JPH077498B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は塗布型磁気記録層を有する磁気記録媒体に関
し、特に磁気記録層に特徴を有する磁気記録媒体に関す
るものである。

従来の技術及び発明が解決しようとする問題点 現在、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピュ
ータ、磁気ディスク、8m/m等の分野で広範囲に使用され
るようになっており、将来ビデオフロッピー、高密度フ
ロッピー等の分野でも使用されることが予想され、それ
に伴い、磁気記録媒体に記録する情報量も年々増加の一
途をたどり、そのため磁気記録媒体に対しては記録密度
の向上が益々要求されるようになってきている。従来よ
り、磁気テープなどの磁気記録媒体では、磁気記録層中
の針状磁性粉を長手方向に配向させる等して、磁気特性
を向上させているが、針状磁性粉を長手方向に配向させ
たものは低周波帯域では高い出力が得られる反面高密度
記録には限界があるものであった。

又、このため最近では磁性粉末が平板状であり、垂直方
向に磁化容易軸を有するバリウムフェライト磁性粉末を
磁性記録層に使用した磁気記録媒体が提案されている
（特開昭57-195328号公報）。

しかし、これらのバリウムフェライト磁性粉末を使用し
たものでは、短波長記録特性は良好な反面、耐久走行性
が劣るという欠点があり、特にフロッピーディスクに使
用した場合、耐久走行性が悪いので使用上問題がある。

問題点を解決するための手段 本発明者等は前記の問題点を解決すべく鋭意検討の結
果、六方晶系板状フェライト磁性粉を用いた磁気記録媒
体の耐久走行性は、磁性層のヤング率（Ｅ″）が特定さ
れるとき、特に導電性アンダーコートのヤング率
（Ｅ′）と磁性層のヤング率（Ｅ″）が特定されるとき
改善されることの新知見を得、本発明に到達したもので
ある。

即ち、本発明は非磁性基材上に塗布型磁気記録層を設け
た磁気記録媒体において、磁気記録層に六方晶系板状フ
ェライト磁性粉を用い、導電性アンダーコートのヤング
率（Ｅ′）と磁性層のヤング率（Ｅ″）との比をＥ′/
E″＜１とすることを特徴とする磁気記録媒体に関す
る。

本発明で用いられる六方晶系板状フェライト磁性粉はバ
リウムフェライト磁性粉、ストロンチウムフェライト磁
性粉等である。

磁気記録層に用いられる六方晶系板状バリウムフェライ
トは化学式BaO・６Fe₂O₃で表わされ、この外、この化学
式のBa及びFeの一部がTi,Cr,Co,Zn,In,Mn,Cu,Ge,Nb,Ca,
Sr,Pb,Ni,Sn等の金属で置換されたものが包含される。

バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等の磁
性粉は直径0.2μ以下、好ましくは0.15μｍ以下、更に
好ましくは0.1μｍ以下、板状比に制限はないが、板状
比６以上、さらに好ましくは７以上が垂直配向しやすい
ものである。バリウムフェライトは六方晶系板状である
ため、針状磁性粉と比べて表面粗度への影響が大きくな
り、上記の径よりも大きくなったりすると表面粗度の低
下が激しく好ましくない。粒径が前記のような範囲にあ
る場合、磁性層の表面平滑性が良好となり、ノイズも充
分に低く、高密度記録が達成できる。

バリウムフェライトの製法としては、セラミック法、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶化
法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、い
ずれの方法も利用できる。

本発明において、六方晶系板状フェライト磁性粉、例え
ばバリウムフェライト磁性粉を含有する磁気記録層は、
導電性アンダーコートのヤング率（Ｅ′）と磁性層のヤ
ング率（Ｅ″）との比がＥ′/E″＜１でなくてはならな
い。

六方晶系板状フェライト磁性粉、例えばバリウムフェラ
イト磁性粉を用いた場合、磁性層のヤング率が高くな
り、脆さが出る。そのため、それらを用いた磁気記録媒
体は耐久性を充分にカバーできないのである。

意外にもアンダーコートのヤング率（Ｅ′）が磁性層の
ヤング率（Ｅ″）よりも高いものを使用すると、磁気記
録媒体の耐久性がなく、それがより低いものであると
き、バックコート層のクッション機構が働き、耐久走行
性が充分な磁気記録媒体が得られることがわかった。

アンダーコート層のヤング率（Ｅ′）の調整は（１）顔
料の種類、量、（２）バインダーの選択等により行なう
ことができる。

又、バリウムフェライト自体は電気抵抗が高いので、ア
ンダーコート層を導電性とすることにより、電気抵抗を
下げることができ好ましい。磁気記録層の電気抵抗が高
い場合はそれに起因するドロップアウトを完全に抑える
ことは難かしいが、導電性アンダーコート層を設けるこ
とによりドロップアウトを抑えることができる。

