JPS6348525A - 液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法 - Google Patents
液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法Info
- Publication number
- JPS6348525A JPS6348525A JP19340186A JP19340186A JPS6348525A JP S6348525 A JPS6348525 A JP S6348525A JP 19340186 A JP19340186 A JP 19340186A JP 19340186 A JP19340186 A JP 19340186A JP S6348525 A JPS6348525 A JP S6348525A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
この発明は、液晶表示パネルの基板上にギャップ用スペ
ーサを形成する際に、液晶配向面が損傷したり画素上に
スペーサが存在して表示欠陥を生じる問題を解決するた
め、繊維質の膜が被覆されたマスク材を用いてエツチン
グにより当該基板上の配向膜を部分的に除去し、その除
去部分に蒸着等でスペーサ用の絶縁層を形成するように
したものである。
ーサを形成する際に、液晶配向面が損傷したり画素上に
スペーサが存在して表示欠陥を生じる問題を解決するた
め、繊維質の膜が被覆されたマスク材を用いてエツチン
グにより当該基板上の配向膜を部分的に除去し、その除
去部分に蒸着等でスペーサ用の絶縁層を形成するように
したものである。
この発明は、液晶表示パネルのギャップ用スペーサ形成
方法に関するものである。
方法に関するものである。
液晶表示パネルの基板間の距離(ギャップ)は、高表示
品質を得るために均一かつ正確に設定する必要があり、
この条件を満たすギャップ用スペーサの容易な製造方法
が要望されている。
品質を得るために均一かつ正確に設定する必要があり、
この条件を満たすギャップ用スペーサの容易な製造方法
が要望されている。
第3図は従来の液晶表示パネルの構造を示す断面図で、
11および12は一対のガラス基板、13および14は
交叉状に対向する一対のITO膜よりなる表示電極、1
5は配向膜、16はガラスパウダやガラスファイバより
なる玉杖のスペーサを示す。
11および12は一対のガラス基板、13および14は
交叉状に対向する一対のITO膜よりなる表示電極、1
5は配向膜、16はガラスパウダやガラスファイバより
なる玉杖のスペーサを示す。
前記スペーサ16の構築は、アルコールなどの揮発性溶
媒中に例えばガラスファイバ小片を懸濁させ、この懸濁
液をガラス基板11上に滴下し該基板を回転させること
によって、前記ガラスファイバ小片をガラス基板上に散
布しスペーサ16として構成するものである。
媒中に例えばガラスファイバ小片を懸濁させ、この懸濁
液をガラス基板11上に滴下し該基板を回転させること
によって、前記ガラスファイバ小片をガラス基板上に散
布しスペーサ16として構成するものである。
前記従来のスペーサ形成方法では、そのスペーサが画素
上すなわち対向した表示電極対間の交叉部上にも置かれ
、それが両ガラス基板を重ね合わせて接合する際に各基
板上の配向膜を傷付5す、そのために液晶の配向が乱れ
て表示欠陥を生じコントラストを低下させる問題があっ
た。また分散されたスペーサとガラス基板表面との間に
は接着性がないため、両ガラス基板の接合時の小さい振
動などによりスペーサが位置ずれし他のスペーサとくっ
つき合い、結果的に径が大きくなって基板間の距離が一
定に保たれないという問題を生じていた。
上すなわち対向した表示電極対間の交叉部上にも置かれ
、それが両ガラス基板を重ね合わせて接合する際に各基
板上の配向膜を傷付5す、そのために液晶の配向が乱れ
て表示欠陥を生じコントラストを低下させる問題があっ
た。また分散されたスペーサとガラス基板表面との間に
は接着性がないため、両ガラス基板の接合時の小さい振
動などによりスペーサが位置ずれし他のスペーサとくっ
つき合い、結果的に径が大きくなって基板間の距離が一
定に保たれないという問題を生じていた。
この発明は、以上のような従来の状況から、液晶配向面
を損傷させないうえに一定の高さのスペーサを基板上に
形成できるスペーサ形成方法の提供を目的とするもので
ある。
を損傷させないうえに一定の高さのスペーサを基板上に
形成できるスペーサ形成方法の提供を目的とするもので
ある。
上記目的を達成するためにこの発明は、第1図fa)に
示すような所定パターンの穴22が形成され内側面に繊
維質の膜23が施されたマスク材21を用い、基板上に
形成した配向膜の上に該マスク材の繊維質の膜を対向さ
せて載置し、この状態で該マスク材のパターンに基づき
前記基板の配向膜を部分的に除去するエツチング工程と
、配向膜が除去された当該基板表面に絶縁層を蒸着また
はスパッタにより形成する工程とを順次行い、該絶縁層
によりスペーサを形成する方法を採っている。
示すような所定パターンの穴22が形成され内側面に繊
維質の膜23が施されたマスク材21を用い、基板上に
形成した配向膜の上に該マスク材の繊維質の膜を対向さ
せて載置し、この状態で該マスク材のパターンに基づき
前記基板の配向膜を部分的に除去するエツチング工程と
、配向膜が除去された当該基板表面に絶縁層を蒸着また
はスパッタにより形成する工程とを順次行い、該絶縁層
によりスペーサを形成する方法を採っている。
第1図(b)はこの方法によって形成したスペーサを有
する一方の基板の断面図を示す。この図において、11
は基板、13は表示電極、31は配向膜、41はスペー
サである。
する一方の基板の断面図を示す。この図において、11
は基板、13は表示電極、31は配向膜、41はスペー
サである。
スペーサ形成用マスク材は、基板に対しパターン状穴を
所定位置に位置合わせすることにより、該基板上の画素
位置とは異なる位置に絶縁層よりなるスペーサを容易に
形成でき、しかも該絶縁層の厚みにより基板間の距離を
自由に制御可能である。また前記マスク材と基板上の配
向膜との間に介在する繊維質の膜は、該配向膜と同質で
