JPH08289108A - 画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
度制御を行なって安定した濃度の画像を得る。 【構成】 パッチP1〜P4に対する濃度D1〜D4が得ら
れると、D1〜D4の中から制御目標DTargetが含まれて
いる区間を探し、パッチ濃度D1〜D4の中に制御目標D
Targetが含まれいない場合、D1〜D4の内の2点を用い
て直線補間により外挿する。これによって、V−D特性
の変動によりD1〜D4の範囲内にDTargetが含まれなく
ても制御エラーとせず、常にDmax制御を行なう。
Description
画像形成装置に関するものである。
置では、装置を使用する環境の変化、プリント枚数等の
諸条件によって画像濃度が大きく変動する。そこで、従
来よりトナーにて最大濃度(Dmax)の濃度検知用トナー
像(以下、これをパッチと称する)を感光ドラム上等に
試験的に作成し、その濃度を光学センサ等で検知して、
検知結果を現像バイアス等の画像形成条件にフィードバ
ックすることでDmaxを所定の値にする最大濃度制御(D
max制御)を行なっており、これにより、安定した濃度の
画像を得ている。
成装置を構成する画像濃度制御回路が、パターン発生回
路から濃度検知用パッチを表わす画像信号を発生させ、
この信号に従って、感光ドラム上に回転方向に沿ってP
1〜P4の四つのパッチの潜像を形成する。次に、これら
の潜像は、現像器によって現像されるが、このとき、最
初のパッチP1はV1,P2はV2,P3はV3,P4はV4の
ように、現像バイアス(VDC)を高圧制御回路によって各
パッチごとに切り替え、各パッチを異なる現像バイアス
で現像する。そして、感光ドラム上に作成されたP1〜
P4の各パッチは、濃度センサによってその濃度D1〜D
4を測定される。
アスVDCで現像していった場合、現像バイアス(VDC)と
パッチの濃度(O.D.)との関係(V−D特性)は、
常温常湿では、図9に示すようになる。図9から明らか
なように、V−D特性は、特性の変化の少ない部分A,
Cと、特性が大きく変化している部分Bとからなってい
る。このV−D特性は、また、画像形成装置が設置され
ている環境によっても変動し、例えば、図10に示すよ
うになる。図10では、符号aにて示される特性が図9
と同じものであり、特性bは、高温高湿環境下のもの、
そして、特性cは、低温低湿環境下のときのものであ
る。
A,C部は濃度の変化が不安定であり、Bでは、濃度が
安定して増加している。従って、図10に示すように、
Dmax制御では、制御目標DTargetをBの部分に設定
し、各パッチの濃度D1〜D4は、D1<D2<D3<D4と
なり、かつ、D1〜D4のほぼ中間にDTargetが入るよう
な現像バイアスV1〜V4を設定している。V1〜V4の値
には、V−D特性が多少変動してD1〜D4の値が変動し
ても、DTargetがD1〜D4の範囲に収まるような値を選
んでおり、また、V1〜V4は、後で行なう計算を簡単に
するために、同一の間隔(図中のwで示され、50V程
度)を開けている。
大きく変動するため、V1〜V4の値を固定しているとD
TargetがD1〜D4の範囲外に出てしまう(図10のb,
c参照)。そこで、現像バイアスV1〜V4も高温高湿下
では、図11に示すように、また、低温低湿下では、図
12に示すように、それぞれの環境によって変えること
で、DTargetがD1〜D4のほぼ中間にくるようにしてい
る。
御が開始されると、画像形成装置内に設けられた温湿度
センサから算出される装置内の絶対水分量より、その時
点のDmax制御に適したものが選択されるようになって
いる。そして、濃度センサで測定された各パッチの濃度
D1〜D4と、そのパッチを作成したときの現像バイアス
V1〜V4のデータを用いて、画像濃度制御回路において
制御目標の濃度DTargetを得るための最適な現像バイア
スVTargetを算出する。
は、まず、D1〜D4の中でDTargetが含まれている区
間、すなわち、Di≦D≦Di+1となっている区間を探
す。そして、このような区間が見つかった場合には、直
線補間を使ってDTargetを得るための現像バイアスVTa
rgetを算出する。従って、例えば、図13に示すよう
に、D2とD3との間に制御目標とする濃度DTargetがあ
る場合、下記の式、 VTarget={(V3−V2)/(D3−D2)}(DTarget−D2)+V2 …(1) によって最適な現像バイアスVTargetを算出する。
