JPH0784442B2 - イソインド−ル誘導体、その製造方法及び除草剤 - Google Patents

イソインド−ル誘導体、その製造方法及び除草剤

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JPH0784442B2
JPH0784442B2 JP18289586A JP18289586A JPH0784442B2 JP H0784442 B2 JPH0784442 B2 JP H0784442B2 JP 18289586 A JP18289586 A JP 18289586A JP 18289586 A JP18289586 A JP 18289586A JP H0784442 B2 JPH0784442 B2 JP H0784442B2
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健司 萩原
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規な化合物、その製造方法及び該化合物を有
効成分として含有する除草剤に関するものである。
〔従来の技術〕
農園芸作物の栽培にあたり、多大の労力を必要としてき
た雑草防除に多くの除草剤が使用されるようになってき
た。しかし作物に薬害を生じたり、環境に残留し、汚染
したりすることから、より低い薬量で効果が確実でしか
も安全に使用できる薬剤の開発が望まれている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は、新規なイソインドール誘導体を工業的
に有利に製造し、作物−雑草間の選択性巾の広い、より
低い薬量で効果の確実な安全性の高い除草剤を提供する
ことである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は一般式 [式中、Xはハロゲン原子を、Rは式−COOR1で表わさ
れる基(式中、R1は水素原子又はシアノ基もしくは低級
アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい低級ア
ルキル基を示す。)又は式−Y−R2{式中、Yは0又は
Sを、R2は水素原子又はシアノ基、フェノキシ基、低級
アルコキシ基もしくは式−COOR3で表わされる基(式
中、R3はシクロアルキル基又は低級アルコキシカルボニ
ル基で置換されていてもよい低級アルキル基を示す。)
で置換されていてもよい脂肪族低級炭化水素基を示
す。}で表される基を示す。]で表される化合物、その
製造方法及び該化合物の1種又は2種以上を有効成分と
して含有する除草剤である。
本発明化合物は畑作条件で土壌処理、茎葉処理のいずれ
の処理方法においてもイヌビユ、アカザ、スゲリヒユ、
カヤツリグサ等の各種の雑草に高い除草活性を示し、ト
ウモロコシ、小麦、大豆、落花生等の作物に薬害が軽
く、なかでも大豆は本発明化合物に対し高い選択性を示
す。
また水稲に対しても高い選択性を示し、水田雑草のノビ
エ、タマガヤツリ、オモダカ等の雑草の発生前又は発生
後の処理で優れた殺草作用を示す。
また本化合物は果樹園、芝生、線路端、空き地等の雑草
の防除にも適用することができる。
本発明化合物は以下に示す方法により製造することがで
きる。
反応は有機溶媒中、もしくは無溶媒で縮合触媒の存在
下、70℃から200℃で1時間から数10時間行う。
有機溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン等通常
の溶媒が使用できる。縮合触媒としてはP−トルエンス
ルホン酸等のスルホン酸類、ジメチルアミノピリジン等
の3級アミン類等が使用できる。
一般式[II]で表わされる化合物は例えば下記反応式に
従って製造することができる。
また本発明化合物は一般式[I]におけるRの種類によ
って下記反応式に従って製造することができる。
Rが−COOR1の場合: (式中、Halはハロゲン原子を示す。) Rが−Y−R2の場合: さらに本発明化合物は下記反応式に従って製造すること
もできる。
いずれの方法で製造した場合も、反応終了後は通常の後
処理を行うことにより目的物を得ることができる。
