JPH08255332A - 磁気記録媒体用支持体及び磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 金属薄膜型の磁気記録媒体の支持体として中
心線平均粗さＲａ1 が５〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲｚ
1 が３０〜４５０ｎｍ、最大高さＲｍａｘ1 が３０〜４
５０ｎｍである非磁性支持体１上に、中心線平均粗さＲ
ａ2 が１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲｚ2 が８０ｎｍ以
下、最大高さＲｍａｘ2 が１５０ｎｍ以下、厚さが１０
〜４００ｎｍである、ダイコーティング法によって形成
されたマスキング層２が設けられてなるものを用いる。 【効果】 安価であるとともに金属磁性薄膜が良好な表
面性で形成されており、走行耐久性，電磁変換特性に優
れるとともに、走行時の当たり変動や再生画像の色ムラ
が抑制され、さらに、磁気ヘッドを偏摩耗させることの
ない磁気記録媒体を得ることが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空蒸着法，スパッタ
リング法等の真空薄膜形成技術によって磁性層が形成さ
れる，いわゆる金属薄膜型の磁気記録媒体に適用される
磁気記録媒体用支持体及び磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、非磁
性支持体上に酸化物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の
粉末磁性材料を塩化ビニルー酢酸ビニル系共重合体，ポ
リエステル樹脂，ウレタン樹脂，ポリウレタン樹脂等の
有機結合剤中に分散せしめた磁性塗料を塗布，乾燥する
ことにより作製される，いわゆる塗布型の磁気記録媒体
が広く使用されている。

【０００３】これに対して、高密度記録への要求の高ま
りとともに、Ｃｏ−Ｎｉ合金，Ｃｏ−Ｃｒ合金，Ｃｏ−
Ｏ等の金属磁性材料を、メッキや真空薄膜形成手段（真
空蒸着法，スパッタリング法，イオンプレーティング法
等）によって非磁性支持体上に直接被着した、いわゆる
金属薄膜型の磁気記録媒体が提案されて注目を集めてい
る。この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は抗磁力や角形
比等に優れ、短波長での電磁変換特性に優れるばかりで
なく、磁性層の厚みをきわめて薄くできる為、記録減磁
や再生時の厚み損失が著しく小さいこと、磁性層中に非
磁性材であるその結合剤を混入する必要が無いため磁性
材料の充填密度を高めることが出来ることなど、数々の
利点を有している。

【０００４】ところで、このような磁気記録媒体におい
ては、磁性層の表面性が電磁変換特性，走行性，ドロッ
プアウトの発生頻度等を大きく左右する。例えば、磁性
層表面があまり粗いと、記録再生に際してガイドロール
等の摺動部材や磁気ヘッドに対する摺動性が不良になっ
て電磁変換特性，走行性が劣化するとともにドロップア
ウトの発生頻度が高くなり耐久性，記録再生特性が不十
分となる。また、磁気ヘッドが特にギャップ近傍に金属
磁性薄膜が配されたメタルインギャップ型ヘッドの場合
には、該ヘッドを偏摩耗させ、出力減衰を誘起する。

【０００５】このため、磁気記録媒体においては、磁性
層の表面性を制御するべく各種手法が講じられ、非磁性
支持体の成膜条件を調整して非磁性支持体の平滑性を向
上させるとともに、非磁性支持体にフィラーを内添し、
そのフィラーの大きさ，密度を制御することで適度な表
面粗度を与えることが行われるようになっている。

【０００６】すなわち、非磁性支持体上に例えば膜厚
０．２μｍ程度の金属磁性薄膜を成膜する場合、該金属
磁性薄膜の表面には非磁性支持体の表面形状が顕著に反
映される。したがって、非磁性支持体の表面粗度が最適
化されていれば、その上に形成される金属磁性薄膜も良
好な表面性を有することになり、走行耐久性，記録再生
特性に優れた磁気記録媒体が得られることになる。

【０００７】例えば、真空蒸着法によって金属磁性薄膜
が成膜された蒸着タイプの磁気テープでは、このような
制御手法によって中心線平均粗さＲａが５ｎｍ，十点平
均粗さＲｚが３９ｎｍ，最大高さＲｍａｘが５５ｎｍ程
度となるように調整された，塗布型の磁気記録媒体にお
いて用いられているよりもさらに表面粗度の低い非磁性
支持体が主に用いられている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように表面粗度の低い非磁性支持体は、その製造工程に
おいて、摺接するロールに対する接触面積が広いことか
ら摩擦係数が大きく、走行性不良となってしまう割合が
大きい。このため、歩留りが低く、製造コストが高くな
るといった問題がある。

【０００９】これを解決するために、本出願人は、特開
平７−３７２３５号公報に開示されるように、比較的表
面粗度が高い非磁性支持体上に０．５〜４．０μｍなる
厚さのマスキング層が設けられた磁気記録媒体用支持体
および磁気記録媒体についての提案を行っている。非磁
性支持体の金属磁性薄膜が形成される面に、表面粗度を
制御するためのマスキング層を形成すれば、非磁性支持
体として表面粗度がそれ程厳密に制御されたものを用い
なくとも表面性の良好な金属磁性薄膜が形成できる。

