れ補助剤(バイシロン(Baysilon) (登録商標) A, バ
イエルAG)(キシレン中1%溶液)。
【0168】表C2に示した本発明の安定剤をキシレン
中の溶液として、透明塗膜塗料の固形分に基づいて1.
0%の量で透明塗膜塗料に添加する。比較のために、安
定剤を添加してない試料を調製する。本発明の安定剤に
加えて、式:
【化76】 の紫外線吸収剤(=UVA)も、透明塗膜塗料の固形分
に基づいて1.5%の量で若干数の試料に添加する。
【0169】かく調製した塗料材料を、キシレン、ブタ
ノールとブチルグリコール・アセテート(13:6:
1)の混合物で散布粘度になるまで希釈しそして調製し
たアルミニウムパネル(コイル被覆、自動車用充填剤、
シルバーメタル下塗)上に散布する。15分間置いた
後、試料を130℃で30分間にわたり硬化する。厚み
40−50μmの透明塗膜が得られる。
【0170】次いで試料を、70℃における8時間のU
V照射と50℃における4時間の凝縮の周期で、アトラ
ス製のUVCONウェザロメータ(UVB−313ラン
プ)中で露光する。各々場合の400時間の暴露の後、
試料の20°輝度をDIN67530に従って測定す
る。結果を表C2に示す。
【0171】
【表5】表C2: 提示した暴露時間の後のDIN67530に従う20°輝度 安定剤 0hr 1200hr 2400hr 3600hr 4800hr 6000hr 7200hr ────────────────────────────────── 無添加 87 45 26 * * * * B18 から 87 81 48 38 25 * * B19 から 87 78 36 30 17 * * B22 から 87 73 37 30 18 * * (B18+UVA) から 87 85 83 83 81 80 73 (B19+UVA) から 87 86 83 83 82 81 79 (B21+UVA) から 87 84 82 80 79 75 67 (B22+UVA) から 87 86 83 83 82 80 77 ────────────────────────────────── hr=時間 * 艶の消えた又は縮んだ試料 本発明の安定剤を含む試料は、顕著な輝度保持性を示
す。
【0172】実施例C3:二層仕上げの安定化 光安定剤を5−10gのキシレンに混和し、下記の組成
の透明塗膜中で試験する:
【表6】 1)アクリレート樹脂, ヘキストAG, キシレン/ブタノー
ル26:9中、65% 溶液 2)アクリレート樹脂, ヘキストAG, ソルヴェッソ(Solve
sso) (登録商標)100中、75% 溶液4) 3)メラミン樹脂, ヘキストAG, イソブタノール中55% 4)製造業者:エッソ 5)製造業者:シェル 6)ソルヴェッソ(Solvesso) (登録商標) 150 中 1% ;製
造業者:バイエル 塗料材料の固形分に基づいて1%の安定剤を透明塗膜塗
料に添加する。光安定剤を含有しない透明ラッカーを比
較のために使用する。
【0173】透明塗膜塗料を、ソルヴェッソ(Solvesso)
(登録商標) 100 で散布粘度まで希釈しそしてそして調
製したアルミニウムパネル(コイル被覆、自動車用充填
剤、シルバーメタル下塗)上に散布し、130℃で30
分間にわたり焼き付ける。厚み40−50μmの乾燥膜
が得られる。
【0174】次いで試料を、60℃における4時間のU
V照射と50℃における4時間の凝縮の周期で、アトラ
ス・コーポレーション製のUVCONウェザロメータ
(UVB−313ランプ)中で露光する。試料を亀裂に
ついて一定間隔で検査する。結果を表C3に示す。
【0175】
【表7】 本発明の安定剤を含有する試料は、亀裂に対して高い抵
抗性を示す。
【0176】実施例C4:写真材料の安定化 式:
【化77】 の黄色カップリング剤0.087gを、本発明の安定剤
の酢酸エチル溶液(2.25g/100ml)2.0m
l中に溶解する。pH6.5に調節しそして式:
【化78】 の界面活性剤1.744g/lを含有する2.3%水性
ゼラチン溶液9.0mlを、この溶液1.0mlに添加
する。
【0177】銀含量6.0g/lを持つ臭化銀2mlと
式:
【化79】 の硬化剤の0.7%水溶液を、かくして得られたカップ
リング剤エマルジョン5.0mlに添加しそしてその混
合物を13×18cmのプラスチック被覆紙に注ぐ。7日
間の硬化時間の後、125ルックスで、銀・階段光学く
さびの後ろで露光しそしてコダック製エクタプリント(E