本発明化合物の構造は、IR、NMR、MASS等から決定し
た。
〔実施例〕 次に実施例を挙げ、本発明化合物を更に詳細に説明す
る。
実施例1.2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−ヒドロ
キシフェニル)−3−メチレン−4,5,6,7−テトラヒド
ロイソインドール−1(2H)−オン(化合物番号8): 3−ヒドロキシ−3−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ
イソンベンゾフラン−1(3H)−オン4.50gと2−クロ
ロ−4−フルオロ−5−アミノフェノール4.33gをキシ
レン30mlに懸濁させた。これにp−トルエンスルホン酸
0.5gを加え、加熱して20時間共沸脱水した。
冷却後、反応混合物に2NNaOH水溶液30mlを加え、アルカ
リ可溶物とキシレンを分離し、アルカリ溶液を塩酸で中
和後析出する結晶を濾取、乾燥後酢酸エチルで再結晶
し、目的物6.9gを得た。
収率 88% m.p. 205〜206℃ 実施例2.2−[4−エトキシ−2−フルオロ−5−(2
−プロピニルオキシ)フェニル]−3−メチレン−4,5,
6,7−テトラヒドロイソインドール−1(2H)−オン
(化合物番号19): 2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−ヒドロキシフェ
ニル)−3−メチレン−4,5,6,7−テトラヒドロイソイ
ンドール−1(2H)−オン1gをアセトニトリル30ml炭酸
カリウム0.47gの懸濁液に加えた。この懸濁液にプロパ
ギルブロマイド0.41gを加え、1時間環流させた。
反応終了後固型物を濾別し、濾液のアセトニトリルを減
圧下留去し、残渣をエーテルにとかし、1N-NaOHで洗浄
し、エーテル層を水洗、乾燥(MgSO4)し、MgSO4を濾別
後、エーテルを減圧留去して、目的物1.07gを得た。
収率 95% m.p. 125〜126℃ 実施例3.2−[4−クロロ−2−フルオロ−5−(1−
メトキシカルボニルエチルチオ)フェニル]−3−メチ
レン−4,5,6,7−テトラヒドロイソインドール−1(2
H)−オン(化合物番号23): 3−ヒドロキシ−3−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ
イソベンゾフラン−1(3H)−オン1gと4−クロロ−2
−フルオロ−5−(1−メトキシカルボニルエチルチ
オ)アニリン1.57gを混合し、これにP−トルエンスル
ホン酸0.3gを加え、130℃で2時間反応させた。冷却
後、反応混合物をカラムクロマトグラフィーで精製し、
淡黄色、油状物として目的物20gを得た。収率 85%
▲n20 D▼1.5880 参考例.3−ヒドロキシ−3−メチル−4,5,6,7−テトラ
ヒドロイソベンゾフラン1−(3H)の合成: 3,4,5,6−テトラヒドロフタル酸無水物10gをピリジン10
mlに溶解し、これにマロン酸10.3gを室温で加えた後、6
0〜70℃で24時間反応させた。反応終了後、反応混合物
をピリジンと等モルの塩酸を含む氷水中にあけ、析出す
る結晶を濾取した。母液をクロロホルムで抽出し、水
洗、乾燥後クロロホルムを留去し、残渣を前述の結晶と
いっしょにし、トルエンより再結した。
収量 8.90g 収率 80% m.p. 110〜111℃ 次に本発明化合物の代表例を第1表に示す。
〔問題点を解決するための手段−除草剤〕 本発明除草剤は、前記一般式[I]で示される化合物の
1又は2以上を有効成分として含有し、通常の農薬と同
様の形態を有する。即ち、有効成分化合物は一般に適当
な量を担体と混合して水和剤、乳剤、粒剤、水溶剤、フ
ロアブル剤等の形に製剤して使用される。固体担体とし
てはタルク、ホワイトカーボン、ベントナイト、クレ
イ、ケイソウ土等が挙げられ、液体担体としては水、ア
ルコール、ベンゼン、キシレン、ケロシン、鉱油、シン
クロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミ
ド等が用いられる。これらの製剤において均一且つ安定
