JPH0798431B2 - 平版印刷版用支持体 - Google Patents
平版印刷版用支持体Info
- Publication number
- JPH0798431B2 JPH0798431B2 JP63134707A JP13470788A JPH0798431B2 JP H0798431 B2 JPH0798431 B2 JP H0798431B2 JP 63134707 A JP63134707 A JP 63134707A JP 13470788 A JP13470788 A JP 13470788A JP H0798431 B2 JPH0798431 B2 JP H0798431B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum
- support
- acid
- pat
- photosensitive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 43
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 35
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 9
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 6
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- -1 for example Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 17
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 16
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 4
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSJKGGMUJITCBW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutanal Chemical compound CC(O)CC=O HSJKGGMUJITCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- TZTBGPOKQFYJOV-UHFFFAOYSA-N (1,1-diethoxy-8-methyl-1-phenoxynonan-2-yl) hydrogen sulfate Chemical compound CCOC(C(CCCCCC(C)C)OS(=O)(=O)O)(OCC)OC1=CC=CC=C1 TZTBGPOKQFYJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQGBQHVFCCEEPW-UHFFFAOYSA-N (4-nonylphenyl) hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(OS(O)(=O)=O)C=C1 CQGBQHVFCCEEPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(O)(=O)=O)=C1 IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical group OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIYZUWALSKUDMZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethyl hydrogen sulfate Chemical compound OS(=O)(=O)OCCC1=CC=CC=C1 DIYZUWALSKUDMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C)C=C1 LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSOWMDCLEHRQPH-UHFFFAOYSA-N 4-diazocyclohexa-1,5-dien-1-amine Chemical compound NC1=CCC(=[N+]=[N-])C=C1 KSOWMDCLEHRQPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZLUGGCFYPMLMI-UHFFFAOYSA-N 5-(3,5-dihydroxyphenyl)benzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(C=2C=C(O)C=C(O)C=2)=C1 VZLUGGCFYPMLMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDGASBMKCFVAGA-UHFFFAOYSA-N 5-benzoyl-2-hydroxybenzenesulfonic acid Chemical compound OC1=C(C=C(C=C1)C(C1=CC=CC=C1)=O)S(=O)(=O)O KDGASBMKCFVAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical class [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N Alizarin Natural products C1=CC=C2C(=O)C3=C(O)C(O)=CC=C3C(=O)C2=C1 RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920000623 Cellulose acetate phthalate Polymers 0.000 description 1
