JPH08174746A - 透明導電性フィルム - Google Patents
透明導電性フィルムInfo
- Publication number
- JPH08174746A JPH08174746A JP31868094A JP31868094A JPH08174746A JP H08174746 A JPH08174746 A JP H08174746A JP 31868094 A JP31868094 A JP 31868094A JP 31868094 A JP31868094 A JP 31868094A JP H08174746 A JPH08174746 A JP H08174746A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent conductive
- conductive film
- film
- thickness
- tin oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims abstract description 7
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 abstract 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 エッチング性を損なわずに膜耐久性の向上を
はかり、液晶ディスプレイ等に適した透明導電性フィル
ムの電極材料を提供することにある。 【構成】 厚さ100〜300μｍのポリエーテルサルホンか
らなるフィルム上の少なくとも片面に設けられたアクリ
ル系有機アンカーコート上に、非晶性で厚さ 700〜2000
Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜
を積層し、さらにその上に下層よりも結晶性の高い厚さ
100〜300Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透
明導電膜を積層し、インジウム・スズ酸化物を主成分と
する透明導電膜全体の厚さが1000Å以上であることを特
徴とする透明導電性フィルム。
はかり、液晶ディスプレイ等に適した透明導電性フィル
ムの電極材料を提供することにある。 【構成】 厚さ100〜300μｍのポリエーテルサルホンか
らなるフィルム上の少なくとも片面に設けられたアクリ
ル系有機アンカーコート上に、非晶性で厚さ 700〜2000
Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜
を積層し、さらにその上に下層よりも結晶性の高い厚さ
100〜300Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透
明導電膜を積層し、インジウム・スズ酸化物を主成分と
する透明導電膜全体の厚さが1000Å以上であることを特
徴とする透明導電性フィルム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ等に用
いられる透明導電性フィルムに関する。詳しくは少なく
とも片面にアクリル系有機アンカーコートを施したポリ
エーテルサルホンフィルム上に結晶性の異なる２層のイ
ンジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜を積層
してなる透明導電性フィルムに関する。
いられる透明導電性フィルムに関する。詳しくは少なく
とも片面にアクリル系有機アンカーコートを施したポリ
エーテルサルホンフィルム上に結晶性の異なる２層のイ
ンジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜を積層
してなる透明導電性フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】インジウム・スズ酸化物を主成分とする
透明導電膜（以下ＩＴＯ膜と記す）からなる透明導電性
フィルムは、高導電性、高透明性の特性を活かし、液晶
ディスプレイ等の電極材料として用いられている。これ
らの電極材料では多くの場合にエッチング処理を伴うの
で、良好なエッチング特性が求められると同時に液晶デ
ィスプレイ等の組立工程に耐えうる高い耐久性能も求め
られている。ところで低抵抗なＩＴＯ膜ともなるとＩＴ
Ｏ膜厚が1000Åを越える場合が多くＩＴＯ膜厚の増加に
従ってエッチングも困難になってくる。そこで、エッチ
ング特性を良くするためには、ＩＴＯ膜を非晶性にすれ
ばよいが、これによりＩＴＯ膜の耐久性能（耐熱性、耐
湿熱性、耐擦傷性等）が低下する。
透明導電膜（以下ＩＴＯ膜と記す）からなる透明導電性
フィルムは、高導電性、高透明性の特性を活かし、液晶
ディスプレイ等の電極材料として用いられている。これ
らの電極材料では多くの場合にエッチング処理を伴うの
で、良好なエッチング特性が求められると同時に液晶デ
ィスプレイ等の組立工程に耐えうる高い耐久性能も求め
られている。ところで低抵抗なＩＴＯ膜ともなるとＩＴ
Ｏ膜厚が1000Åを越える場合が多くＩＴＯ膜厚の増加に
従ってエッチングも困難になってくる。そこで、エッチ
ング特性を良くするためには、ＩＴＯ膜を非晶性にすれ
ばよいが、これによりＩＴＯ膜の耐久性能（耐熱性、耐
湿熱性、耐擦傷性等）が低下する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、エッ
チング性を損なわずに膜耐久性の向上をはかり、液晶デ
ィスプレイ等に適した電極材料を提供することにある。
チング性を損なわずに膜耐久性の向上をはかり、液晶デ
ィスプレイ等に適した電極材料を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】厚さ100〜300μｍのポリ
