JPH08315570A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPH08315570A JPH08315570A JP7116021A JP11602195A JPH08315570A JP H08315570 A JPH08315570 A JP H08315570A JP 7116021 A JP7116021 A JP 7116021A JP 11602195 A JP11602195 A JP 11602195A JP H08315570 A JPH08315570 A JP H08315570A
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- G11C5/146—Substrate bias generators
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 CBRモード時のVpp電源電位の変動を防
ぐことが可能な半導体記憶装置を提供する。 【構成】 外部/RASと外部/CASとがRASバッ
ファ115とCASバッファ117とに入力されると内
部/RASと内部/CASとが生成され、内部/RAS
はクロック生成回路119とCBRモード判定回路12
1に内部/CASはCBRモード判定回路121に入力
される。クロック生成回路119は内部/RASが入力
されるとWLポンプ123,125にポンプクロックA
を出力し、WLポンプ123はVpp電源に電荷を供給
する。リフレッシュ動作時に/RASの前に/CASが
入力されると、CBRモード判定回路121はWLポン
プ125にCBRモード信号を入力し、WLポンプ12
5はポンプクロックAとCBRモード信号とを入力され
るとWLポンプ123とともにVpp電源に電荷を供給
する。
ぐことが可能な半導体記憶装置を提供する。 【構成】 外部/RASと外部/CASとがRASバッ
ファ115とCASバッファ117とに入力されると内
部/RASと内部/CASとが生成され、内部/RAS
はクロック生成回路119とCBRモード判定回路12
1に内部/CASはCBRモード判定回路121に入力
される。クロック生成回路119は内部/RASが入力
されるとWLポンプ123,125にポンプクロックA
を出力し、WLポンプ123はVpp電源に電荷を供給
する。リフレッシュ動作時に/RASの前に/CASが
入力されると、CBRモード判定回路121はWLポン
プ125にCBRモード信号を入力し、WLポンプ12
5はポンプクロックAとCBRモード信号とを入力され
るとWLポンプ123とともにVpp電源に電荷を供給
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に、内部電圧を発生するダイナミックランダムアクセ
スメモリ(DRAM)に関する。
特に、内部電圧を発生するダイナミックランダムアクセ
スメモリ(DRAM)に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体記憶装置は、RAMに代
表される揮発性メモリと、ROMに代表される不揮発性
メモリとに大別される。揮発性メモリはさらに、DRA
Mと、スタティックランダムアクセスメモリ(SRA
M)とに大別される。DRAMは、ロウアドレスストロ
ーブ信号(以下、/RASと称す)とコラムアドレスス
トローブ信号(以下、/CASと称す)とを入力するこ
とによってチップ内部の動作を活性化している。/RA
Sおよび/CASは、H(論理ハイ)がスタンバイ状態
で、L(論理ロー)が活性状態である。/RASを活性
化することによって入力アドレスをロウアドレスとして
取込み、/CASを活性化することによって入力アドレ
スをコラムアドレスとして取込む。
表される揮発性メモリと、ROMに代表される不揮発性
メモリとに大別される。揮発性メモリはさらに、DRA
Mと、スタティックランダムアクセスメモリ(SRA
M)とに大別される。DRAMは、ロウアドレスストロ
ーブ信号(以下、/RASと称す)とコラムアドレスス
トローブ信号(以下、/CASと称す)とを入力するこ
とによってチップ内部の動作を活性化している。/RA
Sおよび/CASは、H(論理ハイ)がスタンバイ状態
で、L(論理ロー)が活性状態である。/RASを活性
化することによって入力アドレスをロウアドレスとして
取込み、/CASを活性化することによって入力アドレ
スをコラムアドレスとして取込む。
【0003】図15は、通常の動作モード時の/RAS
および/CASの入力を示すタイミングチャートであ
り、(a)は、ロウおよびコラムアドレスを取込む場合
の通常の/RASおよび/CASの入力を示すタイミン
グチャート、(b)は、ロウアドレスのみを取込む場合
の/RASおよび/CASの入力を示すタイミングチャ
ートである。
および/CASの入力を示すタイミングチャートであ
り、(a)は、ロウおよびコラムアドレスを取込む場合
の通常の/RASおよび/CASの入力を示すタイミン
グチャート、(b)は、ロウアドレスのみを取込む場合
の/RASおよび/CASの入力を示すタイミングチャ
ートである。
【0004】図15(a)を参照して、ロウおよびコラ
ムアドレスを取込む場合、まず/RASを活性化してロ
ウアドレスを取込んでから、引続き/CASを活性化し
てコラムアドレスを取込む。
ムアドレスを取込む場合、まず/RASを活性化してロ
ウアドレスを取込んでから、引続き/CASを活性化し
てコラムアドレスを取込む。
【0005】図15(b)を参照して、ロウアドレスの
みを取込む場合は、/CASをスタンバイ状態に保持し
たまま/RASのみを活性化してロウアドレスのみを取
込む。
みを取込む場合は、/CASをスタンバイ状態に保持し
たまま/RASのみを活性化してロウアドレスのみを取
込む。
【0006】図15(a),(b)いずれの場合も、チ
ップ内部では取込んだロウアドレスに対応してメモリア
レイのワード線をN本活性化する。Nは、チップの構成
によって決まる定数であり、通常N=1,2,4,8,
16,…である。
ップ内部では取込んだロウアドレスに対応してメモリア
レイのワード線をN本活性化する。Nは、チップの構成
によって決まる定数であり、通常N=1,2,4,8,
16,…である。
【0007】DRAMでは、さらに、リフレッシュ動作
を行なう際に使用されるCBRモード(CAS−Bef
ore−RAS−モード)と呼ばれる入力方法がある。
を行なう際に使用されるCBRモード(CAS−Bef
ore−RAS−モード)と呼ばれる入力方法がある。
【0008】図16は、CBRモード時の入力を示すタ
イミングチャートである。図16を参照して、図15
(a)とは逆に、まず/CASを活性化してから、引続
き/RASを活性化する。CBRモードでは、ロウアド
レス、コラムアドレスのいずれもチップの外部から取込