ktaprint) 2(登録商標)により加工する。得られた黄
色くさびを、アトラス製ウエザロメータ中、UVフィル
タ(コダック2C)の後ろに配置した全体で60kジュ
ール/cm2 の2500Wキセノンランプで、照射する。
安定剤を含有しない試料も標準として試験する。照射の
間に発生した黄色染料の最大吸光における色密度におけ
る喪失を、マクベス(Macbeth) 製のTR924A型濃度
計で測定する。光安定化効果は、色密度における喪失か
ら見れる。密度の喪失の小さい程、光安定活性は高い。
本発明の安定剤は、優れた光安定作用を示す。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式I: 【化1】 又は式II: 【化2】 〔式中、mとnの各々は、1ないし6の範囲からの整数
    を表し:A1 は炭素原子数1ないし30のm価の炭化水
    素基;又はヘテロ原子である酸素原子、窒素原子及び/
    又は硫黄原子、及び炭素原子上に位置する自由原子価を
    を含有する、炭素原子数2ないし30のm価の炭化水素
    基を表し;そしてm=2である場合、A1 は追加して直
    接結合を表し;A2 は炭素原子数6ないし30のn価の
    芳香族又はアルアリファチック(araliphatic) の炭化水
    素基;又は又はヘテロ原子である酸素原子、窒素原子及
    び/又は硫黄原子を含有しそして芳香族環の構成員であ
    る炭素原子上に位置するn個の自由原子価を持つ、炭素
    原子数5ないし30の芳香族又はアルアリファチック(a
    raliphatic) の炭化水素基を表し;R1 は水素原子;未
    置換の又は−CO−N(R3 2 により置換されている
    か又は−CO−N(R3 )−又は−N(R3 )−CO−
    又は1ないし6個の酸素原子又は硫黄原子により中断さ
    れている炭素原子数1ないし36の炭化水素基又は炭化
    水素オキシ基;各々が1ないし3個の炭素原子数1ない
    し4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアルコキ
    シ基により置換されているベンゾイル基又はナフトイル
    基;又は−CO−R2 (R2 は炭素原子数1ないし18
    のアルキル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
    基;フェニル基;ナフチル基;炭素原子数7ないし9の
    フェニルアルキル基;又は炭素原子数11ないし14の
    ナフチルアルキル基を表し;そしてR3 はR2 と同意味
    であるか又は水素原子を表す。)を表す。〕のエステル
    又はフェノールエーテル。
  2. 【請求項2】式中、mとnが1,2,3又は4を表し;
    1 が、m=1である場合は、未置換の又は炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキル基により置換されている炭
    素原子数1ないし25のアルキル基;又は炭素原子数5
    ないし8のシクロアルキル基、−S−、−O−又は−N
    2 −又はこれらの基のいろいろにより中断されている
    炭素原子数2ないし25のアルキル基を表すか;又はA
    1 は、m=1である場合は、未置換の又は又は炭素原子
    数1ないし12のアルキル基により置換されている炭素
    原子数5ないし8のシクロアルキル基;未置換の又は炭
    素原子数1ないし12のアルキル基により置換されてい
    る炭素原子数6ないし8のシクロアルケニル基;未置換
    の又は1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル
    基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基又は炭素原子
    数1ないし4のアルコキシ基及び/又は式: 【化3】 の基により置換されているフェニル基;又は炭素原子数
    2ないし25のアルケニル基;−O−により中断されて
    いる炭素原子数3ないし25のアルケニル基;未置換の
    又は炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭素原子数
    2ないし4のアルケニル基又は炭素原子数1ないし4の