導電性アンダーコート層は導電性物質をアンダーコート
層に含有させる等して得ることができる。導電性物質と
してはいずれのものも使用可能であるが、カーボンブラ
ック、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック
等が使用される。

本発明のアンダーコート層に用いられるカーボンブラッ
クはファーネス、チャンネル、アセチレン、サーマル、
ランプ等、いずれの方法で製造されたものでもよいが、
アセチレンブラック、ファーネスブラック、チャンネル
ブラック、ローラーおよびディスクブラック及びドイツ
ナフタリンブラックが好ましい。本発明で使用するカー
ボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいが、好
ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して10〜100m
μ、特に好ましくは10〜80mμである。更に粒子径につ
いて言えば、粒子径100mμを超えるとアンダーコート層
面が表面粗度が悪くなり、磁性層塗布後の電特低下の原
因となる。また10mμ未満では分散がうまくいかず、や
はりアンダーコートの表面粗度が悪くなる。

カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。

グラファイト化カーボンブラックは表面には炭素層面が
平行にならんだ殻のような構造がみられ、内部中心に近
い部分には空隙がみられる。また多少角ばった中空カプ
セル状の形態のものもある。そのためグラファイト化カ
ーボンブラックはカーボンブラックと構造上異なり、電
子顕微鏡により明確に区別することができる。この表面
殻はグラファイト化されているためか滑らかである。

グラファイト化したカーボンブラックはカーボンブラッ
ク中に含まれる微量の不純物（Ｓ、C1）含有量が極めて
少なく、又水分の吸着性も弱く、非常に特徴のあるカー
ボンブラックである。水分の吸着力が弱いと通常はカー
ボンブラックの分散性が悪くなるが、グラファイト化し
たカーボンブラックは意外にも水分が少ないにもかかわ
らず、分散性が低下しない。しかも表面がグラファイト
化され殻になっているので、非常に摩擦が低く、又水分
の吸着力が弱いため、グラファイト化カーボンを入れた
ものは高温多湿下で使用した場合好ましく、アンダーコ
ート層でもその効果は発揮する。

カーボンブラックは導電性を有するが、導電性は粒子の
小さい程良好となる。グラファイト化カーボンは粒子の
結晶構造がグラファイト化の進行と共に導電性を与え
る。そしてカーボンブラックの表面の揮発物や油性分が
導電性を阻害するので、これらを除去すると導電性が向
上するから、帯電防止の点でも有利であり、グラファイ
ト化したカーボンブラックを用いることによりドロップ
アウトの少ない磁気記録媒体が得られる。

グラファイト化したカーボンブラックは、アセチレンブ
ラック、ファーネスブラック、チャンネルブラック、ロ
ーラーおよびディスクブラック及びドイツナフタリンブ
ラック等のカーボンブラックを2,700〜3,000℃の温度で
加熱処理したものであり、平均粒子径10〜100mμ、好ま
しくは10〜80mμ、比表面積BET20〜300m²/g、揮発分1.0
％以下のものであり、例えば＃4000B（三菱化成工業株
式会社）を挙げることができる。

又、本発明で使用することもあるグラファイト化カーボ
ンブラックはpHが８以上のものが好ましい。

このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。

アンダーコート層の厚さは10Å〜５μｍ程度とすること
が好ましい。

カーボンブラック等の混合割合は、バインダー100重量
部当り導電性カーボンブラック等を５〜200重量部であ
る。

又、本発明は磁性層のヤング率（Ｅ″）が９×10¹⁰dyn/
cm²以上であることが好ましい。磁性層のヤング率
（Ｅ″）が９×10¹⁰dyn/cm²以上であると、さらに目づ
まり、塗膜削れが起りにくく、固いのでクリーニング効
果も大きくなり、耐久走行性が良好となる。磁性層のヤ
ング率は使用する六方晶系板状フェライト磁性粉の板状
比、分散方法、塗布方法、加工方法等により調整でき、
一例を挙げれば該磁性粉の板状比が高いと磁性層のヤン
グ率（Ｅ″）も高くなる傾向である。この板状比を６以
上とするとき、前記Ｅ″の値を満たすことができる。

本発明においてはその他Co含有酸化鉄粉、γFe₂O₃粉、F
e₃O₄粉、Coフェライト粉、メタル粉末等も利用できる。

本発明の磁気記録層及びアンダーコート層には通常用い
られる有機バインダー、無機顔料、潤滑剤、その他、分
散剤、帯電防止剤等を常法に従って用いることができ
る。

本発明の磁気記録層及びアンダーコート層で用いる有機
バインダーは、従来、磁気記録媒体用に利用されている
熱可塑性、熱硬化性又は反応型樹脂やこれらの混合物が
使用されるが、得られる塗膜強度等の点から硬化型、特
に放射線硬化型の樹脂が好ましい。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分子
量が10,000〜200,000、重合度が約200〜2,000程度のも
ので、例えば塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体（カ
ルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニル−酢酸ビニル
−ビニルアルコール共重合体（カルボン酸導入のものも
含む）、塩化ビニール−塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニール−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチ
レン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニトリ
ル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデン共
重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、ウ
レタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニト
ロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン
−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビ
ニールブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセ
テート、セルロースダイアセテート、セルローストリア
セテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロー
ス等）、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル
樹脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重
合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及
びこれらの混合物が使用される。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は200,000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱す
ることにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限
大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好まし
い。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エ
ポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデヒド
樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリフ
ェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミン
樹脂、及びこれらの混合物である。