エーテルサルホンフィルム上の少なくとも片面に設けら
れたアクリル系有機アンカーコート上に、非晶性で厚さ
700〜2000Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする
透明導電膜を積層し、さらにその上に下層よりも結晶性
が高く厚さ100〜300Åのインジウム・スズ酸化物を主成
分とする透明導電膜を積層する。このときのインジウム
・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜の全体の厚さは
1000Å以上とする。このようにして形成された透明導電
性フィルムは上層の結晶性ＩＴＯ膜の高い耐久性能と下
層の非晶性ＩＴＯ膜の良好なエッチング性がバランス
し、エッチング性を損なわずに従来のものよりも耐久性
能の高いＩＴＯ膜が得られる。
エーテルサルホンフィルム上の少なくとも片面に設けら
れたアクリル系有機アンカーコート上に、非晶性で厚さ
700〜2000Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする
透明導電膜を積層し、さらにその上に下層よりも結晶性
が高く厚さ100〜300Åのインジウム・スズ酸化物を主成
分とする透明導電膜を積層する。このときのインジウム
・スズ酸化物を主成分とする透明導電膜の全体の厚さは
1000Å以上とする。このようにして形成された透明導電
性フィルムは上層の結晶性ＩＴＯ膜の高い耐久性能と下
層の非晶性ＩＴＯ膜の良好なエッチング性がバランス
し、エッチング性を損なわずに従来のものよりも耐久性
能の高いＩＴＯ膜が得られる。
【０００５】
《実施例１》本発明の実施例としては100μ厚のポリエ
ーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム１の片面にアクリル
系有機アンカーコート２をグラビアロールコーターで塗
布した。これをＤＣマグネトロンスパッタリング装置内
の基板ホルダーに固定した。真空槽内を 5×10-6mbarま
で排気した後、アルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝
5：1）を導入し、真空度を 6×10-3mbarに保ち、基板温
度を40℃でIn／Sn合金ターゲット（Sn：10重量％）を用
いて反応性スパッタリングを行いＩＴＯ膜下層３を形成
した。このときできた膜のＸ線回折パターン（図３）を
見るとピークが現れておらず非晶性のＩＴＯ膜が成膜さ
れたことがわかる。その後さらに同スパッタ装置を用い
アルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝5：1）を導入し、
真空度を2×10-3mbarに保った状態で基板温度140℃でス
パッタリング成膜を行いＩＴＯ膜上層４を形成した。こ
のときできたＩＴＯ膜のＸ線回折パターン（図４）はピ
ークを持ち結晶性であることがわかる。また、ＩＴＯ膜
厚については簡易エッチングによる精密段差計での測定
で、下層が1500Å、上層は 250Åの図１に示すような透
明導電性フィルムが得られた。この透明導電性フィルム
を３規定の塩酸でエッチングしたところ90秒で導電性が
なくなり溶け残りもなかった。耐熱性（150℃、3時
間）、耐湿熱性（80℃、90％、48時間）、耐擦傷性（10
0g／cm2 100往復ガーゼ摩擦）の各処理前後の抵抗値変
化を測定したところいずれも試験前後の抵抗変化は1.1
倍以下であった。
ーテルサルホン（ＰＥＳ）フィルム１の片面にアクリル
系有機アンカーコート２をグラビアロールコーターで塗
布した。これをＤＣマグネトロンスパッタリング装置内
の基板ホルダーに固定した。真空槽内を 5×10-6mbarま
で排気した後、アルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝
5：1）を導入し、真空度を 6×10-3mbarに保ち、基板温
度を40℃でIn／Sn合金ターゲット（Sn：10重量％）を用
いて反応性スパッタリングを行いＩＴＯ膜下層３を形成
した。このときできた膜のＸ線回折パターン（図３）を
見るとピークが現れておらず非晶性のＩＴＯ膜が成膜さ
れたことがわかる。その後さらに同スパッタ装置を用い
アルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝5：1）を導入し、
真空度を2×10-3mbarに保った状態で基板温度140℃でス
パッタリング成膜を行いＩＴＯ膜上層４を形成した。こ
のときできたＩＴＯ膜のＸ線回折パターン（図４）はピ
ークを持ち結晶性であることがわかる。また、ＩＴＯ膜
厚については簡易エッチングによる精密段差計での測定
で、下層が1500Å、上層は 250Åの図１に示すような透
明導電性フィルムが得られた。この透明導電性フィルム
を３規定の塩酸でエッチングしたところ90秒で導電性が
なくなり溶け残りもなかった。耐熱性（150℃、3時
間）、耐湿熱性（80℃、90％、48時間）、耐擦傷性（10
0g／cm2 100往復ガーゼ摩擦）の各処理前後の抵抗値変
化を測定したところいずれも試験前後の抵抗変化は1.1
倍以下であった。
【０００６】《比較例１》本発明の比較例１として100
μ厚のポリエーテルサルホンフィルム１の片面にアクリ
ル系有機アンカーコート２をグラビアロールコーターで
塗布した。これをＤＣマグネトロンスパッタリング装置
内の基板ホルダーに固定した。真空槽内を5×10-6mbar
まで排気した後、アルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝
5：1）を導入し、真空度を 6×10-3mbarに保った。基板