    アルコキシ基により置換されている炭素原子数7ないし
    12のフェニルアルキル基を表し;A1 は、m=2であ
    る場合は、直接結合;炭素原子数1ないし18のアルキ
    レン基;炭素原子数2ないし18のアルケニレン基;未
    置換の又は炭素原子数1ないし12のアルキル基により
    置換されている炭素原子数5ないし8のシクロアルキレ
    ン基;未置換の又は炭素原子数1ないし12のアルキル
    基により置換されている炭素原子数6ないし8のシクロ
    アルケニレン基;未置換の又は1又は2個の炭素原子数
    1ないし4のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアル
    ケニル基又は炭素原子数1ないし4のアルコキシ基及び
    /又は式: 【化4】 の基により置換されているフェニレン基;式: 【化5】 の二価の基;フラン、チオフェン又は窒素原子上が水素
    原子又は基:−R2 により置換されているピロールから
    なる群からの二価の複素環基を表すか;又は、A1 は、
    m=2である場合は、炭素原子数5ないし8のシクロア
    ルキレン基、フェニレン基、−S−、−O−又は−NR
    2 −又はこれらの基のいろいろにより中断されている炭
    素原子数2ないし18のアルキレン基を表し;そしてA
    1 は、m=3である場合は、炭素原子数1ないし8のア
    ルカントリイル基;炭素原子数2ないし8のアルケント
    リイル基;ベンゼントリイル基;式: 【化6】 の三価の基;式:−R5 −N(−R6 −)−R7 −の三
    価の基;1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイ
    ル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルカントリイル
    基;又は−S−、−O−又は−NR2 −により中断され
    ている及び/又はターシャリ−OHにより置換されてい
    る炭素原子数2ないし18のアルカントリイル基;A1
    は、m=4である場合は、4個の自由価を持つベンゼ
    ン、シクロペンチル又はシクロヘキシル基又は式: 【化7】 の四価の基;式: 【化8】 の四価の基;又は炭素原子数1ないし8のアルカンテト
    ライル基を表し;A2 は、n=1である場合は、未置換
    の又は1ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル
    基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基又は炭素原子
    数1ないし4のアルコキシ基及び/又は式: 【化9】 の基により置換されているフェニル基;式: 【化10】 のトリアジニルフェニル基;又はナフチル基を表し;A
    2 は、n=2である場合は、未置換の又は1又は2個の
    炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子数2ない
    し4のアルケニル基又は炭素原子数1ないし4のアルコ
    キシ基及び/又は式: 【化11】 の基により置換されているフェニレン基;式: 【化12】 の二価の基;又はナフチレン基を表し;A2 は、n=3
    である場合は、ベンゼントリイル基;又は式: 【化13】 の三価の基を表し;A2 は、n=4である場合は、4個
    の自由価を持つベンゼン基又は式: 【化14】 の四価の基を表し;又はA2 は式: 【化15】 (式中、基X1 ないしX6 の1ないし4個は各々の場合
    において解放結合でありそして他は互いに独立して、水
    素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表
    す。)のn価のトリフェニルトリアジニル基を表し;D
    は直接結合;炭素原子数1ないし10のアルキレン基;
    又は基:−CO−、−S−、−O−又は−SO2 −の一
    つを表し;R1 は炭素原子数1ないし36のアルキル
    基;炭素原子数3ないし36のアルケニル基;炭素原子
    数3ないしし9のアルキニル基;炭素原子数1ないし3
    6のアルコキシ基;炭素原子数3ないし36のアルケニ
    ルオキシ基;未置換の又は1ないし3個の炭素原子数1
