JPH07243032A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPH07243032A JPH07243032A JP3726294A JP3726294A JPH07243032A JP H07243032 A JPH07243032 A JP H07243032A JP 3726294 A JP3726294 A JP 3726294A JP 3726294 A JP3726294 A JP 3726294A JP H07243032 A JPH07243032 A JP H07243032A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic
- support
- film forming
- recording medium
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 大電力を必要とせず、小電力で金属薄膜を形
成できる技術を提供することである。 【構成】 容器に入れられた材料を蒸発させ、支持体に
堆積させることにより薄膜を構成する薄膜形成装置であ
って、前記容器に入れられた材料を蒸発させる手段が電
界放射電子源を有する装置である薄膜形成装置。
成できる技術を提供することである。 【構成】 容器に入れられた材料を蒸発させ、支持体に
堆積させることにより薄膜を構成する薄膜形成装置であ
って、前記容器に入れられた材料を蒸発させる手段が電
界放射電子源を有する装置である薄膜形成装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気記録媒体の
製造装置に関するものである。
製造装置に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】すなわち、無電解メッキといった湿式メッ
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。特に、蒸着手段により磁性
膜を構成する手段は、スパッタリングによる場合よりも
成膜速度が速いことから好ましいものであると言われて
いる。
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。特に、蒸着手段により磁性
膜を構成する手段は、スパッタリングによる場合よりも
成膜速度が速いことから好ましいものであると言われて
いる。
【０００４】このような蒸着手段による磁気記録媒体の
製造装置は、図３に示す如く構成されているものが一般
的である。尚、図３中、３１は冷却キャンロール、３２
ａはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム３
３の供給側ロール、３２ｂはＰＥＴフィルム３３の巻取
側ロール、３４は遮蔽板、３５はルツボ、３６は磁性合
金、３７は真空容器である。
製造装置は、図３に示す如く構成されているものが一般
的である。尚、図３中、３１は冷却キャンロール、３２
ａはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム３
３の供給側ロール、３２ｂはＰＥＴフィルム３３の巻取
側ロール、３４は遮蔽板、３５はルツボ、３６は磁性合
金、３７は真空容器である。
【０００５】そして、真空容器３７内を所定の真空度と
なるように排気した後、熱電子源による電子線加熱、誘
導加熱あるいは抵抗加熱と言った手段によりルツボ３５
内の磁性合金３６を加熱・溶融、そして蒸発させ、ＰＥ
Ｔフィルム３３に対して磁性合金３６を堆積（蒸着）さ
せることによって磁気記録媒体が製造されている。とこ
ろで、このような製造方法にあっては、磁性合金３６の
加熱・溶融、そして蒸発に大電力を必要とし、コスト面
での問題が有り、改善が待たれている。
なるように排気した後、熱電子源による電子線加熱、誘
導加熱あるいは抵抗加熱と言った手段によりルツボ３５
内の磁性合金３６を加熱・溶融、そして蒸発させ、ＰＥ
Ｔフィルム３３に対して磁性合金３６を堆積（蒸着）さ
せることによって磁気記録媒体が製造されている。とこ
ろで、このような製造方法にあっては、磁性合金３６の
加熱・溶融、そして蒸発に大電力を必要とし、コスト面
での問題が有り、改善が待たれている。
【０００６】又、磁性合金３６の加熱・溶融、そして蒸
発に用いられた熱電子が散乱し、この散乱電子がＰＥＴ
フィルムに付くことが多く、この結果ＰＥＴフィルムが
冷却キャンロール３１に貼り付き、走行性が低下してし
まい、磁性膜が均一に形成されず、均一な特性の磁気記
録媒体が効率良く得られないと言った問題点の有ること
も判って来た。
発に用いられた熱電子が散乱し、この散乱電子がＰＥＴ
フィルムに付くことが多く、この結果ＰＥＴフィルムが
冷却キャンロール３１に貼り付き、走行性が低下してし
まい、磁性膜が均一に形成されず、均一な特性の磁気記
録媒体が効率良く得られないと言った問題点の有ること
も判って来た。
【０００７】
【発明の開示】本発明の第１の目的は、大電力を必要と
せず、小電力で金属薄膜を形成できる技術を提供するこ
とである。本発明の第２の目的は、金属薄膜の形成作業
に際して支持体の走行性を低下せしめず、均一な特性の
金属薄膜を製造歩留り良く提供できる技術を提供するこ
とである。
せず、小電力で金属薄膜を形成できる技術を提供するこ
