JPH0797689A - 金属薄膜の製造装置 - Google Patents

金属薄膜の製造装置

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JPH0797689A
JPH0797689A JP24467493A JP24467493A JPH0797689A JP H0797689 A JPH0797689 A JP H0797689A JP 24467493 A JP24467493 A JP 24467493A JP 24467493 A JP24467493 A JP 24467493A JP H0797689 A JPH0797689 A JP H0797689A
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JP
Japan
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vapor
metal
thin film
coat layer
electron beam
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Pending
Application number
JP24467493A
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English (en)
Inventor
Noriyuki Kitaori
典之 北折
Osamu Yoshida
修 吉田
Hirohide Mizunoya
博英 水野谷
Akira Shiga
章 志賀
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ゴミ付着の問題を解消した高性能のバックコ
ート層を形成できるバックコート層形成装置を提供する
こと。 【構成】 本発明装置は、真空容器と、バックコート層
を形成するべく前記真空容器内に配置された一連の被蒸
着材を走行させる走行装置と、被蒸着材の下方に配設さ
れたルツボと、該ルツボの金属材料に電子ビームを照射
するための電子ビーム発生装置と、酸化性ガスを供給す
るための酸化性ガス供給装置とを含み、前記走行装置
は、一連の被蒸着材が波状に走行するように配置されて
いる複数の案内ロールを具備することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被蒸着材に金属材料の
蒸気を蒸着して金属の薄膜を形成するための装置に関す
る。特に、磁気記録媒体のバックコート層の形成に有効
であるものに関する。
【0002】
【従来の技術】蒸着型の磁気記録媒体の一つである蒸着
テープは、鉄、ニッケル、コバルトなどの強磁性体の蒸
気をフィルムベース面に付着させて作ったテープであ
る。このようにして作られた蒸着テープは、塗布型のテ
ープに必要とされるバインダを要しないので、薄膜の磁
性層を高充填度で生成することができ、高域特性の改善
とテープの薄形化が達せられる。
【0003】この蒸着テープにおけるバックコート層
は、テープ裏面の摩擦係数を高めるためのもので、これ
によりテープの乱巻の防止等に効果がある。
【0004】従来においては、蒸着テープにおいても、
バックコート層は、金属粉、バインダーレジン、微量添
加物などからなる塗料を塗布して形成される。この場
合、バックコート層を先に塗布してから、磁性層を真空
蒸着すると、真空容器内でバックコート層からの脱ガス
(バインダーレジンから発生する)を生じ、真空度が落
ちる結果、蒸着がうまくいかない。
【0005】そこで、従来においては、先に真空中で磁
性層を蒸着したのち、大気中にテープを取出してから、
バックコート層を塗布している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法で
は、バックコート層を塗布する工程で、磁性層が汚れた
り、バックコート層にゴミが付着したりして、ドロップ
アウト検査(磁気テープを検査用のカセットデッキに入
れて一定の信号を記録しつつ再生し、テープ表面の傷や
異物の付着などによる再生信号の欠落であるところのド
ロップアウトを検出する検査)において、ドロップアウ
ト数を増加させるという問題点があった。
【0007】また、バックコート層に含まれるカーボン
は導電性は良好であるが、塗布型において必要なバイン
ダーを入れるため、導電性が低下してしまい、帯電防止
効果が低下するという問題点があった。
【0008】本発明は、このような実情に鑑み、被蒸着
材の磁性層蒸着面と反対側の面にバックコート層を形成
するに際し、ゴミの付着の問題を解決でき、しかも性能
面でも十分な性能が得られるようにすることを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の金属薄膜の製造
装置は、真空容器と、金属薄膜を形成するべく前記真空
容器内に配置された一連の被蒸着材を走行させる走行装
置と、被蒸着材の下方に配設され金属薄膜を形成するた
めの金属材料を収容するルツボと、該ルツボの金属材料
に電子ビームを照射するための電子ビーム発生装置と、
電子ビームの照射により発生する金属材料の蒸気に酸化
性ガスを供給するための酸化性ガス供給装置とを含み、
前記走行装置は、一連の被蒸着材が波状に走行するよう
に配置されている複数の案内ロールを具備することを特
徴とする。
【0010】そして、前記案内ロールは、垂直方向に可
動であることが好ましい。
【0011】また、前記案内ロールを低周波振動させる
こともできる。
【0012】本発明においては、磁性層と同様、バック
コート層を真空蒸着により形成する。このようにバック
コート層を真空中で形成することにより、ゴミの付着等
の問題が解決される。なお、磁性層とバックコート層の
真空蒸着は、連続する一連の工程により行なってもよい
し、また工程を分けて一方の蒸着後にロールに巻取って
からそのロールから巻出して他方の蒸着を行なうように
してもよい。分けて行なう場合に、途中で被蒸着材が大
気中に置かれるとしても、大気中ではロールに巻いたま
まで巻出さなければ、ゴミの付着等の問題は生じない。
【0013】バックコート層を真空蒸着により形成した
場合、表面粗さ(Ra)が例えば1〜2nm(ナノメー
トル)と大変平滑になるので、摩擦係数が0.6〜1.