- VKOUCJUTMGHNOR-UHFFFAOYSA-N Diphenolic acid Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(CCC(O)=O)(C)C1=CC=C(O)C=C1 VKOUCJUTMGHNOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001188 F alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DRAJWRKLRBNJRQ-UHFFFAOYSA-N Hydroxycarbamic acid Chemical compound ONC(O)=O DRAJWRKLRBNJRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical group CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical class [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 1
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- HFVAFDPGUJEFBQ-UHFFFAOYSA-M alizarin red S Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(S([O-])(=O)=O)C(O)=C2O HFVAFDPGUJEFBQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Chemical class 0.000 description 1
- 229940081734 cellulose acetate phthalate Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Chemical group 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical group 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N dihydroxidosulfur Chemical compound OSO HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FCQJEPASRCXVCB-UHFFFAOYSA-N flavianic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C2C(O)=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C2=C1 FCQJEPASRCXVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 235000014593 oils and fats Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940077386 sodium benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical compound NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
- B41N3/034—Chemical or electrical pretreatment characterised by the electrochemical treatment of the aluminum support, e.g. anodisation, electro-graining; Sealing of the anodised layer; Treatment of the anodic layer with inorganic compounds; Colouring of the anodic layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
印刷版用アルミニウム支持体に関するものであり、特に
電解エッチングのピット径の分布の算術平均が4μm以
下で、アルミニウムの圧延方向の最大ピット径の算術平
均(L)と圧延方向と直角な方向の最大ピット径の算術
平均(DLT)との差が最大ピット径(DLおよびDLTの大き
い方)に対して10%より大きく、1μm半径の触針を用
いた表面粗さ計によって検出されるピット数が200個/mm
以上で、かつ、中心線平均粗さが0.2〜10.μmである平
版印刷版用アルミニウム支持体に関するものである。
使用されているが、支持体と感光層との密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化処理する、所謂、砂目立て処理がなされてい
る。
ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ナイロンブラシと
研磨材/水スラリーによるブラシグレイン、研磨材/水
スラリーを表面に高圧で吹きつける方法などによる機械
的砂目立て方法があり、またアルカリまたは酸あるいは
それらの混合物からなるエッチング剤で表面を粗面化処
理する化学的砂目立て方法がある。また、特開昭54−14
6234号広報及び特開昭48−28123号広報に記載されてい
る電気化学的砂目立て方法、例えば特開昭53−123204号
広報に記載されている機械的砂目立て方法と電気化学的
砂目立て方法とを組合せた方法、特開昭56−55291号広
報に記載されている機械的砂目立て方法と鉱酸のアルミ
ニウム塩の飽和水溶液による化学的砂目立て方法と組合
せた方法も知られている。
御が容易で、しかも微細な粗面が得られる方法としては
電解粗面化処理が挙げられる。
られており、例えば米国特許第4,301,229号明細書は、
ピット径の累積度数分布と中心線平均粗さを規定し、米
国特許第386,917号明細書は粗面の深さを規定し、カナ
ダ特許第955449号は粗面の山の高さと直径とを規定して
いる。また、西ドイツ特許第1,813,443号明細書は粗面
の高低差を規定し、特開昭55−132294号公報は平均深さ
(触針式表面粗さ計による粗さ平均値)を規定してい
る。
ーターを規定しているが、耐刷力と非画像部の汚れにく
さとを同時に達成したものはなかった。
