JPH08259575A - 窒素含有アルコキシシラン及び疎水性金属酸化物粉体及びそれを有する電子写真現像剤 - Google Patents
窒素含有アルコキシシラン及び疎水性金属酸化物粉体及びそれを有する電子写真現像剤Info
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- JPH08259575A JPH08259575A JP7087688A JP8768895A JPH08259575A JP H08259575 A JPH08259575 A JP H08259575A JP 7087688 A JP7087688 A JP 7087688A JP 8768895 A JP8768895 A JP 8768895A JP H08259575 A JPH08259575 A JP H08259575A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 正帯電性、高い疎水性、流動性を有する窒素
含有アルコキシシランで処理した疎水性金属酸化物粉体
の提供 【構成】 【化５】 〔式中、Ｒは、２置換フェニル基であり、ここでＲ1 、
Ｒ2 は、水素又は炭素数１〜３のアルキル基である。ま
たＲ3 は炭素数１〜３のアルキル基であり、ｍは１〜３
の整数であり、Ｒ4 は、水素又は炭素数１〜４のアルキ
ル基又はベンジル基である。〕で示されることを特徴と
する窒素含有アルコキシシランであり、またこれで処理
した疎水性金属酸化物粉体であり、該疎水性金属酸化物
粉体を含む電子写真現像剤である。
含有アルコキシシランで処理した疎水性金属酸化物粉体
の提供 【構成】 【化５】 〔式中、Ｒは、２置換フェニル基であり、ここでＲ1 、
Ｒ2 は、水素又は炭素数１〜３のアルキル基である。ま
たＲ3 は炭素数１〜３のアルキル基であり、ｍは１〜３
の整数であり、Ｒ4 は、水素又は炭素数１〜４のアルキ
ル基又はベンジル基である。〕で示されることを特徴と
する窒素含有アルコキシシランであり、またこれで処理
した疎水性金属酸化物粉体であり、該疎水性金属酸化物
粉体を含む電子写真現像剤である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、材料表面に高い疎水性
と正帯電性を付与することができる窒素含有アルコキシ
シラン及び該化合物を有する疎水性金属酸化物粉体及び
それを有する電子写真現像剤に関する。
と正帯電性を付与することができる窒素含有アルコキシ
シラン及び該化合物を有する疎水性金属酸化物粉体及び
それを有する電子写真現像剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属酸化物粉体の表面を有機物によって
疎水化した、いわゆる疎水性金属酸化物粉体は、主に電
子写真、静電記録等において用いられる現像剤中のトナ
ーの流動性、クリーニング性を改良する処理剤として広
く用いられている。このような現像剤の用途において
は、キャリアである鉄あるいは酸化鉄に対する金属酸化
物粉体自体の帯電性、疎水性及び流動性を有することが
重要な性質となっており、そのための種々の処理剤が検
討されている。
疎水化した、いわゆる疎水性金属酸化物粉体は、主に電
子写真、静電記録等において用いられる現像剤中のトナ
ーの流動性、クリーニング性を改良する処理剤として広
く用いられている。このような現像剤の用途において
は、キャリアである鉄あるいは酸化鉄に対する金属酸化
物粉体自体の帯電性、疎水性及び流動性を有することが
重要な性質となっており、そのための種々の処理剤が検
討されている。
【０００３】近年、この電子写真等の複写機中に有機感
光体が使用されるにつれ、トナーの流動性、あるいはク
リーニング性を改良する処理剤に正帯電性を有するもの
が強く要求されるようになってきた。しがたってこの用
途に用いられる処理剤においては、アミノ変性シリコー
ンを用いた例がある。〔特開昭６３−１７４０５４号公
報、特開昭６３−１７４０５５号公報、特開昭６３−１
７４０５６号公報等を参照〕一方、上記用途に限らず、
アミノ基を有したアルコキシシランはガラス繊維等の無
機剤と有機樹脂中の密着性を改善する目的で多数使用さ
れているが、これをトナーの正帯電性を付与するための
処理剤として用いる例もある。
光体が使用されるにつれ、トナーの流動性、あるいはク
リーニング性を改良する処理剤に正帯電性を有するもの
が強く要求されるようになってきた。しがたってこの用
途に用いられる処理剤においては、アミノ変性シリコー
ンを用いた例がある。〔特開昭６３−１７４０５４号公
報、特開昭６３−１７４０５５号公報、特開昭６３−１
７４０５６号公報等を参照〕一方、上記用途に限らず、
アミノ基を有したアルコキシシランはガラス繊維等の無
機剤と有機樹脂中の密着性を改善する目的で多数使用さ
れているが、これをトナーの正帯電性を付与するための
処理剤として用いる例もある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記ア
ミノ変性シリコーンを電子写真、静電記録等において用
いられる現像剤中のトナーの流動性、クリーニング性を
改良する処理剤として用いた場合、正帯電性は有するも
のの、十分な疎水性を有する量を添加すると粒子の凝集
が生じてしまい流動性が極端に低下するという問題があ
った。また、アミノ基を有するアルコキシシランを用い
る場合、アミノ基の親水性のために十分な疎水性が得ら
れないという問題があり、上記の問題点は必ずしも解決
されていないのが現状である。
ミノ変性シリコーンを電子写真、静電記録等において用
いられる現像剤中のトナーの流動性、クリーニング性を
改良する処理剤として用いた場合、正帯電性は有するも
のの、十分な疎水性を有する量を添加すると粒子の凝集
が生じてしまい流動性が極端に低下するという問題があ
った。また、アミノ基を有するアルコキシシランを用い
る場合、アミノ基の親水性のために十分な疎水性が得ら
れないという問題があり、上記の問題点は必ずしも解決
されていないのが現状である。
【０００５】そこで、本発明者らは、上記問題点を鋭意
検討した結果、流動性を高めるためにはアルコキシシラ
ンが好ましいこと、およびこのアルコキシシランにおい
て疎水性を高めるためにはアルコキシシランにアミノ基
を有する窒素含有アルコキシシランであることが必要で
あり、かつこのアミノ基の窒素にフェニル基を有するア
ルキル基が結合する必要があること、更にこの窒素含有
アルコキシシランが十分な正帯電性を得るためには、こ
の窒素含有アルコキシシランは、前記フェニル基が直接
窒素には結合せず、フェニル基と窒素との間に直鎖アル
キル基が不可欠であることを見出し、この知見に基づい
て本発明をなすに至った。
検討した結果、流動性を高めるためにはアルコキシシラ
ンが好ましいこと、およびこのアルコキシシランにおい
て疎水性を高めるためにはアルコキシシランにアミノ基
を有する窒素含有アルコキシシランであることが必要で
あり、かつこのアミノ基の窒素にフェニル基を有するア
ルキル基が結合する必要があること、更にこの窒素含有
アルコキシシランが十分な正帯電性を得るためには、こ
の窒素含有アルコキシシランは、前記フェニル基が直接