バインダーは放射線硬化型化合物を硬化したものを用い
ることが好ましい。

放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。
その他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。

放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。

分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は
多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上に
マレイン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒の存
在下で、180〜200℃、窒素雰囲気下、脱水あるいは脱ア
ルコール反応の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1mmHg
の減圧下、縮合反応により得ることができる。マレイン
酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋、放射線硬化
性等から酸成分中１〜40モル％、好ましくは10〜30モル
％である。

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。

（１） 塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール
−末端OH側鎖アルキル基共重合体、たとえばUCC社製VRO
H、VYNC、VYBGX、VERR、VYES、VMCA、VAGH、VCARMAG52
0、VCARMAG528等が挙げられ、このものに後述の手法に
より、アクリル系二重結合、マレイン酸系二重結合、ア
リル系二重結合を導入して放射線感応変性を行う。

（２） 飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1,2プロピレングリコール、1,3
ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1,4ブタン
ジオール、1,6ヘキサンジオール、ペンタエリスリッ
ト、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコー
ル、1,4シクロヘキサンジメタノールのような多価アル
コールとのエステル結合により得られる飽和ポリエステ
ル樹脂又はこれらのポリエステル樹脂をSO₃Na等で変性
した樹脂（例えばバイロン53S）が例として挙げられ、
これらも同様にして放射線感応変性を行う。

（３） ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体で、こ
れら樹脂中に含まれる水酸基に対し後述の手法により放
射線感応変性を行う。

（４） エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂 ビスフェノールＡとエピクロルヒドリン、メチルエピク
ロルヒドリンの反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル
化学製（エピコート152、154、828、1001、1004、100
7）、ダウケミカル製（DEN431、DER732、DER511、DER33
1）、大日本インキ製（エピクロン400、800）、更に上
記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ樹
脂（PKHA、PKHC、PKHH）、臭素化ビスフェノールＡとエ
ピクロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工業
製（エピクロン145、152、153、1120）等があり、又こ
れらにカルボン酸基を含有するものも含まれる。これら
樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性
を行う。

（５） 繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化
綿、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、
ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適であ
る、樹脂中の水酸基を活用して後述の方法により放射線
感応変性を行う。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（PVPオレ
フィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、
フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含有
するアクリルエステル及びメタクリルエステルを重合成
分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効であ
る。

以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げ
る。

（１） ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマ
ー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、及び基体フィルム、例
えばPETフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジ
イソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4
−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソ
シアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フ
ェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメチル−4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、3,3′−ジメチルビフェニ
レンジイソシアネート、4,4′−ビフェニレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールＬ、デスモジュールＮ等の
各種多価イソシアネートと、線状飽和ポリエステル（エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、トリメチロールプロパン、1,4−ブタンジオール、
1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビ
トール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサ
ンジメタノールの様な多価アルコールと、フタル酸、イ
ソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セ
バシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの）、
線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコー
ル）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸エ
ステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の各
種ポリエステル類の縮重合物より成るポリウレタンエラ
ストマー、プレポリマーが有効である。

これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基又は水酸基と、アクリル系二重結合又はアリル系二重
結合等を有する単量体とを反応させることにより、放射
線感応性に変性することは非常に効果的である。又、末
端に極性基としてOH、COOH等を含有するものも含む。

さらに不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるい
はジグリセリド等、イソシアネート基を反応する活性水
素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を
有する単量体も含まれる。

（２） アクリロニトリル−ブタジエン共重合エラスト
マー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
として市販されている末端水酸基のあるアクリロニトリ
ルブタジエン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオン
社製ハイカー1432J等のエラストマーは、特にブタジエ
ン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架橋及び
重合させるエラストマー成分として適する。

（３） ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリタイッドレジン
Ｒ−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが
特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ−15
プレポリマーにおいては分子端末が水酸基となっている
為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加するこ
とにより放射線感応性を高めることが可能であり、バイ
ンダーとして更に有利となる。

またポリブタジエンの環化物、日本合成ゴム製CBR-M901
も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質を有して
いる。

その他、熱可塑性エラストマー及びそのプレポリマーの
系で好適なものとしては、スチレン−ブタジエンゴム、
塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化
物（日本合成ゴム製CIR701）があり、エポキシ変性ゴ
ム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡バイロン
＃300）等のエラストマーも下記に述べる放射線感応変
性処理を施こすことにより有効に利用できる。

オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、1,6−ヘキサングリコールジアクリ
レート、1,6−ヘキサングリコールジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、多官能オリゴエステ
ルアクリレート（アロニックスＭ−7100、Ｍ−5400、55
00、5700等、東亜合成）、ウレタンエラストマー（ニッ
ポラン4040）のアクリル変性体、あるいはこれらのもの
にCOOH等の官能基が導入されたもの、トリメチロールプ
ロパンジアクリレート（メタクリレート）、フェノール
エチレンオキシド付加物のアクリレート（メタクリレー
ト）、下記一般式で示されるペンタエリスリトール縮合
環にアクリル基（メタクリル基）またはε−カプロラク
トンアクリル基のついた化合物、 式中、ｍ−１、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ＝１、ａ＝
３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール
縮合物Ｂという）、 ｍ＝１、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｃという）、 ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｄという）、 及び下記一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げ
られる。

（１） (CH₂＝CHCOOCH₂)₃−CCH₂OH （特殊アクリレートＡ） （２） (CH₂＝CHCOOCH₂)₃−CCH₂CH₃ （特殊アクリレートＢ） （３） 〔CH₂＝CHCOOC₃H₆）ｎ−OCH₂〕₃−CCH₂CH₃ （ｎ≒３）（特殊アクリレートＣ） （８） CH₂CHCOO−(CH₂CH₂O)₄−COCH＝CH₂ （特殊アクリレートＨ） A:アクリル酸、X:多価アルコール Y:多塩基酸（特殊アクリレートＫ） 次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する。

ａ） 塩化ビニール酢酸ビニール共重合体樹脂のアクリ
ル変性体（放射線感応変性樹脂）の合成 OH基を有する一部ケン化塩化ビー酢ビ共重合体（平均重
合度ｎ＝500）750部とトルエン1250部、シクロヘキサノ
ン500部を51の４つ口フラスコに仕込み加熱溶解し、80
℃昇温後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシエ
チルメタクリレートアダクト※を61.4部加え、更にオク
チル酸スズ0.012部、ハイドロキノン0.012部を加え80℃
でN₂気流中、NCO反応率が90％となるまで反応せしめ
る。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1250部を加
え希釈する。

〔※トリレンジイソシアネート（TDI）の２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート（2HEMA）アダクトの製法 TDI348部をN₂気流中11の４つ口フラスコ内で80℃に加熱
後、２−エチレンメタクリレート260部、オクチル酸ス
ズ0.07部、ハイドロキノン0.05部を反応缶内の温度が80
〜85℃となるように冷却コントロールしながら滴下終了
後80℃で３時間攪拌し反応を完結させる。反応終了後取
り出して冷却後白色ペースト状のTDIの2HEMAを得た。〕 ｂ） ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射線感
応変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製BM-S100部をトルエン191.2
部、シクロヘキサノン71.4部と共に51の４つ口フラスコ
に仕込み加熱溶解し80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト※を
7.4部加え、更にオクチル酸スズ0.015部、ハイドロキノ
ン0.015部を加え、80℃でN₂気流中NCO反応率が90％以上
となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエ
チルケトンにて希釈する。

ｃ） 飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放
射線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンRV-200）、10
0部をトルエン116部、メチルエチルケトン116部に加熱
溶解し80℃昇温後TDIの2HEMAアダクト※を3.55部加え、
オクチル酸スズ0.007部、ハイドロキノン0.007部を加
え、80℃、N₂気流中NCO反応率が90％以上となるまで反
応せしめる。

ｄ） ◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感
応変性樹脂） エポキシ樹脂（シエル化学製エピコート1007）、400部
をトルエン50部、メチルエチルケトン50部に加熱溶解
後、N,N−ジメチルベンジルアミン0.006部、ハイドロキ
ノン0.003部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を滴加
し80℃で酸価５以下となるまで反応せしめる。

◎フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） OH基を有するフェノキシ樹脂（PKHH:UCC社製 分子量3
0,000）600部、メチルエチルケトン1800部を31の４ッ口
フラスコに仕込み、加熱溶解し、80℃昇温後、トリレン
ジイソシアネートの２ヒドロキシエチルメタクリレート
アダクトを6.0部加え、更にオクチル酸スズ0.012部、ハ
イドロキノン0.012部を加え、80℃でN₂気流中、NCO反応
率が90％となるまで反応せしめる。このフェノキシ変性
体の分子量は35,000、１分子当りの二重結合は１個であ
る。

ｅ） ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放
射線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（MDI）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタン
製ニッポラン3119）250部、2HEMA32.5部、ハイドロキノ
ン0.07部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ、80
℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内の温度が80〜90℃
となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後80℃で反
応率95％以上となるまで反応せしめる。

ｆ） ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーア
クリル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG-500、250部、2H
EMA32.5部、ハイドロキノン0.007部、オクチル酸スズ0.
009部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反
応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後80℃で反応率95％以上となるまで反応せ
しめる。