【００１０】但し、このマスキング層の厚さ０．５〜
４．０μｍは、例えばグラビアコーティング法によって
形成される場合には適しているが、他の方法を用いる場
合にも適しているとは限らない。また、グラビアコーテ
ィング法においては、グラビアロールの形状が、形成さ
れたマスキング層の表面状態に影響を与えやすい。

【００１１】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、マスキング層をダイコー
ティング法によって形成することにより、金属磁性薄膜
が形成される面が良好な表面性であるとともに製造コス
トが低く、走行耐久性，電磁変換特性に優れるとともに
安価な磁気記録媒体を実現することが可能な磁気記録媒
体用支持体及び磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は上述の目的を達
成するため提案されたものであり、本発明に係る磁気記
録媒体用支持体は、中心線平均粗さＲａ1 が５〜２０ｎ
ｍ、十点平均粗さＲｚ1 が３０〜４５０ｎｍ、最大高さ
Ｒｍａｘ1 が３０〜４５０ｎｍである非磁性支持体上
に、中心線平均粗さＲａ2 が１０ｎｍ以下、十点平均粗
さＲｚ2 が８０ｎｍ以下、最大高さＲｍａｘ2 が１５０
ｎｍ以下、厚さが０．０１〜０．４μｍであるマスキン
グ層が設けられてなるものである。

【００１３】ここで、マスキング層表面における中心線
平均粗さＲａ2 は、非磁性支持体表面における中心線平
均粗さＲａ1 以下であり、且つ、マスキング層表面にお
ける十点平均粗さＲｚ1 は、非磁性支持体表面における
十点平均粗さＲｚ2 以下であり、且つ、マスキング層表
面における最大高さＲｍａｘ1 は、非磁性支持体表面に
おける最大高さＲｍａｘ2 以下である。

【００１４】本発明の磁気記録媒体用支持体において
は、上述のマスキング層が、粒径１０〜４００ｎｍの非
磁性顔料を結合剤に分散させてなる層であって好適であ
る。

【００１５】このマスキング層は、非磁性顔料、結合剤
を有機溶剤に分散、混練されてなる塗料を非磁性支持体
表面に塗布することによって得られる。

【００１６】上記非磁性顔料としては、コロイダルシリ
カや金属超微粒子等の球状粒子が好ましく、この他、カ
ーボン（例えば、カーボンブラック）、ヘマタイト、雲
母、酸化マグネシウム、硫化亜鉛、炭化タングステン、
窒化ホウ素、デンプン、酸化亜鉛、カオリン、タルク、
粘土、硫酸鉛、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マ
グネシウム、ベーム石（γーＡｌ₂ Ｏ₃ ・Ｈ₂ Ｏ），ア
ルミナ、硫化タングステン、酸化チタン、ポリテトラフ
ルオロエチレン粉末、ポリエチレン粉末、ポリ塩化ビニ
ル粉末等が挙げられる。これらは単独で用いても複数の
ものを組み合わせて用いるようにしても差し支えない。

【００１７】なお、これら非磁性顔料には、平均粒子径
が１０〜４００ｎｍ，より好ましくは６０〜３００ｎｍ
と、非磁性支持体そのものに内添して表面粗度を制御す
る場合よりも幾分大きな粒径のものを用いることが望ま
しい。但し、粒径が４００ｎｍを越える非磁性顔料を用
いた場合には、マスキング層の厚さより粒径が勝り、マ
スキング層の表面性を劣化させるため、磁気記録媒体の
電磁変換特性を劣化させる虞れがある。また、マスキン
グ層の厚さと粒径の関係から突起高さが大きくなりすぎ
ることによっても電磁変換特性が劣化する。一方、粒径
が１０ｎｍ未満の非磁性顔料は、工業的に安定に作製す
るのが難しいことから、適さない。

【００１８】上記非磁性顔料を分散させる結合剤として
は、アクリル酸エステル系ラテックス，合成ゴム系ラテ
ックスが望ましく、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体，
塩化ビニルー酢酸ビニルービニルアルコール共重合体，
塩化ビニルー酢酸ビニルーマレイン酸共重合体，塩化ビ
ニルー塩化ビニリデン共重合体，塩化ビニルーアクリロ
ニトリル共重合体，アクリル酸エステルーアクリロニト
リル共重合体，アクリル酸エステルー塩化ビニリデン共
重合体，メタクリル酸エステルースチレン共重合体，熱
可塑性ポリウレタン樹脂，フェノキシ樹脂，ポリ弗化ビ
ニル，塩化ビニリデンーアクリロニトリル共重合体，ブ
タジエンーアクリロニトリル共重合体，ブタジエンーア
クリロニトリルーメタクリル酸共重合体，ポリビニルブ
チラール，セルロース誘導体，スチレンーブタジエン共
重合体，ポリエステル樹脂，フェノール樹脂，エポキシ
樹脂，熱硬化性ポリウレタン樹脂，尿素樹脂，メラミン
樹脂，アルキド樹脂，尿素ーホルムアルデヒド樹脂また
はこれらの混合物等が挙げられる。なかでもポリウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリロニトリルーブタジ
エン共重合体は柔軟性を付与できることから好ましい。
また、結合剤としては、これら樹脂にイソシアネート化
合物で架橋を持たせて耐久性を向上させたり、適当な極
性基を導入したものであってもよい。