まれず、/RASに同期してチップ内部のアドレスカウ
ンタで生成される内部ロウアドレスに対応して、メモリ
アレイ上のワード線をM×N本活性化する。ここで、N
は上記Nと同一の数である。Mは通常、M=1,2,
4,8,16,…で、これもまたチップの構成によって
決まる定数である。
イミングチャートである。図16を参照して、図15
(a)とは逆に、まず/CASを活性化してから、引続
き/RASを活性化する。CBRモードでは、ロウアド
レス、コラムアドレスのいずれもチップの外部から取込
まれず、/RASに同期してチップ内部のアドレスカウ
ンタで生成される内部ロウアドレスに対応して、メモリ
アレイ上のワード線をM×N本活性化する。ここで、N
は上記Nと同一の数である。Mは通常、M=1,2,
4,8,16,…で、これもまたチップの構成によって
決まる定数である。
【0009】図17は、従来の一般的なDRAMに含ま
れるメモリアレイ1600の一例を示す図である。
れるメモリアレイ1600の一例を示す図である。
【0010】図17を参照して、メモリアレイ1600
は、1辺の長さが1ワード線の長さ(1WL長)、もう
1辺の長さが1ビット線の長さ(1BL長)の長方形の
メモリブロック♯0〜15に分割されている。各メモリ
ブロック♯0〜15は、それぞれワード線WL0〜15
を含む(ただし、WL1,3,5,7,9,11,1
3,15は図示せず)。
は、1辺の長さが1ワード線の長さ(1WL長)、もう
1辺の長さが1ビット線の長さ(1BL長)の長方形の
メモリブロック♯0〜15に分割されている。各メモリ
ブロック♯0〜15は、それぞれワード線WL0〜15
を含む(ただし、WL1,3,5,7,9,11,1
3,15は図示せず)。
【0011】図15(a),(b)に示された通常の動
作モードでは、たとえば、ワード線WL0,4,10,
14の4本が活性化される。一方、CBRモードでは、
ワード線WL0,4,10,14に加えて、ワード線W
L2,6,8,12の合計8本が活性化される。したが
って、図17に示された例は、N=4,M=2の場合で
ある。
作モードでは、たとえば、ワード線WL0,4,10,
14の4本が活性化される。一方、CBRモードでは、
ワード線WL0,4,10,14に加えて、ワード線W
L2,6,8,12の合計8本が活性化される。したが
って、図17に示された例は、N=4,M=2の場合で
ある。
【0012】上記ワード線は、スタンバイ時はGNDで
あり、活性化時には電源電位Vccより高い電位Vpp
に充電される。図15(a),(b)に示した通常の動
作モードでは、1サイクル(/RASが1回活性化され
るサイクル)当たりに消費される電荷Q(Norma
l)は、ワード線1本当たりの容量Cwを用いて、Q
(Normal)=N×Cw×Vppで表わされ、チッ
プ内部で生成される内部電圧電源(Vpp電源)により
充電される。
あり、活性化時には電源電位Vccより高い電位Vpp
に充電される。図15(a),(b)に示した通常の動
作モードでは、1サイクル(/RASが1回活性化され
るサイクル)当たりに消費される電荷Q(Norma
l)は、ワード線1本当たりの容量Cwを用いて、Q
(Normal)=N×Cw×Vppで表わされ、チッ
プ内部で生成される内部電圧電源(Vpp電源)により
充電される。
【0013】さらに、図17に示したように、図15
(a),(b)に示された通常の動作モードでは、メモ
リブロック♯0,4,10,14のN=4個のメモリブ
ロックが動作している。すなわち、上記メモリブロック
のビット線は充放電され、それらメモリブロックに対応
するセンスアンプが動作している。一方、図16に示さ
れたCBRモードでは、メモリブロック♯0,4,1
0,14に加えて、メモリブロック♯2,6,8,12
の合計N×M=8個のメモリブロックが動作し、上記メ
モリブロックのビット線が充放電され、それらメモリブ
ロックに対応するセンスアンプが動作している。
(a),(b)に示された通常の動作モードでは、メモ
リブロック♯0,4,10,14のN=4個のメモリブ
ロックが動作している。すなわち、上記メモリブロック
のビット線は充放電され、それらメモリブロックに対応
するセンスアンプが動作している。一方、図16に示さ
れたCBRモードでは、メモリブロック♯0,4,1
0,14に加えて、メモリブロック♯2,6,8,12
の合計N×M=8個のメモリブロックが動作し、上記メ
モリブロックのビット線が充放電され、それらメモリブ
ロックに対応するセンスアンプが動作している。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図16
に示したCBRモードでは、1サイクル当たりに消費さ
れる電荷Q(CBR)はQ(CBR)=N×M×Cw×
Vppで、通常動作モード時と同じくVpp電源により
充電される。したがって、CBRモードでは通常モード
のM倍の電荷を消費することとなる。
に示したCBRモードでは、1サイクル当たりに消費さ
れる電荷Q(CBR)はQ(CBR)=N×M×Cw×
Vppで、通常動作モード時と同じくVpp電源により
充電される。したがって、CBRモードでは通常モード
のM倍の電荷を消費することとなる。
【0015】また、図8のDRAM100に含まれるメ
モリセルアレイの一部構成を示す図を参照して、トラン
スファゲート制御線TG1もVpp電源、あるいはVp
pとは異なるノードでやはり電源電位Vccより高い電
位Vpp′に充電される場合がある。このとき、通常動
作モードでは1サイクル当たりの消費電荷Q(Norm
al)は、トランスファゲート制御線1本当たりの容量
Ctgを用いて、Q(Normal)=N×Ctg×V
pp(または、Q(Normal)=N×Ctg×Vp
p′)であるが、CBRモードではQ(CBR)=N×
M×Ctg×Vpp(または、Q(CBR)=N×M×
Ctg×Vpp′)で、通常の動作モードのM倍の電荷
をVpp電源(または、Vpp′電源)から消費するこ
ととなる。
モリセルアレイの一部構成を示す図を参照して、トラン
スファゲート制御線TG1もVpp電源、あるいはVp
pとは異なるノードでやはり電源電位Vccより高い電
位Vpp′に充電される場合がある。このとき、通常動
作モードでは1サイクル当たりの消費電荷Q(Norm
al)は、トランスファゲート制御線1本当たりの容量
Ctgを用いて、Q(Normal)=N×Ctg×V
pp(または、Q(Normal)=N×Ctg×Vp
p′)であるが、CBRモードではQ(CBR)=N×
M×Ctg×Vpp(または、Q(CBR)=N×M×
Ctg×Vpp′)で、通常の動作モードのM倍の電荷
をVpp電源(または、Vpp′電源)から消費するこ
ととなる。
【0016】これら内部電源電位Vpp(Vpp′)は
Vpp(Vpp′)生成回路で発生される。
Vpp(Vpp′)生成回路で発生される。
