JPH08211625A - レジスト塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】レジスト液面を所定高さに制御し、レジスト液
面の変動による塗布ムラのない高膜質を得る。 【構成】レジスト溶液４の受け皿５に貯留されているレ
ジスト溶液４の液面高さを検出するレジスト液面センサ
ー１０と、受け皿５に貯留されたレジスト溶液中に挿入
した補正ロッド１１と、補正ロッドの挿入量を可変する
ロッド駆動装置２０と、レジスト液面センサー１０の検
出信号に基づいてロッド駆動装置２０に駆動信号を与え
ることにより、レジスト溶液４の液面高さを一定の高さ
に制御する演算装置１７とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、平板状体に流動性材料
を塗布する装置にかかり、特に液晶パネル用ガラス基板
にカラーフィルタ等の薄層パターンを形成するためのレ
ジスト塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶表示装置を構成する液晶パネ
ルは、各々透明電極群を形成した２枚の透明ガラス基板
の間に液晶層を注入してなり、上記表示面となる一方の
ガラス基板に複数色のそれぞれに対応する複数のカラー
フィルタを形成してなる構成を基本としている。

【０００３】上記カラーフィルタは、ガラス基板の上に
ゼラチン／重クロメート等の水溶性の光硬化型感光性組
成物を塗布し、これを所定の画素パターンに対応するご
とくパターニングした後、所定の色に染色する工程を所
要回数繰り返して形成する方法が採用されていたが、フ
ィルタ濃度のばらつきや使用溶剤の毒性の問題等があ
り、安定した品質のカラーフィルタを効率よく製造する
ことが困難であり、また環境に悪影響をもたらす等の問
題を有していた。

【０００４】上記の各問題点を解消するものとして、顔
料で着色した感光性組成物をガラス基板に塗布し、所定
のマスクを介して露光し、現像して所定の着色パターン
を形成する工程を所要回数繰り返す方法等が知られてい
る。

【０００５】この顔料着色の感光性組成物（以下、単に
レジストと言う）をガラス基板に塗布する方法として
は、溝付きゴムローラによってレジスト溶液を塗布する
ロールコート法、あるいはガラス基板を回転させながら
レジスト溶液を遠心力で引延して塗布するスピンコート
法、その他種々の方法があるが、前者では塗膜の平滑性
に限界があり、また、後者ではレジスト溶液の利用率が
極めて低く、多数のガラス基板を効率よく処理すること
が困難であるという問題がある。

【０００６】これに対して、例えば特開平２−２５８０
８１号公報、あるいは特開平４−２７０３４６号公報に
開示されたようなワイヤーを巻き付けたロッド（以下、
ロールバーと称する）を用いて平面搬送されるガラス基
板の下面からレジスト溶液を塗布する、所謂ロッドコー
ト法を用いることで、連続して搬送される多数のガラス
基板に均一なレジストの塗膜を形成することができる。

【０００７】従来、ロッドコート法によるカラーフィル
タの顔料レジスト塗布装置では、レジスト受け皿に溜め
たレジストの溶液をこの中に配置したロールバーにより
汲み上げ、当該ロールバーの上を通過するガラス基板の
上方からニップローラによってロールバーに押圧し、ロ
ールバーで汲み上げたレジスト溶液を接触させ、余剰の
レジスト溶液を掻き取りながら基板に均一に塗布してい
る。

【０００８】このレジスト塗布装置では、ロールバーは
ニップローラによる押圧によってたわまないように当該
ニップローラの下面から保持するロールバー保持具を備
えている。

【０００９】図６は従来のロールバーによるレジスト塗
布装置の要部を説明する模式図であって、０１はレジス
トを塗布するガラス基板、０２はガラス基板をロールバ
ーに押圧して搬送するニップローラ、０３はレジストの
溶液を汲み上げてガラス基板０１の下面（裏面）に塗布
するロールバー、０４はレジストの溶液、０５はレジス
ト溶液の受け皿、０６はロールバー保持部材である。

【００１０】同図において、ガラス基板０１はニップロ
ーラ０２とロールバー０３の対向する間隙に搬入され、
ロールバー０３の回転で受け皿０５から汲み上げられる
レジストの溶液０４が塗布される。

【００１１】ロールバー０３はロールバー保持部材０６
に回転可能に支持されており、受け皿０５からレジスト
の溶液０４を汲み上げてガラス基板０１の裏面に接触さ
せて塗布を行うと共に、上記裏面に付着した余剰のレジ
スト溶液を掻き落として所要の厚さでレジスト溶液を塗
布するように構成されている。