温度40℃でIn／Sn合金ターゲット（Sn：10重量％）を用
いて反応性スパッタリングを行いＩＴＯ膜５を形成し
た。このときできた膜のＸ線回折パターン（図５）を見
るとピークが現れておらず非晶性のＩＴＯ膜が成膜され
たことがわかる。ＩＴＯ膜厚は、簡易エッチングによる
精密段差計での測定で1700Åである図２に示すような透
明導電性フィルムが得られた。この透明導電性フィルム
を３規定の塩酸でエッチングしたところ90秒で導電性が
なくなり溶け残りもなかった。実施例１と同様に耐熱
性、耐湿熱性、耐擦傷性を測定したところいずれも試験
前後の抵抗変化は1.1〜1.6倍であった。
μ厚のポリエーテルサルホンフィルム１の片面にアクリ
ル系有機アンカーコート２をグラビアロールコーターで
塗布した。これをＤＣマグネトロンスパッタリング装置
内の基板ホルダーに固定した。真空槽内を5×10-6mbar
まで排気した後、アルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝
5：1）を導入し、真空度を 6×10-3mbarに保った。基板
温度40℃でIn／Sn合金ターゲット（Sn：10重量％）を用
いて反応性スパッタリングを行いＩＴＯ膜５を形成し
た。このときできた膜のＸ線回折パターン（図５）を見
るとピークが現れておらず非晶性のＩＴＯ膜が成膜され
たことがわかる。ＩＴＯ膜厚は、簡易エッチングによる
精密段差計での測定で1700Åである図２に示すような透
明導電性フィルムが得られた。この透明導電性フィルム
を３規定の塩酸でエッチングしたところ90秒で導電性が
なくなり溶け残りもなかった。実施例１と同様に耐熱
性、耐湿熱性、耐擦傷性を測定したところいずれも試験
前後の抵抗変化は1.1〜1.6倍であった。
【０００７】《比較例２》本発明の比較例２として100
μ厚のポリエーテルサルホンフィルムの片面にアクリル
系有機アンカーコートをグラビアロールコーターで塗布
した。これをＤＣマグネトロンスパッタリング装置内の
基板ホルダーに固定した。真空槽内を 5×10-6mbarまで
排気した後、アルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝5：
1)を導入し、真空度を 2×10-3mbarに保った状態で、基
板温度140℃でIn／Sn合金ターゲット（Sn：10重量％）
を用いて反応性スパッタリングを行いＩＴＯ膜５を形成
した。このときできたＩＴＯ膜のＸ線回折パターン（図
６）はピークを持ちこのＩＴＯ膜が結晶性であることが
わかる。ＩＴＯ膜厚は、簡易エッチングによる精密段差
計での測定で1700Åである図２に示すような透明導電性
フィルムが得られた。この透明導電性フィルムを３規定
の塩酸でエッチングしたところ300秒浸しても導電性が
なくならなかった。実施例１と同様に耐熱性、耐湿熱
性、耐擦傷性を測定したところいずれも試験前後の抵抗
変化は1.1倍以下であった。
μ厚のポリエーテルサルホンフィルムの片面にアクリル
系有機アンカーコートをグラビアロールコーターで塗布
した。これをＤＣマグネトロンスパッタリング装置内の
基板ホルダーに固定した。真空槽内を 5×10-6mbarまで
排気した後、アルゴンと酸素の混合ガス（Ar：O2＝5：
1)を導入し、真空度を 2×10-3mbarに保った状態で、基
板温度140℃でIn／Sn合金ターゲット（Sn：10重量％）
を用いて反応性スパッタリングを行いＩＴＯ膜５を形成
した。このときできたＩＴＯ膜のＸ線回折パターン（図
６）はピークを持ちこのＩＴＯ膜が結晶性であることが
わかる。ＩＴＯ膜厚は、簡易エッチングによる精密段差
計での測定で1700Åである図２に示すような透明導電性
フィルムが得られた。この透明導電性フィルムを３規定
の塩酸でエッチングしたところ300秒浸しても導電性が
なくならなかった。実施例１と同様に耐熱性、耐湿熱
性、耐擦傷性を測定したところいずれも試験前後の抵抗
変化は1.1倍以下であった。
【０００８】以上の評価結果は表１に示した。 表 １ 処理前後の抵抗値変化 サンプル エッチング性 耐熱性 耐湿熱性 耐擦傷性 実施例１ 90秒完全溶解 1.1倍 1.1倍 1.0倍 比較例１ 90秒完全溶解 1.6倍 1.4倍 1.1倍 比較例２ 不溶 1.0倍 1.1倍 1.0倍
【０００９】
【発明の効果】本発明に従うと、エッチング性を損なわ
ずに膜耐久性能の向上がはかれ、液晶ディスプレイ等に
適した透明導電性フィルムの電極材料を提供できる。
ずに膜耐久性能の向上がはかれ、液晶ディスプレイ等に
適した透明導電性フィルムの電極材料を提供できる。
【図１】本発明の層構成を示す。
【図２】従来品および比較例の層構成を示す。
【図３】実施例１のＩＴＯ膜下層のＸ線回折パターンを
示す。
示す。
【図４】実施例１のＩＴＯ膜上層のＸ線回折パターンを
示す。
示す。
【図５】比較例１のＩＴＯ膜のＸ線回折パターンを示
す。
す。
【図６】比較例２のＩＴＯ膜のＸ線回折パターンを示
す。
す。
Claims (1)
- 【請求項１】 厚さ100〜300μｍのポリエーテルサルホ
ンからなるフィルム上の少なくとも片面に設けられたア
クリル系有機アンカーコート上に、非晶性で厚さ 700〜
2000Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とする透明導
電膜を積層し、さらにその上に下層よりも結晶性の高い
厚さ100〜300Åのインジウム・スズ酸化物を主成分とす
る透明導電膜を積層し、インジウム・スズ酸化物を主成
分とする透明導電膜全体の厚さが1000Å以上であること