【0017】図18は、Vpp生成回路として用いられ
る一般的な昇圧ポンプ1800の回路図である。
る一般的な昇圧ポンプ1800の回路図である。
【0018】図18を参照して、ポンプ部分1801に
含まれているポンプキャパシタ1803の容量Cpを用
いると、Vpp生成回路が1サイクル当たりに発生でき
る電荷はQ=(2Vcc−Vpp)×Cpである。した
がって、通常の動作モードに合わせてVpp生成回路を
設計した場合、CBRモードに入るとワード線を充電す
るために必要な電荷が不足する状態が起こり得るという
問題点があった。
含まれているポンプキャパシタ1803の容量Cpを用
いると、Vpp生成回路が1サイクル当たりに発生でき
る電荷はQ=(2Vcc−Vpp)×Cpである。した
がって、通常の動作モードに合わせてVpp生成回路を
設計した場合、CBRモードに入るとワード線を充電す
るために必要な電荷が不足する状態が起こり得るという
問題点があった。
【0019】さらに、上記メモリアレイはP型半導体基
板の上に形成されており、P型半導体基板はGNDより
低い電位Vbbにまで下げられている。CBRモードで
は前述のように通常の動作モードより動作するメモリブ
ロックの数がM倍多い。したがって、ビット線充放電時
のセンスアンプ部分でのP型半導体基板への基板電流が
CBRモードでは通常の動作モードよりM倍多い。内部
電源電位VbbはVbb生成回路で発生されるが、Vb
b生成回路が生成できる1サイクル当たりの電荷は上記
Vpp生成回路と同様に決まっており、通常の動作モー
ドに合わせてVbb生成回路を設計した場合、CBRモ
ードに入ると基板電流が増大するためにVbb電位が所
定の電位より浅く(高く)なる状態が起こり得るという
問題点があった。
板の上に形成されており、P型半導体基板はGNDより
低い電位Vbbにまで下げられている。CBRモードで
は前述のように通常の動作モードより動作するメモリブ
ロックの数がM倍多い。したがって、ビット線充放電時
のセンスアンプ部分でのP型半導体基板への基板電流が
CBRモードでは通常の動作モードよりM倍多い。内部
電源電位VbbはVbb生成回路で発生されるが、Vb
b生成回路が生成できる1サイクル当たりの電荷は上記
Vpp生成回路と同様に決まっており、通常の動作モー
ドに合わせてVbb生成回路を設計した場合、CBRモ
ードに入ると基板電流が増大するためにVbb電位が所
定の電位より浅く(高く)なる状態が起こり得るという
問題点があった。
【0020】本発明は、以上のような問題点を解決する
ためになされたもので、動作中のメモリブロックの数が
増加しても、内部電圧の電位の変動を防止することが可
能な半導体記憶装置を提供することを目的とする。
ためになされたもので、動作中のメモリブロックの数が
増加しても、内部電圧の電位の変動を防止することが可
能な半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0021】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、各々が行および列からなるマトリックス状に
配置された複数のメモリセルを含む複数のメモリブロッ
クと、外部から入力された外部制御信号に応答して第1
および第1のモードと異なる第2のモードを選択的に示
すモード信号を生成するモード信号生成手段と、モード
信号に応答してモード信号が第1のモードを示すとき複
数のメモリブロックのうちの第1の数のメモリブロック
を動作させ、モード信号が第2のモードを示すとき第1
の数よりも多い第2の数のメモリブロックを動作させる
分割動作手段と、外部から与えられた外部電源電圧に基
づいて内部電圧を生成して複数のメモリブロックのうち
分割動作手段により動作中のメモリブロックに供給する
内部電圧生成手段とを設けたものである。内部電圧供給
手段は、モード信号に応答して第1のモードのとき第1
の供給能力を有し、第2のモードのとき第1の供給能力
よりも大きい第2の供給能力を有する。
憶装置は、各々が行および列からなるマトリックス状に
配置された複数のメモリセルを含む複数のメモリブロッ
クと、外部から入力された外部制御信号に応答して第1
および第1のモードと異なる第2のモードを選択的に示
すモード信号を生成するモード信号生成手段と、モード
信号に応答してモード信号が第1のモードを示すとき複
数のメモリブロックのうちの第1の数のメモリブロック
を動作させ、モード信号が第2のモードを示すとき第1
の数よりも多い第2の数のメモリブロックを動作させる
分割動作手段と、外部から与えられた外部電源電圧に基
づいて内部電圧を生成して複数のメモリブロックのうち
分割動作手段により動作中のメモリブロックに供給する
内部電圧生成手段とを設けたものである。内部電圧供給
手段は、モード信号に応答して第1のモードのとき第1
の供給能力を有し、第2のモードのとき第1の供給能力
よりも大きい第2の供給能力を有する。
【0022】請求項2に係る半導体記憶装置は、請求項
1の半導体記憶装置において、内部電圧生成手段に、モ
ード信号にかかわらず分割動作手段により動作中のメモ
リセルブロックに供給するための内部電圧を生成する第
1電圧生成手段と、モード信号が第1のモードを示すと
き不活性状態で動作せずモード信号が第2のモードを示
すとき活性化され分割動作手段により動作中の第2の数
のメモリブロックに供給するための内部電圧を第1電圧
生成手段とともに生成する第2電圧生成手段と、第1お
よび第2電圧生成手段に内部電圧を生成するためのクロ
ック信号を生成するクロック信号生成手段とを設けたも
のである。
1の半導体記憶装置において、内部電圧生成手段に、モ
ード信号にかかわらず分割動作手段により動作中のメモ
リセルブロックに供給するための内部電圧を生成する第
1電圧生成手段と、モード信号が第1のモードを示すと
き不活性状態で動作せずモード信号が第2のモードを示
すとき活性化され分割動作手段により動作中の第2の数
のメモリブロックに供給するための内部電圧を第1電圧
生成手段とともに生成する第2電圧生成手段と、第1お
よび第2電圧生成手段に内部電圧を生成するためのクロ
ック信号を生成するクロック信号生成手段とを設けたも
のである。
【0023】請求項3に係る半導体記憶装置は、請求項
1の半導体記憶装置において、内部電圧生成手段に、モ
ード信号にかかわらず分割動作手段により動作中のメモ
リブロックに供給する内部電圧を生成する第1および第
3電圧生成手段と、モード信号が第1のモードを示すと
きは不活性状態で動作せずモード信号が第2のモードを
示すとき活性化され分割動作手段により動作中の第2の
数のメモリブロックに供給する内部電圧を第1および第
3電圧生成手段とともに生成する第2および第4電圧生
成手段と、第1および第2電圧生成手段に与える第1の
クロック信号を生成する第1クロック信号生成手段と、