【００１２】図７は図６に示した従来のロールバーによ
るレジスト塗布装置の塗布部の構成をさらに説明するた
めの模式図であって、０１ａは塗布されたレジスト溶
液、０４ａはロールバー０３によって汲み上げられたレ
ジスト溶液と掻き落とされた余剰レジスト溶液で構成さ
れるレジスト溶液溜まりを示す。

【００１３】図示したように、ロールバー０３とニップ
ローラ０２の対向部にガラス基板０１が搬入される。レ
ジストの溶液０４はロールバー０３の回転で汲み上げら
れ、ガラス基板０１の進入側にレジスト溶液溜まり０４
ａを形成する。このレジスト溶液溜まり０４ａがガラス
基板０１に接触して塗布される。

【００１４】ガラス基板０１にレジスト溶液が塗布され
てロールバー０３を通過するとき、ロールバー０３は塗
布されたレジスト溶液の余剰分を掻き落として所要の厚
さの塗膜を形成する。

【００１５】この塗膜の厚さは、レジスト溶液の粘度、
ガラス基板０１の搬送速度、ロールバー０３の直径とそ
の周速度、受け皿０５に貯留されるレジスト溶液０４の
液面高さ、等で決定される。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】この種のレジスト塗布
装置では、レジストのガラス基板への転写による消費で
受け皿中のレジストの液面が低下するので、この低下分
を補充しながらレジスト液面高さを常に一定になるよう
に制御して塗布を実行する。

【００１７】従来、液晶パネルのカラーフィルタを形成
する場合には、レジストとして所定の色の顔料で着色し
たレジスト（顔料レジスト）をガラス基板に所要の膜厚
で塗布するが、そのレジスト塗布装置では、塗布開始時
から塗布終了までに適量のレジスト溶液をロールバーと
ガラス基板の接触部分に供給して、塗布開始から終了ま
で同一条件（レジスト溶液の液面、ロールバーの回転、
等）で塗布する必要がある。

【００１８】上記従来技術のレジスト塗布装置では、塗
布開始時あるいは塗布中にレジスト溶液の供給を行った
場合は、受け皿中のレジスト液面に乱れたパターンが生
じ、そのパターンが塗布ムラの原因となる等の問題が有
って、適量のレジストをコンスタントに供給することが
難しいため、塗布開始時や塗布中にレジスト溶液の補給
は行わないようにしている。

【００１９】しかし、塗布開始から終了までにガラス基
板への塗布によるレジスト溶液の液面が低下し、同一条
件で塗布することができず、レジスト液面の高さを制御
して均一な膜質のレジスト層を形成することが困難であ
るという問題があった。

【００２０】特に、ガラス基板のサイズが大形化した場
合、レジストの液面低下量が更に大きくなり、均一な塗
布面状を得ることがますます難しくなるという問題があ
った。

【００２１】このように、従来のレジスト塗布装置で
は、消費した分のレジスト補給を塗布中に補給すること
ができないために、塗布中にレジスト液面を所要の高さ
に保持することができなかった。

【００２２】本発明の第１の目的は、ガラス基板への塗
布により発生するレジスト液面の低下をレジストの溶液
を補給することなく所定高さに制御し、レジスト液面の
変動による塗布ムラなく高膜質で均一な塗布を可能とし
たレジスト塗布装置を提供することにある。

【００２３】また、本発明の第２の目的は、塗布中のレ
ジスト液面高さを任意に制御してガラス基板の塗布開始
部分から終了部分までの間で所定の膜厚分布を持ったレ
ジスト膜を形成することができるレジスト塗布装置を提
供することにある。

【００２４】さらに、本発明の第３の目的は、ガラス基
板へ転写したレジストとほぼ同量のレジストをレジスト
液面に影響を与えること無く補給しながら塗布ができる
ようにしたレジスト塗布装置を提供することにある。

【００２５】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るため、本発明は、ガラス基板への塗布によって生じる
レジスト溶液の消耗に伴う受け皿のレジスト溶液の液面
の位置変化を、レジスト液面が確認できる領域に設置し
た液面検出センサーから所定の時間間隔毎、または連続
的に送出される液面高さ検出信号を演算装置に入力し、
塗布開始時の液面高さデータまたは予め入力してある液
面高さデータと上記液面検出センサーから入力した新規
データとを比較演算して所定の液面高さ位置に対する補
正量を決定し、この補正量分だけロッド駆動装置を介し
てロッドを受け皿に貯留したレジスト溜りに挿入してレ
ジスト液面高さを常に所定の位置に保持する。