    ないし4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアル
    コキシ基により置換されている炭素原子数5ないし12
    のシクロアルキル基;未置換の又は1ないし3個の炭素
    原子数1ないし4のアルキル基又は炭素原子数1ないし
    4のアルコキシ基により置換されている炭素原子数5な
    いし12のシクロアルコキシ基;未置換の又は1ないし
    3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭素原子
    数1ないし4のアルコキシ基により置換されているフェ
    ニル基;未置換の又は1ないし3個の炭素原子数1ない
    し4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアルコキ
    シ基により置換されているナフチル基;未置換の又は1
    ないし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭
    素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換されてい
    るフェノキシ基;未置換の又は1ないし3個の炭素原子
    数1ないし4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4の
    アルコキシ基により置換されているナフトキシ基;未置
    換の又はフェニル環上が1ないし3個の炭素原子数1な
    いし4のアルキル基又は炭素原子数1ないし4のアルコ
    キシ基により置換されている炭素原子数7ないし12の
    フェニルアルキル基;未置換の又はフェニル環上が1な
    いし3個の炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭素
    原子数1ないし4のアルコキシ基により置換されている
    炭素原子数7ないし12のフェニルアルコキシ基;又は
    −CO−R2 (式中、R2 は炭素原子数1ないし18の
    アルキル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
    基;フェニル基;ナフチル基;炭素原子数7ないし9の
    フェニルアルキル基;又は炭素原子数11ないし14の
    ナフチルアルキル基を表す。)を表し;そしてR3 はR
    2 と同じ意味を持つか又は水素原子を表し;R4 とR4'
    は互いに独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4の
    アルキル基を表し;R5 、R6 とR7 は互いに独立して
    炭素原子数1ないし3のアルキレン基を表し;R8 は水
    素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
    9 とR10は互いに独立して炭素原子数3ないし18の
    アルキル基又は炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
    基を表し;そしてR11は炭素原子数2ないし6のアルキ
    レン基を表す請求項1記載の式I又は式IIの化合物。
  3. 【請求項3】式中、A1 は、m=1である場合は、炭素
    原子数6ないし18のアルキル基;炭素原子数2ないし
    12のアルケニル基;シクロヘキシル基;シクロヘキセ
    ニル基;未置換の又は1ないし3個の炭素原子数1ない
    し4のアルキル基又は式: 【化16】 の基、又は炭素原子数2ないし4のアルケニル基により
    置換されているフェニル基;−O−により中断されてい
    る炭素原子数3ないし12のアルケニル基;又は未置換
    の又はフェニル環上が炭素原子数1ないし4のアルキル
    基又は炭素原子数2ないし4のアルケニル基又は炭素原
    子数1ないし4のアルコキシ基により置換されている炭
    素原子数7ないし12のフェニルアルキル基を表し;A
    1 は、m=2である場合は、直接結合;炭素原子数1な
    いし18のアルキレン基;−O−又は−S−により中断
    されている炭素原子数2ないし18のアルキレン基;炭
    素原子数2ないし18のアルケニレン基;炭素原子数5