第3および第4電圧生成手段に与える第2のクロック信
号を生成する第2クロック信号生成手段とを設けたもの
である。
1の半導体記憶装置において、内部電圧生成手段に、モ
ード信号にかかわらず分割動作手段により動作中のメモ
リブロックに供給する内部電圧を生成する第1および第
3電圧生成手段と、モード信号が第1のモードを示すと
きは不活性状態で動作せずモード信号が第2のモードを
示すとき活性化され分割動作手段により動作中の第2の
数のメモリブロックに供給する内部電圧を第1および第
3電圧生成手段とともに生成する第2および第4電圧生
成手段と、第1および第2電圧生成手段に与える第1の
クロック信号を生成する第1クロック信号生成手段と、
第3および第4電圧生成手段に与える第2のクロック信
号を生成する第2クロック信号生成手段とを設けたもの
である。
【0024】請求項4に係る半導体記憶装置は、請求項
1の半導体記憶装置において、内部電圧生成手段に、モ
ード信号にかかわらず分割動作手段により動作中のメモ
リブロックの第1の機能回路に供給する第1の内部電圧
を生成する第1電圧生成手段と、モード信号が第1のモ
ードを示すときは不活性状態で動作せずモード信号が第
2のモードを示すとき活性化され分割動作手段により動
作中の第2の数のメモリブロックの第1の機能回路に供
給する第1の内部電圧を生成する第2電圧生成手段と、
モード信号にかかわらず分割動作手段により動作中のメ
モリブロックの第2の機能回路に供給する第2の内部電
圧を生成する第3電圧生成手段と、モード信号が第1の
モードを示すときは不活性状態で動作せずモード信号が
第2のモードを示すとき活性化され分割動作手段により
動作中の第2の数のメモリブロックの第2の機能回路に
供給する第2の内部電圧を生成する第4電圧生成手段と
を設けたものである。
1の半導体記憶装置において、内部電圧生成手段に、モ
ード信号にかかわらず分割動作手段により動作中のメモ
リブロックの第1の機能回路に供給する第1の内部電圧
を生成する第1電圧生成手段と、モード信号が第1のモ
ードを示すときは不活性状態で動作せずモード信号が第
2のモードを示すとき活性化され分割動作手段により動
作中の第2の数のメモリブロックの第1の機能回路に供
給する第1の内部電圧を生成する第2電圧生成手段と、
モード信号にかかわらず分割動作手段により動作中のメ
モリブロックの第2の機能回路に供給する第2の内部電
圧を生成する第3電圧生成手段と、モード信号が第1の
モードを示すときは不活性状態で動作せずモード信号が
第2のモードを示すとき活性化され分割動作手段により
動作中の第2の数のメモリブロックの第2の機能回路に
供給する第2の内部電圧を生成する第4電圧生成手段と
を設けたものである。
【0025】請求項5に係る半導体記憶装置は、請求項
1ないし4のいずれかの半導体記憶装置において、外部
制御信号がロウアドレスストローブ信号とコラムアドレ
スストローブ信号とであって、モード信号生成手段は、
ロウアドレスストローブ信号が入力された後にコラムア
ドレスストローブ信号が入力されるとモード信号が第1
のモードを示し、ロウアドレスストローブ信号が入力さ
れる前にコラムアドレスストローブ信号が入力されると
モード信号が第2のモードを示すようにされる。
1ないし4のいずれかの半導体記憶装置において、外部
制御信号がロウアドレスストローブ信号とコラムアドレ
スストローブ信号とであって、モード信号生成手段は、
ロウアドレスストローブ信号が入力された後にコラムア
ドレスストローブ信号が入力されるとモード信号が第1
のモードを示し、ロウアドレスストローブ信号が入力さ
れる前にコラムアドレスストローブ信号が入力されると
モード信号が第2のモードを示すようにされる。
【0026】
【作用】請求項1に係る半導体記憶装置は、モード信号
が第1のモードを示すとき、複数のメモリブロックのう
ちの第1の数のメモリブロックが動作し、第1の供給能
力により、動作中のメモリブロックに内部電圧が供給さ
れ、モード信号が第2のモードを示すとき、上記第1の
数よりも多い第2の数のメモリブロックが動作し、上記
第1の供給能力よりも大きい第2の供給能力により、動
作中のメモリブロックに内部電圧が供給されるので、モ
ード信号が第2のモードを示すとき、動作中のメモリブ
ロックの数が増加しても、内部電圧もまたそれに応じて
供給される。
が第1のモードを示すとき、複数のメモリブロックのう
ちの第1の数のメモリブロックが動作し、第1の供給能
力により、動作中のメモリブロックに内部電圧が供給さ
れ、モード信号が第2のモードを示すとき、上記第1の
数よりも多い第2の数のメモリブロックが動作し、上記
第1の供給能力よりも大きい第2の供給能力により、動
作中のメモリブロックに内部電圧が供給されるので、モ
ード信号が第2のモードを示すとき、動作中のメモリブ
ロックの数が増加しても、内部電圧もまたそれに応じて
供給される。
【0027】請求項2に係る半導体記憶装置において
は、請求項1の半導体記憶装置において、モード信号に
かかわらず動作中のメモリブロックに供給するための内
部電圧が生成され、モード信号が第2のモードを示すと
きのみ動作中の第2の数のメモリブロックに供給する内
部電圧が生成され、内部電圧を生成するためのクロック
信号が生成されるので、第2のモードを示すときには、
第1のモードを示すときに生成される内部電圧に加え
て、さらに大きな内部電圧が生成され、それらの内部電
圧はクロック信号を用いて生成される。
は、請求項1の半導体記憶装置において、モード信号に
かかわらず動作中のメモリブロックに供給するための内
部電圧が生成され、モード信号が第2のモードを示すと
きのみ動作中の第2の数のメモリブロックに供給する内
部電圧が生成され、内部電圧を生成するためのクロック
信号が生成されるので、第2のモードを示すときには、
第1のモードを示すときに生成される内部電圧に加え
て、さらに大きな内部電圧が生成され、それらの内部電
圧はクロック信号を用いて生成される。
【0028】請求項3に係る半導体記憶装置において
は、請求項1の半導体記憶装置において、モード信号に
かかわらず動作中のメモリブロックに供給する内部電圧
の基となる第1および第3電圧が生成され、モード信号
が第2のモードを示すときのみ動作中の第2の数のメモ
リブロックに供給する内部電圧の基となる第2および第
4電圧がさらに生成され、第1および第2電圧を生成す
るための第1クロック信号が生成され、第3および第4
電圧を生成するための第2クロック信号が生成されるの
で、第1クロック信号によるタイミングでモード信号に
かかわらず第1電圧が生成され、動作中のメモリブロッ
クに内部電圧が供給され、第2のモードのときさらに第
2電圧が生成され動作中の第2の数のメモリブロックに
内部電圧が供給され、第2クロック信号によるタイミン
グでモード信号にかかわらず第3電圧が生成され、動作