【００２６】ガラス基板への塗布の終了後、当該基板へ
の塗布によって消費したレジスト溶液の補給は液面セン
サーから送出される液面高さデータを演算装置に入力
し、予め入力してある液面高さデータと新規データとを
比較演算して所定の液面高さ位置に対する補正量を決定
し、レジスト溶液補充装置によりこの補正量分だけ補
給、または予め入力してある液面高さデータと新規デー
タとを比較演算して所定の液面高さ位置になるまでレジ
スト溶液補充装置によりレジスト溶液の補給を行ない、
レジスト液面高さを所定の位置に保持するようにした。

【００２７】また、上記第２の目的を達成するために、
本発明は、ガラス基板へのレジスト溶液の塗布開始位置
から終了位置までの当該基板先端からの距離に対応して
所定のレジスト膜面形状、膜厚を得るために必要なレジ
スト液面高さデータをあらかじめ演算装置に入力し、レ
ジスト液面センサーから送出される液面高さ信号とを比
較演算して所定の液面高さ位置に対する補正量を決定
し、この補正量分だけロッド駆動機構を介して補正ロッ
ドを受け皿のレジスト溜りに挿入または引出してレジス
ト液面高さを任意の位置に制御する。

【００２８】さらに、上記第３の目的を達成するため
に、本発明は、ロールバー保持具とロールバーとの接触
部にレジストを導入し、ロールバーの回転によってレジ
スト溜りへ定量のレジストを補給する。

【００２９】図１は本発明のレジスト塗布装置の概略構
成を説明する模式図であって、１はガラス基板、２はニ
ップローラ、３はロールバー、４はレジスト溶液、５は
受け皿、６はロールバー保持部材、１０はレジスト液面
センサー、１１は補正ロッド、１７は演算装置、２０は
ロッド駆動装置、２１は基板センサー、２２はレジスト
溶液補充装置、２３はレジスト循環装置である。

【００３０】すなわち、請求項１に記載の第１の発明
は、レジスト溶液４を貯留する受け皿５と、少なくとも
周面の一部を前記レジスト溶液に没設して回転するロー
ルバー３と、前記受け皿５に取付けて前記ロールバー３
を回転可能に保持するロールバー保持部材６と、前記ロ
ールバー３に上方から対接して押圧するニップローラ２
の間にガラス基板１を所定の速度で搬送しながら前記ガ
ラス基板１に前記ロールバー３で汲み上げたレジスト溶
液を接触させると共に、余剰のレジスト溶液を掻き取る
ことにより、所望の厚さのレジスト膜を形成するレジス
ト塗布装置において、前記受け皿５に貯留されているレ
ジスト溶液４の液面高さを検出するレジスト液面センサ
ー１０と、前記受け皿５に貯留されたレジスト溶液中に
挿入した補正ロッド１１と、前記補正ロッドの挿入量を
可変するロッド駆動装置２０と、前記レジスト液面セン
サー１０の検出信号に基づいて前記ロッド駆動装置２０
に駆動信号を与えることにより、前記レジスト溶液４の
液面高さを一定の高さに制御する演算装置１７とを備え
たことを特徴とする。

【００３１】また、請求項２に記載の第２の発明は、レ
ジスト溶液４を貯留する受け皿５と、少なくとも周面の
一部を前記レジスト溶液に没設して回転するロールバー
３と、前記受け皿５に取付けて前記ロールバー３を回転
可能に保持するロールバー保持部材６と、前記ロールバ
ー３に上方から対接して押圧するニップローラ２の間に
ガラス基板１を所定の速度で搬送しながら前記ガラス基
板１に前記ロールバー３で汲み上げたレジスト溶液を接
触させると共に、余剰のレジスト溶液を掻き取ることに
より、所望の厚さのレジスト膜を形成するレジスト塗布
装置において、前記受け皿５に貯留されているレジスト
溶液４の液面高さを検出するレジスト液面センサー１０
と、前記ロールバー３設置位置に進入する前記ガラス基
板１を検出する基板センサー２１と、前記受け皿５に貯
留されたレジスト溶液中に挿入した補正ロッド１１と、
前記補正ロッドの挿入量を可変するロッド駆動装置２０
と、前記レジスト液面センサー１０の検出信号と前記基
板センサー２１の検出信号に基づいて前記ロッド駆動装
置２０に駆動信号を与えることにより、前記レジスト溶
液４の液面高さを変化させることにより前記ガラス基板
１の先端から後端に至るレジスト溶液の塗布厚分布を任
意に制御する演算装置１７とを備えたことを特徴とす
る。