ｇ） ポリブタジエンエラストマーアクリル変性体の合
成（放射線硬化性エラストマー） シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジエンポリBDリクイットレジンＲ−15、250部、2HE
MA32.5部、ハイドロキノン0.007部、オクチル酸スズ0.0
09部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反
応缶内の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下
し、滴下終了後80℃で反応率95％以上となるまで反応せ
しめる。

高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間に架
橋を起こすものが知られている。分子間の架橋を起こす
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミ
ド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリ
ドンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインが
ある。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変
性を特に施さなくても、架橋反応が起るので、前記変性
体の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用として
使用可能である。

更にまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤型
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様な樹脂を用いることができる。

このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる。

磁性粉／バインダーは、重量比で1/1〜9/1、特に2/1〜8
/1であることが好ましい。

このような割合とするのは1/1未満では飽和磁束密度が
低くなり、9/1を超えると分散不良により表面粗度が悪
くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるからで
ある。

本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。

例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコ
ール類；キ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル
等のエステル類；イソプロピルエーテル、エチルエーテ
ル、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチ
ルエーテル、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素
類；テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラン類；
メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭
素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロル
ベンゼン等の塩素化炭化水素、その他ジメチルホルムア
ミド等が単一溶剤またはこれらの混合溶剤として使用さ
れる。

これらの溶剤はバインダーに対して10〜1000wt％、特に
100〜5000wt％の割合で用いる。

磁性層及びアンダーコート層には無機顔料が含まれてい
てもよい。

無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラッ
ク、グラファイト、グラファイト化カーボンブラック、
また２）無機充填剤としてSiO₂、TiO₂、Al₂O₃、Cr₂O₃、
SiC、CaO、CaCO₃、酸化亜鉛、ゲーサイト、γFe₂O₃、タ
ルク、カオリン、CaSO₄、窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫
化モリブデン、ZnS等がある。またこの他、次のような
微粒子顔料（エアロジルタイプ、コロイダルタイプ）：
SiO₂、Al₂O₃、TiO₂、ZrO₂、Cr₂O₃、Y₂O₃、CeO₂、Fe
₃O₄、Fe₂O₃、ZrSiO₄、Sb₂O₅、SnO等も用いられる。これ
ら微粒子顔料は、例えばSiO₂の場合、無水珪酸の超微
粒子コロイド溶液（スノーテックス、水系、メタノール
シリカゾル等、日産化学、精製四塩化ケイ素の燃焼に
よって製造される超微粒子状無水シリカ（標準品100
Å）（アエロジル、日本アエロジル株式会社）などが挙
げられる。又、前記の超微粒子コロイド溶液及びと
同様の気相法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウ
ム、並びに酸化チタン及び前述の微粒子顔料が使用され
得る。この様な無機顔料の使用量は１）に関しては磁性
粉100重量部に対して１〜30重量部、又２）に関しては
１〜30重量部が適当であり、これらがあまり多くなる
と、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多く
なるという欠点がある。

又、アンダーコート層においてはカーボンブラックにつ
いてはバインダー100重量部当り５〜200重量部、又２）
に関しては１〜300重量部である。

また、無機顔料の径については１）に関しては0.1μｍ
以下、さらには0.05μｍ以下が好ましく、２）に関して
は0.7μｍ以下、さらには0.5μｍ以下が好ましい。

磁性層には分散剤が含まれていてもよい。

分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；
高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エスエル基、燐酸エステル基等の酸性基
を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類
等の両性活性剤などが使用される。

磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。

潤滑剤としては従来この種の磁気記録媒体に用いられる
潤滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂
肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性
剤等を用いることができるが、脂肪酸および／又は脂肪
酸エステルを用いるのが好ましい。

脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン
酸、ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸（RCOO
H、Ｒは炭素数11以上のアルキル基）であり、脂肪酸エ
ステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪酸と炭
素数３〜12個の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭
素数と合計して炭素数が21〜23個より成る一価のアルコ
ールとから成る脂肪酸エステル等が使用され、又前記脂
肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属からなる金属
石鹸、レシチン等が使用される。

シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。

潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 CH₂＝CHCOOR、 CH₂＝CH−CH₂COOR、 CH₂＝CHCONHCH₂OCOR、 RCOOCH₂−CH＝CH₂等で、ここでＲは直鎖又は分枝状の飽
和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好ま
しくは12以上23以下であり、これらは弗素置換体とする
こともできる。弗素置換体としては CnF_2n+1−、CnF_2n+1（CH₂）ｍ−（但し、ｍ＝１〜
５）、 CnF_2n+1CH₂CH₂NHCH₂CH₂−、 等がある。

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としえは、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。

潤滑剤の入っていない磁気記録層は摩擦係数が高いため
画像のゆらぎが生じ、ジッターが発生し易いと共に、特
に高温走行下で摩擦係数が高いため磁気記録層の削れが
発生し易く、巻きみだれを生じ易いものである。又、デ
ィスク媒体では耐久走行性が劣ったり、塗膜ケズレが発
生したりする。