【００１９】有機溶媒としては、アセトン，メチルエチ
ルケトン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサン等
のケトン系溶剤、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸ブチ
ル，乳酸エチル，酢酸グリコールモノエチルエステル等
のエステル系溶剤、グリコールジメチルエーテル，グリ
コールモノエチルエーテル，ジオキサン等のグリコール
エーテル系溶剤、ベンゼン，トルエン，キシレン等の芳
香族炭化水素系溶剤、メチレンクロライド，エチレンク
ロライド，四塩化炭素，クロロホルム，エチレンクロル
ヒドリン，ジクロロベンゼン等の有機塩素化合物系溶剤
が挙げられる。

【００２０】一方、上述したような非磁性顔料、結合
剤、有機溶剤よりなる塗料が塗布される非磁性支持体
は、上述したように、中心線平均粗さＲａ1 が５〜２０
ｎｍ、十点平均粗さＲｚ1 が３０〜４５０ｎｍ、最大高
さＲｍａｘ1 が３０〜４５０ｎｍである、従来より金属
磁性薄膜型の磁気テープにおいて用いられている非磁性
支持体よりも表面粗度が高く、グレードの低いものであ
る。このような非磁性支持体の金属磁性薄膜が形成され
る面に上記塗料を塗布してマスキング層を形成すると、
マスキング層に内添された非磁性顔料によって適度な粗
度が付与されながら非磁性支持体表面のフィッシュアイ
と称される突起状物や凹凸がマスキングされる。そし
て、マスキング層表面においては、中心線平均粗さＲａ
2 が１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲｚ2 が８０ｎｍ以
下、最大高さＲｍａｘ2 が１５０ｎｍ以下となり、１グ
レード上の非磁性支持体に匹敵する支持体が得られるこ
とになる。

【００２１】中心線平均粗さＲａ1 、十点平均粗さＲｚ
1 、最大高さＲｍａｘ1 が上記範囲を下回るような表面
粗度が低くグレードの高い非磁性支持体を用いた場合に
は、磁気記録媒体を高価なものにするが、このように比
較的表面粗度が高い非磁性支持体にマスキング層が形成
されてなる支持体では、非磁性支持体が製造工程におい
て走行不良となり難く歩留りが良いこと、マスキング層
の形成もほとんどコスト上昇に繋がらないことから製造
コストが低い。したがって、このような支持体を用いる
ことにより、安価で且つ磁性層表面が良好な磁気記録媒
体を実現することになる。なお、表面粗度が上記範囲を
下回る非磁性支持体は、高価であると同時に表面が平滑
過ぎるため上記マスキング層が定着し難く、マスキング
層によって表面粗度を制御するには適さない。一方、表
面粗度が上記範囲を上回る非磁性支持体は、安価ではあ
るが、表面粗度が粗過ぎ、マスキング層を形成してもそ
の粗度を実用範囲内に収めることができず、磁気記録媒
体の電磁変換特性を劣化させるためやはり不適当であ
る。なお、非磁性支持体として、より好ましくは中心線
平均粗さＲａ1 が５〜１０ｎｍ、十点平均粗さＲｚ1 が
３０〜２５０ｎｍ、最大高さＲｍａｘ1 が３０〜２５０
ｎｍを用いることが望ましい。

【００２２】ところで、マスキング層を形成するため
の、上述したような非磁性顔料、結合剤、有機溶剤より
なる塗料を非磁性支持体上に塗布するには、グラビアコ
ーティング法も適用可能ではあるが、グラビアロールの
形状に影響されない塗膜が得られる、ダイコーティング
法を適用して好適である。

【００２３】なお、上述のマスキング層は、塗料を塗布
後、乾燥することによって形成される。このとき、マス
キング層の表面性を向上させるには、マスキング層に用
いる結合剤の分子量やガラス転移点を高めに設定するこ
とが好ましい。また、乾燥工程後に、カレンダー処理を
施することで平坦化するようにしても良い。

【００２４】ここで、マスキング層用の塗料は、乾燥後
あるいはカレンダー処理後のマスキング層の膜厚が１０
〜４００ｎｍ、さらに望ましくは１００〜４００ｎｍと
なるように塗布されて好適である。マスキング層の膜厚
が１０ｎｍ未満であるとマスキング層による表面粗度制
御効果が十分に得られない。また、塗布厚のムラが磁気
記録媒体の特性に影響を及ぼすこととなる。逆に、マス
キング層の膜厚が４００ｎｍを越えると、ダイコーティ
ング法による塗布厚制御が困難となり、使用する結合剤
の選定、塗料中の固形分濃度の選定に制約を受けること
となる。

【００２５】本発明に係る磁気記録媒体は、以上のよう
な支持体上に、磁性層となる金属磁性薄膜が成膜されて
構成される。

【００２６】金属磁性薄膜に用いられる金属磁性材料に
は、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体において、通常、用
いられるものがいずれも使用可能である。例示するなら
ば、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉなどの強磁性金属、Ｆｅ−Ｃｏ，
Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃ
ｕ，Ｃｏ−Ａｕ，Ｃｏ−Ｐｔ，Ｍｎ−Ｂｉ，Ｍｎ−Ａ
ｌ，Ｆｅ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等
の強磁性合金が挙げられる。