【００３２】さらに、請求項３に記載の第３の発明は、
前記受け皿５にレジスト溶液を補充するレジスト溶液補
充装置２２を備え、前記演算装置１７の補充指令に基づ
いて前記受け皿５にレジスト溶液を補充することを特徴
とする。

【００３３】そして、請求項４に記載の第４の発明は、
前記ロールバー保持部材６の前記ロールバー３の保持面
に前記レジスト溶液補充装置２２に連通するレジスト供
給孔６ｃを有し、前記ロールバー３の回転に伴う掻き出
し作用によって前記受け皿５に補充することを特徴とす
る。

【００３４】さらにまた、請求項５に記載の第５の発明
は、前記受け皿５に貯留されたレジスト溶液を循環する
レジスト循環装置２３を備えたことを特徴とする。

【００３５】なお、本発明は、液晶パネル用のガラス基
板へのカラーフィルタの形成のためのレジスト塗布に限
るものではなく、他の同様のレジスト塗布に適用できる
ものであることは言うまでもない。

【００３６】

【作用】レジストの液面センサーはレジスト溶液の液面
の高さ位置信号を連続的にまたは所定時間間隔で繰り返
して自動的に演算装置へ送出するように動作する。

【００３７】演算装置はこの高さ位置信号の入力によっ
て塗布開始時点、予め入力してある基準高さ位置デー
タ、ガラス基板の先端からの距離に基づく液面高さ位置
データと比較し、位置補正量を演算処理して決定し、そ
の補正データを補正ロッドを駆動するロッド駆動装置へ
転送する。

【００３８】これを基に、ロッド駆動装置は液面高さが
所定の高さ位置データに合うように補正ロッドを受け皿
のレジスト溜りへ挿入又は引出して調整することでレジ
スト溶液の液面を必要とする高さに制御する。

【００３９】また、ガラス基板へのレジストの塗布によ
って生じる液面低下量、すなわち当該基板先端からの位
置とレジストの消費量が基板塗布ごとに一定の場合は、
基板先端からの位置に対応する補正量データを予め演算
装置に入力しておき、基板の搬送量に応じてデータをロ
ッド駆動装置に転送して補正ロッドを挿入することで液
面高さを所定位置に保つ。

【００４０】ロールバーとロールバー保持部材の接触部
に導入されたレジスト溶液は、ロールバーが回転すると
きにロールバー保持部材とロールバーに巻いてあるワイ
ヤー間の隙間に定量掻き出されてレジスト溜りへ移動し
ていく。このレジスト溶液の定量掻き出しによる補給は
ガラス基板へのレジスト溶液の塗布の際の余剰レジスト
の掻き取り作用と同様であり、塗布による消費量とほぼ
同量のレジスト溶液を補給することが可能で、かつ塗布
領域全体にわたってレジスト溶液を補給できるため、レ
ジスト溶液の液面に波立ちや盛り上がり無く補給する。

【００４１】すなわち、上記第１の発明の構成におい
て、ロールバー３は受け皿５に貯留されたレジスト溶液
４に少なくとも周面の一部を没設する。

【００４２】ロールバー保持部材６はレジスト溶液の受
け皿５に取付けられてロールバー３の位置を保持すると
共に回転可能に保持する。

【００４３】ガラス基板１はロールバー３とニップロー
ラ２の間に所定の速度で搬送され、ガラス基板１の下面
にロールバー３で汲み上げたレジスト溶液を接触させる
と共に、余剰のレジスト溶液を掻き取ることにより、所
望の厚さのレジスト膜を形成する。

【００４４】レジスト液面センサー１０は受け皿５に貯
留されているレジスト溶液４の液面高さを検出する。補
正ロッド１１はロッド駆動装置２０により受け皿５に貯
留されたレジスト溶液中に挿入あるいは引き出すことで
上記液面高さを調整する。

【００４５】演算装置１７はレジスト液面センサー１０
の検出信号に基づいてロッド駆動装置２０に駆動信号を
与え、補正ロッド１１を挿入あるいは引き出すことで受
け皿５中のレジスト溶液４の液面高さを一定の高さに制
御する。