定した公知文献として、特開昭58−167196号公報があ
る。ピット径やその方向依存性及び中心線平均あらさや
その方向依存性などを限定しており、その特徴を有する
表面形状の支持体に感光層を設けた材料は連続階調を有
する原稿を網撮りしないで印刷版を作製する用途におい
て忠実な階調再現を可能にするという効果を有している
ことが示されている。
くさと、パラメーターとの関係について何ら開示も示唆
もしていない。
とを併有するアルミニウム支持耐を提供することを目的
とする。
かつ耐刷力を有する支持体の表面形状について、どのよ
うなパラメーターが重要であるか検討した結果、特に、
アルミニウム支持体の圧延方向の最大ピット径の算術平
均(DL)と圧延方向と直角な方向の最大ピット径の算術
平均(DLT)との差が最大ピット径(DLとDLTの大きい
方)の10%より大きくすることにより、非画像部の汚れ
にくさと耐刷力とを同時に達成できる支持耐を得ること
を偶然にも見い出し、本発明に至ったものである。
処理することによって、 a) ピット径の分布の算術平均が4μm以下、 b) アルミニウム板の圧延方向の最大ピット径の算術
平均(DL)と圧延方向と直角な方向の最大ピット径の算
術平均(DLT)との差が最大ピット径(DL及びDLTの大き
い方)の10%より大きい、及び c) 1μm半径の触針を用いた表面粗さ計によって検
出されるピットの数が200個/mm以上で、かつ中心線平均
粗さが0.2μm〜1.0μm、 の特性値を有する表面形状のアルミニウム支持体に関す
るものである。
ニウム及び及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミ
ニウム合金としては種々のものが使用でき、例えば、F
e、Si、Cu、Mn、Mg、Cr、Zn、Ti、Pb、Niなどの金属と
アルミニウムとの合金が用いられる。例えば、市販のア
ルミニウムでは1050材、1100材、3003材等のアルミニウ
ム板が用いられる。
付着している油脂、さび、ごみなどを除去することを目
的として清浄化処理することが好ましい。この清浄化処
理としては、例えばトリクレンなどによる溶剤脱脂、あ
るいは苛性ソーダなどによるアルカリエッチング脱脂等
が含まれる。苛性ソーダのようなアルカリエッチング脱
脂をした場合にはスマットが発生するので、これを除去
するためのデスマット処理(例えば、10〜30%の硝酸に
浸漬する処理)が更に施されるのが通例である。
に電解粗面化処理する。
流電解粗面化処理に用いられるものが、いずれも使用で
きる。特に好ましいものは、硝酸を2〜40g/含有する
水溶液または塩酸を2〜40g/含有する水溶液、あるい
は両者を合わせて2〜40g/含有する水溶液である。上
記電解質が2g/より少ない場合には、粗面化処理自体
が困難となり、有効なピット数が得られにくくなる。一
方、40g/より多い場合には、電解液によるアルミニウ
ム表面の化学溶解の影響や、表面酸化の影響により極め
て不均一なピットが生じやすくなる。処理温度は、一般
に常温から70℃の範囲であり、好ましくは、常温〜50℃
の範囲で実施される。またカルボン酸、アミン、ケト
ン、アルデヒド等の腐食抑制剤を添加してもよい。
波、矩形波、台形波などのような交番波形電流でもよ
い。
より低い場合にはピットが著しく生じにくくなり、一方
200A/dm2より大きいと、均一なピットを生成することが
困難となる。
解粗面化における電解液の組成、温度、電流密度、電気
量、電解液の撹拌条件等をコントロールすることによっ
て得られる。
〜2000倍の電子顕微鏡写真において約1000個のピットを
測定することによって行なう。
キャンし、得られるチャートから測定する。但し、0.01
μm以下のへこみはピットとみなさない。ピットの数が
200個/mmより少ない場合、特に耐刷力の低下が著しい。
5〜4μmである。4μmより大きくなると非画像部の
汚れが悪化する。0.5μmより小さい場合、耐刷力が低
下する。DLとDLTの差の、最大ピット径との比率は10%
より大である。10%以下の場合、耐刷力及び非画像部の
汚れが10%より大きい場合に比べて劣る。好ましくは、
12%より大であり、連続生産方式では、この差の値がさ
らに大きくなる。この方向依存性により良好な耐刷力
と、印刷時の汚れを生じないという双方の性質を満足さ
せる平版印刷版用支持体が得られる。
が著しく劣り、1.0μmより大きい場合、非画像部の汚
れが著しく劣る。
清浄化処理しておくことが好ましい。これは表面残存物
である所謂、スマットを表面から除去するためである。
化学的清浄化処理の詳細は、米国特許第3,834,998号明
細書に記載されている。
支持体に供するにあたり、保水性、感光層との密着性、
非画像部表面の機械的強度を向上させるために陽極酸化
により、アルミニウム板の表面に酸化皮膜を形成させて
もよい。陽極酸化処理は従来より周知の方法に従って行
なうことができる。例えば、硫酸、燐酸、蓚酸、アミド
スルホン酸、スルホサリチル酸又はこれらの混合物、あ
るいはこれらにAl3-イオンを含有させた水溶液などを電
解液とし、一般に直流を使用して陽極酸化処理される。
しかし、交流又はこれらの電流を組合せて陽極酸化して
もよい。電解質濃度は1〜80%、温度は5〜70℃、電解
密度は0.5〜60A/dm2、酸化皮膜重量は0.3〜5g/m2が好ま
しい。
許第2,714,066号及び米国特許第3,181,461号の各明細書
に記されているようにアルカリ金属シリケート、例えば
珪酸ナトリウムの水溶液に浸漬するなどの方法により処
理したり、米国特許第3,860,426号明細書に記載されて
いるように、水溶性金属塩(例えば、酢酸亜鉛など)を
含む親水性セルロース(例えば、カルボキシメチルセル
ロースなど)で下塗りしたり、米国特許第4,,153,461号
明細書に記載されているようにポリビニルホスホン酸で
処理してもよい。
PS版(Pre−Sensitized Plateの略称)の感光層とし
て、従来より知られている感光層を設けて、感光性平版
印刷版を得ることができ、これを製版処理して得た平版
印刷版は、優れた性能を有している。
る。
3,631号及び同第2,667,415号の各明細書に開示されてい
るジアゾニウム塩とアルドールやアセタールのような反
応性カルボニル基を含有する有機縮合剤との反応生成物
であるジフェニルアミン−p−ジアゾニウム塩とフォル