中のメモリブロックに内部電圧が供給され、第2のモー
ドのときさらに第4電圧が生成され、動作中の第2の数
のメモリブロックに内部電圧が供給される。
は、請求項1の半導体記憶装置において、モード信号に
かかわらず動作中のメモリブロックに供給する内部電圧
の基となる第1および第3電圧が生成され、モード信号
が第2のモードを示すときのみ動作中の第2の数のメモ
リブロックに供給する内部電圧の基となる第2および第
4電圧がさらに生成され、第1および第2電圧を生成す
るための第1クロック信号が生成され、第3および第4
電圧を生成するための第2クロック信号が生成されるの
で、第1クロック信号によるタイミングでモード信号に
かかわらず第1電圧が生成され、動作中のメモリブロッ
クに内部電圧が供給され、第2のモードのときさらに第
2電圧が生成され動作中の第2の数のメモリブロックに
内部電圧が供給され、第2クロック信号によるタイミン
グでモード信号にかかわらず第3電圧が生成され、動作
中のメモリブロックに内部電圧が供給され、第2のモー
ドのときさらに第4電圧が生成され、動作中の第2の数
のメモリブロックに内部電圧が供給される。
【0029】請求項4に係る半導体記憶装置において
は、請求項1の半導体記憶装置において、モード信号に
かかわらず動作中のメモリブロックの第1の機能回路に
供給する第1の内部電圧が生成され、モード信号が第2
のモードを示すときのみ動作中の第2の数のメモリブロ
ックの第1の機能回路に供給する第1の内部電圧が生成
され、モード信号にかかわらず動作中のメモリブロック
の第2の機能回路に供給する第2の内部電圧が生成さ
れ、モード信号が第2のモードを示すときのみ動作中の
第2の数のメモリブロックの第2の機能回路に供給する
第2の内部電圧が生成されるので、モード信号が第1の
モードから第2のモードとなって動作中のメモリブロッ
クの数が増加しても、それに応じて各メモリブロックに
おける第1および第2の機能回路の各々にそれぞれ第1
および第2の内部電圧が供給される。
は、請求項1の半導体記憶装置において、モード信号に
かかわらず動作中のメモリブロックの第1の機能回路に
供給する第1の内部電圧が生成され、モード信号が第2
のモードを示すときのみ動作中の第2の数のメモリブロ
ックの第1の機能回路に供給する第1の内部電圧が生成
され、モード信号にかかわらず動作中のメモリブロック
の第2の機能回路に供給する第2の内部電圧が生成さ
れ、モード信号が第2のモードを示すときのみ動作中の
第2の数のメモリブロックの第2の機能回路に供給する
第2の内部電圧が生成されるので、モード信号が第1の
モードから第2のモードとなって動作中のメモリブロッ
クの数が増加しても、それに応じて各メモリブロックに
おける第1および第2の機能回路の各々にそれぞれ第1
および第2の内部電圧が供給される。
【0030】請求項5に係る半導体記憶装置において
は、請求項1ないし4のいずれかの半導体記憶装置にお
いて、ロウアドレスストローブ信号が入力された後にコ
ラムアドレスストローブ信号が入力されるとモード信号
が第1のモードを示し、ロウアドレスストローブ信号が
入力される前にコラムアドレスストローブ信号が入力さ
れるとモード信号が第2のモードを示すようにされるの
で、ロウアドレスストローブ信号が入力された後にコラ
ムアドレスストローブ信号が入力されるとモード信号が
上記第1のモードを示すときの動作が行なわれ、ロウア
ドレスストローブ信号が入力される前にコラムアドレス
ストローブ信号が入力されるとモード信号が上記第2の
モードを示すときの動作が行なわれる。
は、請求項1ないし4のいずれかの半導体記憶装置にお
いて、ロウアドレスストローブ信号が入力された後にコ
ラムアドレスストローブ信号が入力されるとモード信号
が第1のモードを示し、ロウアドレスストローブ信号が
入力される前にコラムアドレスストローブ信号が入力さ
れるとモード信号が第2のモードを示すようにされるの
で、ロウアドレスストローブ信号が入力された後にコラ
ムアドレスストローブ信号が入力されるとモード信号が
上記第1のモードを示すときの動作が行なわれ、ロウア
ドレスストローブ信号が入力される前にコラムアドレス
ストローブ信号が入力されるとモード信号が上記第2の
モードを示すときの動作が行なわれる。
【0031】
【実施例】図1は、本発明の実施例によるDRAM10
0の全体構成を示すブロック図である。
0の全体構成を示すブロック図である。
【0032】図1を参照して、このDRAM100は、
メモリセルアレイ101と、ロウデコーダ103と、コ
ラムデコーダ105と、ワード線(WL)ドライバ10
7と、センスアンプ列109と、センスアンプ列コント
ローラ111と、行および列アドレスバッファ113
と、RASバッファ115と、CASバッファ117
と、内部電圧生成回路130とを含む。
メモリセルアレイ101と、ロウデコーダ103と、コ
ラムデコーダ105と、ワード線(WL)ドライバ10
7と、センスアンプ列109と、センスアンプ列コント
ローラ111と、行および列アドレスバッファ113
と、RASバッファ115と、CASバッファ117
と、内部電圧生成回路130とを含む。
【0033】メモリセルアレイ101には、複数のワー
ド線(図示せず)が行(ロウ)方向に沿って配置され、
複数のビット線対(図示せず)が列(コラム)方向に沿
って配置されている。ワード線の1ワード線長およびビ
ット線の1ビット線長で分割されたメモリブロック(図
18参照)が行および列方向にマトリックス状に配置さ
れている。さらに、複数のメモリセル(図示せず)がワ
ード線およびビット線対の交点に配置されている。
ド線(図示せず)が行(ロウ)方向に沿って配置され、
複数のビット線対(図示せず)が列(コラム)方向に沿
って配置されている。ワード線の1ワード線長およびビ
ット線の1ビット線長で分割されたメモリブロック(図
18参照)が行および列方向にマトリックス状に配置さ
れている。さらに、複数のメモリセル(図示せず)がワ
ード線およびビット線対の交点に配置されている。
【0034】行および列アドレスバッファ113は、外
部から供給されたアドレス信号A0〜A11をロウデコ
ーダ103およびコラムデコーダ105に選択的に供給
する。ロウデコーダ103は、行および列アドレスバッ
ファ113から供給されるロウアドレス信号に応答し
て、複数のワード線のうち1つを選択する。コラムデコ
ーダ105は、行および列アドレスバッファ113から
供給されるコラムアドレス信号に応答して、複数のビッ
ト線対のうち1つを選択する。WLドライバ107は、
ロウデコーダ103により選択されたワード線に内部電
源電圧Vppを供給することにより駆動する。センスア
ンプ列109は、複数のセンスアンプを含む。複数のセ
ンスアンプは複数のビット線対に対応して設けられる。
各センスアンプはその対応するビット線対間の電位差を
増幅する。