【００４６】上記第２の発明の構成において、ロールバ
ー３は受け皿５に貯留されたレジスト溶液４に少なくと
も周面の一部を没設する。

【００４７】ロールバー保持部材６はレジスト溶液の受
け皿５に取付けられてロールバー３の位置を保持すると
共に回転可能に保持する。

【００４８】ガラス基板１はロールバー３とニップロー
ラ２の間に所定の速度で搬送され、ガラス基板１の下面
にロールバー３で汲み上げたレジスト溶液を接触させる
と共に、余剰のレジスト溶液を掻き取ることにより、所
望の厚さのレジスト膜を形成する。

【００４９】レジスト液面センサー１０は受け皿５に貯
留されているレジスト溶液４の液面高さを検出する。補
正ロッド１１はロッド駆動装置２０により受け皿５に貯
留されたレジスト溶液中に挿入あるいは引き出すことで
上記液面高さを調整する。

【００５０】演算装置１７はレジスト液面センサー１０
の検出信号に基づいてロッド駆動装置２０に駆動信号を
与え、補正ロッド１１を挿入あるいは引き出すことで受
け皿５中のレジスト溶液４の液面高さを一定の高さに制
御する。

【００５１】基板センサー２１はロールバー３の設置位
置に進入するガラス基板１を検出し、補正ロッド１１を
駆動するロッド駆動装置２０は、レジスト液面センサー
１０の検出信号と基板センサー２１の検出信号に基づい
てレジスト溶液４の液面高さを変化させガラス基板１の
先端から後端に至るレジスト塗布厚分布を任意に制御す
る。

【００５２】上記第３の発明の構成において、レジスト
補充装置２２は演算装置１７の補充指令に基づいて、受
け皿５にレジスト溶液を補充する。

【００５３】上記第４の発明において、ロールバー保持
部材６のロールバー３の保持面に設けたレジスト供給孔
６ｃはレジスト溶液補充装置２２に連通し、ロールバー
３の回転に伴う掻き出し作用によって前記受け皿５にレ
ジスト溶液を補充する。

【００５４】上記第５の発明の構成において、レジスト
循環装置２３は受け皿５に貯留されたレジスト溶液を循
環させる。

【００５５】

【実施例】以下、本発明の実施例につき、図面を参照し
て詳細に説明する。

【００５６】図２は本発明のレジスト塗布装置の第１実
施例の構成を説明する模式図であって、１はガラス基
板、２はニップローラ、３はロールバー、４はレジスト
溶液、５は受け皿、６はロールバー保持部材、７，７’
はレジスト送液装置、８，８’はフィルタ、９はレジス
トタンク、１０はレジスト液面センサー、１１は補正ロ
ッド、１３は駆動シャフト、１４はロッド挿抜装置、１
７は演算装置、１８は昇降装置、２０はロッド駆動装
置、２２はレジスト溶液補充装置、２３はレジスト循環
装置である。

【００５７】同図において、レジスト溶液４は受け皿５
に貯留されており、その液面に対して上方に赤外線やレ
ーザ、あるいは超音波によって液面位置を検出するレジ
スト液面センサー１０を設けてある。

【００５８】また、受け皿５には補正ロッド１１、駆動
シャフト１３、ロッド挿抜装置１４、昇降装置１８から
なるロッド駆動装置２０を配置する。補正ロッド１１は
駆動シャフト１３にねじ込み等により容易に着脱可能に
取り付けられる。

【００５９】駆動シャフト１３はパルスモータ、ボール
ねじ、ＬＭガイドによって構成されたロッド挿抜装置１
４によって高精度に位置決め駆動される。

【００６０】補正ロッド１１の駆動方向は図中矢印に示
す上下方向のみである。ここでは、基準液面高さデータ
を演算装置１７に入力しておき、この基準液面高さデー
タとレジスト液面センサー１０からの液面高さ信号を比
較し、両者が等しくなるよう補正ロッド１１の駆動信号
を演算装置１７からロッド挿抜装置１４へ送る。

【００６１】ロッド挿抜装置１４は送られてきたデータ
を基にパルスモータを駆動して駆動シャフト１３と共に
補正ロッド１１を駆動して貯留されたレジスト溶液４に
挿入し、挿入したロッドの体積分レジスト溶液の液面を
上昇させて所定の液面高さを得ることができる。

【００６２】ガラス基板１がロールバー３とニップロー
ラ２の間を通過した塗布終了後、予め演算装置１７に入
力しておいた基準液面高さデータとレジスト液面センサ
ー１０からの液面高さ信号とを比較し、液面高さ信号が
基準液面高さデータと等しくなるまで演算装置１７はレ
ジスト溶液補充装置２２のレジスト送液装置７に補給信
号を送り、レジストタンク９からフィルター８を介して
受け皿５にレジスト溶液の補給を行なう。