を特徴とする透明導電性フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31868094A JP3176812B2 (ja) | 1994-12-21 | 1994-12-21 | 透明導電性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31868094A JP3176812B2 (ja) | 1994-12-21 | 1994-12-21 | 透明導電性フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08174746A true JPH08174746A (ja) | 1996-07-09 |
| JP3176812B2 JP3176812B2 (ja) | 2001-06-18 |
Family
ID=18101830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31868094A Expired - Fee Related JP3176812B2 (ja) | 1994-12-21 | 1994-12-21 | 透明導電性フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3176812B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000243145A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Teijin Ltd | 透明導電薄膜付きフィルムおよびその製造方法 |
| JP2010061942A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電性フィルムおよびタッチパネル |
| JP2011103289A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-05-26 | Toyobo Co Ltd | 透明導電性積層フィルム及び透明導電性積層シート並びにタッチパネル |
| CN109096762A (zh) * | 2018-07-09 | 2018-12-28 | 宁波帅特龙集团有限公司 | 一种汽车侧窗遮阳帘 |
| WO2019148999A1 (zh) * | 2018-01-30 | 2019-08-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 电子基板及其制造方法、电子装置 |
| JP2022181466A (ja) * | 2021-05-26 | 2022-12-08 | 国立大学法人京都大学 | 透明導電性積層体，太陽電池及びそれらの製造方法 |
| KR20230015894A (ko) | 2020-05-25 | 2023-01-31 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광투과성 도전성 시트의 제조 방법 |
| KR20230015908A (ko) | 2020-05-25 | 2023-01-31 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광 투과성 도전성 시트, 터치 센서, 조광 소자, 광전 변환 소자, 열선 제어 부재, 안테나, 전자파 실드 부재 및 화상 표시 장치 |
| JP2024143151A (ja) * | 2023-03-30 | 2024-10-11 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
| JP2024143150A (ja) * | 2023-03-30 | 2024-10-11 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
| US12156330B2 (en) | 2020-03-19 | 2024-11-26 | Nitto Denko Corporation | Light-transmitting electroconductive film and transparent electroconductive film |
| WO2026005018A1 (ja) * | 2024-06-27 | 2026-01-02 | 株式会社カネカ | 透明導電フィルムおよびその製造方法 |
-
1994
- 1994-12-21 JP JP31868094A patent/JP3176812B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000243145A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Teijin Ltd | 透明導電薄膜付きフィルムおよびその製造方法 |
| JP2010061942A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電性フィルムおよびタッチパネル |
| JP2011103289A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-05-26 | Toyobo Co Ltd | 透明導電性積層フィルム及び透明導電性積層シート並びにタッチパネル |
| WO2019148999A1 (zh) * | 2018-01-30 | 2019-08-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 电子基板及其制造方法、电子装置 |
| US11366556B2 (en) | 2018-01-30 | 2022-06-21 | Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Electronic substrate and manufacture method thereof, and electronic device |