部から供給されたアドレス信号A0〜A11をロウデコ
ーダ103およびコラムデコーダ105に選択的に供給
する。ロウデコーダ103は、行および列アドレスバッ
ファ113から供給されるロウアドレス信号に応答し
て、複数のワード線のうち1つを選択する。コラムデコ
ーダ105は、行および列アドレスバッファ113から
供給されるコラムアドレス信号に応答して、複数のビッ
ト線対のうち1つを選択する。WLドライバ107は、
ロウデコーダ103により選択されたワード線に内部電
源電圧Vppを供給することにより駆動する。センスア
ンプ列109は、複数のセンスアンプを含む。複数のセ
ンスアンプは複数のビット線対に対応して設けられる。
各センスアンプはその対応するビット線対間の電位差を
増幅する。
【0035】図2は、図1のRASバッファ115とC
ASバッファ117と内部電圧生成回路130との構成
を示すブロック図である。
ASバッファ117と内部電圧生成回路130との構成
を示すブロック図である。
【0036】図2を参照して、内部電圧生成回路130
は、クロック生成回路119と、CBRモード判定回路
121と、ワード線(WL)ポンプ123,125とを
含む。
は、クロック生成回路119と、CBRモード判定回路
121と、ワード線(WL)ポンプ123,125とを
含む。
【0037】CBRモード判定回路121は、RASバ
ッファ115とCASバッファ117とに接続されてい
る。クロック生成回路119はRASバッファ115に
接続されている。WLポンプ123はクロック生成回路
119に接続され、WLポンプ125はクロック生成回
路119とCBRモード判定回路121とに接続されて
いる。
ッファ115とCASバッファ117とに接続されてい
る。クロック生成回路119はRASバッファ115に
接続されている。WLポンプ123はクロック生成回路
119に接続され、WLポンプ125はクロック生成回
路119とCBRモード判定回路121とに接続されて
いる。
【0038】図2において、RASバッファ115は、
外部から入力された/RASに基づいて内部ロウアドレ
スストローブ信号(以下、内部/RASと称す)を生成
し、クロック生成回路119とCBRモード判定回路1
21とに入力する。また、CASバッファ117は、外
部から入力された/CASに基づいて内部コラムアドレ
スストローブ信号(以下、内部/CASと称す)を生成
し、CBRモード判定回路121に入力する。
外部から入力された/RASに基づいて内部ロウアドレ
スストローブ信号(以下、内部/RASと称す)を生成
し、クロック生成回路119とCBRモード判定回路1
21とに入力する。また、CASバッファ117は、外
部から入力された/CASに基づいて内部コラムアドレ
スストローブ信号(以下、内部/CASと称す)を生成
し、CBRモード判定回路121に入力する。
【0039】クロック生成回路119は、入力された内
部/RASに基づいてポンプクロックAを生成し、WL
ポンプ123,125に入力する。CBRモード判定回
路121は、入力された内部/RASと内部/CASと
の入力のタイミングからCBRモードのタイミングを判
定すると、CBRモード信号を生成しWLポンプ125
に入力する(CBRモードについては図15で説明した
とおりである。)。
部/RASに基づいてポンプクロックAを生成し、WL
ポンプ123,125に入力する。CBRモード判定回
路121は、入力された内部/RASと内部/CASと
の入力のタイミングからCBRモードのタイミングを判
定すると、CBRモード信号を生成しWLポンプ125
に入力する(CBRモードについては図15で説明した
とおりである。)。
【0040】WLポンプ123は、たとえば図18に示
された昇圧ポンプ1800あるいはそれと同様の内部電
源電圧(Vpp)生成回路である。
された昇圧ポンプ1800あるいはそれと同様の内部電
源電圧(Vpp)生成回路である。
【0041】WLポンプ123は、クロック生成回路1
19で生成されるポンプクロックAに同期して電源電圧
Vccを基に電荷を蓄えVpp電源に電荷を供給する。
これにより内部電源電圧Vppが昇圧される。
19で生成されるポンプクロックAに同期して電源電圧
Vccを基に電荷を蓄えVpp電源に電荷を供給する。
これにより内部電源電圧Vppが昇圧される。
【0042】この他、図18と同様な機能を有する回路
であれば、WLポンプ123に用いることができる。
であれば、WLポンプ123に用いることができる。
【0043】図3は、図2のWLポンプ125の一例で
あるVpp生成回路(昇圧ポンプ)125′を示す図で
ある。
あるVpp生成回路(昇圧ポンプ)125′を示す図で
ある。
【0044】図3を参照して、ポンプ部分1801は図
18と同様の回路であり、ANDゲート303をさらに
含む。ANDゲート303の入力は図2のクロック生成
回路119とCBRモード判定装置121とに接続され
ている。ANDゲート303の出力はポンプ部分180
1に含まれているキャパシタ1803に接続されてい
る。
18と同様の回路であり、ANDゲート303をさらに
含む。ANDゲート303の入力は図2のクロック生成
回路119とCBRモード判定装置121とに接続され
ている。ANDゲート303の出力はポンプ部分180
1に含まれているキャパシタ1803に接続されてい
る。
【0045】図3において、クロック生成回路119で
発生されるポンプクロックAとCBRモード判定回路1
21で発生されるCBRモード信号とがANDゲート3
03に入力される。このとき、ポンプクロックAとCB
Rモード信号のAND信号に同期して、Vpp電源に電
荷が供給される。したがって、CBRモード信号が活性
(CBRモード)のときのみWLポンプ123に加えて
WLポンプ125が動作してVpp電源に十分な電荷を
供給することができる。
発生されるポンプクロックAとCBRモード判定回路1
21で発生されるCBRモード信号とがANDゲート3
03に入力される。このとき、ポンプクロックAとCB
Rモード信号のAND信号に同期して、Vpp電源に電
荷が供給される。したがって、CBRモード信号が活性
(CBRモード)のときのみWLポンプ123に加えて
WLポンプ125が動作してVpp電源に十分な電荷を
供給することができる。
【0046】これにより、通常の動作時と比較して多数
のメモリブロックが動作する場合でも内部電源電圧Vp
pのへたりをなくすことが可能となる。
のメモリブロックが動作する場合でも内部電源電圧Vp
pのへたりをなくすことが可能となる。
【0047】図4および5は、図3のVpp生成回路1
25′の動作を示すタイミングチャートであり、図4は
通常の動作モード時の、図5はCBRモード時のタイミ
ングチャートである。
25′の動作を示すタイミングチャートであり、図4は
通常の動作モード時の、図5はCBRモード時のタイミ