とである。本発明の第２の目的は、金属薄膜の形成作業
に際して支持体の走行性を低下せしめず、均一な特性の
金属薄膜を製造歩留り良く提供できる技術を提供するこ
とである。
【０００８】この本発明の目的は、容器に入れられた材
料を蒸発させ、支持体に堆積させることにより薄膜を構
成する薄膜形成装置であって、前記容器に入れられた材
料を蒸発させる手段が電界放射電子源を有する装置であ
ることを特徴とする薄膜形成装置によって達成される。
特に、容器に入れられた材料を蒸発させ、供給手段と巻
取手段との間を走行する支持体に堆積させることにより
薄膜を構成する薄膜形成装置であって、前記容器に入れ
られた材料を蒸発させる手段が電界放射電子源を有する
装置であることを特徴とする薄膜形成装置によって達成
される。
料を蒸発させ、支持体に堆積させることにより薄膜を構
成する薄膜形成装置であって、前記容器に入れられた材
料を蒸発させる手段が電界放射電子源を有する装置であ
ることを特徴とする薄膜形成装置によって達成される。
特に、容器に入れられた材料を蒸発させ、供給手段と巻
取手段との間を走行する支持体に堆積させることにより
薄膜を構成する薄膜形成装置であって、前記容器に入れ
られた材料を蒸発させる手段が電界放射電子源を有する
装置であることを特徴とする薄膜形成装置によって達成
される。
【０００９】そして、上述の如く構成させることによっ
て、材料の加熱・溶融、そして蒸発に大電力を必要とせ
ず、コスト面で極めて有利である。かつ、加熱・溶融、
そして蒸発に用いられた電子の散乱現象が少なく、従っ
て散乱電子が走行する支持体に付くことも少なく、この
結果走行性が低下することも稀であり、均一な薄膜が形
成され、例えば良好な磁気記録媒体を製造歩留り良く得
られる。すなわち、記録・再生特性に優れた高品質な磁
気記録媒体を効率良く得ることができる。
て、材料の加熱・溶融、そして蒸発に大電力を必要とせ
ず、コスト面で極めて有利である。かつ、加熱・溶融、
そして蒸発に用いられた電子の散乱現象が少なく、従っ
て散乱電子が走行する支持体に付くことも少なく、この
結果走行性が低下することも稀であり、均一な薄膜が形
成され、例えば良好な磁気記録媒体を製造歩留り良く得
られる。すなわち、記録・再生特性に優れた高品質な磁
気記録媒体を効率良く得ることができる。
【００１０】
【実施例】図１及び図２は本発明の薄膜形成装置の一実
施例を示すもので、図１は薄膜形成装置全体の概略図、
図２は薄膜形成装置の要部（電界放射電子源を具備した
電子銃）の概略図である。各図中、１は冷却キャンロー
ル、２ａは非磁性の支持体３の供給側ロール、２ｂは支
持体３の巻取側ロール、４は防着板、５はルツボ、６は
磁性金属、７は冷陰極電界放射電子源を具備した電子
銃、８は真空容器である。尚、真空容器８内を高真空度
のものにする為の真空ポンプは図示していない。
施例を示すもので、図１は薄膜形成装置全体の概略図、
図２は薄膜形成装置の要部（電界放射電子源を具備した
電子銃）の概略図である。各図中、１は冷却キャンロー
ル、２ａは非磁性の支持体３の供給側ロール、２ｂは支
持体３の巻取側ロール、４は防着板、５はルツボ、６は
磁性金属、７は冷陰極電界放射電子源を具備した電子
銃、８は真空容器である。尚、真空容器８内を高真空度
のものにする為の真空ポンプは図示していない。
【００１１】支持体３は非磁性のものであり、この支持
体３はＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレ
ン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化
ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラスやセラミッ
ク等の無機系材料、アルミニウム合金などの金属材料が
用いられる。そして、支持体３面上には磁性薄膜の密着
性を向上させる為のアンダーコート層が設けられてい
る。すなわち、表面の粗さを適度に粗すことにより、例
えば斜め蒸着法により構成される磁性薄膜の密着性を向
上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適度なも
のとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子
を含有させた厚さが０．００５〜０．１μｍの塗膜を設
けることによってアンダーコート層が構成されている。
体３はＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリプロピレ
ン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化
ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラスやセラミッ
ク等の無機系材料、アルミニウム合金などの金属材料が
用いられる。そして、支持体３面上には磁性薄膜の密着
性を向上させる為のアンダーコート層が設けられてい
る。すなわち、表面の粗さを適度に粗すことにより、例
えば斜め蒸着法により構成される磁性薄膜の密着性を向
上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適度なも
のとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子
を含有させた厚さが０．００５〜０．１μｍの塗膜を設
けることによってアンダーコート層が構成されている。
【００１２】ルツボ５に充填される磁性金属としては、
例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合
金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたも
の等が挙げられる。
例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合
金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたも
の等が挙げられる。
【００１３】電子銃７は、図２に示される構成のもので
あり、小電力での使用が可能で、電子の散乱現象が少な
く、従って散乱電子が走行する支持体に付くことも少な
いタイプのものである。尚、図２中、７ａは冷凍器、７
ｂは電子線収束用の電磁レンズである。上記のように構
成させた装置において、真空容器８内を１０-4〜１０-6
Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排
気した後、電子銃７によりルツボ５内の磁性金属６を蒸
発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体３に対して磁性金属
６を蒸着させることによって金属薄膜型の磁気記録媒体
が製造される。
あり、小電力での使用が可能で、電子の散乱現象が少な
く、従って散乱電子が走行する支持体に付くことも少な
いタイプのものである。尚、図２中、７ａは冷凍器、７
ｂは電子線収束用の電磁レンズである。上記のように構
成させた装置において、真空容器８内を１０-4〜１０-6
Ｔｏｒｒ程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排
気した後、電子銃７によりルツボ５内の磁性金属６を蒸
発させ、ＰＥＴフィルム等の支持体３に対して磁性金属
６を蒸着させることによって金属薄膜型の磁気記録媒体
が製造される。
【００１４】尚、この磁性薄膜の形成に際しては、ノズ
ルから酸素ガスが磁性金属６の蒸着部分に吹き付けら
れ、磁性薄膜の表層部分が強制酸化させられる。このよ
うにして磁性薄膜が形成され、そして酸化処理が施さ
れ、巻取側ロール２ｂに巻き取られる。この後、巻取側
ロール２ｂを取り出し、そして平均粒径２０ｎｍのカー
ボンブラック及び塩化ビニル系樹脂とウレタンプレポリ
マーとからなるバインダ樹脂を分散させてなるバックコ
ート用の塗料をダイレクトグラビア法により磁性層とは
反対側の支持体３に塗布し、乾燥厚さが０．５μｍのバ
ックコート層を設ける。
ルから酸素ガスが磁性金属６の蒸着部分に吹き付けら
れ、磁性薄膜の表層部分が強制酸化させられる。このよ
うにして磁性薄膜が形成され、そして酸化処理が施さ
れ、巻取側ロール２ｂに巻き取られる。この後、巻取側
ロール２ｂを取り出し、そして平均粒径２０ｎｍのカー
ボンブラック及び塩化ビニル系樹脂とウレタンプレポリ
マーとからなるバインダ樹脂を分散させてなるバックコ
ート用の塗料をダイレクトグラビア法により磁性層とは
反対側の支持体３に塗布し、乾燥厚さが０．５μｍのバ
ックコート層を設ける。
【００１５】そして、フッ素パーフルオロポリエーテル
（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＩＡＣ カルボキシ
ル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体
（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に
０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方
式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう磁性面に
塗布し、１００℃で乾燥させる。
（グレード：ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＩＡＣ カルボキシ
ル基変性、日本モンテジソン社製）をフッ素不活性液体
（フロリナート、ＦＣ−８４、住友スリーエム社製）に
０．１％となるよう希釈・分散させた塗料をダイ塗工方
式により乾燥後の厚さが２０Å程度となるよう磁性面に
塗布し、１００℃で乾燥させる。
【００１６】この後、所定の幅にスリットし、磁気テー
プなどにする。ところで、上記電子銃７の代わりに従来
の熱電子源を具備した電子銃を用いて同様に磁気テープ
を作製した。尚、両者を厳格に対比する為、電子銃に供
給する電力は１０ｋＶ、支持体３の走行速度を１００ｍ
／ｓとした。すなわち、電子銃を冷陰極電界放射電子源
を具備したものか熱電子源を具備したものかの差のみと
した。
プなどにする。ところで、上記電子銃７の代わりに従来
の熱電子源を具備した電子銃を用いて同様に磁気テープ
を作製した。尚、両者を厳格に対比する為、電子銃に供
給する電力は１０ｋＶ、支持体３の走行速度を１００ｍ
／ｓとした。すなわち、電子銃を冷陰極電界放射電子源
を具備したものか熱電子源を具備したものかの差のみと
した。