リに保持され、次回のDmax制御が行なわれるまでは、
この値を用いて画像形成を行なう。
従来の画像形成装置において、現像バイアスVTargetを
算出するためには、濃度DTargetが必ずD1〜D4の範囲
に入っていなければならず、それが範囲外の場合はエラ
ーとして、デフォルトとしてあらかじめ設定してある現
像バイアスを選ぶ等の処理をしなければならない。
V1とV4の中間の値、または、DTarget<D1ならばV
1、D4<DTargetならばV4といった値である。
で、安定した濃度の画像を得ることはできない。従っ
て、正確な画像濃度制御を行なうためには、上述のよう
に、画像形成装置が置かれている環境によって現像バイ
アスV1〜V4の値を変える等して、適切な現像バイアス
の設定を行なうことが必要である。しかしながら、適切
な現像バイアスの設定を行なっていても、トナーの耐久
劣化や温湿度センサが追随できないような急激な環境変
化、感光ドラムの劣化等によって、DTargetがD1〜D4
の範囲外になってしまうという問題がある。
は、V1〜V4の各現像バイアスの間隔wを広げるか、パ
ッチの数を5つ以上に増やして、Dmax制御で制御でき
る現像バイアスの範囲を広げる方法が考えられるが、現
像バイアスの間隔を広げる方法では、直線補間をすると
きの誤差が大きくなり、また、パッチの数を増やす方法
では、消費されるトナーの量が多くなるといった問題が
ある。
ので、その目的とするところは、無駄なトナーを消費せ
ず、常に正確な画像濃度制御を行なって安定した濃度の
画像を得ることができる画像形成装置を提供することで
ある。
体上に可視表示する画像形成装置において、前記像担持
体上にあらかじめ決めた異なるプロセス条件にて複数の
濃度パターン画像を形成する手段と、前記形成された濃
度パターン画像の濃度を読み取る手段と、前記読み取ら
れた濃度に対して第1の補間を施す手段と、前記補間し
た濃度に目標濃度が含まれているか否かを判定する手段
と、前記補間した濃度に目標濃度が含まれていない場
合、前記読み取られた濃度の内、該目標濃度に最近接の
2つの濃度を抽出する手段と、前記抽出された最近接の
2つの濃度と該2つの濃度に対応する前記プロセス条件
とを用いて第2の補間を実行する手段と、前記第2の補
間に基づいて、所定の画像濃度制御を行なうためのプロ
セス条件を決定する決定手段とを備える。
を行なって安定した濃度の画像を得るよう機能する。
適な実施例を詳細に説明する。 <第1実施例>図1は、本発明の実施例に係る画像形成
装置の縦断面構成を示す図である。同図において、感光
ドラム1は、アルミシリンダーの外周面に有機感光体
(OPC)、または、A−Si,CdS,Se等からな
る光導電体を塗布して構成され、不図示の駆動手段によ
って、図中の矢印方向に駆動されて、ローラー帯電器2
により所定電位に均一に帯電される。
を構成するレーザーダイオード7、高速モーター8によ
って回転駆動される多面鏡9、レンズ10、及び、折り
返しミラー11が配置される。
が入力されると、レーザードライバ12はレーザーダイ
オード7を発光させる。そして、この光は、光路13を
通って、画像信号に対応した光情報が感光ドラム1を照
射するので、感光ドラム1上に潜像が形成される。
と、感光ドラム1と現像装置4内の現像スリーブ4aと
の間には、バイアス電源14より、周波数:800〜3
500Hz、振幅:400〜3000V、波形の積分平
均値VDC:−50〜−550Vからなる、直流電圧と交
流電圧とを重畳した現像バイアスが印加されることで、
潜像が現像されてトナー可視像となる。このようにして
現像されたトナー可視像は、所定のバイアスが印加され
た転写ローラー3により転写紙P上に転写される。そし
て、トナー像が転写された転写紙Pは、不図示の搬送手
段により搬送され、トナー像は定着装置5によって溶融
固着されて永久像となる。
は、例えば、ファーブラシ、ブレード手段等にて構成さ
れるクリーニング装置6によって清掃される。
るDmax制御について説明する。
パッチの濃度測定以降の処理を示すフローチャートであ
る。すなわち、パッチP1〜P4に対する濃度D1〜D4が
得られると、まず、これらD1〜D4の中から制御目標D
Targetが含まれている区間を探す(図2のステップS
1)。そして、このような区間が見つかった場合、上述
と同様な直線補間での内挿により、現像バイアスVTarg