な形態をとるために必要ならば界面活性剤を添加するこ
ともできる。
本発明除草剤における有効成分濃度は前述した製剤の形
により種々の濃度に変化するものであるが、例えば、水
和剤においては5〜70%、好ましくは10〜30%:乳剤に
おいては3〜70%好ましくは5〜20%:粒剤においては
0.01〜30%、好ましくは0.05〜10%の濃度が用いられ
る。
この様にして得られた水和剤、乳剤は水で所定の濃度に
希釈して懸濁液或るいは乳濁液として、粒剤はそのまま
雑草の発芽前または発芽後に土壌に散布処理若しくは混
和処理される。実際に本発明除草剤を適用するにあたっ
ては10アール当り有効成分1g以上の適当量が施用され
る。
また本発明除草剤は公知の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、
除草剤、植物生長調整剤等と混合して使用することもで
きる。特に除草剤と混合使用することにより、使用薬量
を減少させまた省力化をもたらすのみならず、混合薬剤
の相乗作用による一層高い効果も期待できる。その場合
複数の公知除草剤との組み合わせも可能である。本発明
除草剤と混合使用するにふさわしい薬剤としては、ベン
チオカーブ、モリネート、MY-93〔S−(2,2−ジメチル
ベンジル)1−ピペリジンカルボチオエート〕等のカー
バメイト系除草剤、チオカーバメイト系除草剤、ブタク
ロール、プレチラクロール等の酸アミド系除草剤、クロ
メトキシニル、ビフェノックス等のジフェニルエーテル
系除草剤、ピラゾレート、ピラゾキシフェン等のピラゾ
ール系除草剤、クロルスルフロン、スルホメチュロン−
メチル等のスルホニルウレア系除草剤、MCP、MCPB等の
フェノキシアルカンカルボン酸系除草剤、ジクロホップ
−メチル等のフェノキシフェノキシプロピオン酸系除草
剤、フルアジホップブチル等のピリジルオキシフェノキ
シプロピオン酸系除草剤、その他としてピペロホス、ダ
イムロン、ベンタゾン、オキサジアゾン、NTN-801(2
−ベンゾチアゾール−2−イルオキシ−N−メチルアセ
トアニリド)、ナプロアニリド、HW-52(4−エトキシ
メトキシベンズ−2′,3′−ジクロルアニライド)、KN
W-242〔1−(3−メチルフェニル)−5−フェニル−1
H−1,2,4−トリアゾール−3−カルボキサミド〕、S−
47〔N−2,2−ジメチルベンジル)−d−ブロモタ−シ
ャリ−ブチルアセトアミド、セトキシジム、アロキシジ
ム−ソディウム等のシクロヘキサンジオン系の除草剤等
があげられる。またこれらの組合せたものに植物油及び
油濃縮物を添加することもできる。
〔実施例−除草剤〕
次に本発明除草剤に関する製剤例を若干示すが有効成分
化合物、添加物及び添加割合は本実施例にのみ限定され
ることなく広い範囲で変更可能である。
実施例4 水和剤 本発明化合物1 20部 ホワイトカーボン 20部 ケイソウ土 52部 アルキル硫酸ソーダ 8部 以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分20%の水
和剤を得た。
実施例5 乳剤 本発明化合物23 20部 キシレン 55部 ジメチルホルムアミド 15部 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10部 以上を混合、溶解して有効成分20%の乳剤を得た。
実施例6 水和剤 本発明化合物19 5部 タルク 40部 クレー 38部 ベントナイト 10部 アルキル硫酸ソーダ 7部 以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径0.5〜1.0mmの
粒状に造粒して有効成分5%の粒剤を得た。
〔発明の効果〕
次に本発明除草剤の効果に関する試験例を示す。
試験例1 150cm2のポットに水田土壌を詰め、ノビエ、タマガヤツ
リ、オモダカ、ホタルイの種子を播き、マツバイは幼植
物を移植し、軽く覆土し、2〜3葉期のイネ(品種:日
本晴)1株(2本)を移植した。翌日2〜3cmの水深を
保ち、各化合物の粒剤を所定の薬量処理し、温室内で生
育させた。葉剤処理後3週間目にイネと各雑草の生育状
況を下記の基準に従って調査し、第2表に示す結果を得
た。