【００２７】これら金属磁性材料は、真空下で強磁性金
属磁性材料を加熱蒸発させ支持体上に沈着させる真空蒸
着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行うイオンプ
レーティング法、アルゴンを主成分とする雰囲気中でグ
ロー放電を越こし生じたアルゴンイオンでターゲット表
面の原子をたたき出すスパッタ法等のいわゆるＰＶＤ技
術によって薄膜とされる。磁性層としてはこれら手法に
よって成膜される金属磁性薄膜の単層膜あるいは多層膜
のいずれでも良い。なお、非磁性支持体と金属磁性薄膜
の間，さらには金属磁性薄膜が多層膜である場合には金
属磁性薄膜同士の間に、各層間の付着力向上，抗磁力の
制御等を図るために下地層，中間層を設けるようにして
も良い。また、これら金属磁性薄膜の表面近傍は、耐蝕
性改善等を目的として酸化物層となっていてもよい。

【００２８】マスキング層が設けられた支持体上に以上
のような手法によって金属磁性材料を被着すると、金属
磁性薄膜が上記支持体の表面形状を反映して良好な表面
性をもって形成され、安価であるとともに走行耐久性，
電磁変換特性に優れ且つ磁気ヘッドを偏摩耗させること
のない磁気記録媒体が獲得できる。

【００２９】なお、本発明の磁気記録媒体には、磁性層
上に保護膜が形成されていたり、支持体の磁性層が形成
されている側とは反対側の面にバックコート層が形成さ
れていても良い。

【００３０】保護膜としては、以下に例示する材料を真
空蒸着法，イオンプレーティング法，スパッタ法等のＰ
ＶＤ技術や、プラズマＣＶＤ法，ＥＣＲプラズマＣＶＤ
法，アークジェットプラズマＣＶＤ法等のＣＶＤ法で成
膜した薄膜等、通常、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体に
おいて形成されている保護膜が形成される。

【００３１】上記保護膜の材料には、カーボン，ＣｒＯ
₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，ＢＮ，Ｃｏ酸化物、ＭｇＯ，Ｓｉ
Ｏ₂ ，Ｓｉ₃ Ｏ₄ ，ＳｉＮ_x ，ＳｉＣ，ＳｉＮ_x −Ｓｉ
Ｏ₂ ，ＺｒＯ₂ ，ＴｉＯ₂ ，ＴｉＣ等の酸化物やセラミ
ックス、Ｃｕ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｚｎ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｚｒ，
Ａｌ，Ｓｎ，Ｔａ，Ｃｒ−Ｔｉ，Ｃｒ−Ｚｒ，Ｃｒ−Ｎ
ｂ，Ｃｒ−Ｔａ，Ｃｒ−Ａｌ，Ｃｒ−Ｚｒ，Ｃｕ−Ｎ
ｉ，Ｎｉ−Ｍｏ−Ｃｒ−Ｆｅ等の金属または合金が挙げ
られる。保護膜は、これらの単層膜，複合膜あるいは複
数の材料を組み合わせた複合膜としても良い。

【００３２】バックコート層としては、やはり、通常の
磁気記録媒体において形成されているようなカーボンブ
ラック等の帯電防止効果や摩擦低減効果を有する非磁性
粉末が結合剤中に分散されてなる非磁性層で良い。

【００３３】さらに、上記磁気記録媒体には、マスキン
グ層上に微小突起を形成する下塗層を形成したり、トッ
プ面に潤滑剤、防錆剤等よりなる層を形成するようにし
ても良い。これら層に用いられる材料には、従来公知の
ものがいずれも使用可能である。

【００３４】

【作用】中心線平均粗さＲａが５〜２０ｎｍ、十点平均
粗さＲｚが３０〜４５０ｎｍ、最大高さＲｍａｘが３０
〜４５０ｎｍと表面粗度が比較的高い非磁性支持体上
に、中心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以下、十点平均粗さ
Ｒｚが８０ｎｍ以下、最大高さＲｍａｘが１５０ｎｍ以
下、厚さが１０〜４００ｎｍであるマスキング層が設け
られてなる磁気記録媒体用支持体では、非磁性支持体そ
のものが製造工程において走行不良となり難く歩留りが
良いこと、マスキング層の形成もそれ程コスト上昇に繋
がらないことから製造コストが低い。また、上記支持体
は表面がマスキング層によって低粗度となされているの
で、このマスキング層上に金属磁性材料を被着すると金
属磁性薄膜が上記支持体の表面形状を反映して良好な表
面性をもって形成される。

【００３５】このため、このような支持体により構成さ
れる磁気記録媒体は、安価であるとともに、走行耐久
性、電磁変換特性に優れ、これに摺接する磁気ヘッドを
偏摩耗させることのない磁気記録媒体となる。

【００３６】また、マスキング層がダイコーティング法
によって形成されると、グラビアコーティング法によっ
て形成された場合のように、グラビアロールの形状がマ
スキング層の表面状態に影響を与えることがない。

【００３７】このため、このようなマスキング層が形成
された磁気記録媒体は、磁気テープとしてビデオテープ
レコーダに搭載して再生走行させたとき、当たり変動が
小さく、Ｓ／Ｎ比にも優れたものとなる。