etを算出する(ステップS2)。
が含まれず(ステップS1での判定がNO)、例えば、
図4に示すように、DTarget<D1の場合(ステップS
3での判定がYES)には、D1,D2の2点を用いて
直線補間により外挿することによって、現像バイアスV
Targetを算出する(ステップS4)。すなわち、 VTarget={(V2−V1)/(D2−D1)}(DTarget−D1)+V1 …(2) によって現像バイアスVTargetを算出する。
が含まれず、図3に示すように、D4<DTargetの場合
には、D3,D4の2点を用いて直線補間により外挿する
ことによって、現像バイアスVTargetを算出する(ステ
ップS5)。すなわち、 VTarget={(V4−V3)/(D4−D3)}(DTarget−D3)+V3 …(3) によって現像バイアスVTargetを算出する。
バイアスVTargetは、メモリ20に保持され(ステップ
S6)、次回のDmax制御が行なわれるまでは、この値を
用いて画像形成を行なう。
パッチ濃度D1〜D4の中に制御目標DTargetが含まれい
ない場合、D1〜D4の内の2点を用いて直線補間により
外挿することによって、V−D特性の変動によりD1〜
D4の範囲内にDTargetが含まれなくてもエラーになる
ことなく、常にDmax制御を行なうことができ、安定し
た濃度の画像を得ることができる。 <第2実施例>以下、本発明に係る第2の実施例につい
て説明する。ただし、以下の実施例に係る画像形成装置
は、図1に示す、上記第1実施例に係る画像形成装置と
同様な構成をとるので、ここでは、その図示及び説明を
省略する。
特性Bの部分を用いて行なっている。しかし、外挿を行
なう場合は、図5,図6に示すように、何らかの原因で
V−D特性が、温湿度センサ18から判断されるV−D
特性よりも極端に変動してしまい、制御目標濃度DTarg
etとパッチの濃度D1〜D4とが、それぞれ傾きの異なる
領域にまたがった場合、計算による最適な現像バイアス
VTargetと実際に最適な現像バイアスVTargetとが大き
く異なり、不正確な制御となってしまう。
して求めたVTargetとV1との差の絶対値LT1と、V1と
V2との差の絶対値L12との比LT1/L12が所定の値k
以上、または、D4<DTargetの場合には、外挿して求
めたVTargetとV4との差の絶対値LT4と、V3とV4と
の差の絶対値L34との比LT4/L34が所定の値k以上で
あった場合には、DTargetとD1〜D4とがそれぞれ傾き
の異なる領域にまたがっていると判断する。そして、こ
の場合を制御エラーとして、デフォルトとしてあらかじ
め用意してある現像バイアスを以後の画像形成に用い
る。
所定の値k未満であった場合には、外挿して求めた現像
バイアスVTargetをDmax制御の結果として、以後の画
像形成に用いる。なお、このkの値は、1.5〜2.5程
度が好ましいが、V−D特性や制御に要求する精度によ
っては、その値を変更しても構わない。
V−D特性が多少変動した場合には外挿して現像バイア
スを求めることにより、安定した画像を得ることがで
き、また、V−D特性が極端に変動した場合には、画像
形成にデフォルトの現像バイアスを用いるので、さらに
画像が悪化するといった事態を防ぐことができる。 <第3実施例>以下、本発明に係る第3の実施例につい
て説明する。ただし、以下の実施例に係る画像形成装置
も、図1に示す、上記第1実施例に係る画像形成装置と
同様な構成をとるので、ここでは、その図示及び説明を
省略する。
に変動して、図5,6に示すように、制御目標濃度DTa
rgetとパッチの濃度D1〜D4がそれぞれ傾きの異なる領
域にまたがった場合、制御エラーとしている。本実施例
では、LT1/L12、または、LT4/L34が所定の値k以
上である場合には、パッチD1〜D4の作成に使った現像
バイアスV1〜V4の値を変えて、再びDmax制御を行な
うことを特徴とする。
/L12≧kということは、図7に示すような状況になっ
ていると予想されるので、パッチ作成の現像バイアス
を、図7に示すように、V1',V2',V3',V4'に変
更する。
≧kの場合は、図8に示すような状況になっていると予
想されるので、パッチ作成の現像バイアスV1〜V4を、
図8に示すように変更する。なお、図7におけるV1と
V4'との間隔、または、図8におけるV4とV1'との間
隔xは、w以上離すのが好ましい。