    ないし9のシクロアルキレン基;未置換の又は1又は2
    個の炭素原子数1ないし4のアルキル基又は炭素原子数
    1ないし4のアルコキシ基及び/又は式: 【化17】 の基,又は炭素原子数2ないし4のアルケニル基により
    置換されているフェニレン基;又は式: 【化18】 の二価の基を表し;A1 は、m=3である場合は、炭素
    原子数3ないし8のアルカントリイル基;ターシャリ・
    ヒドロキシル基により置換されている炭素原子数3ない
    し8のアルカントリイル基;ベンゼントリイル基;N
    [(CH2 )−]3 ;炭素原子数5ないし8のシクロア
    ルカントリイル基;又は1,3,5−トリアジン−2,
    4,6−トリイル基を表し;A1 は、m=4である場合
    は、4個の自由価を持つベンゼン基、シクロペンチル基
    又はシクロヘキシル基;又は 【化19】 を表し;A2 は、n=1である場合は、未置換の又は炭
    素原子数1ないし4のアルキル基又は式: 【化20】 の基、又は炭素原子数2ないし4のアルケニル基により
    置換されているフェニル基;又はナフチル基を表し;A
    2 は、n=2である場合は、未置換の又は炭素原子数1
    ないし4のアルキル基又は式: 【化21】 の基により置換されているフェニレン基;式: 【化22】 の二価の基;又はナフチレン基を表し;A2 は、n=3
    である場合は、ベンゼントリイル基を表し;A2 は、n
    =4である場合は、4個の自由価を持つベンゼン基を表
    すか又はA2 は式: 【化23】 (式中、X1 ないしX6 の1ないし4個は各々の場合に
    おいて解放結合でありそして他は互いに独立して水素原
    子又はメチル基を表す。)のn価のトリフェニルトリア
    ジニル基を表し;Dは直接結合又は基:−CO−、−S
    −、−O−、−SO2 −又は−C(−R4 )(−R4'
    の一つを表し;R1 は炭素原子数1ないし18のアルキ
    ル基;炭素原子数4ないし22のアルコキシ基;炭素原
    子数3ないし8のアルケニル基;炭素原子数3ないしし
    8のアルキニル基;炭素原子数5ないし8のシクロアル
    キル基;炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基;
    炭素原子数7ないし12のフェニルアルキル基;炭素原
    子数7ないし12のフェニルアルコキシ基;炭素原子数
    1ないし8のアルカノイル基;炭素原子数3ないし5の
    アルケノイル基;又はベンゾイル基を表し;そしてR4
    とR4'は互いに独立して水素原子又は炭素原子数1ない
    し4のアルキル基を表す請求項2記載の式I又は式IIの
    化合物。
  4. 【請求項4】式中、mとnの各々は1ないし4の範囲か
    らの整数を表し;A1 は、m=1である場合は、炭素原
    子数6ないし18のアルキル基を表し;A1 は、m=2
    である場合は、炭素原子数2ないし18のアルキレン
    基;シクロヘキシレン基;フェニレン基;式: 【化24】 の二価の基を表し;A1 は、m=3である場合は、ベン
    ゼントリイル基又はシクロヘキサントリイル基を表し;
    そしてA1 は、m=4である場合は、4個の自由価を持
    つベンゼン基を表し;A2 は、n=1である場合は、未
    置換の又は炭素原子数1ないし4のアルキル基により置
    換されているフェニル基;又はナフチル基を表し;A2
    は、n=2である場合は、未置換の又は炭素原子数1な
    いし4のアルキル基又は式: 【化25】 の基により置換されているフェニレン基;ナフチレン
    基;又は式: 【化26】 の二価の基を表し;A2 は、n=3である場合は、ベン
    ゼントリイル基を表し;そしてA2 は、n=4である場
    合は、4個の自由価を持つベンゼン基を表し;Dは基:
    −CH2 −、−CO−又は−C(−CH3 )(−C
    3 )−の一つをを表し;そしてR4 とR4'は互いに独
    立して水素原子、メチル基又はtert−ブチル基を表
    す請求項3記載の式I又はIIの化合物。
  5. 【請求項5】式中、mは1ないし4の範囲からの整数を
    表しそしてnは1ないし3の範囲からの整数を表し;A
    1 は、m=1である場合は、炭素原子数10ないし18