窒素には結合せず、フェニル基と窒素との間に直鎖アル
キル基が不可欠であることを見出し、この知見に基づい
て本発明をなすに至った。
【０００６】したがって、本発明が解決しようとする第
１の課題は、正帯電性を維持すると共に材料表面に高い
疎水性と流動性を付与することができる窒素含有アルコ
キシシランを提供することにある。また本発明が解決し
ようとする第２の課題は、正帯電性を維持すると共に材
料表面に高い疎水性と流動性を付与することができる窒
素含有アルコキシシランで処理した疎水性金属酸化物粉
体を提供することにある。更に本発明が解決しようとす
る第３の課題は、正帯電性を維持すると共に材料表面に
高い疎水性と流動性を付与することができる窒素含有ア
ルコキシシランで処理した疎水性金属酸化物粉体を有す
る電子写真現像剤を提供することにある。
１の課題は、正帯電性を維持すると共に材料表面に高い
疎水性と流動性を付与することができる窒素含有アルコ
キシシランを提供することにある。また本発明が解決し
ようとする第２の課題は、正帯電性を維持すると共に材
料表面に高い疎水性と流動性を付与することができる窒
素含有アルコキシシランで処理した疎水性金属酸化物粉
体を提供することにある。更に本発明が解決しようとす
る第３の課題は、正帯電性を維持すると共に材料表面に
高い疎水性と流動性を付与することができる窒素含有ア
ルコキシシランで処理した疎水性金属酸化物粉体を有す
る電子写真現像剤を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の前記課題を解決
するための手段は、以下の各発明によって達成される。
するための手段は、以下の各発明によって達成される。
【０００８】
【化５】
【０００９】〔式中、Ｒは、
【００１０】
【化６】
【００１１】で示される２置換フェニル基であり、ここ
でＲ1 、Ｒ2 は、水素又は炭素数１〜３のアルキル基で
ある。またＲ3 は炭素数１〜３のアルキル基であり、ｍ
は１〜３の整数であり、Ｒ4 は、炭素数１〜４のアルキ
ル基又はベンジル基である。〕で示されることを特徴と
する窒素含有アルコキシシラン。
でＲ1 、Ｒ2 は、水素又は炭素数１〜３のアルキル基で
ある。またＲ3 は炭素数１〜３のアルキル基であり、ｍ
は１〜３の整数であり、Ｒ4 は、炭素数１〜４のアルキ
ル基又はベンジル基である。〕で示されることを特徴と
する窒素含有アルコキシシラン。
【００１２】
【化７】
【００１３】〔式中、Ｒは、
【００１４】
【化８】
【００１５】で示される２置換フェニル基であり、ここ
でＲ1 、Ｒ2 は、水素又は炭素数１〜３のアルキル基で
ある。またＲ3 は炭素数１〜３のアルキル基であり、ｍ
は２又は３の整数である。〕で示されることを特徴とす
る窒素含有アルコキシシラン。
でＲ1 、Ｒ2 は、水素又は炭素数１〜３のアルキル基で
ある。またＲ3 は炭素数１〜３のアルキル基であり、ｍ
は２又は３の整数である。〕で示されることを特徴とす
る窒素含有アルコキシシラン。
【００１６】（３）金属酸化物粉体に前記第１項又は第
２項に記載の少なくとも１種を含む混合物を有すること
を特徴とする疎水性金属酸化物粉体。 （４）前記第３項に記載の疎水性金属酸化物粉体を含有
することを特徴とする電子写真用現像剤。
２項に記載の少なくとも１種を含む混合物を有すること
を特徴とする疎水性金属酸化物粉体。 （４）前記第３項に記載の疎水性金属酸化物粉体を含有
することを特徴とする電子写真用現像剤。
【００１７】以下、本発明を更に詳しく説明すると、本
発明の化合物は、一般式〔Ｉ〕及び一般式〔ＩＩ〕で示
される如く、分子の一方がフェニル基を有するアルキル
基であり、これが窒素と結合しかつこの窒素に結合した
分子のもう一方がアルコキシシリル基である窒素含有ア
ルコキシシランであって、このアルコキシシランで酸化
物粉体を処理することにより高い正帯電性、疎水性、お
よび流動性を有した疎水性金属酸化物が得られる。これ
らの一般式〔Ｉ〕及び一般式〔ＩＩ〕で示される化合物
は、それぞれ単独でも両者混合して用いてもよい。
発明の化合物は、一般式〔Ｉ〕及び一般式〔ＩＩ〕で示
される如く、分子の一方がフェニル基を有するアルキル
基であり、これが窒素と結合しかつこの窒素に結合した
分子のもう一方がアルコキシシリル基である窒素含有ア
ルコキシシランであって、このアルコキシシランで酸化
物粉体を処理することにより高い正帯電性、疎水性、お
よび流動性を有した疎水性金属酸化物が得られる。これ
らの一般式〔Ｉ〕及び一般式〔ＩＩ〕で示される化合物
は、それぞれ単独でも両者混合して用いてもよい。
【００１８】一般式〔Ｉ〕において、Ｒ1 、Ｒ2 は、水
素又は炭素数１〜３のアルキル基である。即ちメチル
基、エチル基又はプロピル基であり、Ｒ1 、Ｒ2 は、同
じでも異なっていてもよい。またＲ3 は炭素数１〜３の
アルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基又は
プロピル基であり、Ｒ4 は、炭素数１〜４のアルキル基
又はベンジル基であり、例えば、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基又はブチル基（異性基
も含む）である。ｍは１〜３の整数である。一般式〔Ｉ
Ｉ〕に示されるＲ1 〜Ｒ3 は、一般式〔Ｉ〕におけるＲ
1 〜Ｒ3 と同様の基を表す。またｍは２又は３の整数で
ある。
素又は炭素数１〜３のアルキル基である。即ちメチル
基、エチル基又はプロピル基であり、Ｒ1 、Ｒ2 は、同
じでも異なっていてもよい。またＲ3 は炭素数１〜３の
アルキル基であり、具体的にはメチル基、エチル基又は
プロピル基であり、Ｒ4 は、炭素数１〜４のアルキル基
又はベンジル基であり、例えば、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基又はブチル基（異性基
も含む）である。ｍは１〜３の整数である。一般式〔Ｉ
Ｉ〕に示されるＲ1 〜Ｒ3 は、一般式〔Ｉ〕におけるＲ
1 〜Ｒ3 と同様の基を表す。またｍは２又は３の整数で
ある。
【００１９】一般式〔Ｉ〕及び一般式〔ＩＩ〕におい
て、フェニル基は疎水性を高めるための効果を持つ。こ
の理由は定かではないが、アルコキシシランで酸化物粉
末を処理した際、フェニル基が表面に配向しその嵩高さ
によって親水性の酸化物粉末表面を保護するものと推定
される。一方、このフェニル基と窒素との間に存在する
直鎖アルキル基は正帯電性を高める効果を持つ。正帯電
性を示すためには、窒素の塩基性が高い必要があるが、
フェニル基が窒素に直接結合すると窒素上の電子がフェ
ニル基との共鳴構造を取り、窒素の塩基性が低下して十
分な正帯電性を示すことができなくなる。これを防ぐた
めに窒素とフェニル基との間に直鎖アルキル基が存在す
ることが必要であり、これは前記フェニル基の疎水性と
窒素の塩基性の両方の特性を十分に発揮するために必要
不可欠なものである。また、アルコキシシリル基はこの
部分で酸化物粉末と吸着、あるいは加水分解してシラノ
ール基となり結合しこの化合物が酸化物粉体と強く結合
するための効果を持つ。
て、フェニル基は疎水性を高めるための効果を持つ。こ
の理由は定かではないが、アルコキシシランで酸化物粉
末を処理した際、フェニル基が表面に配向しその嵩高さ