分散剤および潤滑剤はバインダーに対して0.1〜20重量
％含ませるのがよい。

バインダー量が多すぎるとブロッキングが出、バインダ
ーが少なすぎるとカレンダー工程での付着が発生して好
ましくない。

なお本発明の磁気記録層の塗布乾燥後の厚みは0.1〜10
μｍの範囲が一般的である。

磁性層の潤滑剤、有機バインダーが放射線硬化型の場
合、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放
射線加速器を線源とした電子線、Co60を線源としたγ−
線、Sr90を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線源とした
Ｘ線あるいは紫外線等が使用される。

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。

本発明に使用される非磁性基材としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
サルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミ
ド、芳香族ポリエステル、アルミニウム等の金属板、ガ
ラス板等が使用されるが、これらに限定されるものでは
ない。これらの中では、特にポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド等を用いることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体では支持体の両面に磁性層を設け
てもよい。特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。

また本発明の磁気記録媒体は必要に応じてバックコート
およびトップコートを設けてもよい。

これらのうちバックコートは、バインダー、顔料および
潤滑剤からなる組成とするのがよい。

バインダーとしては、前述の磁性層に用いた放射線硬化
性樹脂を使用することができるが、例えば（Ａ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する、
分子量5,000〜100,000のプラスチック状化合物、（Ｂ）
放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有
するか、または放射線硬化性を有しない、分子量3,000
〜100,000のゴム状化合物、および（Ｃ）放射線により
硬化性をもつ不飽和二重結合を１個以上有する、分子量
200〜3,000の化合物を、（Ａ）20〜70重量％、（Ｂ）20
〜80重量％、（Ｃ）10〜40重量％の割合で用いた組合せ
が好ましい。

また熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂も用いることがで
き、これらは平均分子量200,000以下のものが好まし
い。

特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）であ
る。

顔料としては、前述の磁性層に用いた無機顔料を使用す
ることができる。そのなかの１）に関してバインダー10
0重量部に対して20〜300重量部、２）に関しては10〜30
0重量部含ませることが好ましい。

潤滑剤としては前述の磁性層に用いたものが使用でき
る。なかでも脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用
いるのが好ましい。

本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、例えばポリエステルなどの非磁性基体上にアン
ダーコート層を形成し、磁性粉をバインダー、有機溶剤
等とともに混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗
料を前記アンダーコート層上にグラビアコート、リバー
スロールコート、エアーナイフコート、エアードクター
コート、ブレードコート、キスコート、スプレイコート
などの手法を用いて塗布し、磁性粉の磁化容易方向が磁
性層に対して垂直方向となるように配向処理を行って乾
燥し、常法に従い熱硬化或いは放射線硬化すればよい。
そして必要に応じてバックコートおよびトップコートを
設ければよい。

配向処理は、常法に従う。

配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁石が代表
的なものとして用いられ、それらのものの各種組合せ、
例えば垂直と水平の組合せ、永久磁石または直流磁場と
交流磁場の組合せ、機械的配向や機械的配向と上記の組
合せ等、種々のものが用いられる。

そして磁場外で磁性粒子が反磁場のために配向したもの
が乱れ、配向性の低下を生じないよう磁場内で乾燥さ
せ、反磁場が働いてもそれらの影響が出ないよう、磁場
内である程度乾燥させ、磁性粉が動かないようにする必
要がある。

磁場強度としては1000〜6000Gが好ましい。この場合、
本発明では1000〜4000G程度でも十分目的にかなうもの
となる。

実施例 実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものでないことは言うまでもない。

特性は以下のようにして評価した。

（１） ヤング率 粘弾性スペクトロメーター（岩木製作所、東洋ボードウ
ィン、東洋精工社）での20℃での測定値による。

（２） 耐久走行性 フロッピーディスクドライブにて、常温で耐久走行性の
実験を行った。

実施例１ 厚さ75μｍのポリエステル（PET）フィルムの表面と裏
面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を設層
した。

アンダーコート層１ 重量部 カーボンブラック 20mμｍ 30 （Ａ） アクリル変性塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共
重合体 分子量45,000 40 （Ｂ） アクリル変性ポリウレタンエラストマー分子量
20,000 40 （Ｃ） 多官能アクリレート 分子量1,000 20 ステアリン酸 ２ ステアリン酸ブチル ２ 混合溶剤（MIBK/トルエン＝1/1） 300 上記組成物をボールミル中５時間分散させ、上記の75μ
ｍのポリエステル（PET）フィルム上に乾燥厚0.7μｍに
なるように塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロ
カーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧150Ke
V、電極電流10mA、吸収線量5Mrad、N₂ガス中で電子線を
アンダーコート層に照射した。

このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成した。

アンダーコート層２ 重量部 グラファイト化カーボンブラック＃400B30mμ 30 （Ａ） アクリル変性塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共
重合体 分子量45,000 50 （Ｂ） アクリル変性ポリウレタンエラストマー分子量
20,000 50 ステアリン酸 ２ ステアリン酸ブチル ２ 混合溶剤（MIBK/トルエン＝1/1） 300 上記組成物をボールミル中５時間分散させ、ポリエステ
ルフィルムに乾燥厚１μになるように塗布し、エレクト
ロカーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧150K
eV、電極電流10mA、吸収線量5Mrad、N₂ガス中で電子線
をアンダーコート層に照射した。

アンダーコート層３ 重量部 Al₂O₃ 0.3mμ 26 カーボンブラック 30mμ 50 アクリル変性塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共重合体
分子量30,000 30 アクリル変性ポリウレタンエラストマー分子量50,00030 アクリル変性フェノキシ樹脂分子量35,000 20 多官能アクリレート 分子量500 20 ステアリン酸 ４ 溶剤（MEK/トルエン＝1/1） 300 これらを上記と同様に処理、製造した。

アンダーコート層４（熱硬化型） 重量部 カーボンブラック 40mμ 50 硬化剤コロネートＬ 20 ステアリン酸 ２ 塩化ビニル−酢酸ビニルアルコール共重合体（VCC社、V
AGH） 50 ポリウレタンエラストマー 50 （B.Fグッドリッチ社エステン5703） 混合溶剤（MEK/トルエン） 300 の混合物を良く混合溶解させる。

この塗料を上記同様ポリエステルフィルム上に塗布し、
上記と同様に溶剤を乾燥させた後、表面平滑化処理後、
80℃に保持したオーブン中にロールを48時間保持し、イ
ソシアネートによる架橋反応を促進させた。

磁性層１ 重量部 バリウムフェライト 120 （Hc 7000e、粒径可変） カーボンブラック 30mμ ６ α−Al₂O₃粉末（0.5μ粒状） ２ 溶剤（MEK/トルエン50/50） 100 上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、六方晶系
板状バリウムフェライトを良く湿潤させる。

次に 塩ビ−酢ビ−ビニルアルコール共重合体（マレイン酸含
有）分子量40,000 ６部（固型分換算） アクリル二重結合導入塩酢ビ共重合体（マレイン酸含
有）分子量20,000 12部（固型分換算）アクリル二重結
合導入ポリエーテルウレタンエラストラー 分子量40,0
00 ９部（固型分換算） ペンタエリスリトールトリアクリレート ３部 溶剤（MEK/トルエン 50/50） 200部 ステアリン酸 ４部 ステアリン酸ブチル ２部 のバインダーの混合物を良く混合溶解させる。

これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入
し、再び42時間分散させる。

この様にして得られた磁性塗料を上記アンダーコート層
上に塗布し、永久磁石（3000ガウス）上で乾燥させなが
ら垂直配向させ、その後、連続して赤外線ランプまたは
熱風により溶剤を乾燥させた（これらは同時に並用して
もよい）後、表面平滑化処理後、ESI社製エレクトロカ
ーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電圧150K
eV、電極電流20mA、全照射量5Mradの条件下でN₂雰囲気
下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。硬化後の塗
膜厚は磁性層1.5μｍであった。なお、この膜厚の測定
は電子マイクロメーターで行った。これらの塗膜をフィ
ルムの両面に形成し、両面コートとした。

このようにして作成したサンプルのアンダーコート層の
各ヤング率（Ｅ′）及び磁性層の各ヤング率（Ｅ″）に
おける耐久走行性を第１表に示す。

実施例２ 磁性層２（熱硬化型磁性層） 重量部 バリウムフェライト磁性粉 120 （第１表、Hc6500e） グラファイト化カーボンブラック ５ （＃4000B） α−Al₂O₃粉末（0.5μ粉状） ２ 分散剤（ソルビタントリステアレート） ３ 溶剤（MEK/トルエン 50/50） 100 上記組成物をボールミル中にて３時間混合し、六方晶系
板状バリウムフェライトを分散剤により良く湿潤させ
る。次に 塩化ビニル酢酸ビニル共重合体 15 （ユニオンカーバイト社製VAGH） 熱可塑性ウレタン樹脂 15 （日本ポリウレタン社製ニッポラン3022） 溶剤（MEK/トルエン 50/50） 200 潤滑剤（高級脂肪酸変性シリコンオイル） ３ の混合物を良く混合溶解させる。

これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入
し、再び42時間分散させる。分散後、磁性塗料中のバイ
ンダーの水酸基を主体とした官能基と反応し架橋結合し
得るイソシアネート化合物（バイエル社製デスモジュー
ルＬ）を５部（固形分換算）、上記ボールミル仕込塗料
に20分で混合を行なった。