0と高くなり、その結果走行安定性が悪くなる。そこ
で、バックコート層の摩擦係数をコントロールするため
に、本発明の形成装置に備る走行装置は、一連の被蒸着
材が波状に走行するように複数の案内ロールが配置され
ているものである。こうすることにより、被蒸着材に対
する蒸発金属の入射角並びにルツボとの距離を変えるこ
とができるので、蒸発金属のエネルギや粒形を異ならせ
ることができる。その結果、バックコート層の表面粗さ
を望ましい範囲にすることができ、例えばRa=10〜
30nmに調整し、摩擦係数を0.1〜0.3にするこ
とが可能である。
【0014】また、案内ロールを上下に移動させたり、
案内ロールに低周波振動(数百Hz〜1KHz)を与え
ることによっても入射角やルツボとの距離を変えること
ができるので、同じような効果を得ることができる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づき説明
する。
【0016】図1は、本発明による金属薄膜の製造装置
の構成図である。本装置は、真空容器1と、一連の被蒸
着材、すなわち合成樹脂製テープ5と、走行装置2と、
ルツボ3と、電子ビーム発生装置4と、そして酸化性ガ
ス供給装置20とを含んでいる。真空容器1は、図示し
ない真空ポンプに接続され、この真空容器内にテープ5
が配置されている。このテープ5は、磁性層を形成する
面11と反対側の面12に金属の薄膜を形成するべく配
置されている。また、この真空容器内には一連のテープ
5を走行させる走行装置2が配設されている。走行装置
2は、送りロール6と、巻取りロール7と、一連の案内
ロール13と、そして冷却キャン8からなっている。ル
ツボ3はテープ5の下方に配設された融解槽9を備え、
その融解槽内に金属材料、すなわちAl金属10を収容
している。電子ビーム発生装置4は電子銃21を備え、
この電子銃21から電子ビームを発射し、この電子ビー
ムを融解槽9のAl金属10に照射するようになってい
る。2つの酸化性ガス供給装置20は、酸素ガス供給源
18と、この供給源18に接続された導入管14と、こ
の導入管14に配設された流量制御弁13と、前記導入
管14に接続された酸素ガス供給管19とからなってい
る。酸素ガス供給管19は、電子ビームの照射により発
生する金属材料の蒸気に酸化性ガスを供給するべく備っ
ている。
【0017】一連の案内ロール13は、一連のテープ5
が波状に走行するように複数配置されている。これら案
内ロール13は、また垂直方向に可動にされ、これによ
りテープ5に対する蒸着粒子の入射角、並びにルツボと
の距離を適当に調節することができるようになってい
る。
【0018】冷却用のエンドレステープ15が、テープ
5に当接して一連の案内ロール13を走行するように、
配置されている。このエンドレステープ15は、冷却キ
ャン8にも当接しており、テープ5と冷却キャン8との
間で熱交換を行なうようになっている。
【0019】Al金属蒸気のテープ5に対する蒸着領域
を規制するための遮蔽板24が一連の案内ロール13の
両側に配設され、また案内ロール13にAl金属蒸気が
付着するのを阻止するためのマスク16が案内ロール1
3の下面側に配置されている。
【0020】このように構成された本発明装置におい
て、電子銃21により電子ビームをAl金属10に向け
照射した場合、Al金属10は電子ビームの照射を受け
て溶融し、蒸発を続ける。送りロール6より送り出され
てこの蒸発領域内に入ったテープ5は、Al金属蒸気の
蒸着を受けながら案内ロール13により案内されて波状
に走行し、その間に金属膜がテープ5上に形成される。
また、このテープ5は2方向からの酸素ガス供給管19
により酸素が供給される。供給管19からの酸素ガス
は、Al金属の蒸気中に拡散するように吹き出され、こ
の酸素ガスはAl金属の蒸気の一部と結合し、Al金属
の原子と一定の割合で混ざり、テープ面に酸素原子を含
んだ結晶粒子からなる金属層を形成する。この酸素原子
は、金属層の摩擦係数をコントロールするように、すな
わち走行安定性を向上するように作用する。このように
して金属膜が形成され、巻取りロール7により巻取られ
る。
【0021】(実施例)先ず、厚さ9.8μm(マイク
ロメートル)のPET(ポリエチレンテレフタレート)
フィルムの上に、真空蒸着により、Co−Ni合金(8
0%−20%)を1500オングストローム付着させ、
このようにして磁性層を形成した磁気テープをロールに
巻取った。
【0022】次に、ロールに巻取った磁気テープを図1
に示す装置にかけて、この磁気テープの裏面にAl金属
を1000オングストローム付着させ、バックコート層
を形成した。
【0023】その後、磁気テープを大気中に取出し、8
mm幅に裁断し、8mmのカセットに挿入してドロップ
アウトを測定した。なお、ドロップアウトの測定は、ド
ロップアウトカウンタを用い、10μsの間に−16d
B出力が低下したものをドロップアウトとした。
【0024】(比較例1)比較例1として、粒径20n
mのものと60nmのものとを1:1に混合したカーボ
ンを、塩化ビニルとウレタンとを1:1に混合したバイ
ンダー中に分散させた塗料を用い、実施例と同じ磁性層
蒸着済みのフィルムに、バックコート層として厚さ0.