ムアルデヒドとの縮合生成物(所謂、感光性ジアゾ樹
脂)が好適に用いられる。この他の有用な縮合ジアゾ化
合物は特公昭49−48001号、同49−45322号、同49−4532
3号の各公報等に開示されている。これらの型の感光性
ジアゾ化合物は通常水溶性無機塩の形で得られ、従って
水溶液から塗布することができる。又、これらの水溶液
ジアゾ化合物を特公昭47−1167号公報に開示された方法
により1個又はそれ以上のフェノール性水酸基、スルホ
ン酸基又はその両者を有する芳香族又は脂肪族化合物と
反応させ、その反応生成物である実質的に水不溶性の感
光性ジアゾ樹脂を使用することもできる。
ヘキサフルオロ燐酸塩または、テトラフルオロ硼酸塩と
の反応生成物として使用することもできる。
ロキシベンゾフェノン、4,4−ビス(4′−ヒドロキシ
フェニル)ペンタン酸、レゾルシノール、又はジレゾル
シノールのようなジフェノール酸であって、これらは更
に置換基を有していてもよい。ヒドロキシベンゾフェノ
ンには2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロ
キシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン又は2,2′,4,
4′−テトラヒドロキシベンゾフェノンが含まれる。好
ましいスルホン酸としては、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ナフタリン、フェノール、ナフトールお
よびベンゾフェノン等のスルホン酸のような芳香族スル
ホン酸、又はそれ等の可溶性塩類、例えば、アンモニウ
ム及びアルカリ金属塩が例示できる。スルホン酸基含有
化合物は、一般に低級アルキル、ニトロ基、ハロ基、及
び/又はもう一つのスルホン酸基で置換されていてもよ
い。このような化合物の好ましいものとしては、ベンゼ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタリンスルホ
ン酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸ナトリウム、ナフタリン−2−スルホン酸、1
−ナフトール−2(又は4)−スルホン酸、2,4−ジニ
トロ−1−ナフトール−7−スルホン酸、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、m
−(p′−アニリノフェニルアゾ)ベンゼンスルホン酸
ナトリウム、アリザリンスルホン酸、o−トルイジン−
m−スルホン酸及びエタンスルホン酸等があげられる。
アルコールのスルホン酸エステルとその塩類も又有用で
ある。このような化合物は通常アニオン性界面活性剤と
して容易に入手できる。その例としてはラウリルサルフ
ェート、アルキルアリールサルフェート、p−ノニルフ
ェニルサルフェート、2−フェニルエチルサルフェー
ト、イソオクチルフェノキシジエトキシエチルサルフェ
ート等のアンモニウム又はカリウム金属塩があげられ
る。
の感光性ジアゾ樹脂と前記の芳香族又は脂肪族化合物の
水溶液を好ましくはほぼ等量となる量で混合することに
よって沈澱として単離される。
ジアゾ樹脂も好ましい。
ンとホルムアルデヒドとの縮合物の2−メトキシ−4−
ヒドロオキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩で
ある。
ているのが適当である。ジアゾ樹脂の量が少なくなれば
感光性は当然大になるが、経時安定性が低下する。最適
のジアゾ樹脂の量は約8〜20重量%である。
され得るが、本発明においては、ヒドロキシ、アミノ、
カルボン酸、アミド、スルホンアミド、活性メチレン、
チオアルコール、エポキシ等の基を含むものが望まし
い。このような好ましいバインダーには、英国特許第1,
350,521号明細書に記されているシェラック、英国特許
第1,460,978号および米国特許第4,123,276号の各明細書
に記されているようなヒドロキシエチルアクリルレート
単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位を主な
る繰り返し単位として含むポリマー、米国特許第3,751,
257号明細書に記されているポリアミド樹脂、英国特許
第1,074,392号明細書に記されているフェノール樹脂お
よび例えばポリビニルフォルマール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂のようなポリビニルアセタール樹脂、米国
特許第3,660,097号明細書に記されている線状ポリウレ
タン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレート樹脂、ビ
スフェノールAとエピクロルヒドリンから縮合されたエ
ポキシ樹脂、ポリアミノスチレンやポリアルミルアミノ
(メタ)アクリレートのようなアミノ基を含むポリマ
ー、酢酸セルロース、セルロースアルキルエーテル、セ
ルロースアセテートフタレート等のセルロース誘導体等
が包含される。
英国特許第1,041,463号明細書に記されているようなpH
指示薬、米国特許第3,236,646号明細書に記載されてい
る燐酸、染料などの添加剤を加えることができる。
ノンジアジド化合物であり、例えば米国特許第2,766,11
8号、同第2,767,092号、同第2,772,972号、同第2,859,1
12号、同第2,907,665号、同第3,046,110号、同第3,046,
111号、同第3,046,115号、同第3,046,118号、同第3,04
6,119号、同第3,046,120号、同第3,046,121号、同第3,0
46,122号、同第3,046,123号、同第3,061,430号、同第3,
102,809号、同第3,106,465号、同第3,635,709号、同第
3,647,443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記さ
れており、これらは好適に使用することができる。これ
らの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物のo−ナフト
キノンジアジドスルホン酸エステルまたはo−ナフトキ
ノンジアジドカルボン酸エステル、および芳香族アミノ