磁性塗料をアンダーコート層３を施こした75μｍのポリ
エステルフィルム上に2.0μ塗布し、交流磁場（2000ガ
ウス）上で乾燥させながら垂直配向させ、赤外線ランプ
または熱風により溶剤を乾燥させた後、表面平滑化処理
後、80℃に保持したオーブン中にロールを48時間保持
し、イソシアネートによる架橋反応を促進させた。両面
フロッピーを作製した。

バックコート層 重量部 カーボンブラック 20mμ 50 アクリル変性塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体（分子量３万） 40 アクリル変性ポリウレタンエラストマー（分子量２万）
40 多官能アクリレート 分子量１千 20 ステアリン酸 ４ ステアリン酸ブチル ２ 混合溶剤（MIBK/トルエン） 250 次に11μベース上に塗布し（上記バックコート層含
有）、8m/mデッキにて評価したものを第２表に示す。第
２表中、実施例１−２、１−４、１−７は第１表の通り
のものを使用し、実施例２−１、２−２、２−３は以下
のようなものである。

実施例２−1:実施例２で磁性粉粒径0.05μｍ、板状比3/
1とした以外は実施例２と同じである。

実施例２−2:実施例２で磁性粉粒径0.07μｍ、板状比6/
1のものを使用した。配向が無配向以外は実施例２と同
じである。

実施例２−3:実施例２で磁性粉粒径0.11μｍ、板状比35
/1とした以外は実施例２と同じである。

実施例２−１、２−２、２−３のアンダーコート層とし
てはアンダーコート層３を使用した。

実施例３ 実施例２でバリウムフェライト磁性粉粒径を0.05（Hc70
0）/0.11（Hc650）＝1/1の混合系のものに変更し、アン
ダーコート層をアンダーコート層４とした以外は同じで
ある。

実施例４ 実施例１に分散剤（大豆油精製レシチン）２部を加え、
アンダーコート層をアンダーコート層２とした以外は同
じである。

比較例1,2,3 磁性層は実施例１−1,1−3,1−４を使用し、アンダーコ
ート層４、アンダーコート層５（アンダーコート層３で
Al₂O₃26重量部を140重量部、カーボンブラック50重量部
を60重量部とした以外は同じ）を使用した。

比較例４ 磁性層は実施例１−４を使用し、アンダーコートなしで
ある。

第１表において、アンダーコート層で膜厚可変のもの
は、アンダーコート層１で膜厚がそれぞれ第１表になる
よう、塗布表面加工を行なった。

第１表に示すとおり、比較例１〜３のものはＥ′/E″＞
１のため耐久性が比較例１のアンダーコート層なしのも
のより悪い。それに対し、実施例のものはＥ′/E″＜１
であり耐久性にすぐれている事がわかる。このように
Ｅ′/E″＜１の条件を満たす事により耐久性が向上する
事がわかる。又、磁性層ヤング率が９×10¹⁰dyn/cm²以
上のフロッピーディスクは９×10¹⁰dyn/cm²以下のもの
より良好であることがわかる。アンダーコート５μ以上
のものは、耐久性が５μのものと変らなかった。塗布の
時の塗料の省エネルギーの観点からも５μ以上は特性上
の効果の差がないので好ましくない。

第２表に示すように９×10¹⁰dyn/cm²以上のものは磁性
面削れもなく、そのためドロップアウトが少なく、良好
な事がわかる。

第１表、第２表に示すとおり磁性層のヤング率（Ｅ′）
を９×10¹⁰dyn/cm²以上とする事により耐久走行性にす
ぐれた磁気記録媒体を得ることができる。上記の範囲の
ヤング率は磁性粉の板状比、分散方法、加工方法等を選
ぶことによって得ることができる。

なお、アンダーコート層が電気抵抗対策の為カーボンブ
ラックが入っており、磁性層全体の電気抵抗が５×10⁹
Ω／cm²（フロッピーの電気抵抗規格）以下であり、フ
ロッピーディスクではエラーレートが良好であり、8m/m
ではドロップアウトが良好である。

発明の効果 磁気記録層に六方晶系板状フェライト磁性粉を用い、導
電性のアンダーコートのヤング率（Ｅ′）と磁性層のヤ
ング率（Ｅ″）との比をＥ′/E″＜１とすることによ
り、耐久走行性を著しく向上させることができ、又ヘッ
ドのはりつき等のない実用上すぐれた磁気記録媒体が得
られる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性基材上に塗布型磁気記録層を設けた
   磁気記録媒体において、磁気記録層に六方晶系板状フェ
   ライト磁性粉を用い、導電性アンダーコートのヤング率
   （Ｅ′）と磁性層のヤング率（Ｅ″）との比をＥ′/E″
   ＜１とすることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】磁性層のヤング率（Ｅ″）が９×10¹⁰dyn/
   cm²以上である特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒
   体。
3. 【請求項３】六方晶系板状フェライト磁性粉がバリウム
   フェライト磁性粉である特許請求の範囲第１項又は第２
   項記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】磁気記録媒体がフロッピーディスクである
   特許請求の範囲第１項、第２項又は第３項記載の磁気記
   録媒体。