【００３８】

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明がこの実施例に限定されるものでないこ
とは言うまでもない。

【００３９】実施例１ 本実施例では、図１に示すようにＰＥＴフィルムよりな
る非磁性支持体１上にマスキング層２，金属磁性薄膜
３，保護膜４が形成され、これら層が形成された側とは
反対側の面にバックコート層５が形成されてなる磁気記
録媒体を以下のようにして作製した。

【００４０】まず、 厚さ１０μｍ，幅１５０ｍｍであ
り、ＳＲａ1 が６ｎｍ，ＳＲｚ1 が６０ｎｍ，ＳＲｍａ
ｘ1 が６６ｎｍなるポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム１上に以下の組成を有するマスキング層用
塗料をダイコーティング法によって塗布した。

【００４１】 マスキング層用塗料の組成 非磁性顔料 ：平均粒径４０ｎｍのコロイダルシリカ ９０重量部 平均粒径１８０ｎｍのコロイダルシリカ １０重量部 結合剤 ：アクリル酸エステル １００重量部 有機溶剤 ：エタノール 塗布厚に合わせて調整 その後、乾燥、カレンダー処理を施すことで平坦化し、
膜厚４００ｎｍのマスキング層２を形成し、支持体を作
製した。このとき形成されたマスキング層２の表面粗度
は、ＳＲａ2 が５ｎｍ，ＳＲｚ2 が３９ｎｍ，ＳＲｍａ
ｘ2 が４６ｎｍである。

【００４２】なお、上述した表面粗度の値は、小坂研究
所社製，商品名ＳＥ−３０Ｈの表面粗度測定装置を用
い、倍率５００００倍，測定長１ｍｍ，カットオフ値
０．０８ｍｍの条件で測定したものである。

【００４３】このようにして形成されたマスキング層２
上にＣｏ₉₅−Ｎｉ₅ 合金（添字は重量％を表す。）を蒸
着源に用いて真空蒸着法により膜厚０．２μｍの金属磁
性薄膜３を成膜した。金属磁性薄膜３を成膜するのに用
いた蒸着装置の構成を図２に示す。

【００４４】上記蒸着装置は、頭部と底部にそれぞれ設
けられた排気口２５から排気されて内部が真空状態とな
された真空室１１内に、送りロール１３，巻き取りロー
ル１４とが配設されており、これら送りロール１３から
巻き取りロール１４に向かってテープ状の支持体１２が
順次走行されるようになされている。

【００４５】これら送りロール１３から巻き取りロール
１４側に上記支持体１２が走行する中途部には、上記各
ロール１３，１４よりも大径となされた冷却キャン１５
が配設されている。

【００４６】この冷却キャン１５は、上記支持体１２を
図中下方に引き出すように設けられている。この冷却キ
ャン１５には、内部に冷却装置（図示せず。）が設けら
れており、上記支持体１２の温度上昇による変形等を抑
制し得るようになされている。

【００４７】なお、上記送りロール１３，巻き取りロー
ル１４及び冷却キャン１５は、それぞれ上記支持体１２
の幅と略同じ長さからなる円筒状をなすものである。

【００４８】従って、上記支持体１２は、上記送りロー
ル１３から順次送り出され、上記冷却キャン１５の周面
に沿って移動走行され、更に上記巻き取りロール１４に
順次巻き取られているようになされている。

【００４９】また、上記送りロール１３と上記冷却キャ
ン１５との間、及び該冷却キャン１５と上記巻き取りロ
ール１４との間には、各ロール１３，１４より小径のガ
イドロール１６，１７がそれぞれ配設され、上記送りロ
ール１３から上記冷却キャン１５、該冷却キャン１５か
ら上記巻き取りロール１４に亘って走行する上記支持体
１２に所定のテンションをかけ、該支持体１２が円滑に
走行するようになされている。

【００５０】また、上記真空室１１内には、上記冷却キ
ャン１５の下方にルツボ１８が配設され、このルツボ１
８内に強磁性金属材料１９が充填されている。なお、上
記ルツボ１８は、上記冷却キャン１５の幅と略同一の幅
を有してなる。

【００５１】一方、上記真空室１１の側壁部には、上記
ルツボ１８内に充填された強磁性金属材料を加熱蒸発さ
せるための電子銃２０が取付けられている。この電子銃
２０は、該電子銃２０より放出される電子ビームＸが上
記ルツボ１８内の強磁性金属材料１９に照射されるよう
な位置に配設される。そして、この電子銃２０によって
加熱蒸発せしめられた上記強磁性金属材料１９が上記冷
却キャン１５の周面を定速走行する支持体１２上に蒸着
され、磁性層である金属磁性薄膜３が形成されるように
なっている。

【００５２】また、上記冷却キャン１５と上記ルツボ１
８との間であって該冷却キャン１５の近傍には、シャッ
タ２３が配設される。このシャッタ２３は、上記冷却キ
ャン１５の周面に沿って定速走行する支持体１２の所定
領域を覆うかたちで形成され、該支持体１２の表面に対
する強磁性金属材料１９の入射方向を制御するようにな
されている。すなわち、蒸発せしめられた上記強磁性金
属材料１９は、上記シャッタ２３の送りロール１３側の
端部によって上記支持体１２の表面に対する最低入射角
θ₁ が規制され、所定の角度範囲θ₂ 〜θ₁ で斜めに蒸
着される。