【００６３】また、受け皿５中のレジスト溶液４内の異
物を除去するため、レジスト送液装置７’によりフィル
ター８’を介してレジスト溶液４を循環させ、フィルタ
リングを行なう。

【００６４】メンテナンス等により受け皿５や補正ロッ
ド１１を取り外す場合には、ロッド挿抜装置１４を昇降
装置１８により上昇させ操作を行なう。

【００６５】本実施例により、ガラス基板への塗布によ
り発生するレジスト液面の低下をレジストの溶液を補給
することなく所定高さに制御し、レジスト液面の変動に
よる塗布ムラなく高膜質で均一な塗布を可能とすると共
に、塗布後に消耗したレジスト溶液を必要なレベルに補
給するレジスト塗布装置を提供することができる。

【００６６】図３は本発明のレジスト塗布装置の第２実
施例の構成を説明する模式図であって、１２はカップリ
ング、図２と同一符号は同一部分に対応する。

【００６７】この実施例は、前記第１実施例が補正ロッ
ド１１をレジスト液溜り４の液面に対して挿抜するため
に、補正ロッドに付着したレジストが乾燥し、これが剥
離してレジスト溶液に異物として混入するのを防止した
構成としたものである。

【００６８】同図において、本実施例においても、前記
実施例と同様に、レジスト溶液４の液面上方に赤外線や
レーザ、あるいは超音波によって液面位置を検出するレ
ジスト液面センサー１０を配置する。

【００６９】ロッド駆動装置２０’は補正ロッド１１、
カップリング１２、駆動シャフト１３およびロッド挿抜
装置１４で構成される。

【００７０】補正ロッド１１は受け皿５の横方向壁面に
貫通して挿抜されるように配置される。この補正ロッド
１１はカップリング１２を介して駆動シャフト１３に接
続され、レジスト付着部分が空中に曝されることなくロ
ッド挿抜装置１４により受け皿５中に挿抜される。

【００７１】補正ロッド１１の一端、すなわち一端（受
け皿５への取り付け部）は、シール補治具１６によって
取り付けたＶリングまたはＯリング等ののシール部品１
５を介してレジスト溶液４中に挿入され、他端はカップ
リング１２によって駆動シャフト１３に容易に着脱が可
能な状態で取り付けられる。

【００７２】駆動シャフト１３はパルスモータ、ボール
ねじ、ＬＭガイドによって構成されたロッド挿抜装置１
４によって高精度に位置決め駆動される。駆動方向は図
中矢印に示す横方向のみである。

【００７３】ここでは、ガラス基板１の先端からの距離
に対応した液面高さデータを演算装置１７に入力してお
き、レジスト液面センサー１０からの液面高さ信号に基
づいてガラス基板１の送り量に応じて消費したレジスト
量に見合った液面変化分を補正するように補正ロッド１
１の送り信号を演算装置１７からロッド挿抜装置１４へ
送る。

【００７４】ロッド挿抜装置１４は、送られてきたデー
タを基にパルスモータを駆動してカップリング１２と共
に補正ロッド１１を駆動してレジスト溶液４中に挿入ま
たは引き出し、出し入れしたロッドの体積分だけ受け皿
５に貯留されたレジスト溶液４の液面を昇降させて所定
の液面高さを得る。

【００７５】ガラス基板１がロールバー３とニップロー
ラ２の間を通過した塗布終了後、予め演算装置１７に入
力しておいた１回の塗布で消費するレジスト液量に対応
した補給量信号をレジスト送液装置７に送り、レジスト
タンク９からよりフィルター８を介して受け皿５にレジ
スト溶液を補給する。

【００７６】また、レジスト溶液４内の異物を除去する
ため、レジスト送液装置７’によりフィルター８’を介
してレジスト溶液４を循環させてフィルタリングを行な
う。メンテナンス等のために受け皿５や補正ロッド１１
を取り外す場合には、カップリング１２で補正ロッド１
１をロッド挿抜装置１４から取外す。

【００７７】本実施例によれば、補正ロッド１１のレジ
スト溶液が付着した部分が受け皿５の外に曝されること
がないため、補正ロッド１１に乾燥したレジストが付着
せず、したがって、乾燥レジストによる異物発生を防止
することができる。

【００７８】図４は本発明のレジスト塗布装置の第３実
施例の構成を説明する模式図であって、６ｃはレジスト
供給孔、２１はガラス基板の先端および後端を検出する
基板センサー、図２と同一符号は同一部分に対応する。