化合物のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドま
たはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ま
しく、特に米国特許第3,635,709号明細書に記されてい
るピロガロールとアセトンとの縮合物にo−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸をエステル反応させたもの、米国
特許第4,028,111号明細書に記されている末端にヒドロ
キシ基を有するポリエステルにo−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸、またはo−ナフトキノンジアジドカルボ
ン酸をエステル反応させたもの、英国特許第1,494,043
号明細書に記されているようなp−ヒドロキシスチレン
のホモポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノマー
との共重合体にo−ナフトキノンジアジドスルホン酸ま
たはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル反
応させたもの、米国特許第3,759,711号明細書に記され
ているようなp−アミノスチレンと他の共重合しうるモ
ノマーとの共重合体にo−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸またはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸をアミ
ド反応させたものは非常にすぐれている。
ことができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合して用いた
方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂には、ノボラ
ック型フェノール樹脂が含まれ、具体的には、フェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが
含まれる。更に米国特許第4,123,279号明細書に記され
ている様に上記のようなフェノール樹脂と共に、t−ブ
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3
〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはクレゾ
ールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用すると、一
層好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、感光層を構成する
組成物の全重量を基準として中に約50〜約85重量、より
好ましくは60〜80重量%、含有させられる。
必要に応じて更に染料、可塑剤、例えば英国特許第1,04
1,463号、同第1,039,475号、米国特許第3,969,118号の
各明細書に記されているようなプリントアウト性能を与
える成分などの添加剤を加えることができる。
光層: 例えば、英国特許第1,235,281号、同第1,495,861号の各
明細書および特開昭51−32331号、同51−36128号公報な
どに記されているアジド化合物と水溶性またはアルカリ
可溶性高分子化合物からなる組成物の他、特開昭50−51
02号、同50−84302号、同50−84303号、同53−12984号
の各公報などに記されているアジド基を含むポリマーと
バインダーとしての高分子化合物からなる組成物が含ま
れる。
ステル化合物、英国特許第1,112,277号、同第1,313,390
号、同第1,341,004号、同第1,377,747号等の各明細書に
記載のポリビニルシンナメート系樹脂、米国特許第4,07
2,528号および同第4,072,527号の各明細書に記されてい
る光重合型フォトポリマー組成物が含まれる。
感光層を用いることもできる。
昭61−238063号公報等に記載されている電子写真感光体
を用いた感光層を設けてもよい。
ましくは0.5〜4g/m2の範囲である。
によって樹脂画像が形成される。例えば、ジアゾ樹脂と
バインダーとからなる前記感光層を有するPS版の場合
には、画像露光後、例えば米国特許第4,186,006号明細
書に記載されているような現像液で未露光部分の感光層
が現像により除去されて平版印刷版が得られる。また、
感光層を有するPS版の場合には、画像露光後、米国特
許第4,259,434号明細書に記載されているようなアルカ
リ水溶液で現像することにより露光部分が除去されて、
平版印刷板が得られる。
お、「%」は特に指示しない限り「重量%」を示す。
リウム水溶液中に50℃で20秒間浸漬して、脱脂/クリー
ニング処理を行ない、次に水洗し、10%硝酸水溶液で中
和洗浄し、そして水洗した。
用い、電流密度50A/dm2で電解粗面化処理を行ない、150
0倍の電子顕微鏡写真(以下、SEM写真と略す)で均一ピ
ット面となるまで処理した。
に1分間浸漬してスマットを溶解除去した後、15%硫酸
水溶液中で、直流を用い3A/dm2で陽極酸化皮膜重量が2g
/m2となるように陽極酸化した後、水洗し、つづいて3
%珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理し、更に水洗乾燥し
た。
大ピット径との比率は12%μmの先端半径の触針による
表面粗さはピット数290個/mmであり、中心線平均粗さは
0.35gμmであった。
布し、そして乾燥して感光層を設けた。感光層の乾燥塗
布量は、2.0g/m2であった。
ライドランプ光源で、ネガ画像フィルムを通して露光
後、富士写真フィルム社製ネガ型PS版現像液DN−3Cの標
準液にて現像処理して、さらにガム引きして平版印刷版
を得た。常法により印刷したところ、100,000枚の良好
な印刷物が得られ、印刷中に湿し水量が変動してもほと
んど非画像部の汚れを生じなかった。
化処理を5g/塩酸水溶液中、温度35℃、電流密度40A/d
m2で均一粗面化処理を行なうこと以外は、印刷まで実施
例1と同様に行った。
ピット径との比率は12%、1μmの先端半径の触針を用
いた表面粗さはピット数220個/mm、中心線平均粗さは0.