【００１７】このようにして得られた磁気記録媒体にお
いて、磁性膜の厚さは本実施例のものが２８００Åであ
るのに対して比較例のものが２０００Åであり、又、加
熱・溶融、そして蒸発に用いられた電子の散乱と言った
現象が少ないからと考えたのであるが、本実施例の場合
には支持体の走行性が良く、均一な薄膜が形成され、例
えば磁性膜の厚さが１％以内の変動しかないのに対し
て、比較例のものでは磁性膜の厚さが５０％もの変動も
有った。
いて、磁性膜の厚さは本実施例のものが２８００Åであ
るのに対して比較例のものが２０００Åであり、又、加
熱・溶融、そして蒸発に用いられた電子の散乱と言った
現象が少ないからと考えたのであるが、本実施例の場合
には支持体の走行性が良く、均一な薄膜が形成され、例
えば磁性膜の厚さが１％以内の変動しかないのに対し
て、比較例のものでは磁性膜の厚さが５０％もの変動も
有った。
【００１８】すなわち、本発明によれば、小電力でもっ
て磁性膜の形成が行え、そして加熱・溶融、蒸発に用い
た電子の散乱と言った現象が少ない為に散乱電子の支持
体への付着が少なく、支持体の走行性を低下せしめるこ
とが少なく、均一な磁性膜が形成されるようになる。す
なわち、記録・再生特性に優れた高品質な磁気記録媒体
を効率良く得ることができる。
て磁性膜の形成が行え、そして加熱・溶融、蒸発に用い
た電子の散乱と言った現象が少ない為に散乱電子の支持
体への付着が少なく、支持体の走行性を低下せしめるこ
とが少なく、均一な磁性膜が形成されるようになる。す
なわち、記録・再生特性に優れた高品質な磁気記録媒体
を効率良く得ることができる。
【００１９】
【効果】本発明によれば、記録・再生特性に優れた高品
質な磁気記録媒体を効率良く得ることができる。
質な磁気記録媒体を効率良く得ることができる。
【図１】本発明の薄膜形成装置（磁気記録媒体製造装
置）全体の概略図
置）全体の概略図
【図２】本発明の薄膜形成装置の要部（電界放射電子源
を具備した電子銃）の概略図
を具備した電子銃）の概略図
【図３】従来の磁気記録媒体製造装置の概略図
１ 冷却キャンロール ２ａ 供給側ロール ２ｂ 巻取側ロール ３ 支持体 ５ ルツボ ６ 磁性金属 ７ 冷陰極電界放射電子源を具備した電子銃 ８ 真空容器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若林 繁美 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 容器に入れられた材料を蒸発させ、支持
体に堆積させることにより薄膜を構成する薄膜形成装置
であって、前記容器に入れられた材料を蒸発させる手段
が電界放射電子源を有する装置であることを特徴とする
薄膜形成装置。 - 【請求項２】 薄膜が構成される支持体は供給手段と巻
取手段との間を走行するよう構成されてなることを特徴
とする請求項１の薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3726294A JPH07243032A (ja) | 1994-03-08 | 1994-03-08 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3726294A JPH07243032A (ja) | 1994-03-08 | 1994-03-08 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07243032A true JPH07243032A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=12492754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3726294A Pending JPH07243032A (ja) | 1994-03-08 | 1994-03-08 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07243032A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2113584A1 (en) * | 2008-04-28 | 2009-11-04 | LightLab Sweden AB | Evaporation system |
-
1994
- 1994-03-08 JP JP3726294A patent/JPH07243032A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2113584A1 (en) * | 2008-04-28 | 2009-11-04 | LightLab Sweden AB | Evaporation system |
| WO2009132769A1 (en) * | 2008-04-28 | 2009-11-05 | Lightlab Sweden Ab | Evaporation system |
| JP2011518954A (ja) * | 2008-04-28 | 2011-06-30 | ライトラブ・スウェーデン・エービー | 蒸着システム |
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