Dmax制御時にV−D特性が大きく変動していた場合に
は、現像バイアスの変更をしてから、再び、Dmax制御
を行なってVTargetを求め、この制御によっても制御エ
ラーとなる場合は、もはやこの制御では補正できない程
度にV−D特性が大きく変動していると判断して、現像
バイアスにはデフォルト値を用いて画像形成を行なうこ
とにより、常に安定した画像を得ることができる。
記の各実施例に限定されるものではなく、本発明の主旨
の範囲内において種々の変更が可能である。例えば、補
間方法としては、直線補間以外にも、多項式等を用いた
補間でもよく、また、Dmax制御によって制御されるの
は、現像バイアス以外にも帯電電位や露光量等でもよ
い。また、本発明は、多色画像形成装置にも適用可能な
のは勿論である。
においては、転写体上にパッチを形成してDmax制御を
行なうようにしてもよい。
テムに適用しても、1つの機器から成る装置に適用して
も良い。また、本発明は、システムあるいは装置にプロ
グラムを供給することによって達成される場合にも適用
できることは言うまでもない。
補間した濃度に目標濃度が含まれていない場合、抽出し
た、目標濃度に最近接の2つの濃度に対応するプロセス
条件を用いて行なった補間に基づいて、所定の画像濃度
制御を行なうためのプロセス条件を決定することで、最
小限のトナー消費で、常に安定した濃度の画像を得るこ
とができる。
を示す図である。
理を示すフローチャートである。
御で得られるパッチの濃度の範囲の外にあった場合の補
間方法を示す図である。
御で得られるパッチの濃度の範囲の外にあった場合の補
間方法を示す図である。
られる現像バイアスと実際の最適な現像バイアスが異な
ることを示す図である。
られる現像バイアスと実際の最適な現像バイアスが異な
ることを示す図である。
イアスを示す図である。
イアスを示す図である。
D特性を示す図である。
用いる現像バイアスの決定方法を示す図である。
像バイアスの決定方法を示す図である。
像バイアスの決定方法を示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 像担持体上に画像を形成する画像形成装
置において、 前記像担持体上にあらかじめ決めた異なるプロセス条件
にて複数の濃度パターン画像を形成する手段と、 前記形成された濃度パターン画像の濃度を読み取る手段
と、 前記読み取られた濃度に対して第1の補間を施す手段
と、 前記補間した濃度に目標濃度が含まれているか否かを判
定する手段と、 前記補間した濃度に目標濃度が含まれていない場合、前
記読み取られた濃度の内、該目標濃度に最近接の2つの
濃度を抽出する手段と、 前記抽出された最近接の2つの濃度と該2つの濃度に対
応する前記プロセス条件とを用いて第2の補間を実行す
る手段と、 前記第2の補間に基づいて、所定の画像濃度制御を行な
うためのプロセス条件を決定する決定手段とを備えるこ
とを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項2】 さらに、前記決定手段にて決定されたプ
ロセス条件の、所定条件からの変動の度合いを算出する
手段を備え、 前記変動の度合いが所定量以上の場合、あらかじめ用意
したプロセス条件によって前記画像濃度制御を行なうこ
とを特徴とする請求項1に記載の画像形成装置。 - 【請求項3】 さらに、前記決定手段にて決定されたプ
ロセス条件の所定条件からの変動の度合いを算出する手
段と、 前記変動の度合いが所定量以上の場合、前記あらかじめ
決めた異なるプロセス条件を変更する手段とを備え、 前記変更したプロセス条件によって前記画像濃度制御を
再度行なうことを特徴とする請求項1に記載の画像形成
装置。 - 【請求項4】 前記プロセス条件は、前記像担持体に対
する現像バイアスであることを特徴とする請求項1乃至
請求項3のいずれか1項に記載の画像形成装置。 - 【請求項5】 前記第2の補間は、直線補間による外挿
であることを特徴とする請求項1に記載の画像形成装
置。 - 【請求項6】 前記所定の条件は、前記決定されたプロ
セス条件と制御目標濃度に最も近い濃度の画像を得たプ
ロセス条件との差の絶対値と、前記第2の補間に用いた
2つのプロセス条件の差の絶対値と比が1.5〜2.5と
なる条件であることを特徴とする請求項2あるいは請求
項3に記載の画像形成装置。
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