5μmになるように塗布した。そして、実施例と同様に
ドロップアウトを測定した。
【0025】測定結果は、実施例が、DO=8コ/分、
比較例が、DO=11コ/分、であった。従って、3割
ほど実施例が比較例よりも低くなっている。この理由と
して、実施例ではゴミの付着が防止できたためと考えら
れる。
【0026】(比較例2)比較例2として、図1の案内
ロール13と酸化性ガス供給装置20とを除いた図2に
示す装置を用いてバックコート層を形成した。図2にお
いて、図1と同一の符号は、同一の部材を示す。
【0027】測定結果は、実施例(図1の装置)が、R
a=15nm、摩擦係数μ=0.2、比較例2(図2の
装置)が、Ra= 2nm、 μ=0.8、であ
った。これをみると、実施例では、比較例2に比べ、摩
擦係数が1/4程度となり、望ましい数値範囲となって
いることがわかる。
【0028】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば真空
中にて、バックコート層を蒸着により形成するため、ゴ
ミの付着等の問題が解消される。
【0029】また、バックコート層を単なる真空蒸着に
より形成すると、表面が平滑すぎて走行安定性が悪くな
るが、本発明装置に備る案内ロールにより被蒸着材を案
内しまた蒸着するときに酸素を導入して、バックコート
層の摩擦係数をコントロールすることにより、走行安定
性も維持できる。しかも、酸素を導入することにより、
表面粗さをコントロールするばかりでなく、耐食性をも
向上できる。
【0030】また、酸素を導入することにより、金属結
合が弱まって、導電性が低下するが、抵抗値を決めて、
酸素導入量を規制することにより、導電性も維持でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による金属薄膜の製造装置の構成図。
【図2】本発明装置に備る案内ロールと酸化性ガス供給
装置を具備しない蒸着装置の構成図。
【符号の説明】
1 真空容器 2 走行装置 3 ルツボ 4 電子ビーム発生装置 5 テープ(被蒸着材) 8 冷却キャン 10 Al金属 13 案内ロール 20 酸化性ガス供給装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606番地 花 王株式会社情報科学研究所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】真空容器と、金属薄膜を形成するべく前記
    真空容器内に配置された一連の被蒸着材を走行させる走
    行装置と、被蒸着材の下方に配設され金属薄膜を形成す
    るための金属材料を収容するルツボと、該ルツボの金属
    材料に電子ビームを照射するための電子ビーム発生装置
    と、電子ビームの照射により発生する金属材料の蒸気に
    酸化性ガスを供給するための酸化性ガス供給装置とを含
    み、 前記走行装置は、一連の被蒸着材が波状に走行するよう
    に配置されている複数の案内ロールを具備することを特
    徴とする金属薄膜の製造装置。
  2. 【請求項2】前記案内ロールは垂直方向に可動である、
    請求項1記載の金属薄膜の製造装置。
  3. 【請求項3】前記案内ロールを低周波振動させる、請求
    項1又は2記載の金属薄膜の製造装置。
JP24467493A 1993-09-30 1993-09-30 金属薄膜の製造装置 Pending JPH0797689A (ja)

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JP24467493A JPH0797689A (ja) 1993-09-30 1993-09-30 金属薄膜の製造装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015010036A1 (en) * 2013-07-18 2015-01-22 General Plasma, Inc. Method for manufacturing barrier films

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