JPH0799433B2 - ペリクル膜の除去方法 - Google Patents

ペリクル膜の除去方法

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JPH0799433B2
JPH0799433B2 JP15820790A JP15820790A JPH0799433B2 JP H0799433 B2 JPH0799433 B2 JP H0799433B2 JP 15820790 A JP15820790 A JP 15820790A JP 15820790 A JP15820790 A JP 15820790A JP H0799433 B2 JPH0799433 B2 JP H0799433B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 レチクルまたはマスク表面に装着されたペリクル膜の除
去方法に関し， 静電気による遮光膜パターンの破壊を防止するようにし
た除去方法を提供することを目的とし， イオナイザにより発生しイオンが存在する雰囲気中でペ
リクル膜をレチクルまたはマスクより引き剥がすように
構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明はレチクルまたはマスク表面に装着されたペリク
ル膜の除去方法に関する。
ペリクルは透明な薄膜からなるペリクル膜を枠（フレー
ム）に貼ったもので（第１図参照），防塵のためにレチ
クル（またはマスク）の表面に装着し，レチクルはペリ
クルを装着したまま投影露光等に使用されている。
〔従来の技術〕
ペリクル膜は，ペリクル膜面やレチクルに塵埃が付着し
た場合等に除去して新しく貼り替えられる。
従来，レチクル表面に装着されたペリクル膜の除去は，
レチクルを剥離液（酢酸ブチル等の有機溶剤，例えば東
京応化のOMRリンス液）の中に浸漬し，ペリクル膜とフ
レームに付着した接着剤を溶解していた。
この際，ペリクル膜がレチクル面に付着すると容易にペ
リクル膜が溶けず，溶解に長時間を必要とし，また除去
が不完全であった。
そのため，前もってペリクル膜をレチクルから引き剥が
す方法がとられた。
〔発明が解決しようとする課題〕
溶剤に浸漬する前にペリクル膜をレチクルから引き剥が
す際に，大気中で行う場合にペリクル膜がレチクルの遮
光膜（Cr膜）に接触すると，静電気により遮光膜のパタ
ーンが破壊されるという問題があった。
本発明はペリクル膜の除去に際し，静電気による遮光膜
パターンの破壊を防止した除去方法を提供することを目
的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題の解決は，イオナイザにより発生したイオンが
存在する雰囲気中でペリクル膜をレチクルまたはマスク
より引き剥がすペリクル膜の除去方法により達成され
る。
〔作用〕
本発明はペリクル膜の除去に際し，イオナイザにより発
生したイオンが存在する雰囲気中で剥離することによ
り，ペリクル膜に帯電した電荷をイオンの存在により導
電性を持つ雰囲気中に逃がして遮光膜の静電破壊を防止
するようにしたものである。
なお，実験の結果，イオナイザにより発生したイオンは
直接ペリクル膜上に帯電することなく，ペリクル膜に帯
電した電荷を逃がすことにのみ有効に作用していること
がわかった。
〔実施例〕
第１図は本発明の実施例を説明する断面図である。
図において,1はレチクル（またはマスク）,1Aは遮光膜
パターン,2はペリクル膜,3はフレーム,4はイオナイザで
ある。
ここで，イオナイザ４は例えば， 品 名：オーバヘッドイオナイザ 製造社名:STATIC COTROL SERVICES 型 式:PDC-900 ENDSTAT CM 仕 様：入力電圧100V, 出力電圧 10KV, 出力電流 10A, 寸 法：シリンダ状ケース118mm×70mm 電極部保護傘 直径156mm 重 量:567g を用い，これにより発生したイオンの存在する雰囲気中
へペリクル膜２に帯電した電荷を逃がしている。
このようなイオンの存在する雰囲気中でペリクル膜２を
引き剥がすようにする。
ペリクル膜２は通常ニトロセルローズ等の薄膜からな
り，測定の結果通常負に帯電することが分かった。
そこで，実施例ではイオナイザにより発生したイオンの
存在する雰囲気中ヘペリクル膜に帯電した電荷を逃が
し，遮光膜パターンの静電破壊を防止するようにした。
多数試料について実験の結果，静電破壊は認められなか
った。
なお，イオナイザはレチクルまたはマスクの遮光膜側に
貼られたペリクル膜の除去の時にだけ適用すればよい
が，遮光膜の無い側に適用しても特に問題はない。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば，ペリクル膜の除去
に際し，静電気による遮光膜パターンの破壊を防止した
除去方法が得られた。
この結果，剥離液に浸漬する前に，ペリクル膜を引き剥
がすことができるようになり，除去の工数が大幅に低減
された。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の実施例を説明する断面図である。 図において， １はレチクル（またはマスク）,1Aは遮光膜パターン,2
はペリクル膜,3はフレーム,4はイオナイザ である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】イオナイザにより発生したイオンが存在す
    る雰囲気中でペリクル膜をレチクルまたはマスクより引
    き剥がすことを特徴とするペリクル膜の除去方法。
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