【００７９】本実施例は、上記第２実施例の構成に加え
てガラス基板１への塗布中にもレジスト溶液４の補給を
可能として、受け皿５中に貯留するレジスト溶液４の液
面高さを高精度に制御して塗布中に任意のレジスト液面
高さを設定するようにしたものである。

【００８０】この構成により、ガラス基板１の先端から
後端に沿うレジストの塗布開始部分から終了部分までの
間で所定の膜厚分布を持ったレジスト膜を形成すること
ができる。

【００８１】同図において、本実施例の構成は、ロール
バー３と接するロールバー保持部材６にレジスト供給孔
６ｃを備え、このレジスト供給孔６ｃに前記レジスト送
液装置７からのレジスト溶液を通し、ロールバー３の回
転で上記レジスト供給孔６ｃからレジスト溶液を掻き出
して受け皿５に補充するようにしてある。

【００８２】演算装置１７には、ガラス基板１の搬送方
向サイズのデータと所要の膜厚分布データとが入力さ
れ、ロールバー３とニップローラ２の対向部分（塗布
部）に進入するガラス基板１の先端を基板センサー２１
で検出し、この基板検出信号に基づいてレジスト送液装
置７の送液を開始し、後端の検出に基づいて送液を停止
させる。

【００８３】上記ガラス基板１の先端から後端に至る塗
布領域に沿って、演算装置１７は入力されているガラス
基板のサイズと膜厚分布データ、およびレジスト液面セ
ンサー１０の液面高さ信号とに基づき、上記膜厚分布デ
ータに対応したレジスト溶液の塗布量のコントロールを
行う。

【００８４】なお、ガラス基板のデータは必ずしも必要
とするものではなく、膜厚分布データのみを演算装置１
７に設定しておき、基板センサー２１の先端検出で上記
膜厚分布データに従った塗布を開始し、後端検出で塗布
を終了するようにすることもできる。その他の構成につ
いては、前記第２実施例と同様である。

【００８５】図５は本発明の第３実施例におけるロール
バー保持部材の構造例を説明する模式図であって、
（ａ）は縦断面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿った
横断面図である。

【００８６】本実施例に用いられるロールバー保持部材
６はロールバー３を保持して回転させる凹部をもつ樹脂
材料を好適とする第１部材６ａと剛性の高い第２部材６
ｂとの複合体で構成される。

【００８７】上記第１部材６ａには塗布領域全体にわた
ってロールバーの長さ方向に沿った溝６ｄを有し、第２
部材６ｂを貫通するレジスト供給孔６ｃからレジスト送
液装置７のフィルター８に連通したレジスト供給孔６ｃ
を通してレジスト溶液が供給される。

【００８８】上記溝６ｄに送られたレジスト溶液はロー
ルバー３と接触し、そのワイヤーによって定量掻き出さ
れたレジスト溶液が受け皿５に補給される。

【００８９】なお、ロールバー保持部材６は上記したよ
うな複合体に限るものではなく、全体をエンジニアリン
グプラスチック等の剛性を有する材料で構成してもよ
く、さらにその他の適当な材料で単一のあるいは複合し
た構造とすることもできる。

【００９０】本実施例により、ガラス基板１の先端から
後端に至る塗布領域に沿って、所定の膜厚分布を有する
レジストの塗布を行うことができる。

【００９１】上記実施例では、レジストの塗布対象を液
晶パネル用のガラス基板としたが、本発明はこれに限定
されるものではなく、他の同様の板状体へのレジストあ
るいは他の液体状薬液の塗布に適用できるものである。

【００９２】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、レ
ジスト溶液をガラス基板その他の板状体に転写して塗布
する際に生じるレジスト溶液の液面低下を補正し、自動
的に所定の液面高さに保つことで、当該基板の先端から
後端まで同一条件で塗布することができ、高品位な塗布
面状を得ることができる。

【００９３】また、上記基板の先端から後端に沿って所
要の膜厚分布をもつレジスト膜を再現性よく繰り返し形
成することができる。

【００９４】さらに、ガラス基板等の基板サイズが大形
化しレジスト溶液の消費量が増加した場合にも塗布終了
後のレジスト溶液の補給が不要となり、特にレジスト補
給工程を設けることなく、短い間隔で複数の基板へのレ
ジストの塗布を行ない、高品質のレジスト膜を形成する
レジスト塗布装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のレジスト塗布装置の概略構成を説明す
る模式図である。