65gμmであった。
物が得られ、湿し水量が変動してもほとんど非画像部の
汚れを生じることはなかった。
外、実施例1と同様に電解粗面化処理を行い、そして平
版印刷版による印刷を行なった。
最大ピット径との比率が10%、1μmの先端半径の触針
による表面粗さはピット数160個/mm、中心線平均粗さは
0.50μmであった。このアルミニウム支持体を用いた平
版印刷版によれば、良好な印刷版が得られる枚数は70,0
00枚と少なく、また実施例1に比べ非画像の汚れを生じ
易くなった。
密度80A/dm2で行なうこと以外は印刷まで実施例1と同
様に行なった。
μm、DLとDLTの差の最大ピット径との比率は7%、1
μmの先端半径の触針を用いた表面粗さはピット数210
個/mm、中心線平均粗さは0.7μmであった。このアルミ
ニウム支持体を用いた平版印刷版によれば、非画像部の
汚れにくさは実施例1と同様であったが、印刷可能な枚
数は70,000枚と少なかった。
密度40A/dm2で、しかも電解粗面化処理を実施例1の2
倍の時間行なうこと以外は実施例1と同様に印刷までを
行なった。
μm、DLとDLTの差の最大ピット径との比率は6%、1
μmの先端半径の触針を用いる表面粗さはピット数300
個/m2、中心線平均粗さは1.10μmであった。
な枚数は実施例1と同様であったが、わずかな湿し量の
変化でも非画像部の汚れを生じた。
る表面形状を有するアルミニウム支持体との組合せの場
合について説明したが、ポジ型感光層との組合せについ
ても同様の効果が得られた。
体を用いた、平版印刷版の耐刷力と非画像部の汚れにく
さとは従来のものに比べて大変優れている。
Claims (1)
- 【請求項1】アルミニウム板の片面または両面を電気化
学的に粗面化した平版印刷版用アルミニウム支持体であ
って、該支持体が以下の物性: a) ピット径の分布の算術平均が4μm以下、 b) 前記アルミニウム板の圧延方向の最大ピット径の
算術平均(DL)と圧延方向と直角な方向の最大ピット径
の算術平均(DLT)との差が最大ピット径(DL及びDLTの
大きい方)の10%より大きい、及び c) 1μmの先端半径の触針を用いた表面粗さ計によ
って検出されるピットの数が200個/mm以上でかつ中心線
平均粗さが0.2μm〜1.0μm、 を有することを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支
持体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63134707A JPH0798431B2 (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 平版印刷版用支持体 |
| US07/359,344 US5061591A (en) | 1988-06-01 | 1989-05-31 | Presensitized aluminum lithographic plate having thereon a positive or negative working light sensitive layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63134707A JPH0798431B2 (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 平版印刷版用支持体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01304993A JPH01304993A (ja) | 1989-12-08 |
| JPH0798431B2 true JPH0798431B2 (ja) | 1995-10-25 |
Family
ID=15134718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63134707A Expired - Lifetime JPH0798431B2 (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 平版印刷版用支持体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5061591A (ja) |
| JP (1) | JPH0798431B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7372794B2 (en) | 2002-06-05 | 2008-05-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Compatible optical pickup applying tilt to objective lens in proportion to radial movement of objective lens |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5187046A (en) * | 1991-03-18 | 1993-02-16 | Aluminum Company Of America | Arc-grained lithoplate |
| US5481084A (en) * | 1991-03-18 | 1996-01-02 | Aluminum Company Of America | Method for treating a surface such as a metal surface and producing products embodying such including lithoplate |
| JP2734839B2 (ja) * | 1991-10-09 | 1998-04-02 | シャープ株式会社 | アルミニウム用エッチング液およびエッチング方法並びにアルミニウムエッチング製品 |
| US5283148A (en) * | 1992-09-18 | 1994-02-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid toners for use with perfluorinated solvents |
| US5405730A (en) * | 1993-08-05 | 1995-04-11 | Agfa-Gevaert, N.V. | Imaging element and method for making aluminum lithographic printing plates according to the silver salt diffusion transfer process |
| DE4428661B4 (de) * | 1993-08-13 | 2004-07-01 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Lithographische Druckplatte |
| DE69423501T2 (de) * | 1993-09-21 | 2000-08-03 | Alcan International Ltd., Montreal | Aluminiumblech mit rauher oberfläche |
| JPH07281423A (ja) * | 1994-04-07 | 1995-10-27 | Konica Corp | 印刷版の製版方法 |
| US5482809A (en) * | 1994-06-16 | 1996-01-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid toners from soluble polymeric dispersants with reactive groups |