によって親水性の酸化物粉末表面を保護するものと推定
される。一方、このフェニル基と窒素との間に存在する
直鎖アルキル基は正帯電性を高める効果を持つ。正帯電
性を示すためには、窒素の塩基性が高い必要があるが、
フェニル基が窒素に直接結合すると窒素上の電子がフェ
ニル基との共鳴構造を取り、窒素の塩基性が低下して十
分な正帯電性を示すことができなくなる。これを防ぐた
めに窒素とフェニル基との間に直鎖アルキル基が存在す
ることが必要であり、これは前記フェニル基の疎水性と
窒素の塩基性の両方の特性を十分に発揮するために必要
不可欠なものである。また、アルコキシシリル基はこの
部分で酸化物粉末と吸着、あるいは加水分解してシラノ
ール基となり結合しこの化合物が酸化物粉体と強く結合
するための効果を持つ。
【００２０】本発明の窒素含有アルコキシシランはその
製造法は特に限定されないが、一般的な有機合成法によ
って、アミノ基を有したアルコキシシランとフェニル基
を有したハロゲン化物との反応、あるいはハロゲン化ア
ルコキシシランとフェニル基を有したアミノ化合物との
反応によって合成される。また、反応で使用するハロゲ
ン化物においてはハロゲンの種類が反応性に大きく影響
し、一般にヨウ素、臭素、塩素の順で反応性が低下す
る。ここで、反応で生じるハロゲン化水素を除去するた
めにアミノ基を有した化合物が一般に過剰に使用して合
成される。アミノ基を有した化合物が少ないと、生成物
のハロゲン化水素塩が生じて収率低下の原因となる。一
方、アミノ基を有した化合物を過剰に用いなくとも、例
えばナトリウムアルコキシドの様なアルコキシシリル基
が加水分解せずに、かつアミノ化合物よりも塩基性が高
い化合物を反応後に反応液中に添加することによって、
アミンのハロゲン化水素塩を分離することも可能であ
る。
製造法は特に限定されないが、一般的な有機合成法によ
って、アミノ基を有したアルコキシシランとフェニル基
を有したハロゲン化物との反応、あるいはハロゲン化ア
ルコキシシランとフェニル基を有したアミノ化合物との
反応によって合成される。また、反応で使用するハロゲ
ン化物においてはハロゲンの種類が反応性に大きく影響
し、一般にヨウ素、臭素、塩素の順で反応性が低下す
る。ここで、反応で生じるハロゲン化水素を除去するた
めにアミノ基を有した化合物が一般に過剰に使用して合
成される。アミノ基を有した化合物が少ないと、生成物
のハロゲン化水素塩が生じて収率低下の原因となる。一
方、アミノ基を有した化合物を過剰に用いなくとも、例
えばナトリウムアルコキシドの様なアルコキシシリル基
が加水分解せずに、かつアミノ化合物よりも塩基性が高
い化合物を反応後に反応液中に添加することによって、
アミンのハロゲン化水素塩を分離することも可能であ
る。
【００２１】ここで、原料の混合割合、溶媒の種類、反
応温度、反応時間等は特に限定されないが、一般に室温
から使用する溶媒の沸点までの温度で反応される。ま
た、用いる溶媒は、特に限定されないが、一般に極性溶
媒が好ましく、特にアルコール系のものが好ましい。こ
こでアルコール系の溶媒を用いた場合、原料であるアル
コキシシリル基のアルコキシ基と溶媒が交換反応を生
じ、アルコキシ基の形態が変化するので、アルコキシ基
と同種の溶媒を用いることが好ましい。
応温度、反応時間等は特に限定されないが、一般に室温
から使用する溶媒の沸点までの温度で反応される。ま
た、用いる溶媒は、特に限定されないが、一般に極性溶
媒が好ましく、特にアルコール系のものが好ましい。こ
こでアルコール系の溶媒を用いた場合、原料であるアル
コキシシリル基のアルコキシ基と溶媒が交換反応を生
じ、アルコキシ基の形態が変化するので、アルコキシ基
と同種の溶媒を用いることが好ましい。
【００２２】一方、ここで溶媒に水分が混入していると
反応時にアルコキシシリル基の加水分解反応が生じるの
で十分に脱水したものを用いることが好ましい。ここ
で、用いる脱水剤は特に限定されないが、一般に取扱の
容易さ、高い脱水能力等からモレキュラーシーブスが好
ましい。このようにして反応が終了した後、目的物は溶
媒及びハロゲン化水素塩、さらに未反応の原料と副反応
生成物を分離して得られる。
反応時にアルコキシシリル基の加水分解反応が生じるの
で十分に脱水したものを用いることが好ましい。ここ
で、用いる脱水剤は特に限定されないが、一般に取扱の
容易さ、高い脱水能力等からモレキュラーシーブスが好
ましい。このようにして反応が終了した後、目的物は溶
媒及びハロゲン化水素塩、さらに未反応の原料と副反応
生成物を分離して得られる。
【００２３】以下に、本発明の窒素含有アルコキシシラ
ンの代表的化合物を挙げるが、本発明は、これらの例に
よって限定されるものではない。
ンの代表的化合物を挙げるが、本発明は、これらの例に
よって限定されるものではない。
【００２４】（１）C6H5CH2CH2NH(CH2)3Si(OC2H5)3 （２）C6H5CH2CH(CH3)NCH3(CH2)3Si(CH3) (OC2H5)2 （３）2,5-(CH3)2C6H3CH2NC4H9(CH2)3Si(OCH3)3 （４）(C6H5CH2)2N(CH2)3Si(OCH3)3 （５）C6H5(CH2)3NH(CH2)3Si(CH3)2(OC3H7) （６）2,5-(CH3)2C6H3CH2NC4H9(CH2)3Si(CH3)(OCH3)2 （７）4-C2H5C6H4CH2NC4H9(CH2)3Si(OCH3)3 （８）2,4-(C2H5)2C6H3CH2NC4H9(CH2)3Si(CH3)(OCH3)2 （９）2-C3H7C6H4CH2NC4H9(CH2)3Si(OCH3)3 （１０）2,4-(CH3)2C6H3CH2CH2NH(CH2)3Si(OC2H5)3 （１１）2,6-(C2H5)2C6H3CH2CH2NH(CH2)3Si(OC2H5)3 （１２）2,4-(C3H7)2C6H3CH2CH2NH(CH2)3Si(OC2H5)3 （１３）2,5-(C3H7)2C6H3(CH2)3NH(CH2)3Si(CH3)2(OC3H
7)
7)
【００２５】本発明において、窒素含有アルコキシシラ
ンで表面処理する金属酸化物粉体は、用途に応じて選択
することが可能であるが、特にシリカ、アルミナ、また
はチタニアが流動性改良などの用途に好ましい。これら
の金属酸化物粉体の粒径も用途に応じて選択することが
可能であるが、特に比表面積が５０ｍ2 ／ｇ以上のもの
が電子写真、静電記録等の現像剤の用途には好ましい。
電子写真現像剤は、基本的に酸化鉄等のキャリアとトナ
ーからなるが、このような電子写真現像剤の流動性等を
改善するために前記金属酸化物粉体を加える。なお、金
属酸化物は複合酸化物、これらの混合物であってもよ
い。
ンで表面処理する金属酸化物粉体は、用途に応じて選択
することが可能であるが、特にシリカ、アルミナ、また
はチタニアが流動性改良などの用途に好ましい。これら
の金属酸化物粉体の粒径も用途に応じて選択することが
可能であるが、特に比表面積が５０ｍ2 ／ｇ以上のもの
が電子写真、静電記録等の現像剤の用途には好ましい。
電子写真現像剤は、基本的に酸化鉄等のキャリアとトナ
ーからなるが、このような電子写真現像剤の流動性等を
改善するために前記金属酸化物粉体を加える。なお、金
属酸化物は複合酸化物、これらの混合物であってもよ