あるために配向膜のエツチング時および絶縁層の成膜時
において該マスク材の微妙な動きによる当該配向膜表面
の傷っけを防止する。
所定位置に位置合わせすることにより、該基板上の画素
位置とは異なる位置に絶縁層よりなるスペーサを容易に
形成でき、しかも該絶縁層の厚みにより基板間の距離を
自由に制御可能である。また前記マスク材と基板上の配
向膜との間に介在する繊維質の膜は、該配向膜と同質で
あるために配向膜のエツチング時および絶縁層の成膜時
において該マスク材の微妙な動きによる当該配向膜表面
の傷っけを防止する。
第2図はこの発明の一実施例を工程順に沿って示す液晶
表示パネルの一方の基板の要部断面図である。
表示パネルの一方の基板の要部断面図である。
まず第2図fatに示すように電極幅40μm、電極間
間隔20μmのITO膜よりなる表示電極13とポリビ
ニールアルコール(PVA)よりなる配向膜31を積層
形成したガラス基板11の上に、ギャップ形成用マスク
材21を載置する。本実施例の場合マスク材は、厚さ0
.51の金属板(例えばステンレス板)21の一面に前
記配向膜と同材料のPVAの膜23を膜厚0.1 μm
形成し、かつ直径10IImで間隔が60μmの穴22
を形成したものである。このマスク材21を、PVA1
ii23を下にしがっ穴22をM +a11上の電極1
3間に位置合わせして該基板11の配向膜31上に載置
する。
間隔20μmのITO膜よりなる表示電極13とポリビ
ニールアルコール(PVA)よりなる配向膜31を積層
形成したガラス基板11の上に、ギャップ形成用マスク
材21を載置する。本実施例の場合マスク材は、厚さ0
.51の金属板(例えばステンレス板)21の一面に前
記配向膜と同材料のPVAの膜23を膜厚0.1 μm
形成し、かつ直径10IImで間隔が60μmの穴22
を形成したものである。このマスク材21を、PVA1
ii23を下にしがっ穴22をM +a11上の電極1
3間に位置合わせして該基板11の配向膜31上に載置
する。
この状態でまずドライエツチングを行い、マスり材21
の穴22に露出した配向膜31aを除去する。
の穴22に露出した配向膜31aを除去する。
第2図(b)はこの部分的配向膜除去後の基板構造を示
す。これに引き続いて二酸化ケイ素(SHOz)を基板
11に蒸着して、第2図fc)に示すようにマスク材2
1の穴22に露出した基板表面に厚さ2μmのS、0□
層41を形成する。この後、マスク材21を除去すると
基牟反11上には第2図(d)に示す絶縁層よりなる高
さ2μmのスペーサ41が構築される。
す。これに引き続いて二酸化ケイ素(SHOz)を基板
11に蒸着して、第2図fc)に示すようにマスク材2
1の穴22に露出した基板表面に厚さ2μmのS、0□
層41を形成する。この後、マスク材21を除去すると
基牟反11上には第2図(d)に示す絶縁層よりなる高
さ2μmのスペーサ41が構築される。
以上この発明の一実施例について説明したが、本発明の
本質はこれに限定されずに次のような変形が可能である
。すなわち、マスク材21に被覆した繊維質の膜23の
材料としてポリミイドまたはセルロースが使用可能であ
り、またスペーサ41の材料として窒化物が使用可能で
あり、その形成法としてスパッタ法を適用できる。
本質はこれに限定されずに次のような変形が可能である
。すなわち、マスク材21に被覆した繊維質の膜23の
材料としてポリミイドまたはセルロースが使用可能であ
り、またスペーサ41の材料として窒化物が使用可能で
あり、その形成法としてスパッタ法を適用できる。
〔発明の効果]
以上説明したようにこの発明によれば、基板上の液晶配
向面を損傷することなく画素となる位置とは異なる位置
に一定高さのスペーサを容易に形成できるので、液晶表
示パネルの画素中の欠陥を減少してコントラスト比の大
1ti(20%以上)向上を図ることが可能であり、ま
た基板間の距離の均一性を同上して表示品質の向上を図
ることができる。
向面を損傷することなく画素となる位置とは異なる位置
に一定高さのスペーサを容易に形成できるので、液晶表
示パネルの画素中の欠陥を減少してコントラスト比の大
1ti(20%以上)向上を図ることが可能であり、ま
た基板間の距離の均一性を同上して表示品質の向上を図
ることができる。
第1図はこの発明のギャップ用スペーサ形成方法の原理
を説明するためのもので、(a)はギャップ形成用マス
ク材、(blは一方のパネル基板の断面図、第2図はこ
の発明の一実力缶例を工程順に示した断面図、 第3図は従来の液晶表示パネルの要部断面図である。 第1図、第2図において、 11はガラス基板、 13は表示電極、 21はギャップ形成用マスク材、 22はパターン状の穴、 23は繊維質の膜、 31は配向膜、 41はスペーサ用絶縁層をそれぞれ示す。 6ツプイシ戒用マスク断面図 第1 図(Q) 、+′#ニー日月の一方のパタ1し苓矛反凶印面園第
1 図(b) 圭徒明の−Δ吏〃J工程凶 ′I達氷のa魁シ呑示ノぐ81し卸徂1月第3面
を説明するためのもので、(a)はギャップ形成用マス
ク材、(blは一方のパネル基板の断面図、第2図はこ
の発明の一実力缶例を工程順に示した断面図、 第3図は従来の液晶表示パネルの要部断面図である。 第1図、第2図において、 11はガラス基板、 13は表示電極、 21はギャップ形成用マスク材、 22はパターン状の穴、 23は繊維質の膜、 31は配向膜、 41はスペーサ用絶縁層をそれぞれ示す。 6ツプイシ戒用マスク断面図 第1 図(Q) 、+′#ニー日月の一方のパタ1し苓矛反凶印面園第
1 図(b) 圭徒明の−Δ吏〃J工程凶 ′I達氷のa魁シ呑示ノぐ81し卸徂1月第3面
Claims (2)
- (1)液晶表示パネルを構成する少なくとも一方の基板
(11)上にギャップ用スペーサ(41)を形成するに
際し、 所定パターンの穴(22)が形成され内側面に繊維質の
膜(23)が施されたマスク材(21)を、配向膜(3
1)を形成した前記基板(11)の上にその繊維質の膜
を対向させて載置し、該マスク材(21)のパターンに
基づき前記基板(11)の配向膜(31)を部分的に除
去するエッチング工程と、その配向膜(31a)が除去
された基板表面に絶縁層(41)を蒸着またはスパッタ
により形成する工程とを順次行うことを特徴とする液晶