【００５３】さらに、このような蒸着に際し、上記真空
室１１の側壁部を貫通して設けられる酸素ガス導入口
（図示せず。）を介して上記支持体１２の表面付近に酸
素ガスが供給されており、得られる金属磁性薄膜３の磁
気特性、耐久性及び耐候性の向上が図られている。

【００５４】この真空蒸着は、上記真空室１内の真空度
を１×１０^-4Ｔｏｒｒ程度に保持するとともに、この真
空室１内に上記酸素ガス導入口より酸素ガスを例えば
２．５×１０^-6ｍ³ ／秒程度の割合で導入しながら行
う。この場合、上記支持体２に対する上記強磁性金属材
料９の入射角は、４５〜９０°の範囲とする。

【００５５】なお、上記金属磁性薄膜３の成膜条件は以
下の通りである。

【００５６】金属磁性薄膜の成膜条件 蒸着源 ：Ｃｏ₉₅−Ｎｉ₅ 合金 入射角 ：４５〜９０° テープ速度 ：０．１７ｍ／秒 膜厚 ：０．２μｍ 酸素導入量 ：３．３×１０^-6ｍ³ ／秒 蒸着時真空度 ：７×１０^-2Ｐａ 金属磁性薄膜３の成膜後、該金属磁性薄膜３上にカーボ
ンをターゲットに用いてＤＣマグネトロンスパッタ法に
より膜厚１０ｎｍの保護膜４を成膜した。保護膜４の成
膜条件は以下の通りである。

【００５７】保護膜の成膜条件 ターゲット ：カーボン スパッタガス ：アルゴン バックグランド真空度 ：４×１０^-3Ｐａ 成膜時真空度 ：２Ｐａ テープ速度 ：０．１５ｍ／秒 膜厚 ：１０ｎｍ 次いで、以下の組成に準じて、各バックコート組成物を
ボールミルに投入して２４時間分散，混合した後、架橋
剤を添加してバックコート塗料を調整した。

【００５８】バックコート塗料の組成 カーボンブラック： １００重量部 ポリウレタン樹脂： １００重量部 そして、調整されたバックコート塗料を非磁性支持体１
の金属磁性薄膜３が形成された側とは反対側の表面に塗
布して膜厚０．６μｍのバックコート層５を形成した。

【００５９】さらに、保護膜４上にパーフルオロポリエ
ーテルを塗布してトップコート層を形成した後、８ｍｍ
幅にスリットして磁気テープを作製した。これを実施例
１のサンプルテープとする。

【００６０】なお、この実施例１のサンプルテープにお
ける、非磁性支持体１の表面粗度（ＳＲａ1 ，ＳＲｚ1
，ＳＲｍａｘ1 ）の値、マスキング層２の厚さおよび
表面粗度（ＳＲａ2 ，ＳＲｚ2 ，ＳＲｍａｘ2 ）の値を
表１にまとめる。

【００６１】

【表１】

【００６２】実施例２〜実施例８ 非磁性支持体１として表１に示す表面粗度を有するＰＥ
Ｔフィルムを用い、マスキング層２の膜厚を表１に示す
ように変えたこと以外は実施例１と同様にして磁気テー
プを作製し、実施例２〜実施例８のサンプルテープを得
た。

【００６３】なお、各サンプルテープにおけるマスキン
グ層２の表面粗度は表１に示す通りである。

【００６４】実施例９〜実施例１１ マスキング層２の非磁性顔料の種類および粒径を表２に
示すように変更するとともに、該マスキング層２の膜厚
を表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にし
て磁気テープを作製し、実施例９〜実施例１１のサンプ
ルテープを得た。

【００６５】

【表２】

【００６６】なお、各サンプルテープにおけるマスキン
グ層２の表面粗度は表１に示す通りである。

【００６７】比較例１ 非磁性支持体１の表面粗度が表１に示されるものである
とともに、マスキング層２を形成しないこと以外は実施
例１と同様にして磁気テープを作製し、比較例１のサン
プルテープを得た。

【００６８】なお、ここで用いる非磁性支持体１は従来
より蒸着タイプの磁気テープに用いられているＰＥＴフ
ィルムである。

【００６９】比較例２，比較例３ 非磁性支持体１の表面粗度が表１に示されるものであ
り、マスキング層２の膜厚を表１に示すように変更した
以外は実施例１と同様にして磁気テープを作製し、比較
例２，比較例３のサンプルテープを得た。

【００７０】なお、各サンプルテープにおけるマスキン
グ層２の表面粗度は表１に示す通りである。

【００７１】比較例４，比較例５ マスキング層２の非磁性顔料の種類および粒径を表２に
示すように変更するとともに、該マスキング層２の膜厚
を表１に示すように変更した以外は実施例１と同様にし
て磁気テープを作製し、比較例４，比較例５のサンプル
テープを得た。

【００７２】なお、比較例４のサンプルテープにおける
マスキング層２の表面粗度は表１に示す通りである。比
較例５のサンプルテープにおいては、マスキング層２の
形成後、該マスキング層２からのカーボン粒子の脱落が
激しく起こり、表面粗度の測定が困難であった。

【００７３】比較例６〜比較例９ 表面粗度が表１に示される非磁性支持体１に対して、実
施例１と組成を有するマスキング層用塗料をグラビアコ
ーティング法にて塗布することにより、表１に示すよう
な膜厚にマスキング層２を形成した以外は実施例１と同
様にして磁気テープを作製した。これによって、比較例
６〜比較例９のサンプルテープを得た。

【００７４】なお、各サンプルテープにおけるマスキン
グ層２の表面粗度は表１に示す通りである。

【００７５】特性の評価 以上のようにして作製された各サンプルテープに対し
て、シャトル耐久性、電磁変換特性、走行時の当たり変
動、再生画像の色ムラについての評価を行った。

【００７６】ここで、シャトル耐久性は、記録再生装置
（ソニー社製，商品名ＥＶ−Ｓ９００改造機）を用い
て、２時間長の磁気テープを１００回シャトル走行させ
て１００回走行後の出力レベルを測定し、初期の出力レ
ベルを０ｄＢとして相対値換算することで評価した。

【００７７】電磁変換特性は、上記記録再生装置を用い
て、各サンプルテープに記録された波長０．５４μｍ信
号の出力レベルを測定し、比較例１の出力値を０ｄＢと
して相対値換算することで評価した。

【００７８】走行時の当たり変動および再生画像の色ム
ラは、上述の各サンプルテープにカラーバーを記録し、
走行させながら出力されるＲＦ波形をオシロスコープで
観察すると共に、モニター画面上での色ムラの発生の有
無を確認した。なお、上述のＲＦ波形および色ムラは、
○が何等問題のないレベル、△は視覚上許容できるレベ
ル、×は視覚上問題があるレベルとして評価した。これ
らの評価結果を表３に示す。

【００７９】

【表３】

【００８０】なお、ここでは、上述の評価結果を、各サ
ンプルテープの非磁性支持体１の表面粗度およびマスキ
ング層２の表面粗度に照らし合わせて考察する。

【００８１】まず、実施例１〜実施例１１，比較例２〜
比較例９について非磁性支持体１の表面粗度とマスキン
グ層２の表面粗度を比較すると、比較例４〜比較例６を
除くいずれの場合にもマスキング層２の表面粗度の方が
非磁性支持体１の表面粗度よりも低くなっている。この
ことから、非磁性支持体１上にマスキング層２を形成す
ることは、該非磁性支持体１の凹凸をマスキングし表面
粗度の小さい支持体を得る上で有効であることがわか
る。

【００８２】しかし、比較例６のようにマスキング層２
の厚さが薄すぎると、表面粗度を低くする効果が得られ
ず、また、比較例４のようにマスキング層２に含有され
る非磁性顔料の粒径が大きすぎても、表面粗度が十分に
小さくならない。即ち、これらのサンプルテープは、シ
ャトル耐久性、電磁変換特性を測定できるようなもので
はなく、再生走行を行わせても、ドロップアウトが多
く、実用上使用できるようなものではなかった。

【００８３】さらに、比較例５のように非磁性顔料の粒
径が大きすぎ、且つマスキング層２の厚さも薄い場合、
該非磁性顔料の脱落が激しく起こるため、マスキング層
２の表面粗度を測定することが困難であるのみならず、
脱落した非磁性顔料が金属磁性薄膜の成膜プロセス中、
蒸着装置のガイドロール１６，１７や冷却キャン１５に
付着し、金属磁性薄膜に傷や熱負けを発生させるため、
上述したようなシャトル耐久性、電磁変換特性、走行時
の当たり変動や再生画像の色ムラについての評価も不可
能であった。

【００８４】また、比較例２のようにマスキング層２の
厚さが厚すぎる場合には、ダイコーティング法での塗布
厚制御が困難となり、マスキング層２の表面状態が劣化
する結果、走行時の当たり変動や再生画像の色ムラが劣
化する。

【００８５】なお、比較例３、比較例７のように、非磁
性支持体１自体の表面粗度が大きすぎる場合には、マス
キング層２を設けても、該マスキング層２の表面粗度を
十分に低減させるに至らないため、シャトル特性、電磁
変換特性が著しく劣化する。

【００８６】さらに、比較例６〜比較例９のように、グ
ラビアコーティング法によってマスキング層２を形成し
た場合、いずれも走行時の当たり変動が確認され、これ
に起因する再生画像の色ムラも発生している。

【００８７】これに対して、実施例１〜実施例１１のサ
ンプルテープにおいては、十分なシャトル耐久性、電磁
変換特性を有するとともに、走行時の当たり変動や再生
画像の色ムラの劣化もない。

【００８８】以上の結果から、マスキング層２を形成す
ることによって、十分なシャトル耐久性や電磁変換特性
を得、走行時の当たり変動や再生画像の色ムラを劣化さ
せないためには、非磁性支持体１の表面粗度、マスキン
グ層２に内添する非磁性顔料の粒径、マスキング層２の
厚さが適正であり、マスキング層２が十分に小さい表面
粗度で形成されていることが必要であることがわかっ
た。

【００８９】即ち、非磁性支持体１の中心線平均粗さＲ
ａ1 が５〜２０ｎｍ，十点平均粗さＲｚ1 が３０〜４５
０ｎｍ，最大高さＲｍａｘ1 が３０〜４５０ｎｍ、マス
キング層２に内添する非磁性顔料の粒径が１０〜４００
ｎｍ、マスキング層２の厚さが１０〜４００ｎｍ、マス
キング層２の中心線平均粗さＲａ2 が１０ｎｍ以下、十
点平均粗さＲｚ2 が８０ｎｍ以下、最大高さＲｍａｘ2
が１５０ｎｍ以下であることが必要であり、マスキング
層２はダイコーティング法によって形成されることが好
ましいことがわかった。

【００９０】なお、比較例１の磁気テープは、シャトル
耐久性、電磁変換特性に優れており、走行時の当たり変
動や再生画像の色ムラの劣化もないが、実施例１〜実施
例１１の磁気テープに比べて表面粗度が低い、グレード
の高いＰＥＴフィルムを用いていることから製造コスト
がかかる。

【００９１】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、金属薄膜型の磁気記録媒体の支持体として、中
心線平均粗さＲａ1 が５〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲｚ
1 が３０〜４５０ｎｍ、最大高さＲｍａｘ1 が３０〜４
５０ｎｍである非磁性支持体上に、中心線平均粗さＲａ
2 が１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲｚ2 が８０ｎｍ以
下、最大高さＲｍａｘ2 が１５０ｎｍ以下、厚さが１０
〜４００ｎｍであるマスキング層が設けられてなるもの
を用いるので、安価であるとともに金属磁性薄膜が良好
な表面性で形成されており、走行耐久性，電磁変換特性
に優れ、磁気ヘッドを偏摩耗させることのない磁気記録
媒体を得ることが可能である。

【００９２】また、ダイコーティング法によってマスキ
ング層を形成することにより、再生時の当たり変動や色
ムラを抑制できるため、より品質の高い磁気記録媒体を
提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気記録媒体の一構成例を示
す要部概略断面図である。

【図２】支持体上に金属磁性薄膜を成膜するための蒸着
装置を示す模式図である。

【符号の説明】

１ 非磁性支持体 ２ マスキング層 ３ 金属磁性薄膜 ４ 保護膜 ５ バックコート層

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 中心線平均粗さＲａ1 が５〜２０ｎｍ、
   十点平均粗さＲｚ1 が３０〜４５０ｎｍ、最大高さＲｍ
   ａｘ1 が３０〜４５０ｎｍである非磁性支持体上に、中
   心線平均粗さＲａ2 が１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲｚ
   2 が８０ｎｍ以下、最大高さＲｍａｘ2 が１５０ｎｍ以
   下、厚さが１０〜４００ｎｍであるマスキング層が設け
   られてなることを特徴とする磁気記録媒体用支持体。
2. 【請求項２】 マスキング層表面における中心線平均粗
   さＲａ2 は、非磁性支持体表面における中心線平均粗さ
   Ｒａ1 以下であり、且つ、マスキング層表面における十
   点平均粗さＲｚ1 は、非磁性支持体表面における十点平
   均粗さＲｚ2 以下であり、且つ、マスキング層表面にお
   ける最大高さＲｍａｘ1 は、非磁性支持体表面における
   最大高さＲｍａｘ2 以下であることを特徴とする請求項
   １記載の磁気記録媒体用支持体。
3. 【請求項３】 マスキング層が、粒径１０〜４００ｎｍ
   の非磁性顔料を結合剤に分散させてなる層であることを
   特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体用支持体。
4. 【請求項４】 マスキング層が、ダイコーティング法に
   より形成されたものであることを特徴とする請求項１記
   載の磁気記録媒体用支持体。
5. 【請求項５】 中心線平均粗さＲａ1 が５〜２０ｎｍ、
   十点平均粗さＲｚ1 が３０〜４５０ｎｍ、最大高さＲｍ
   ａｘ1 が３０〜４５０ｎｍである非磁性支持体上に、中
   心線平均粗さＲａ2 が１０ｎｍ以下、十点平均粗さＲｚ
   2 が８０ｎｍ以下、最大高さＲｍａｘ2 が１５０ｎｍ以
   下、厚さが１０〜４００ｎｍであるマスキング層が設け
   られてなる磁気記録媒体用支持体上に、金属磁性薄膜が
   形成されてなることを特徴とする磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 マスキング層表面における中心線平均粗
   さＲａ2 は、非磁性支持体表面における中心線平均粗さ
   Ｒａ1 以下であり、且つ、マスキング層表面における十
   点平均粗さＲｚ1 は、非磁性支持体表面における十点平
   均粗さＲｚ2 以下であり、且つ、マスキング層表面にお
   ける最大高さＲｍａｘ1 は、非磁性支持体表面における
   最大高さＲｍａｘ2 以下であることを特徴とする請求項
   ５記載の磁気記録媒体。
7. 【請求項７】 マスキング層が、粒径１０〜４００ｎｍ
   の非磁性顔料を結合剤に分散させてなる層であることを
   特徴とする請求項５記載の磁気記録媒体。
8. 【請求項８】 マスキング層が、ダイコーティング法に
   より形成されたものであることを特徴とする請求項５記
   載の磁気記録媒体。