    のアルキル基を表し;A1 は、m=2である場合は、炭
    素原子数2ないし18のアルキレン基;シクロヘキシレ
    ン基;又はフェニレン基を表し;A1 は、m=3である
    場合は、ベンゼントリイル基又はシクロヘキサントリイ
    ル基を表し;A1 は、m=4である場合は、ベンゼンテ
    トライル基を表し;A2 は、n=1である場合は、フェ
    ニル基を表し;A2 は、n=2である場合は、フェニレ
    ン基又は式: 【化27】 の二価の基を表し;そしてA2 は、n=3である場合
    は、ベンゼントリイル基を表し;Dは基:−CO−又は
    −C(−CH3 )(−CH3 )−の一つをを表し;R1
    は炭素原子数1ないし6のアルキル基;炭素原子数6な
    いし12のアルコキシ基;シクロヘキシル基;シクロヘ
    キシルオキシ基;シクロヘプチルオキシ基;シクロオク
    チルオキシ基又は炭素原子数7ないし9のフェニルアル
    キル基を表し;そしてR4 とR4'は互いに独立して水素
    原子、メチル基又はtert−ブチル基を表す請求項4
    記載の式I又はIIの化合物。
  6. 【請求項6】式中、mは1又は2を表しそしてnは1を
    表し;A1 は、m=1である場合は、炭素原子数2ない
    し12のアルケニル基;シクロヘキシレン基;炭素原子
    数2ないし4のアルケニル基により置換されそして炭素
    原子数1ないし4のアルキル基又は式: 【化28】 の基により置換されていてもよいフェニル基:−O−に
    より中断されている炭素原子数3ないし12のアルケニ
    ル基;又はフェニル環上が炭素原子数2ないし4のアル
    ケニル基により置換されている炭素原子数7ないし12
    のフェニルアルキル基を表し;A1 は、m=2である場
    合は、炭素原子数2ないし18のアルケニレン基;又は
    フェニル環上が炭素原子数2ないし4のアルケニル基に
    より置換されているフェニレン基を表し;A2 は、n=
    1である場合は、炭素原子数2ないし4のアルケニル基
    により置換されているフェニル基を表し;Dは直接結合
    又は基:−O−又は−C(−R4 )(−R4')−の一つ
    を表し;R1 は炭素原子数1ないし18のアルキル基;
    炭素原子数4ないし22のアルコキシ基;炭素原子数5
    ないし8のシクロアルキル基;炭素原子数5ないし8の
    シクロアルコキシ基;炭素原子数7ないし12のフェニ
    ルアルキル基;炭素原子数1ないし8のアルカノイル
    基;又はベンゾイル基を表し;そしてそしてR4 とR4'
    は互いに独立して水素原子又は炭素原子数1ないし4の
    アルキル基を表す請求項3記載の式I又はIIの化合物。
  7. 【請求項7】(a)酸化的、熱的または化学線分解を受
    け易い有機材料及び(b)請求項1記載の式I及び/又
    はIIの化合物の少なくとも1種からなる組成物。
  8. 【請求項8】有機材料が合成有機ポリマー又は合成有機
    ポリマーの混合物である請求項7記載の組成物。
  9. 【請求項9】成分(a)が塗料組成物である請求項8記
    載の組成物。
  10. 【請求項10】成分(b)を安定化した組成物の全重量
    を基準にして0.01ないし10%の量で含有する請求
    項7記載の組成物。
  11. 【請求項11】成分(a)と(b)に加えて、少なくと
    も一種の常用の添加剤(c)を含有する請求項7記載の
    組成物。
  12. 【請求項12】酸化的、熱的または化学線分解に対して
    有機材料を安定化するために式I及び/又はIIの化合物
    を使用する方法。
  13. 【請求項13】有機材料に式I及び/又はIIの少なくと
    も一種の化合物を添加することからなる、熱的、酸化的
    または化学線分解に対して該有機材料を安定化する方
    法。
  14. 【請求項14】式IV: 【化29】 のピペリジン化合物を、(a)式V: 【化30】 のカルボン酸との反応により式Iのエステルに変換する
    か、又は(b)式VI: 【化31】 のフェノールとの反応により式IIのフェノールエーテル
    に変換することからなる、請求項1記載の式I又は式II
    の化合物の製造方法。
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