| US6983694B2 (en) * | 2002-04-26 | 2006-01-10 | Agfa Gevaert | Negative-working thermal lithographic printing plate precursor comprising a smooth aluminum support |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5926480B2 (ja) * | 1978-03-27 | 1984-06-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体 |
| JPS5628893A (en) * | 1979-08-16 | 1981-03-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Carrier for lithography plate and manufacture of said carrier |
| US4427500A (en) * | 1982-03-15 | 1984-01-24 | American Hoechst Corporation | Method for producing an aluminum support useful for lithography |
| US4581996A (en) * | 1982-03-15 | 1986-04-15 | American Hoechst Corporation | Aluminum support useful for lithography |
| JPS58210144A (ja) * | 1982-06-01 | 1983-12-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版支持体用アルミニウム合金 |
| JPS603632A (ja) * | 1983-06-21 | 1985-01-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| DE3569703D1 (en) * | 1984-01-17 | 1989-06-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Presensitized plate having an anodized aluminum base with an improved hydrophilic layer |
-
1988
- 1988-06-01 JP JP63134707A patent/JPH0798431B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-05-31 US US07/359,344 patent/US5061591A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7372794B2 (en) | 2002-06-05 | 2008-05-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Compatible optical pickup applying tilt to objective lens in proportion to radial movement of objective lens |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5061591A (en) | 1991-10-29 |
| JPH01304993A (ja) | 1989-12-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4976198A (en) | Grain structure for lithographic printing plate supports | |
| GB2047274A (en) | Support for Lithographic Printing Plates and Process for Their Production | |
| JPS6160797B2 (ja) | ||
| JP2520694B2 (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPH07119152B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法 | |
| JPH0448640B2 (ja) | ||
| JPH0147544B2 (ja) | ||
| US5061591A (en) | Presensitized aluminum lithographic plate having thereon a positive or negative working light sensitive layer | |
| US4686021A (en) | Lithographic support and process of preparing the same | |
| JPH01154797A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法 | |
| JPH05278362A (ja) | 感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JPH028918B2 (ja) | ||
| JPH0472719B2 (ja) | ||
| US5104484A (en) | Method for manufacturing substrates for ps plates | |
| JP2614744B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JPH0798432B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JPH0212759B2 (ja) | ||
| JPH0365440B2 (ja) | ||
| JP2587695B2 (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH0798429B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法 | |
| JP2520712B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| EP0470529B2 (en) | Substrate for lithographic printing plate | |
| JPH0374198B2 (ja) | ||
| JPH01316290A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法 | |
| JPH0248995A (ja) | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071025 Year of fee payment: 12 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071025 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081025 Year of fee payment: 13 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081025 Year of fee payment: 13 |