ングチャートである。
【0048】図3のVpp生成回路300の動作を図4
のタイミングチャートを参照して詳細に説明する。
のタイミングチャートを参照して詳細に説明する。
【0049】まず、WLポンプ123のみが動作する場
合(通常の動作モード時)について説明する。
合(通常の動作モード時)について説明する。
【0050】図4に示されるように、/CASが立下が
る前に/RASが立下がる場合は、/RASの立下がり
に応答して/RASの立下がりから時間Δt=d1 後に
クロック生成回路119でポンプクロックAが生成され
WLポンプ123に入力される。したがって、WLポン
プ123が動作し、Vpp電源に電荷が供給される。
る前に/RASが立下がる場合は、/RASの立下がり
に応答して/RASの立下がりから時間Δt=d1 後に
クロック生成回路119でポンプクロックAが生成され
WLポンプ123に入力される。したがって、WLポン
プ123が動作し、Vpp電源に電荷が供給される。
【0051】次に、WLポンプ125が動作する場合
(CBRモード時)について説明する。
(CBRモード時)について説明する。
【0052】図5に示されるように、/RASが立下が
る前に/CASが立下がる場合は、CBRモード判定回
路121によりCBRモードであることが判定され、/
RASの立下がりに応答して、時間Δt=d2 (ただ
し、d1 >d2 )後にCBRモード信号が生成され、W
Lポンプ125内のANDゲート303に入力される。
また、時間Δt=d1 後にポンプクロックAが生成さ
れ、WLポンプ123とWLポンプ125内のANDゲ
ート303とに入力される。したがって、WLポンプ1
23は、入力されたポンプクロックAによりVpp電源
に電荷を供給する。WLポンプ125は、入力されたポ
ンプクロックAとCBRモード信号とによりANDゲー
ト303のAND出力が立上がり、Vpp電源に電荷を
供給する。WLポンプ125はさらに、/RASが立上
がると、CBRモード信号とポンプクロックAとが立下
がり、それによってANDゲート303のAND出力が
立下がり、Vpp電源に電荷を供給しなくなる。
る前に/CASが立下がる場合は、CBRモード判定回
路121によりCBRモードであることが判定され、/
RASの立下がりに応答して、時間Δt=d2 (ただ
し、d1 >d2 )後にCBRモード信号が生成され、W
Lポンプ125内のANDゲート303に入力される。
また、時間Δt=d1 後にポンプクロックAが生成さ
れ、WLポンプ123とWLポンプ125内のANDゲ
ート303とに入力される。したがって、WLポンプ1
23は、入力されたポンプクロックAによりVpp電源
に電荷を供給する。WLポンプ125は、入力されたポ
ンプクロックAとCBRモード信号とによりANDゲー
ト303のAND出力が立上がり、Vpp電源に電荷を
供給する。WLポンプ125はさらに、/RASが立上
がると、CBRモード信号とポンプクロックAとが立下
がり、それによってANDゲート303のAND出力が
立下がり、Vpp電源に電荷を供給しなくなる。
【0053】(2) 第2実施例 図6は、本発明の第2実施例によるRASバッファ11
5とCASバッファ117と内部電圧生成回路130と
の構成を示すブロック図である。
5とCASバッファ117と内部電圧生成回路130と
の構成を示すブロック図である。
【0054】図6を参照して、内部電圧生成回路130
は、クロック生成回路119,129と、CBRモード
判定回路121と、WLポンプ123,125と、トラ
ンスファゲート制御線(TG)ポンプ133,135と
を含む。
は、クロック生成回路119,129と、CBRモード
判定回路121と、WLポンプ123,125と、トラ
ンスファゲート制御線(TG)ポンプ133,135と
を含む。
【0055】クロック生成回路119とCBRモード判
定回路121とWLポンプ123,125は図2と同様
に接続されている。クロック生成回路129は、RAS
バッファ115に接続されている。TGポンプ133は
クロック生成回路129に接続され、TGポンプ135
はクロック生成回路129とCBRモード判定回路12
1とに接続されている。
定回路121とWLポンプ123,125は図2と同様
に接続されている。クロック生成回路129は、RAS
バッファ115に接続されている。TGポンプ133は
クロック生成回路129に接続され、TGポンプ135
はクロック生成回路129とCBRモード判定回路12
1とに接続されている。
【0056】すなわち、第2実施例の内部電圧生成回路
130は、図2に示された第1実施例の内部電圧生成回
路130にクロック生成回路129とトランスファゲー
ト制御線用の内部電圧の昇圧に使用されるTGポンプ1
33,135とが付加された構成となっている。
130は、図2に示された第1実施例の内部電圧生成回
路130にクロック生成回路129とトランスファゲー
ト制御線用の内部電圧の昇圧に使用されるTGポンプ1
33,135とが付加された構成となっている。
【0057】クロック生成回路129は、ポンプクロッ
クBを生成し、TGポンプ133,135に入力する。
CBRモード判定回路121は、外部から入力された/
RASと/CASとに基づいて、それぞれRASバッフ
ァ115とCASバッファ117とで生成された内部/
RASと内部/CASとの入力のタイミングを判定し、
CBRモード時にはCBRモード信号をWLポンプ12
5とTGポンプ135とに出力する。
クBを生成し、TGポンプ133,135に入力する。
CBRモード判定回路121は、外部から入力された/
RASと/CASとに基づいて、それぞれRASバッフ
ァ115とCASバッファ117とで生成された内部/
RASと内部/CASとの入力のタイミングを判定し、
CBRモード時にはCBRモード信号をWLポンプ12
5とTGポンプ135とに出力する。
【0058】TGポンプ133は図18のVpp発生回
路と同様の回路である。図7は、図6のTGポンプ13
5の一例であるVpp生成回路35′を示す図である。
路と同様の回路である。図7は、図6のTGポンプ13
5の一例であるVpp生成回路35′を示す図である。
【0059】図7のVpp生成回路は、図3のVpp生
成回路のCBRモード信号が入力されるANDゲート3
03の入力端子に遅延回路701を接続したものであ
る。
成回路のCBRモード信号が入力されるANDゲート3
03の入力端子に遅延回路701を接続したものであ
る。
【0060】図7において、遅延回路701によりCB
Rモード信号の入力タイミングを遅らすことができる。
Rモード信号の入力タイミングを遅らすことができる。
【0061】図8は、本発明の実施例のDRAM100
に含まれるメモリセルアレイの一部の構成を示す図であ
る。
に含まれるメモリセルアレイの一部の構成を示す図であ
る。