調査基準 殺草率 指数 0% 0 20〜29% 2 40〜49% 4 60〜69% 6 80〜89% 8 100% 10 また1,3,5,7,9の数値は、各々0と2、2と4と6、6
と8、8と10の中間の値を示す。
試験例2 250cm2ポットに土壌を充填し、表層にイチビ、アカザ、
イヌビユ、スベリヒユ、大豆の種子を播き、種子が見え
ない程度に覆土した。直ちに各供試化合物の乳剤を水で
希釈して調整した所定濃度の薬液を100l/10aの割合で小
型噴霧器で土壌表面に散布処理し、温室内で生育させ
た。毎日土壌表面が湿る程度に如露で散水した。薬剤散
布後3週間目に各雑草の生育状況を試験例1と同様の基
準で調査し、その結果を第3表に示す。
試験例3 200cm2ポットに土壌を充填し、表層にメヒシバ、カヤツ
リグサ、イチビ、イヌビユの各種子を播き、軽く覆土後
温室内で生育させた。各雑草が3〜15cmの草丈に生育し
た時点で各供試化合物の乳剤を水で希釈して調整した薬
液を100l/10aの割合で小型噴霧器にて雑草の茎葉部に散
布した。3週間後に雑草の生育状況を試験例1と同様の
基準で調査し、その結果を第4表に示す。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 [式中、Xはハロゲン原子を、Rは式−COOR1で表わさ
    れる基(式中、R1は水素原子又はシアノ基もしくは低級
    アルコキシカルボニル基で置換されていてもよい低級ア
    ルキル基を示す。)又は式−Y−R2{式中、YはO又は
    Sを、R2は水素原子又はシアノ基、フェノキシ基、低級
    アルコキシ基もしくは式−COOR3で表わされる基(式
    中、R3はシクロアルキル基又は低級アルコキシカルボニ
    ル基で置換されていてもよい低級アルキル基を示す。)
    で置換されていてもよい脂肪族低級炭化水素基を示
    す。}で表される基を示す。]で表わされる化合物。
  2. 【請求項2】式 で表される−3−ヒドロキシ−3−メチル−4,5,6,7−
    テトラヒドロイソベンゾフラン−1(3H)−オンと一般
    [式中、Xはハロゲン原子を、Rは式−COOR1で表され
    る基(式中、R1は水素原子又はシアノ基もしくは低級ア
    ルコキシカルボニル基で置換されていてもよい低級アル
    キル基を示す。)又は式−Y−R2{式中、YはO又はS
    をR2は水素原子又はシアノ基、フェノキシ基、低級アル
    コキシ基もしくは式−COOR3で表わされる基(式中、R3
    はシクロアルキル基又は低級アルコキシカルボニル基で
    置換されていてもよい低級アルキル基を示す。)で置換
    されていてもよい脂肪族低級炭化水素基を示す。}で表
    わされる基を示す。]で表わされる化合物とを反応され
    ることを特徴とする一般式 (式中、XおよびRは前記と同じ意味を示す。)で表わ
    される化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】一般式 [式中、Xはハロゲン原子を、Rは式−COOR1で表され
    る基(式中、R1は水素原子又はシアノ基もしくは低級ア
    ルコキシカルボニル基で置換されていてもよい低級アル
    キル基を示す。)又は式−Y−R2{式中、YはO又はS
    を、R2は水素原子又はシアノ基、フェノキシ基、低級ア
    ルコキシ基もしくは式−COOR3で表わされる基(式中、R
    3はシクロアルキル基又は低級アルコキシカルボニル基
    で置換されていてもよい低級アルキル基を示す。)で置
    換されていてもよい脂肪族低級炭化水素基を示す。}で
    表わされる基を示す。]で表わされる化合物の1種又は
    2種以上を有効成分として含有することを特徴とする除
    草剤。
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JPS6339859A JPS6339859A (ja) 1988-02-20
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