い。
【００２６】本発明に用いられる金属酸化物粉体の処理
には、従来公知の方法が適用される。すなわち乾式法と
して、被処理金属酸化物粉体を機械的に十分攪拌しなが
ら、これに一般式〔Ｉ〕あるいは一般式〔ＩＩ〕で示さ
れる化合物単独またはこれらの混合液を適当な溶媒に溶
解した溶液を滴下あるいは噴霧等の方法で加える。ある
いは、湿式法として被処理金属酸化物粉体と一般式
〔Ｉ〕あるいは一般式〔ＩＩ〕で示される化合物単独ま
たはこの混合液を適当な溶媒に溶解した懸濁液を濾過、
あるいはそのまま溶媒の留去を行う等の方法が挙げられ
る。本発明においては、金属酸化物粉体を窒素含有アル
コキシシランで処理した結果、該金属酸化物の表面の少
なくとも一部、好ましくは全部に被覆が形成されること
が好ましい。
には、従来公知の方法が適用される。すなわち乾式法と
して、被処理金属酸化物粉体を機械的に十分攪拌しなが
ら、これに一般式〔Ｉ〕あるいは一般式〔ＩＩ〕で示さ
れる化合物単独またはこれらの混合液を適当な溶媒に溶
解した溶液を滴下あるいは噴霧等の方法で加える。ある
いは、湿式法として被処理金属酸化物粉体と一般式
〔Ｉ〕あるいは一般式〔ＩＩ〕で示される化合物単独ま
たはこの混合液を適当な溶媒に溶解した懸濁液を濾過、
あるいはそのまま溶媒の留去を行う等の方法が挙げられ
る。本発明においては、金属酸化物粉体を窒素含有アル
コキシシランで処理した結果、該金属酸化物の表面の少
なくとも一部、好ましくは全部に被覆が形成されること
が好ましい。
【００２７】本発明の窒素含有アルコキシシラン処理剤
の添加後、不活性ガス気流下で６０〜２００℃の温度、
好ましくは１００〜１５０℃の範囲の温度で加熱して反
応を完結させるとともに、溶剤を除去する。ここで、反
応を完結させ、溶剤を除去するのに要する時間は、使用
する溶媒および加熱温度によって異なり、特に限定され
ないが一般に２〜３時間が好ましい。また、ここで用い
る不活性ガスは窒素含有アルコキシシランの酸化を防止
するために用いるもので、特に限定されないが、一般的
な例として窒素、アルゴン、ヘリウム等が挙げられる。
の添加後、不活性ガス気流下で６０〜２００℃の温度、
好ましくは１００〜１５０℃の範囲の温度で加熱して反
応を完結させるとともに、溶剤を除去する。ここで、反
応を完結させ、溶剤を除去するのに要する時間は、使用
する溶媒および加熱温度によって異なり、特に限定され
ないが一般に２〜３時間が好ましい。また、ここで用い
る不活性ガスは窒素含有アルコキシシランの酸化を防止
するために用いるもので、特に限定されないが、一般的
な例として窒素、アルゴン、ヘリウム等が挙げられる。
【００２８】本発明を構成する金属酸化物粉体を得るた
めに適当な窒素含有アルコキシシランの使用量は、被処
理金属酸化物粉体の種類、比表面積や処理剤の種類に依
存し特に規定されないが、窒素含有アルコキシシランの
使用量は、被処理金属酸化物粉体に対して、５〜４０重
量％前後、特に好ましくは１０〜３０重量％の量を用い
ることが好ましい。一般に、窒素含有アルコキシシラン
の使用量が５重量％未満の場合には、被金属酸化物粉体
の表面を十分に覆うことが出来ず、４０重量％を越える
と流動性の低下の原因となる。本発明の金属酸化物粉体
の疎水性は、その程度が高いほど、その金属酸化物粉体
の吸湿性が減少して湿度に対するトナーの帯電量の変化
を小さくし、かつ凝集を防ぐ効果が高まり、利用価値が
高いが、実用上は後述する透過率法によって測定される
疎水化率の値が８０％以上の値を持つことが望ましい。
めに適当な窒素含有アルコキシシランの使用量は、被処
理金属酸化物粉体の種類、比表面積や処理剤の種類に依
存し特に規定されないが、窒素含有アルコキシシランの
使用量は、被処理金属酸化物粉体に対して、５〜４０重
量％前後、特に好ましくは１０〜３０重量％の量を用い
ることが好ましい。一般に、窒素含有アルコキシシラン
の使用量が５重量％未満の場合には、被金属酸化物粉体
の表面を十分に覆うことが出来ず、４０重量％を越える
と流動性の低下の原因となる。本発明の金属酸化物粉体
の疎水性は、その程度が高いほど、その金属酸化物粉体
の吸湿性が減少して湿度に対するトナーの帯電量の変化
を小さくし、かつ凝集を防ぐ効果が高まり、利用価値が
高いが、実用上は後述する透過率法によって測定される
疎水化率の値が８０％以上の値を持つことが望ましい。
【００２９】
【作用】本発明を構成する窒素含有アルコキシシラン
は、該アルコキシシランで金属酸化物粉体を処理するこ
とによって、金属酸化物表面に固定され、優れた疎水
性、正帯電性、流動性を金属酸化物表面に付与する特徴
を持つ。
は、該アルコキシシランで金属酸化物粉体を処理するこ
とによって、金属酸化物表面に固定され、優れた疎水
性、正帯電性、流動性を金属酸化物表面に付与する特徴
を持つ。
【００３０】
【実施例】本発明に対する理解を助ける目的で以下に実
施例を示すが、これらは本発明をなんら限定するもので
はない。
施例を示すが、これらは本発明をなんら限定するもので
はない。
【００３１】実施例１ 還流器、温度計、磁気攪拌装置を備えた５００ｍｌ三口
フラスコにγ−アミノプロピルトリエトキシシラン｛Ｈ
2 Ｎ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 ：信越化学製Ｋ
ＢＥ−９０３｝６６．３ｇ（０．３０ｍｏｌ）、２−ヨ
ードエチルベンゼン｛Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｉ｝２３．
２ｇ（０．１０ｍｏｌ）、予めモレキュラーシーブス３
Ａ〔和光純薬工業製（主成分シリカゲル）〕で十分に乾
燥したエタノール５００ｍｌを入れ、エタノールを還流
させながら１２時間加熱攪拌した。
フラスコにγ−アミノプロピルトリエトキシシラン｛Ｈ
2 Ｎ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 ：信越化学製Ｋ
ＢＥ−９０３｝６６．３ｇ（０．３０ｍｏｌ）、２−ヨ
ードエチルベンゼン｛Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｉ｝２３．
２ｇ（０．１０ｍｏｌ）、予めモレキュラーシーブス３
Ａ〔和光純薬工業製（主成分シリカゲル）〕で十分に乾
燥したエタノール５００ｍｌを入れ、エタノールを還流
させながら１２時間加熱攪拌した。
【００３２】ついで減圧でエタノールを留去して濃縮し
た後、この反応液を同様に予めモラキュレーシブス３Ａ
で十分に乾燥したジイソプロピルエーテル３００ｍｌに
入れ１時間攪拌した。生成した沈殿を減圧濾過で分離
し、さらにジイソプロピルエーテルを減圧下でエバポレ
ートして濃縮した後、この濃縮液を減圧蒸留して未反応
のγ−アミノプロピルトリエトキシシランを分離し、式
｛Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ2 ＣＨ2ＮＨ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣ2
Ｈ5 ）3 ｝で示される化合物２１．８ｇを得た。ｂ．
ｐ．１３７℃／２ｍｍＨｇ、淡黄色透明液体、収率６７
％
た後、この反応液を同様に予めモラキュレーシブス３Ａ
で十分に乾燥したジイソプロピルエーテル３００ｍｌに
入れ１時間攪拌した。生成した沈殿を減圧濾過で分離
し、さらにジイソプロピルエーテルを減圧下でエバポレ
ートして濃縮した後、この濃縮液を減圧蒸留して未反応
のγ−アミノプロピルトリエトキシシランを分離し、式
｛Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ2 ＣＨ2ＮＨ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣ2
Ｈ5 ）3 ｝で示される化合物２１．８ｇを得た。ｂ．
ｐ．１３７℃／２ｍｍＨｇ、淡黄色透明液体、収率６７
％
【００３３】このようにして得られた化合物の元素分析
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６２．９９ ９．７１ ４．４０ 計算値（％） ６２．７８ ９．５４ ４．３１ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６２．９９ ９．７１ ４．４０ 計算値（％） ６２．７８ ９．５４ ４．３１ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
【００３４】実施例２ 実施例１と同様に還流器、温度計、磁気攪拌装置を備え
た５００ｍｌ三口フラスコにγ−Ｎ−メチルアミノプロ
ピルメチルジエトキシシラン｛ＣＨ3 ＮＨ（ＣＨ2 ）3
Ｓｉ（ＣＨ3 ）（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ｝７１．７ｇ（０．３
５ｍｏｌ）、２−ブロモ−１−フェニルプロパン｛Ｃ6
Ｈ5 ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）Ｂｒ｝１９．９ｇ（０．１０
ｍｏｌ）、予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に乾燥
したエタノール３００ｍｌを入れ、エタノールを還流さ
せながら１２時間加熱攪拌した。
た５００ｍｌ三口フラスコにγ−Ｎ−メチルアミノプロ
ピルメチルジエトキシシラン｛ＣＨ3 ＮＨ（ＣＨ2 ）3
Ｓｉ（ＣＨ3 ）（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ｝７１．７ｇ（０．３
５ｍｏｌ）、２−ブロモ−１−フェニルプロパン｛Ｃ6
Ｈ5 ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）Ｂｒ｝１９．９ｇ（０．１０
ｍｏｌ）、予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に乾燥
したエタノール３００ｍｌを入れ、エタノールを還流さ
せながら１２時間加熱攪拌した。
【００３５】ついで実施例１と同様に濃縮、ジイソプロ
ピルエーテルへの溶解、濾過、さらに濃縮を行った後、
減圧蒸留して未反応の原料γ−Ｎ−メチルアミノプロピ
ルメチルジエトキシシランと目的物を分離して、式｛Ｃ
6 Ｈ5 ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）ＮＣＨ3 （ＣＨ2 ）3 Ｓｉ
（ＣＨ3 ）（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ｝で示される化合物を１
０．３ｇを得た。ｂ．ｐ．１４５℃／１ｍｍＨｇ、淡黄
色透明液体、収率３２％
ピルエーテルへの溶解、濾過、さらに濃縮を行った後、
減圧蒸留して未反応の原料γ−Ｎ−メチルアミノプロピ
ルメチルジエトキシシランと目的物を分離して、式｛Ｃ
6 Ｈ5 ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）ＮＣＨ3 （ＣＨ2 ）3 Ｓｉ
（ＣＨ3 ）（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ｝で示される化合物を１
０．３ｇを得た。ｂ．ｐ．１４５℃／１ｍｍＨｇ、淡黄
色透明液体、収率３２％
【００３６】このようにして得られた化合物の元素分析
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６７．０５ １０．０３ ４．４７ 計算値（％） ６６．８７ １０．２２ ４．３３ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６７．０５ １０．０３ ４．４７ 計算値（％） ６６．８７ １０．２２ ４．３３ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
【００３７】実施例３ 実施例１と同様に還流器、温度計、磁気攪拌装置を備え
た５００ｍｌ三口フラスコにγ−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ
プロピルメチルトリメトキシシラン｛Ｃ4 Ｈ9ＮＨ（Ｃ
Ｈ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ｝７５．９ｇ（０．３０ｍ
ｏｌ）、２，５−ジメチルベンジルクロライド｛２，５
−（ＣＨ3 ）2 Ｃ6 Ｈ3 ＣＨ2 Ｃｌ｝１５．４ｇ（０．
１０ｍｏｌ）、予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に
乾燥したメタノール３００ｍｌを入れ、メタノールを還
流させながら２４時間加熱攪拌した。
た５００ｍｌ三口フラスコにγ−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ
プロピルメチルトリメトキシシラン｛Ｃ4 Ｈ9ＮＨ（Ｃ
Ｈ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ｝７５．９ｇ（０．３０ｍ
ｏｌ）、２，５−ジメチルベンジルクロライド｛２，５
−（ＣＨ3 ）2 Ｃ6 Ｈ3 ＣＨ2 Ｃｌ｝１５．４ｇ（０．
１０ｍｏｌ）、予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に
乾燥したメタノール３００ｍｌを入れ、メタノールを還
流させながら２４時間加熱攪拌した。
【００３８】ついで実施例１と同様に濃縮、ジイソプロ
ピルエーテルへの溶解、濾過、さらに濃縮を行った後、
減圧蒸留して未反応の原料γ−Ｎ−ｎ−ブチルアミノプ
ロピルメチルトリメトキシシランと目的物を分離して、
式｛２，５−（ＣＨ3 ）2 Ｃ6 Ｈ3 ＣＨ2 ＮＣ4 Ｈ
9 （ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ｝で示される化合物
６．７ｇを得た。ｂ．ｐ．１５５℃／０．８ｍｍＨｇ、
淡黄色透明液体、収率１９％
ピルエーテルへの溶解、濾過、さらに濃縮を行った後、
減圧蒸留して未反応の原料γ−Ｎ−ｎ−ブチルアミノプ
ロピルメチルトリメトキシシランと目的物を分離して、
式｛２，５−（ＣＨ3 ）2 Ｃ6 Ｈ3 ＣＨ2 ＮＣ4 Ｈ
9 （ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ｝で示される化合物
６．７ｇを得た。ｂ．ｐ．１５５℃／０．８ｍｍＨｇ、
淡黄色透明液体、収率１９％
【００３９】このようにして得られた化合物の元素分析
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６４．３３ ９．８７ ３．４５ 計算値（％） ６４．５９ ９．９２ ３．９７ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６４．３３ ９．８７ ３．４５ 計算値（％） ６４．５９ ９．９２ ３．９７ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
【００４０】実施例４ 実施例１と同様に還流器、温度計、磁気攪拌装置を備え
た５００ｍｌ三口フラスコにγ−Ｎ−アミノプロピルト
リメトキシシラン｛Ｈ2 Ｎ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3 ）3 ｝５３．７ｇ（０．３０ｍｏｌ）、ベンジルブ
ロマイド｛Ｃ6 Ｈ5ＣＨ2 Ｂｒ｝５１．３ｇ（０．３０
ｍｏｌ）、予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に乾燥
したメタノール３００ｍｌを入れ、メタノールを還流さ
せながら２４時間加熱攪拌した。
た５００ｍｌ三口フラスコにγ−Ｎ−アミノプロピルト
リメトキシシラン｛Ｈ2 Ｎ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3 ）3 ｝５３．７ｇ（０．３０ｍｏｌ）、ベンジルブ
ロマイド｛Ｃ6 Ｈ5ＣＨ2 Ｂｒ｝５１．３ｇ（０．３０
ｍｏｌ）、予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に乾燥
したメタノール３００ｍｌを入れ、メタノールを還流さ
せながら２４時間加熱攪拌した。
【００４１】ついで、この反応液中に金属ナトリウム
６．９ｇを予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に乾燥
したメタノール１５０ｍｌと反応させて合成したナトリ
ウムメトキシドのメタノール溶液を３０分で滴下した。
その後、この反応液を実施例１と同様に濃縮、ジイソプ
ロピルエーテルへの溶解、濾過、さらに濃縮を行った
後、減圧下で未反応の原料γ−アミノプロピルトリメト
キシシランおよびγ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ンとベンジルブロマイドの１ｍｏｌ付加物｛Ｃ6 Ｈ5 Ｃ
Ｈ2 ＮＨ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ）｝を分離し
た。この残留物を予めモレキュラーシブ３Ａで十分に乾
燥したベンゼン２００ｍｌに溶解し、生成した沈殿を分
離した。さらにこの濾過液を予めモレキュラーシーブス
３Ａで十分に乾燥したノルマルヘキサン２００ｍｌに溶
解して、ゼリー状物を分離し、ついでノルマルヘキサン
を減圧下で十分に留去して、式｛（Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ2 ）2
Ｎ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ｝で示される化合物
１１．８ｇを得た。淡黄色ゼリー状固体、収率１１％
６．９ｇを予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に乾燥
したメタノール１５０ｍｌと反応させて合成したナトリ
ウムメトキシドのメタノール溶液を３０分で滴下した。
その後、この反応液を実施例１と同様に濃縮、ジイソプ
ロピルエーテルへの溶解、濾過、さらに濃縮を行った
後、減圧下で未反応の原料γ−アミノプロピルトリメト
キシシランおよびγ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ンとベンジルブロマイドの１ｍｏｌ付加物｛Ｃ6 Ｈ5 Ｃ
Ｈ2 ＮＨ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ）｝を分離し
た。この残留物を予めモレキュラーシブ３Ａで十分に乾
燥したベンゼン２００ｍｌに溶解し、生成した沈殿を分
離した。さらにこの濾過液を予めモレキュラーシーブス
３Ａで十分に乾燥したノルマルヘキサン２００ｍｌに溶
解して、ゼリー状物を分離し、ついでノルマルヘキサン
を減圧下で十分に留去して、式｛（Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ2 ）2
Ｎ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 ｝で示される化合物
１１．８ｇを得た。淡黄色ゼリー状固体、収率１１％
【００４２】このようにして得られた化合物の元素分析
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６６．６９ ８．２０ ４．０３ 計算値（％） ６６．８５ ８．０８ ３．９０ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６６．６９ ８．２０ ４．０３ 計算値（％） ６６．８５ ８．０８ ３．９０ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
【００４３】実施例５ 実施例１と同様に還流器、温度計、磁気攪拌装置を備え
た５００ｍｌ三口フラスコにγ−アミノプロピルメチル
ジメチルイソプロポキシシラン｛Ｈ2 Ｎ（ＣＨ2 ）3 Ｓ
ｉ（ＣＨ3 ）2 （ＯＣ3 Ｈ7 ）｝７０．０ｇ（０．４０
ｍｏｌ）、１−ブロモ−３−フェニルプロパン｛Ｃ6 Ｈ
5 （ＣＨ2 ）3 Ｂｒ｝１９．９ｇ（０．１０ｍｏｌ）、
予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に乾燥した２−プ
ロパノール３００ｍｌを入れ、２−プロパノールを還流
させながら２０時間加熱攪拌した。
た５００ｍｌ三口フラスコにγ−アミノプロピルメチル
ジメチルイソプロポキシシラン｛Ｈ2 Ｎ（ＣＨ2 ）3 Ｓ
ｉ（ＣＨ3 ）2 （ＯＣ3 Ｈ7 ）｝７０．０ｇ（０．４０
ｍｏｌ）、１−ブロモ−３−フェニルプロパン｛Ｃ6 Ｈ
5 （ＣＨ2 ）3 Ｂｒ｝１９．９ｇ（０．１０ｍｏｌ）、
予めモレキュラーシーブス３Ａで十分に乾燥した２−プ
ロパノール３００ｍｌを入れ、２−プロパノールを還流
させながら２０時間加熱攪拌した。
【００４４】ついで実施例１と同様に濃縮、ジイソプロ
ピルエーテルへの溶解、濾過、さらに濃縮を行った後、
減圧蒸留して未反応の原料γ−アミノプロピルメチルジ
メチルイソプロポキシシランと目的物を分離して、式
｛Ｃ6 Ｈ5 （ＣＨ2 ）3 ＮＨ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（Ｃ
Ｈ3 ）2 （ＯＣ3 Ｈ7 ）｝で示される化合物６．４ｇを
得た。ｂ．ｐ．１５３℃／０．７ｍｍＨｇ、淡黄色透明
液体、収率２２％
ピルエーテルへの溶解、濾過、さらに濃縮を行った後、
減圧蒸留して未反応の原料γ−アミノプロピルメチルジ
メチルイソプロポキシシランと目的物を分離して、式
｛Ｃ6 Ｈ5 （ＣＨ2 ）3 ＮＨ（ＣＨ2 ）3 Ｓｉ（Ｃ
Ｈ3 ）2 （ＯＣ3 Ｈ7 ）｝で示される化合物６．４ｇを
得た。ｂ．ｐ．１５３℃／０．７ｍｍＨｇ、淡黄色透明
液体、収率２２％
【００４５】このようにして得られた化合物の元素分析
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６９．８９ １０．７１ ４．９１ 計算値（％） ６９．６２ １０．５８ ４．７８ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
を行い、下記の結果を得た。 〔元素分析結果〕 Ｃ Ｈ Ｎ 分析値（％） ６９．８９ １０．７１ ４．９１ 計算値（％） ６９．６２ １０．５８ ４．７８ またＩＲ（赤外分光分析），１Ｈ−ＮＭＲ（核磁気共鳴
分光分析）を行い、本発明の化合物であることを確認し
た。
【００４６】実施例６ 加熱乾燥したシリカ粉体（日本アエロジル社製「アエロ
ジル♯２００」比表面積２００ｍ2 ／ｇ）２０ｇをステ
ンレス製の容器に仕込み、温室で窒素雰囲気下攪拌しな
がら、実施例１で得られた化合物３．０ｇをノルマルヘ
キサン３．０ｇに溶解した溶液を噴霧した。
ジル♯２００」比表面積２００ｍ2 ／ｇ）２０ｇをステ
ンレス製の容器に仕込み、温室で窒素雰囲気下攪拌しな
がら、実施例１で得られた化合物３．０ｇをノルマルヘ
キサン３．０ｇに溶解した溶液を噴霧した。
【００４７】噴霧終了後、さらに温室で５分間攪拌した
後、窒素気流下で外部加熱を行い、１２０℃まで昇温さ
せ、この温度で３時間保持した後、温室まで放冷した。
このようにして得られた金属酸化物粉体の摩擦帯電量
を、文献「色材」５５（９）６３０−６３６、１９８２
等に規定されている方法によって測定した。一方、上記
金属酸化物粉体１．０ｇと水１００ｍｌを抽出用分液ロ
ートに入れ、５分間激しく振とう攪拌し、その後１分間
静置し、分液ロートの底から少量の懸濁液を抜き出し
た。ついで、この液の波長５５０ｎｍの光に対する透過
率を、純水の透過率を１００％として測定し、その金属
酸化物の疎水化率とした。
後、窒素気流下で外部加熱を行い、１２０℃まで昇温さ
せ、この温度で３時間保持した後、温室まで放冷した。
このようにして得られた金属酸化物粉体の摩擦帯電量
を、文献「色材」５５（９）６３０−６３６、１９８２
等に規定されている方法によって測定した。一方、上記
金属酸化物粉体１．０ｇと水１００ｍｌを抽出用分液ロ
ートに入れ、５分間激しく振とう攪拌し、その後１分間
静置し、分液ロートの底から少量の懸濁液を抜き出し
た。ついで、この液の波長５５０ｎｍの光に対する透過
率を、純水の透過率を１００％として測定し、その金属
酸化物の疎水化率とした。
【００４８】また、一方、スチレン−アクリル樹脂材料
中にカーボン１８％を分散、粉砕後、１０〜２０μｍに
分級して得られた樹脂粉１０ｇ中に、上記金属酸化物粉
末０．１ｇを混合することによって流動性評価用のトナ
ーを調整し、さらにこのトナーを１００メッシュ篩と３
００メッシュ篩いを２段重ねた上から添加し、１分間振
とうした後の３００メッシュ篩通過率を測定して、これ
を流動性とした。得られた結果を表１に示す。
中にカーボン１８％を分散、粉砕後、１０〜２０μｍに
分級して得られた樹脂粉１０ｇ中に、上記金属酸化物粉
末０．１ｇを混合することによって流動性評価用のトナ
ーを調整し、さらにこのトナーを１００メッシュ篩と３
００メッシュ篩いを２段重ねた上から添加し、１分間振
とうした後の３００メッシュ篩通過率を測定して、これ
を流動性とした。得られた結果を表１に示す。
【００４９】実施例７ 実施例２で得られた化合物２．０ｇを添加した以外は実
施例１と同様の操作を行った。得られた結果を表１に示
す。 実施例８ 実施例３で得られた化合物４．０ｇをメタノール５ｍｌ
に溶解し、酸化物粉末として加熱乾燥したアルミナ粉末
（日本アエロジル社製「アルミニウム・オキサイドＣ」
比表面積９０ｍ2 ／ｇ）を用い、１５０℃で２時間加熱
乾燥した以外は実施例１と同様の操作を行った。得られ
た結果を表１に示す。
施例１と同様の操作を行った。得られた結果を表１に示
す。 実施例８ 実施例３で得られた化合物４．０ｇをメタノール５ｍｌ
に溶解し、酸化物粉末として加熱乾燥したアルミナ粉末
（日本アエロジル社製「アルミニウム・オキサイドＣ」
比表面積９０ｍ2 ／ｇ）を用い、１５０℃で２時間加熱
乾燥した以外は実施例１と同様の操作を行った。得られ
た結果を表１に示す。
【００５０】実施例９ 実施例４で得られた化合物２．０ｇをメタノール１０ｍ
ｌに溶解し、酸化物粉末として加熱乾燥したチタニア粉
末（日本アエロジル社製「チタニウム・オキサイドＰ２
５」比表面積８０ｍ2 ／ｇ）を用いた以外は実施例１と
同様の操作を行った。得られた結果を表１に示す。
ｌに溶解し、酸化物粉末として加熱乾燥したチタニア粉
末（日本アエロジル社製「チタニウム・オキサイドＰ２
５」比表面積８０ｍ2 ／ｇ）を用いた以外は実施例１と
同様の操作を行った。得られた結果を表１に示す。
【００５１】実施例１０ 実施例５で得られた化合物３．０ｇ，酸化物粉末として
加熱乾燥したシリカ粉末（日本アエロジル社製「アエロ
ジル♯１３０」比表面積１３０ｍ2 ／ｇ）を用い、８０
℃で２時間加熱乾燥した以外は実施例１と同様の操作を
行った。
加熱乾燥したシリカ粉末（日本アエロジル社製「アエロ
ジル♯１３０」比表面積１３０ｍ2 ／ｇ）を用い、８０
℃で２時間加熱乾燥した以外は実施例１と同様の操作を
行った。
【００５２】実施例１１ スチレン−ブタジエン樹脂材料中にカーボンブラック２
０％を分散、粉砕後、７〜１５ｍに分級して得られた樹
脂粉１００ｇ中に、実施例６で得られた酸化物粉体１ｇ
を混合することによってトナーを調製した。さらに、こ
のトナー３０ｇを酸化鉄粉１０００ｇに加え、現像剤と
した。この現像剤を市販の複写機にいれ、寿命テストを
行ったところ、約２００００枚以上の複写においても画
像にカブリは生じなかった。さらに高温多湿（３０℃、
５８％ＲＨ）の環境下においても良好な画像を示した。
０％を分散、粉砕後、７〜１５ｍに分級して得られた樹
脂粉１００ｇ中に、実施例６で得られた酸化物粉体１ｇ
を混合することによってトナーを調製した。さらに、こ
のトナー３０ｇを酸化鉄粉１０００ｇに加え、現像剤と
した。この現像剤を市販の複写機にいれ、寿命テストを
行ったところ、約２００００枚以上の複写においても画
像にカブリは生じなかった。さらに高温多湿（３０℃、
５８％ＲＨ）の環境下においても良好な画像を示した。
【００５３】実施例１２ 実施例７で得られた酸化物粉体１ｇを用いて実施例１１
と同様の操作を行った。得られた現像剤を市販の複写機
に入れ、寿命テストを行ったところ、約２００００枚以
上の複写においても画像にカブリは生じなかった。更に
高温多湿（３０℃、８５％ＲＨ）の環境下においても良
好な画像が得られた。
と同様の操作を行った。得られた現像剤を市販の複写機
に入れ、寿命テストを行ったところ、約２００００枚以
上の複写においても画像にカブリは生じなかった。更に
高温多湿（３０℃、８５％ＲＨ）の環境下においても良
好な画像が得られた。
【００５４】比較例１ シリコーンオイルＫＦ−９６ １００ｃｓ（信越化学