表示パネルのギャップ用スペーサ形成方法。 - (2)前記繊維質の膜(23)が、ポリビニールアルコ
ールまたはポリミイドまたはセルロースからなり、前記
絶縁層(41)が二酸化ケイ素または窒化物からなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項に記載の液晶
表示パネルのギャップ用スペーサ形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61193401A JPH0827457B2 (ja) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | 液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61193401A JPH0827457B2 (ja) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | 液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6348525A true JPS6348525A (ja) | 1988-03-01 |
| JPH0827457B2 JPH0827457B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=16307333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61193401A Expired - Lifetime JPH0827457B2 (ja) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | 液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827457B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH024227A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-09 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示セル及びその製造方法 |
| WO1993001517A1 (fr) * | 1991-07-03 | 1993-01-21 | Kabushiki Kaisha Ace Denken | Affichage a cristaux liquides et procede de fabrication d'un tel affichage |
| JP2010044375A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-25 | Commissariat A L'energie Atomique | 微小構造を形成する前に堆積しまたラビング処理する液晶配向層 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5660481A (en) * | 1979-10-04 | 1981-05-25 | Tektronix Inc | Liquid crystal display panel |
| JPS56122012A (en) * | 1980-03-03 | 1981-09-25 | Keiji Iimura | Tn-type liquid crystal cell |
| JPS5781234A (en) * | 1980-11-10 | 1982-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of liquid crystal display element |
-
1986
- 1986-08-18 JP JP61193401A patent/JPH0827457B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5660481A (en) * | 1979-10-04 | 1981-05-25 | Tektronix Inc | Liquid crystal display panel |
| JPS56122012A (en) * | 1980-03-03 | 1981-09-25 | Keiji Iimura | Tn-type liquid crystal cell |
| JPS5781234A (en) * | 1980-11-10 | 1982-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of liquid crystal display element |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH024227A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-09 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示セル及びその製造方法 |
| WO1993001517A1 (fr) * | 1991-07-03 | 1993-01-21 | Kabushiki Kaisha Ace Denken | Affichage a cristaux liquides et procede de fabrication d'un tel affichage |
| JP2010044375A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-25 | Commissariat A L'energie Atomique | 微小構造を形成する前に堆積しまたラビング処理する液晶配向層 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0827457B2 (ja) | 1996-03-21 |
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