| CN109096762A (zh) * | 2018-07-09 | 2018-12-28 | 宁波帅特龙集团有限公司 | 一种汽车侧窗遮阳帘 |
| US12156330B2 (en) | 2020-03-19 | 2024-11-26 | Nitto Denko Corporation | Light-transmitting electroconductive film and transparent electroconductive film |
| KR20230015894A (ko) | 2020-05-25 | 2023-01-31 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광투과성 도전성 시트의 제조 방법 |
| KR20230015908A (ko) | 2020-05-25 | 2023-01-31 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광 투과성 도전성 시트, 터치 센서, 조광 소자, 광전 변환 소자, 열선 제어 부재, 안테나, 전자파 실드 부재 및 화상 표시 장치 |
| JP2022181466A (ja) * | 2021-05-26 | 2022-12-08 | 国立大学法人京都大学 | 透明導電性積層体，太陽電池及びそれらの製造方法 |
| JP2024143150A (ja) * | 2023-03-30 | 2024-10-11 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
| JP2024143151A (ja) * | 2023-03-30 | 2024-10-11 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
| WO2026005018A1 (ja) * | 2024-06-27 | 2026-01-02 | 株式会社カネカ | 透明導電フィルムおよびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3176812B2 (ja) | 2001-06-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6329044B1 (en) | Transparent conductive film and method of making the film | |
| JP3257913B2 (ja) | 透明電極 | |
| JP5166700B2 (ja) | 結晶性透明導電性薄膜、その製造方法、透明導電性フィルムおよびタッチパネル | |
| JP3176812B2 (ja) | 透明導電性フィルム | |
| JP2003533890A (ja) | 電極を作製するためのエッチング方法 | |
| JPH10133597A (ja) | 配線基板、該配線基板の製造方法、該配線基板を備えた液晶素子及び該液晶素子の製造方法 | |
| JP4106931B2 (ja) | 透明ガスバリア薄膜被覆フィルム | |
| CN107578840A (zh) | 透明导电体以及触摸屏 | |
| JP2000113732A (ja) | 透明導電膜とその製造方法、透明導電膜付き基板およびタッチパネル | |
| JPH04230906A (ja) | 透明導電積層体 | |
| JP3654841B2 (ja) | 透明導電性フィルムおよびその製造方法 | |
| JP3627273B2 (ja) | 透明導電膜付き樹脂基板およびその製造方法 | |
| JP3489844B2 (ja) | 透明導電性フィルムおよびその製造方法 | |
| JPH1165771A (ja) | タッチパネル用電極基板およびその製造方法 | |
| JPH11262968A (ja) | 透明導電膜 | |
| JPH0112663B2 (ja) | ||
| TWI892603B (zh) | 阻氣膜 | |
| JPS6264003A (ja) | 透明導電膜及びその形成方法 | |
| JPS61183810A (ja) | 透明電極 | |
| JPH09174749A (ja) | 透明導電性フィルム | |
| KR102252112B1 (ko) | 은 계열 금속 합금 조성 기반 투명 전도성 산화물 박막 및 그 제조방법 | |
| JPS6264007A (ja) | 透明導電膜及びその形成方法 | |
| JPS63110420A (ja) | 導電性基材 | |
| JP3334922B2 (ja) | ガスバリアー性高分子フィルムおよびその製造方法 | |
| JPS5874351A (ja) | 銅蒸着ポリエステルフイルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090406 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100406 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100406 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110406 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120406 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |