JPH08268954A - ３−ｃｆ３カルボン酸誘導体並びにそれを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 一般式Ｉ ［Ｒは後記のＲ¹ 〜Ｒ⁵ と同じかまたは置換されても良
いアラルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
アルキル基、低級シアノアルキル基、低級アルキルチオ
アルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、シクロ
アルキル基、−Ｎ＝ＣＲ¹ Ｒ² 、−ＮＲ³ Ｒ⁴ 、低級ア
ルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、アラルキルオキ
シ基、アルコキシカルボニルアルコキシ基を示す。Ｗは
酸素、硫黄またはＮＲ⁵ を示す。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ は独立に水
素、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、置換されても良いフェニル基を示すか、Ｒ¹ とＲ
² が一緒に４〜７個のアルキレン鎖を形成し、またはＲ
とＲ⁵ が各結合窒素と一緒にピロリジン環、ピペリジン
環またはモルホリン環を形成してもよい（−Ｗ−Ｒが、
エトキシ、アニリノ及びヒドラジノである化合物は除
く）。］の４−メチル−３−ＣＦ₃ −吉草酸誘導体。 【効果】 除草効果及び作物選択性に優れた除草活性を
有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、文献未記載の新規な４
−メチル−３−ＣＦ₃ 吉草酸誘導体並びにそれらを含有
する除草剤に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】４−メチル−３−ＣＦ₃ 吉草酸誘導体と
しては、Journal of American Chemical Society, 76,
3725, (1954)にエチルエステル誘導体、アニリド誘導体
及びヒドラジド誘導体が報告されているが、それらの除
草剤に関する記載はない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】農園芸作物の栽培にあ
たり、多大の労力を必要としてきた雑草防除に多くの除
草剤が使用されるようになってきた。しかし作物に薬害
を生じたり環境に残留し、汚染したりすることから、よ
り低い薬量で効果が確実でしかも安全に使用できる薬剤
の開発が望まれている。

【０００４】本発明の目的は、従来の化合物よりも除草
効果及び作物選択性に優れた除草活性を有する化合物を
提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々の４
−メチル−３−ＣＦ₃ 吉草酸誘導体を合成すると共にそ
れらの生理活性を鋭意検討し、これらの４−メチル−３
−ＣＦ₃ 吉草酸誘導体の中から、有用作物を害する事な
く種々の雑草に対して極めて低薬量で除草活性を発揮す
る物を見いだし、本発明を完成した。

【０００６】すなわち本発明は、下記一般式（Ｉ）

【０００７】

【化３】

【０００８】［式中Ｒは水素原子、置換されていても良
いフェニル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、置換されていても良いアラルキル基、
低級ハロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、低級
シアノアルキル基、低級アルキルチオアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基、シクロアルキル基、−Ｎ
＝ＣＲ¹ Ｒ² 、−ＮＲ³ Ｒ⁴ 、低級アルコキシ基、低級
アルケニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシ
カルボニルアルコキシ基を示す。Ｗは、酸素原子、硫黄
原子またはＮＲ⁵ を示す。Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ独立に
水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基、置換されていても良いフェニル基を示す。
またＲ¹ 及びＲ² が一緒になって４〜７個のアルキレン
鎖を形成することができる。Ｒ³ 、Ｒ⁴ はそれぞれ独立
に水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、置換されていても良いフェニル基を示
す。

【０００９】Ｒ⁵ は水素原子、低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、置換されていても良い
フェニル基を示す。

【００１０】またはＲ及びＲ⁵ はそれぞれが結合してい
る窒素原子と一緒になってピロリジン環、ピペリジン
環、またはモルホリン環を形成してもよい。但し、−Ｗ
−Ｒが、エトキシ、アニリノ及びヒドラジノである化合
物は除く。］で表わされる４−メチル−３−ＣＦ₃ −吉
草酸誘導体、並びに、一般式（Ｉ）

【００１１】

【化４】

【００１２】［式中Ｒは水素原子、置換されていても良
いフェニル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルキニル基、置換されていても良いアラルキル基、
低級ハロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、低級
シアノアルキル基、低級アルキルチオアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基、シクロアルキル基、−Ｎ
＝ＣＲ¹ Ｒ² 、−ＮＲ³ Ｒ⁴ 、低級アルコキシ基、低級
アルケニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシ
カルボニルアルコキシ基を示す。Ｗは、酸素原子、硫黄
原子またはＮＲ⁵ を示す。Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ独立に
水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基、置換されていても良いフェニル基を示す。
またＲ¹ 及びＲ² が一緒になって４〜７個のアルキレン
鎖を形成することができる。Ｒ³ 、Ｒ⁴ はそれぞれ独立
に水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、置換されていても良いフェニル基を示
す。

【００１３】Ｒ⁵ は水素原子、低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、置換されていても良い
フェニル基を示す。

【００１４】またはＲ及びＲ⁵ はそれぞれが結合してい
る窒素原子と一緒になってピロリジン環、ピペリジン
環、またはモルホリン環を形成してもよい。］で表わさ
れる４−メチル−３−ＣＦ₃ −吉草酸誘導体を有効成分
として含有することを特徴とする除草剤に関するもので
ある。

【００１５】次に本発明の前記一般式（Ｉ）で表わされ
る４−メチル−３−ＣＦ₃ −吉草酸誘導体についてさら
に詳細に説明する。

【００１６】本発明の前記一般式（Ｉ）におけるＲ、Ｒ
¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、及びＲ⁵ の定義中の基の具体例
を以下に説明する。

【００１７】置換されていても良いフェニル基；フェニ
ル基、及びフェニル基がハロゲン原子、ヒドロキシ基、
低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェノキシ基、低
級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、低級ハ
ロアルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルコキシ
メチル基、低級アルキルチオメチル基、アラルキルオキ
シ基、アラルキルチオ基、フェニルチオメチル基、フェ
ニル基アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニル
アルコキシ基、アシル基、シアノ基、ニトロ基、フェニ
ル基等で置換されたものを示し、置換されていても良い
フェニル基の具体例としては、たとえば、2-フルオロフ
ェニル、3-フルオロフェニル、4-フルオロフェニル、2-
クロロフェニル、3-クロロフェニル、4-クロロフェニ
ル、3,4-ジクロロフェニル、3,5-ジクロロフェニル、2-
トリフルオロメチルフェニル、3-トリフルオロメチルフ
ェニル、4-トリフルオロメチルフェニル、2-トルイル、
3-トルイル、4-トルイル、2,5-キシリル、3,4-キシリ
ル、2,6-キシリル、3-アニシル、3-フェノキシフェニ
ル、3-メチルチオフェニル、2-クロロ-5-(メチルスルホ
ニル) フェニル、 3-(トリフルオロメチル) フェニル、
3,5-ビス (ジフルオロメトキシ) フェニル、3-メトキシ
カルボニルフェニル、3-(1−メトキシカルボニル) エト
キシフェニル、3-ニトロフェニル、3-シアノフェニル、
3-アセチルフェニル、2-クロロ-5−ニトロフェニル、3,
5-ジクロロフェニル、2-フルオロ-4−クロロフェニル、
2,5-ジクロロフェニル、3,5-ジクロロ-4- メチルフェニ
ル基等を挙げることができる。

【００１８】低級アルキル基；たとえば、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、sec.−ブチル、 tert.−ブチル、ｎ−ペンチル、
ネオペンチル、 tert.−ペンチル、ヘキシル基等の如き
炭素数１〜６の直鎖または分岐した低級アルキル基を挙
げることができる。

【００１９】低級アルケニル基；たとえば、アリル、２
−メチル−２−プロペニル、２−ブテニル、３−ブテニ
ル、３−メチル−２−ブテニル基等の如き炭素数１〜５
の低級アルケニル基を挙げることができる。

【００２０】低級アルキニル基；たとえば、２−プロピ
ニル、１−メチル−２−プロピニル、２−ブチニル、３
−ブチニルの如き炭素数１〜５の低級アルキニル基を挙
げることができる。

【００２１】置換されていても良いアラルキル基；たと
えば、フェニル基がハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級
アルキル基、低級アルコキシ基、フェノキシ基、低級ア
ルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、低級ハロア
ルキル基、低級ハロアルコキシ基、低級アルコキシメチ
ル基、低級アルキルチオメチル基、アラルキルオキシ
基、アラルキルチオ基、フェニルチオメチル基、フェニ
ル基アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルア
ルコキシ基、アシル基、シアノ基、ニトロ基、フェニル
基等で置換されたベンジル、１−フェニルエチル、２−
フェニルエチル、１−メチル−１−フェニルエチル、ジ
フェニルメチル、トリチル基等を挙げることができる。

【００２２】低級ハロアルキル基；たとえば、2-クロロ
エチル、2-フルオロエチル、3-クロロプロピル、2-メチ
ル-2−クロロプロピル、2,2,2-トリフルオロエチル、3−
フルオロプロピル基等の如き、炭素数１〜４の低級ハロ
アルキル基を挙げることができる。

【００２３】低級アルコキシアルキル基；たとえば、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、ペントキシ基等の如き炭素数１〜５の低級アルコ
キシ基を含む、前記低級アルキル基からなる低級アルコ
キシアルキル基を挙げることができる。

【００２４】低級シアノアルキル基；たとえば、シアノ
メチル、1-シアノエチル基等のシアノ基を含む、前記低
級アルキル基からなる低級シアノアルキル基を挙げるこ
とができる。

【００２５】低級アルキルチオ基；たとえば、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブ
チルチオ、ペンチルチオ基等の如き炭素数１〜５の低級
アルキルチオ基を含む、前記低級アルキル基からなる低
級アルキルチオ基を挙げることができる。

【００２６】アルコキシカルボニルアルキル基；たとえ
ば、メトキシカルボニルメチル、 1-(メトキシカルボニ
ル) エチル、 1-(エトキシカルボニル) エチル、1-メチ
ル-3-(イソプロポキシカルボニル) プロピル基等の如き
炭素数３〜10程度のアルコキシカルボニルアルキル基を
挙げることができる。

【００２７】シクロアルキル基 たとえば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロオクチル基等の如き炭素数３〜８程度の
シクロアルキル基を挙げることができる。

【００２８】低級アルコキシ基；たとえば、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペ
ントキシ基等の如き、前記低級アルキル基を含む低級ア
ルコキシ基を挙げることができる。

【００２９】低級アルケニルオキシ基 たとえば、2-プロペニルオキシ、2-ブテニルオキシ、3-
ブテニルオキシ、3-メチル-2- ブテニルオキシ基等の如
き、前記低級アルケニル基を含む低級アルケニルオキシ
基を挙げることができる。

【００３０】アラルキルオキシ基 たとえば、ベンジルオキシ、１−フェニルエトキシ、２
−フェニルエトキシ、１−メチル−１−フェニルエトキ
シ、ジフェニルメトキシ、トリチルオキシ基等の如き、
前記アラルキル基を含むアラルキルオキシ基を挙げるこ
とができる。

【００３１】アルコキシカルボニルアルコキシ基；たと
えば、メトキシカルボニルメトキシ、 1-(メトキシカル
ボニル) エトキシ、 1-(エトキシカルボニル) エトキ
シ、1-メチル-3-(イソプロポキシカルボニル) プロピル
基等の如き炭素数３〜10程度のアルコキシカルボニルア
ルコキシ基を挙げることができる。

【００３２】本発明により提供される前記一般式（Ｉ）
で表わされる本発明の化合物の具体例を第１表に示す。
なお本記載の表中で用いられている略号の意味は下記の
通りである。

【００３３】Me；メチル基 Et；エチル基 Pr；n.−プロピル基 iPr ；イソプロピル基 Bu；n.−ブチル基 iBu ；イソブチル基 sBu ；sec.−ブチル基 tBu ；tert.-ブチル基 Hex ；ヘキシル基 Ph；フェニル基 Bn；ベンジル基 −；置換基無し。

【００３４】

【表１】

【００３５】

【表２】

【００３６】

【表３】

【００３７】

【表４】

【００３８】

【表５】

【００３９】

【表６】

【００４０】

【表７】

【００４１】

【表８】

【００４２】

【表９】

【００４３】

【表１０】

【００４４】本発明における前記一般式（Ｉ）の化合物
はいかなる方法によって得られた物でもよいが，例えば
次のような方法によって製造することができる。

【００４５】

【化５】

【００４６】［式中、Ｒ及びＷは、前記一般式（Ｉ）に
おける定義と同じ意味を示す］。

【００４７】一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、一般
式（II）で表わされるカルボン酸誘導体を、カルボニル
ジイミダゾール、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピ
ル)-カルボジイミド塩酸塩またはジシクロヘキサンカル
ボジミドなどの脱水縮合剤と反応させ、次に、Ｒ−ＷＨ
で表される化合物又はその塩と反応させることにより製
造できる。反応温度は、１段階目の反応は、氷冷から60
℃程度、２段階目は室温から 100℃程度もしくは溶媒の
沸点が好都合である。反応時間は、 0.5〜24時間であ
る。溶媒としては、この反応条件で不活性な物であれば
何でも良いが、例えば、四塩化炭素、クロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン化水素溶媒、トルエン、キシ
レン、メシチレン等の炭化水素溶媒、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテ
ル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類またはアセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド、
N,N-ジメチルアセトアミド等の非プロトン性極性溶媒等
が例示できる。生成する式（Ｉ）の化合物の反応混合物
からの分離、精製はそれ自体既知の方法、例えば、抽
出、再結晶、クロマトグラフィー等により行うことがで
きる。

【００４８】

【化６】

【００４９】［式中、Ｒ及びＷは、前記一般式（Ｉ）に
おける定義と同じ意味を示す。Ｘは、ハロゲン原子もし
くはp-トルエンスルホニルオキシ基、メチルスルホニル
オキシ基、トリフルオロメチルスルホニルオキシ基のよ
うな、求核反応において脱離し易い基を示す］。

【００５０】一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、一般
式（III ）で表わされる化合物を塩基の存在下、一般式
R-X で表わされる化合物と反応させることにより製造で
きる。反応温度は、0 ℃から 140℃程度もしくは溶媒の
沸点が好都合である。溶媒としては、この反応条件で不
活性な物であれば何でも良いが、例えば、N,N-ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル、アセトン等の非プロトン性極性溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、
エタノール等のアルコール類、及びこれらのものと水と
の混合溶媒等が例示できる。塩基としては、炭酸カリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム等の無機炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等の無機塩基類、ナトリウムメトキシド、水素化
ナトリウム等が例示できる。生成する式（Ｉ）の化合物
の反応混合物からの分離、精製はそれ自体既知の方法、
例えば、抽出、蒸留、再結晶、クロマトグラフィー等に
より行うことができる。

【００５１】

【化７】

【００５２】［式中、Ｒ及びＷは、前記一般式（Ｉ）に
おける定義と同じ意味を示す。Ｙは、塩素原子、臭素原
子またはヨウ素原子を示す］。

【００５３】化合物（Ｉ）は、例えば、Journal of Ame
rican Chemical Society, 76, 3723, (1954)に記載の公
知あるいはそれに準ずる方法によって、化合物（IV）を
イソプロピルマグネシウムハライドと適当な溶媒中反応
させることによって得ることができる。

【００５４】反応温度は、−７８℃から室温の範囲で任
意に設定できる。使用される溶媒は、一般にグリニヤー
ル反応で用いられる、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フランなどのエーテル系溶媒が好ましい。反応時間は、
設定条件によって異なるが、通常３時間から24時間で終
了することができる。

【００５５】化合物（Ｉ）は、常法によって反応混合物
から、抽出、蒸留、再結晶またはカラムクロマトグラフ
ィーにより容易に単離精製することができる。

【００５６】

【化８】

【００５７】［式中、Ｒ及びＷは、前記一般式（Ｉ）に
おける定義と同じ意味を示す］。

【００５８】一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、一般
式（Ｖ）で表わされる酸塩化物を、塩基の存在下、一般
式Ｒ−ＷＨで表わされる化合物と反応させることにより
製造できる。反応温度は、氷冷から60℃程度が好都合で
ある。溶媒としては、この反応条件で不活性な物であれ
ば何でも良いが、例えば、四塩化炭素、クロロホルム、
塩化メチレンなどのハロゲン化水素溶媒、トルエン、キ
シレン、メシチレン等の炭化水素溶媒、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテ
ル系溶媒等が例示できる。塩基としては、トリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の三級
アミン類、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等の無機
塩基類が例示できる。これらの塩基類は、場合によって
は水溶液で、またあらかじめ式Ｒ−ＷＨで表わされる化
合物と塩を形成させたものを用いることもできる。また
式Ｒ−ＷＨの化合物がアミン類の場合、これ自身を塩基
として過剰に用いてもよい。生成する式（Ｉ）の化合物
の反応混合物からの分離、精製はそれ自体既知の方法、
例えば、抽出、再結晶、クロマトグラフィー等により行
うことができる。

【００５９】

【化９】

【００６０】［式中、Ｒ及びＷは、前記一般式（Ｉ）に
おける定義と同じ意味を示す］。

【００６１】一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、一般
式（VI）で表わされる化合物を、遊離基開始剤の存在
下、有機スズ水素化物と反応させることにより製造でき
る。遊離基開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリ
ル（AIBN）を用いることができる。有機スズ水素化物と
しては、水素化トリ-n- ブチルスズまたは水素化トリフ
ェニルスズを用いることができる。溶媒としては、トル
エン、キシレン、メシチレン等の炭化水素溶媒が例示で
きる。反応温度は、室温から溶媒の沸点程度が好都合で
ある。反応時間は、設定条件によって異なるが、通常３
時間から24時間で終了することができる。

【００６２】生成する式（Ｉ）の化合物の、反応混合物
からの分離、精製はそれ自体既知の方法、例えば、抽
出、蒸留、再結晶、クロマトグラフィー等により行うこ
とができる。

【００６３】上記一般式（II），（Ｖ）及び（VI）の化
合物はいかなる方法によって得られた物でもよいが，例
えば次のような方法によって製造することができる．し
かしながら本発明はこの方法によって製造された物に何
等の限定を受けるものではない．

【００６４】

【化１０】

【００６５】［式中、Ｒは、前記一般式（Ｉ）における
定義と同じ意味を示す］。

【００６６】一般式（II）で表わされるカルボン酸誘導
体は、化７、化９の方法（Ｗが酸素原子）で得られた一
般式（ＶII）で表わされる化合物を、アルカリ加水分解
することにより製造できる。アルカリとしては、例えば
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液を用いる
ことができる。溶媒としては、水及び、この反応条件で
不活性な物であれば何でも良いが、例えば、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類が好ましいものとして例
示できる。反応温度は、室温から80℃程度が好ましい。
反応時間は、設定条件によって異なるが、通常１時間か
ら６時間で終了することができる。生成する一般式（I
I）の化合物の反応混合物からの分離、精製はそれ自体
既知の方法、例えば、抽出、再結晶、クロマトグラフィ
ー等により行うことができる。

【００６７】

【化１１】

【００６８】一般式（Ｖ）で表わされる酸化物は、一般
式（II）で表わされる化合物を、ハロゲン化合物と反応
することにより製造できる。ハロゲン化合物としては、
塩化チオニル、五塩化リン、塩化ホスホリルまたは三塩
化リン等の無機ハロゲン化合物、塩化ベンゾイル、フタ
ル酸塩化物、シュウ酸塩化物またはジクロロメチルメチ
ルエーテルなどの有機ハロゲン化合物等を用いることが
できる。反応温度は、氷冷から60℃程度が好都合であ
る。溶媒を用いる場合には、この反応条件で不活性な物
であれば何でも良いが、例えば、四塩化炭素、クロロホ
ルム、塩化メチレンなどのハロゲン化水素溶媒、トルエ
ン、キシレン、メシチレン等の炭化水素溶媒、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等の
エーテル系溶媒等が例示できる。反応温度は、氷冷から
60℃程度が好都合である。反応時間は、設定条件によっ
て異なるが、通常1 時間から4 時間で終了することがで
きる。設定条件によって異なるが、通常１時間から６時
間で終了することができる。生成する一般式（Ｖ）の化
合物の反応混合物からの分離、精製はそれ自体既知の方
法、例えば、蒸留等により行うことができる。

【００６９】

【化１２】

【００７０】［式中、Ｒは、前記一般式（Ｉ）における
定義と同じ意味を示す］。

【００７１】一般式（VI）で表わされる化合物は、一般
式（VIII）で表わされる4,4,4-トリフルオロクロトン酸
エステルを、塩基の存在下、2-ニトロプロパンと反応さ
せることにより製造できる。反応温度は、氷冷から60℃
程度が好都合である。溶媒としては、この反応条件で不
活性な物であれば何でも良いが、例えば、四塩化炭素、
クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化水素溶
媒、トルエン、キシレン、メシチレン等の炭化水素溶
媒、ジエチルエーテル、 テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン等のエーテル系溶媒等が例示できる。塩基とし
ては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデカ-7
−エン（DBU)、1,2-ジアザビシクロ [2.2.2]オクタン(D
ABCO) 等の三級アミン類、が例示できる。これらの塩基
類は、触媒量から一般式（VIII）で表わされる4,4,4-ト
リフルオロクロトン酸エステルと等モル量用いて反応を
行なうことができる。反応時間は、設定条件によって異
なるが、通常1 時間から24時間で終了することができ
る。生成する式（Ｉ）の化合物の反応混合物からの分
離、精製はそれ自体既知の方法、例えば、抽出、蒸留、
再結晶、クロマトグラフィー等により行うことができ
る。

【００７２】

【実施例】次に本発明化合物の合成例を実施例により具
体的に説明する。

【００７３】実施例１ ベンジル ３−（トリフルオロメチル）−４−メチルペ
ンタノエート（化合物No．23）の製造 3-(トリフルオロメチル)-4-メチルペンタノイック ア
シド（0.65ｇ）及び炭酸カリウム（0.55ｇ）をジメチル
ホルムアミド10ｍl に加え、その懸濁液中に室温で攪拌
しながら塩化ベンジル（0.63ｇ）を加えた。４時間攪拌
後、その反応液中に酢酸エチル及び水を加え有機層を分
取した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮
後、反応混合物をシリカゲルクロマトグラフィー（n-ヘ
キサン／酢酸エチル＝15/1）で精製し、目的化合物（0.
85ｇ）を得た。

【００７４】実施例２ エチル ２-[３-(トリフルオロメチル)-４- メチルペン
タノイル] アセテート（化合物 No.45）の製造 3-(トリフルオロメチル)-4-メチルペンタノイック ア
シド（0.65ｇ）及び炭酸カリウム（0.55ｇ）をジメチル
ホルムアミド10ｍl に加え、その懸濁液中に室温で攪拌
しながらエチル ブロモアセテート（0.60ｇ）を加え
た。４時間攪拌後、その反応液中に酢酸エチル及び水を
加え有機層を分取した。有機層を硫酸マグネシウムで乾
燥、減圧濃縮後、反応混合物をシリカゲルクロマトグラ
フィー（n-ヘキサン／酢酸エチル＝8/1 ）で精製し、目
的化合物（0.80ｇ）を得た。

【００７５】実施例３ ３-(トリフルオロメチル)-4-メチルペンタノイック ア
シド（化合物 No.１）の製造 Journal of American Chemical Society, 76, 3725, (1
954)の方法に従って合成されたエチル 3-(トリフルオロ
メチル)-4-メチルペンタノエート（8.1 ｇ）をエタノー
ル40ｍl に加え、その溶液中に室温で攪拌しながら水酸
化ナトリウム（2.3 ｇ）を含む５ｍｌ水溶液を加えた。
２時間攪拌後、その反応液中に塩化メチレン及び水を加
え有機層を除去した。水層に塩化メチレンを加えさら２
Ｎ塩酸を加え水層を酸性にした後、有機層を分取し、硫
酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮し目的化合物（6.50
ｇ）を得た。

【００７６】実施例４ ４'-クロロ-3-(トリフルオロメチル)-4-メチルペンタノ
アニリド（化合物No.201）の製造 3-(トリフルオロメチル)-4-メチルペンタノイック ア
シド（0.62ｇ）及び4-クロロアニリン（0.55ｇ）をＴＨ
Ｆ（15ｍｌ）に加え、その反応液中に室温で攪拌しなが
ら1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)-カルボジイ
ミド塩酸塩を加えた。４時間攪拌後、その反応液中に塩
化メチレン及び１Ｎ塩酸水溶液を加え有機層を分取し
た。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮後、反
応混合物をシリカゲルクロマトグラフィー（n-ヘキサン
／酢酸エチル＝5/1 ）で精製し、目的化合物（0.80ｇ）
を得た。

【００７７】実施例５ Ｎ−ベンジル-3-(トリフルオロメチル)-4-メチルペンタ
ノアミド（化合物No.143）の製造 3-(トリフルオロメチル)-4-メチルペンタノイック ア
シド（0.68ｇ）及びカルボニルジイミダゾール（0.72
ｇ）をＴＨＦ（15ｍｌ）に加え、その反応液を室温で４
時間攪拌した。ベンジルアミン（0.50ｇ）を加え、60℃
Ｃで４時間攪拌し、その反応液中に塩化メチレン及び１
Ｎ塩酸水溶液を加え有機層を分取した。有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥、減圧濃縮後、反応混合物をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（n-ヘキサン／酢酸エチル＝3/1
）で精製し、目的化合物（0.88ｇ）を得た。

【００７８】これらの実施例１〜５によって製造された
物質，および同様の方法を用いて製造された物質の融点
及び ¹Ｈ−ＮＭＲピーク値を第２表に示す．

【００７９】

【表１１】

【００８０】

【表１２】

【００８１】

【表１３】

【００８２】本発明の前記化合物を除草剤として用いる
場合には、担体もしくは希釈剤、添加剤、及び補助剤等
と公知の手法で混合して、通常農薬として用いられる製
剤形態、例えば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、水溶剤、フ
ロアブル剤等に調製して使用される。また他の農薬、例
えば殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、除草剤、植物生長調節
剤、肥料及び土壌改良剤等と混合叉は併用して使用する
ことができる。

【００８３】特に他の除草剤と混合使用することによ
り、使用薬量を減少させ、また省力化をもたらすのみな
らず、両薬剤の共力作用による殺草スペクトラムの拡大
及び相乗作用による一層高い効果も期待できる。

【００８４】製剤に際して用いられる担体もしくは希釈
剤としては、一般に使用される固体ないしは液体の担体
が挙げられる。

【００８５】固体担体としては、例えば、カオリナイト
群、モンモリロナイト群、イライト群あるいはポリゴス
カイト群等で代表されるクレー類、もしくはパイロフイ
ライト、アタパルジャイト、セピオライト、カオリナイ
ト、ベントナイト、バーミキュライト、雲母、タルク
等；石膏、炭酸カルシウム、ドロマイト、けいそう土、
マグネシウム石灰、りん灰石、ゼオライト、無水ケイ
酸、合成ケイ酸カルシウム等のその他無機物質；大豆
粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、でんぷん、結
晶セルロース等の植物性有機物質；クマロン樹脂、石油
樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリアルキレ
ングリコール、ケトン樹脂、エステルガム、コーバルガ
ム、ダンマルガム等の合成叉は天然の高分子化合物；カ
ルナウバロウ、蜜ロウ等のワックス類あるいは尿素等が
例示できる。

【００８６】適当な液体担体としては、例えば、ケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系叉はナフテン系炭化水素；キシレン、エチルベンゼ
ン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水素；ト
リクロルエチレン、モノクロルベンゼン、オルトクロル
トルエン等の塩素化炭化水素；ジオキサン、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トフェノン、イソホロン等のケトン類；酢酸エチル、酢
酸アミル、エチレングリコールアセテート、ジエチレン
グリコールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク酸
ジエチル等のエステル類；メタノール、ｎ−ヘキサノー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、シク
ロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール
類；エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレング
リコールブチルエーテル等のエ−テルアルコール類；ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶
媒あるいは水等が挙げられる。

【００８７】その他に本発明の化合物の乳化、分散、湿
潤、展着、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、
流動性改良、防錆、凍結防止等の目的で界面活性剤その
他の補助剤を使用することもできる。

【００８８】使用される界面活性剤の例としては、非イ
オン性、陰イオン性、陽イオン性及び両性イオン性のい
ずれも使用しうるが、通常は非イオン性及び（または）
陰イオン性のものが使用される。適当な非イオン性界面
活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール、ステア
リルアルコール、オレイルアルコール等の高級アルコー
ルにエチレンオキシドを重合付加させた化合物；ブチル
ナフトール、オクチルナフトール等のアルキルナフトー
ルにエチレンオキシドを重合付加させた化合物；パルミ
チン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエ
チレンオキシドを重合付加させた化合物；ソルビタン等
の多価アルコールの高級脂肪酸エステル及びそれにエチ
レンオキシドを重合付加させた化合物等が挙げられる。

【００８９】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホこはく酸ジオクチルエステルナトリウム、２−エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等が挙げられる。

【００９０】更に、本発明の除草剤には、製剤の性状を
改善し、効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、ア
ルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や他
の補助剤を併用することもできる。

【００９１】上記の担体及び種々の補助剤は製剤の剤
系、適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独
あるいは組み合わせて適宜使用される。

【００９２】このようにして得られた各種製剤形におけ
る本発明化合物有効成分含有率は製剤形により種々変化
するものであるが、通常０．１〜９９重量％が適当であ
り、好ましくは１〜８０重量％が最も適当である。

【００９３】水和剤の場合は、例えば有効成分化合物を
通常２０〜９０％含有し、残部は固体担体及び分散湿潤
剤であって、必要に応じて保護コロイド剤、消泡剤等が
加えられる。

【００９４】粒剤の場合は、例えば有効成分化合物を通
常１〜３５重量％含有し、残部は固体担体及び界面活性
剤である。有効成分化合物は固体担体と均一に混合され
ているか、あるいは固体担体の表面に均一に固着叉は吸
着されており、粒の径は約０．２ないし１．５ｍｍであ
る。

【００９５】乳剤の場合は、例えば有効成分化合物を通
常５〜３０重量％含有しており、これに約５ないし２０
重量％の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必要
に応じて展着剤及び防錆剤等が加えられる。

【００９６】フロアブル剤の場合は、例えば有効成分化
合物を通常５〜５０重量％含有しており、これに３ない
し１０重量％の分散湿潤剤が含まれ、残部は水であり必
要に応じて保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加えら
れる。

【００９７】本発明の前記一般式（Ｉ）の化合物誘導体
は、化合物そのまま、あるいは上述した様な任意の製剤
形態で除草剤として使用することができる。

【００９８】本発明の組成物は、水田及び畑地等の農耕
地並びに非農耕地に生育する発生前から生育期までの諸
雑草に適用できる。その施用量は有効成分量として１ｈ
ａ当たり、１〜１０，０００ｇ程度、好ましくは１０〜
５，０００ｇ程度である。またその施用量は、目的とす
る雑草の種類、生育段階、施用場所、天候等によって、
適宜に選択変更できる。

【００９９】次に、本発明の化合物を用いた製剤例の数
様態を示す。なお、下記製剤中の「部」は重量基準であ
る。

【０１００】 製剤例１（乳剤） 化合物Ｎｏ．１ ２０部 キシレン ５０部 シクロヘキサノン ２０部 ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム ５部 ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル ５部 以上を均一に混合溶解して乳剤１００部を得た。

【０１０１】 製剤例２（水和剤） 化合物Ｎｏ．１ ２０部 クレー ７０部 リグニンスルホン酸カルシウム ７部 アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物 ３部 以上を混合し、ジェットミルで粉砕して水和剤１００部
を得た。

【０１０２】 製剤例３（フロアブル剤） 化合物Ｎｏ．１ ２０部 スルホコハク酸ジ−２−エチルヘキシルエステルナトリウム塩 ２部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエ−テル ２部 消泡剤 ０．５部 プロピレングリコール ５部 水 ７０．５部 以上を湿式ボ−ルミルで均一に粉砕混合し、フロアブル
剤１００部を得た。

【０１０３】上述の製剤例に準じて本発明の化合物を用
いた除草剤がそれぞれ製剤できる。

【０１０４】次に、本発明化合物の除草効果を試験例を
挙げて説明する。

【０１０５】試験例１（水田土壌処理） １３０ｃｍ² プラスチックポットに水田土壌を充填し、
適量の水と化学肥料を加えて混練し水田状態とした。こ
れに、予め葉数が２枚になる様に温室内で生育させた水
稲苗（品種：コシヒカリ）を２本１株として２株をポッ
トに移植し、更に、ノビエ、コナギ、アゼナ及びホタル
イの各種子を一定量播種し、水深３ｃｍに湛水した。翌
日、製剤例２に準じて水和剤を調製し、有効成分で１ｈ
ａ当り５ｋｇまたは１ｋｇとなるように適量の水で希釈
して、ピペットで滴下処理した。薬剤処理を行ってから
２１日後に、各雑草への除草効果及び水稲に対する薬害
程度を下記の基準に従って判別した。その結果を第３表
に示す。

【０１０６】

【表１４】

【０１０７】評価基準（１１段階）は次の通りである。

【０１０８】

【表１５】

【０１０９】

【発明の効果】本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化
合物は、水田に発生するヒエ、タマガヤツリ、コナギ、
キカシグサ、アゼナ、アブノメ等の一年生雑草及びホタ
ルイ、マツバイ、ヘラオモダカ、ミズガヤツリ等の多年
生雑草の発芽時から生育期の広い範囲にわたって、極め
て低い薬量で優れた除草効果を発揮すると同時に、移植
水稲、湛水直播水稲及び乾田直播稲に対しては高い安全
性を有するものである。

【０１１０】また、畑地においても問題となる種々の雑
草、例えばタデ、アオビユ、シロザ等の広葉雑草をはじ
め、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、
コゴメガヤツリ等の多年生及び一年生カヤツリグサ科雑
草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビ
ラ、ジョンソングラス、ワイドオート、スズメノテッポ
ウ等のイネ科雑草に対して、土壌処理あるいは茎葉処理
で高い除草効果を示すと同時に大豆、棉、砂糖ダイコ
ン、ナタネ、ヒマワリ、トウモロコシ、陸稲、小麦等に
対しては高い安全性を示すという特徴を有する。

【０１１１】更に、水田、畑地のみならず、果樹園、桑
園、芝生、非農耕地においても使用することができる。

【０１１２】また、本発明化合物を公知化合物と混合し
て使用すると、それぞれの化合物単剤では防除困難な雑
草に対して完全な除草効果を示すと共に、相乗的な除草
効果により単剤では防除困難な薬量においても種々の雑
草を有効に防除し、且つ水稲、大豆、棉、砂糖ダイコ
ン、ナタネ、ヒマワリ、トウモロコシ、陸稲、小麦等に
対して高い安全性を示し、農業上非常に有用な除草剤を
提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 37/04 Ａ０１Ｎ 37/04 37/18 37/18 Ｚ 37/20 37/20 37/28 9450−4Ｈ 37/28 37/34 １０１ 9450−4Ｈ 37/34 １０１ 37/50 37/50 43/36 43/36 Ｂ 43/60 43/60 43/84 １０１ 43/84 １０１ Ｃ０７Ｃ 69/63 Ｃ０７Ｃ 69/63 233/05 233/05 233/06 233/06 233/07 233/07 233/13 233/13 233/15 233/15 233/47 233/47 239/20 239/20 243/28 243/28 251/66 251/66 255/14 255/14 255/60 255/60 323/12 323/12 327/22 327/22 Ｃ０７Ｄ 295/18 Ｃ０７Ｄ 295/18 Ａ Ｚ (72)発明者 荒木 恒一 茨城県稲敷郡阿見町中央８−３−１ ロー ヌ・プーラン油化アグロ株式会社阿見研究 所内 (72)発明者 青木 孝子 茨城県稲敷郡阿見町中央８−３−１ ロー ヌ・プーラン油化アグロ株式会社阿見研究 所内 (72)発明者 横山 雅敏 茨城県稲敷郡阿見町中央８−３−１ ロー ヌ・プーラン油化アグロ株式会社阿見研究 所内 (72)発明者 井上 久美子 茨城県稲敷郡阿見町中央８−３−１ ロー ヌ・プーラン油化アグロ株式会社阿見研究 所内 (72)発明者 北爪 智哉 東京都大田区南千束３−23−14−201

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中Ｒは水素原子、置換されていても良いフェニル
   基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
   ル基、置換されていても良いアラルキル基、低級ハロア
   ルキル基、低級アルコキシアルキル基、低級シアノアル
   キル基、低級アルキルチオアルキル基、アルコキシカル
   ボニルアルキル基、シクロアルキル基、−Ｎ＝ＣＲ¹ Ｒ
   ² 、−ＮＲ³ Ｒ⁴ 、低級アルコキシ基、低級アルケニル
   オキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニル
   アルコキシ基を示す。Ｗは、酸素原子、硫黄原子または
   ＮＲ⁵ を示す。Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ独立に水素原子、
   低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
   基、置換されていても良いフェニル基を示す。またＲ¹
   及びＲ² が一緒になって４〜７個のアルキレン鎖を形成
   することができる。Ｒ³ 、Ｒ⁴ はそれぞれ独立に水素原
   子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
   ル基、置換されていても良いフェニル基を示す。Ｒ⁵ は
   水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
   ルキニル基、置換されていても良いフェニル基を示す。
   またはＲ及びＲ⁵ はそれぞれが結合している窒素原子と
   一緒になってピロリジン環、ピペリジン環、またはモル
   ホリン環を形成してもよい。但し、−Ｗ−Ｒが、エトキ
   シ、アニリノ及びヒドラジノである化合物は除く。］で
   表わされる４−メチル−３−ＣＦ₃ −吉草酸誘導体。
2. 【請求項２】 一般式（Ｉ） 【化２】 ［式中Ｒは水素原子、置換されていても良いフェニル
   基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
   ル基、置換されていても良いアラルキル基、低級ハロア
   ルキル基、低級アルコキシアルキル基、低級シアノアル
   キル基、低級アルキルチオアルキル基、アルコキシカル
   ボニルアルキル基、シクロアルキル基、−Ｎ＝ＣＲ¹ Ｒ
   ² 、−ＮＲ³ Ｒ⁴ 、低級アルコキシ基、低級アルケニル
   オキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニル
   アルコキシ基を示す。Ｗは、酸素原子、硫黄原子または
   ＮＲ⁵ を示す。Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ独立に水素原子、
   低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
   基、置換されていても良いフェニル基を示す。またＲ¹
   及びＲ² が一緒になって４〜７個のアルキレン鎖を形成
   することができる。Ｒ³ 、Ｒ⁴ はそれぞれ独立に水素原
   子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
   ル基、置換されていても良いフェニル基を示す。Ｒ⁵ は
   水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級ア
   ルキニル基、置換されていても良いフェニル基を示す。
   またはＲ及びＲ⁵ はそれぞれが結合している窒素原子と
   一緒になってピロリジン環、ピペリジン環、またはモル
   ホリン環を形成してもよい。］で表わされる４−メチル
   −３−ＣＦ₃ −吉草酸誘導体を有効成分として含有する
   ことを特徴とする除草剤。