【図２】本発明のレジスト塗布装置の第１実施例の構成
を説明する模式図である。

【図３】本発明のレジスト塗布装置の第２実施例の構成
を説明する模式図である。

【図４】本発明のレジスト塗布装置の第３実施例の構成
を説明する模式図である。

【図５】本発明の第３実施例におけるロールバー保持部
材の構造例を説明する模式図である。

【図６】従来のロールバーによるレジスト塗布装置の要
部を説明する模式図である。

【図７】従来のロールバーによるレジスト塗布装置の塗
布部の構成をさらに説明するための模式図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ ニップローラ ３ ロールバー ４ レジスト溶液 ５ レジスト溶液の受け皿 ６ ロールバー保持部材 ７ レジスト送液装置 ８ フィルター ９ レジストタンク １０ レジスト液面センサー １１ 補正ロッド １２ カップリング １３ 駆動シャフト １４ 補正ロッド挿抜装置 １５ シール部品 １６ シール保持具 １７ 演算装置 １８ 昇降装置 ２０ ロッド駆動装置 ２１ 基板センサー ２２ レジスト溶液補充装置 ２３ レジスト循環装置。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】レジスト溶液を貯留する受け皿と、少なく
   とも周面の一部を前記レジスト溶液に没設して回転する
   ロールバーと、前記受け皿に取付けて前記ロールバーを
   回転可能に保持するロールバー保持部材と、前記ロール
   バーに上方から対接して押圧するニップローラとの間に
   ガラス基板を所定の速度で搬送しながら前記ガラス基板
   １に前記ロールバー３で汲み上げたレジスト溶液を接触
   させると共に、余剰のレジスト溶液を掻き取ることによ
   り、所望の厚さのレジスト膜を形成するレジスト塗布装
   置において、 前記受け皿に貯留されているレジスト溶液の液面高さを
   検出するレジスト液面センサーと、前記受け皿に貯留さ
   れたレジスト溶液中に挿入した補正ロッドと、前記補正
   ロッドの挿入量を可変するロッド駆動装置と、前記レジ
   スト液面センサーの検出信号に基づいて前記ロッド駆動
   装置に駆動信号を与えることにより、前記レジスト溶液
   の液面高さを一定の高さに制御する演算装置とを備えた
   ことを特徴とするレジスト塗布装置。
2. 【請求項２】レジスト溶液を貯留する受け皿と、少なく
   とも周面の一部を前記レジスト溶液に没設して回転する
   ロールバーと、前記受け皿に取付けて前記ロールバーを
   回転可能に保持するロールバー保持部材と、前記ロール
   バーに上方から対接して押圧するニップローラとの間に
   ガラス基板を所定の速度で搬送しながら前記ガラス基板
   に前記ロールバーで汲み上げたレジスト溶液を接触させ
   ると共に、余剰のレジスト溶液を掻き取ることにより、
   所望の厚さのレジスト膜を形成するレジスト塗布装置に
   おいて、 前記受け皿に貯留されているレジスト溶液の液面高さを
   検出するレジスト液面センサーと、前記ロールバー設置
   位置に進入する前記ガラス基板を検出する基板センサー
   と、前記受け皿に貯留されたレジスト溶液中に挿入した
   補正ロッドと、前記補正ロッドの挿入量を可変するロッ
   ド駆動装置と、前記レジスト液面センサーの検出信号と
   前記基板センサーの検出信号に基づいて前記ロッド駆動
   装置に駆動信号を与えることにより、前記レジスト溶液
   の液面高さを変化させることにより前記ガラス基板の先
   端から後端に至るレジスト溶液の塗布厚分布を任意に制
   御する演算装置とを備えたことを特徴とするレジスト塗
   布装置。
3. 【請求項３】請求項１または２において、前記受け皿に
   レジスト溶液を補充するレジスト溶液補充装置を備え、
   前記演算装置の補充指令に基づいて前記受け皿にレジス
   ト溶液を補充することを特徴とするレジスト塗布装置。
4. 【請求項４】請求項３において、前記ロールバー保持部
   材の前記ロールバーの保持面に前記レジスト溶液補充装
   置に連通するレジスト供給孔を有し、前記ロールバーの
   回転に伴う掻き出し作用によって前記受け皿に補充する
   ことを特徴とするレジスト塗布装置。
5. 【請求項５】請求項１、２、３、または４において、前
   記受け皿に貯留されたレジスト溶液を循環するレジスト
   循環装置を備えたことを特徴とするレジスト塗布装置。