製）を３．０ｇ用い、２２０℃で３時間加熱乾燥した以
外は実施例６と同様の操作を行った。得られた結果を表
１に示す。
製）を３．０ｇ用い、２２０℃で３時間加熱乾燥した以
外は実施例６と同様の操作を行った。得られた結果を表
１に示す。
【００５５】比較例２ アミノ変性アルコキシシランとしてＫＢＥ−９０３（信
越化学製）を４．０ｇ用いた以外は、実施例８と同様の
操作を行った。得られた結果を表１に示す。
越化学製）を４．０ｇ用いた以外は、実施例８と同様の
操作を行った。得られた結果を表１に示す。
【００５６】比較例３ アミノ変性シリコーンオイルとしてＸ−２２−１６１Ａ
（信越化学製）を２．０ｇを用い、２５０℃で２時間加
熱乾燥した以外は、実施例１０と同様の操作を行った。
得られた結果を表１に示す。
（信越化学製）を２．０ｇを用い、２５０℃で２時間加
熱乾燥した以外は、実施例１０と同様の操作を行った。
得られた結果を表１に示す。
【００５７】比較例４ 窒素含有アルコキシシランとして、３−ベンジルアミノ
プロピルトリメトキシシラン [ C6H5CH2NH(CH2)3Si(OC
H3)3] ２．０ｇを用いた以外は、実施例６と同様の操作
を行った。得られた結果を表１に示す。
プロピルトリメトキシシラン [ C6H5CH2NH(CH2)3Si(OC
H3)3] ２．０ｇを用いた以外は、実施例６と同様の操作
を行った。得られた結果を表１に示す。
【００５８】比較例５ 比較例１で得られた酸化物粉体１ｇを用いて実施例１１
と同様の操作を行った。得られた現像剤を市販の複写機
にいれ、寿命テストを行ったところ、約５０００枚のコ
ピーで画像にカブリを生じた。
と同様の操作を行った。得られた現像剤を市販の複写機
にいれ、寿命テストを行ったところ、約５０００枚のコ
ピーで画像にカブリを生じた。
【００５９】比較例６ 比較例２で得られた酸化物粉体１ｇを用いて実施例１１
と同様の操作を行った。得られた現像剤を市販の複写機
にいれ、寿命テストを行ったところ、約３０００枚のコ
ピーで画像にカブリを生じた。
と同様の操作を行った。得られた現像剤を市販の複写機
にいれ、寿命テストを行ったところ、約３０００枚のコ
ピーで画像にカブリを生じた。
【００６０】
【表１】
【００６１】表１から明らかなように、本発明の疎水性
金属酸化物粉体は、帯電量が減少することなく疎水性な
らびに流動性を高くすることができ、処理剤の量が多い
ほど、その金属酸化物粉体の疎水性が大となり、その結
果吸湿性が減少して湿度に対するトナーの帯電量の変化
を小さくすることができる。したがって凝集を防ぐ効果
が高まり、利用価値が高いということができるが、実用
上は前述した透過率法によって測定される疎水化率の値
が８０％以上の値を持つことが望ましい。
金属酸化物粉体は、帯電量が減少することなく疎水性な
らびに流動性を高くすることができ、処理剤の量が多い
ほど、その金属酸化物粉体の疎水性が大となり、その結
果吸湿性が減少して湿度に対するトナーの帯電量の変化
を小さくすることができる。したがって凝集を防ぐ効果
が高まり、利用価値が高いということができるが、実用
上は前述した透過率法によって測定される疎水化率の値
が８０％以上の値を持つことが望ましい。
【００６２】
【発明の効果】本発明の窒素含有アルコキシシランは、
これで金属酸化物粉体を処理することによって、金属酸
化物表面に固定され、優れた疎水性、正帯電性、流動性
を金属酸化物表面に付与することができるという優れた
効果を奏するものである。
これで金属酸化物粉体を処理することによって、金属酸
化物表面に固定され、優れた疎水性、正帯電性、流動性
を金属酸化物表面に付与することができるという優れた
効果を奏するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桜井 英章 埼玉県大宮市北袋町一丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社中央研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 【化１】 〔式中、Ｒは、 【化２】 で示される２置換フェニル基であり、ここでＲ1 、Ｒ2
は、水素又は炭素数１〜３のアルキル基である。またＲ
3 は炭素数１〜３のアルキル基であり、ｍは１〜３の整
数であり、Ｒ4 は、炭素数１〜４のアルキル基又はベン
ジル基である。〕で示されることを特徴とする窒素含有
アルコキシシラン。 - 【請求項２】 【化３】 〔式中、Ｒは、 【化４】 で示される２置換フェニル基であり、ここでＲ1 、Ｒ2
は、水素又は炭素数１〜３のアルキル基である。またＲ
3 は炭素数１〜３のアルキル基であり、ｍは２又は３の
整数である。〕で示されることを特徴とする窒素含有ア
ルコキシシラン。 - 【請求項３】金属酸化物に請求項１又は請求項２に記載
の少なくとも１種を含む混合物を有することを特徴とす
る疎水性金属酸化物粉体。 - 【請求項４】前記請求項３に記載の疎水性金属酸化物粉
体を含有することを特徴とする電子写真用現像剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08768895A JP3214289B2 (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | 窒素含有アルコキシシラン及び疎水性金属酸化物粉体及びそれを有する電子写真現像剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08768895A JP3214289B2 (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | 窒素含有アルコキシシラン及び疎水性金属酸化物粉体及びそれを有する電子写真現像剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08259575A true JPH08259575A (ja) | 1996-10-08 |
| JP3214289B2 JP3214289B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=13921875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08768895A Expired - Fee Related JP3214289B2 (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | 窒素含有アルコキシシラン及び疎水性金属酸化物粉体及びそれを有する電子写真現像剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3214289B2 (ja) |
-
1995
- 1995-03-22 JP JP08768895A patent/JP3214289B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3214289B2 (ja) | 2001-10-02 |
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