【0062】図8を参照して、メモリセルアレイ800
は、センスアンプ801と、ビット線BL1,BL2
と、反転ビット線/BL1,/BL2と、トランスファ
ゲート制御線TG1,TG2と、ワード線WLと、メモ
リセル803と、トランジスタQ1,Q1′,Q2,Q
2′と、キャパシタCtg,Cwとを含む。
は、センスアンプ801と、ビット線BL1,BL2
と、反転ビット線/BL1,/BL2と、トランスファ
ゲート制御線TG1,TG2と、ワード線WLと、メモ
リセル803と、トランジスタQ1,Q1′,Q2,Q
2′と、キャパシタCtg,Cwとを含む。
【0063】ビット線BL1にメモリセル803に含ま
れているトランジスタのドレイン電極が接続され、ワー
ド線WLにゲート電極が接続されている。センスアンプ
801とビット線BL1および反転ビット線/BL1は
それぞれトランジスタQ1およびQ1′のソースまたは
ドレイン電極により接続されている。センスアンプ80
1とビット線BL2および反転ビット線/BL2はそれ
ぞれトランジスタQ2およびQ2′のソースまたはドレ
イン電極により接続されている。トランジスタQ1,Q
1′のゲート電極はトランスファゲート制御線TG1に
接続され、トランジスタQ2,Q2′のゲート電極はト
ランスファゲート制御線TG2に接続されている。2つ
のキャパシタCtgは一方の電極がトランスファゲート
制御線TG1,TG2にそれぞれ接続され他方の電極は
接地されている。キャパシタCwは一方の電極がワード
線WLに接続され、他方の電極は接地されている。
れているトランジスタのドレイン電極が接続され、ワー
ド線WLにゲート電極が接続されている。センスアンプ
801とビット線BL1および反転ビット線/BL1は
それぞれトランジスタQ1およびQ1′のソースまたは
ドレイン電極により接続されている。センスアンプ80
1とビット線BL2および反転ビット線/BL2はそれ
ぞれトランジスタQ2およびQ2′のソースまたはドレ
イン電極により接続されている。トランジスタQ1,Q
1′のゲート電極はトランスファゲート制御線TG1に
接続され、トランジスタQ2,Q2′のゲート電極はト
ランスファゲート制御線TG2に接続されている。2つ
のキャパシタCtgは一方の電極がトランスファゲート
制御線TG1,TG2にそれぞれ接続され他方の電極は
接地されている。キャパシタCwは一方の電極がワード
線WLに接続され、他方の電極は接地されている。
【0064】図6の内部電圧生成回路130により生成
された内部電圧Vppは、図1のWLドライバ107お
よびセンスアンプ列コントローラ111に供給される。
WLドライバ107は、ロウデコーダ103により選択
されたワード線に内部電圧Vppを供給することにより
駆動する。センスアンプ列コントローラ111は、行お
よび列アドレスバッファ113からのロウアドレス信号
に応答して、図8のトランジスタ制御線TG1およびT
G2に内部電圧Vppを選択的に供給する。
された内部電圧Vppは、図1のWLドライバ107お
よびセンスアンプ列コントローラ111に供給される。
WLドライバ107は、ロウデコーダ103により選択
されたワード線に内部電圧Vppを供給することにより
駆動する。センスアンプ列コントローラ111は、行お
よび列アドレスバッファ113からのロウアドレス信号
に応答して、図8のトランジスタ制御線TG1およびT
G2に内部電圧Vppを選択的に供給する。
【0065】図9および図10は、WLポンプ125の
一例であるVpp生成回路およびTGポンプ135の一
例であるVpp生成回路の動作を示すタイミングチャー
トであり、図9は通常の動作モード時の、図10はCB
Rモード時の動作を示すタイミングチャートである。
一例であるVpp生成回路およびTGポンプ135の一
例であるVpp生成回路の動作を示すタイミングチャー
トであり、図9は通常の動作モード時の、図10はCB
Rモード時の動作を示すタイミングチャートである。
【0066】第2実施例のWLポンプ125とTGポン
プ135の動作を図9および図10のタイミングチャー
トを参照して説明する。
プ135の動作を図9および図10のタイミングチャー
トを参照して説明する。
【0067】まず、通常の動作モード時の動作について
説明する。図9に示されるように、/RASの立下がり
の後に/CASが立下がる場合は、/RASの立下がり
に応答して/RASの立下がりからΔt=d1 後にクロ
ック生成回路119でポンプクロックAが生成され、W
Lポンプ123に入力される。続いて、/RASの立上
がりに応答してポンプクロックAに代わってポンプクロ
ックBが生成されTGポンプ133に入力される。した
がって、WLポンプ123とTGポンプ133とが順に
動作し、Δt=d1 後にワード線WLに、Δt=d3 後
にトランスファゲート制御線TG1に内部電圧Vppが
供給される。
説明する。図9に示されるように、/RASの立下がり
の後に/CASが立下がる場合は、/RASの立下がり
に応答して/RASの立下がりからΔt=d1 後にクロ
ック生成回路119でポンプクロックAが生成され、W
Lポンプ123に入力される。続いて、/RASの立上
がりに応答してポンプクロックAに代わってポンプクロ
ックBが生成されTGポンプ133に入力される。した
がって、WLポンプ123とTGポンプ133とが順に
動作し、Δt=d1 後にワード線WLに、Δt=d3 後
にトランスファゲート制御線TG1に内部電圧Vppが
供給される。
【0068】次に、CBRモード時の動作について説明
する。図10に示されるように、/RASの立下がりの
前に/CASが立下がる場合は、/RASの立下がりに
応答して/RASの立下がりから時間Δt=d2 後にC
BRモード判定回路121でCBRモード信号が生成さ
れ、WLポンプ125とTGポンプ135とに入力され
る。そして、時間Δt=d1 (d2 <d1 )後にクロッ
ク生成回路119でポンプクロックAが生成されWLポ
ンプ123,125に入力される。WLポンプ125内
のANDゲート403のAND出力がH(論理ハイ)と
なりWLポンプ123に加えてWLポンプ125が動作
し、リフレッシュ動作中のワード線WLに十分な内部電
圧Vppが供給される。一方、/RASの立上がりに応
答して、クロック生成回路129でポンプクロックBが
生成され、TGポンプ133,135に入力される。遅
延回路701で遅延されて時間Δt=d3 (d1 <
d3 )にTGポンプ135に入力されたCBRモード信
号によりANDゲート403のAND出力はHになり、
TGポンプ133に加えてTGポンプ135が動作し、
リフレッシュ動作中のトランスファゲート制御線TG1
に十分な内部電圧Vppが供給される。
する。図10に示されるように、/RASの立下がりの
前に/CASが立下がる場合は、/RASの立下がりに
応答して/RASの立下がりから時間Δt=d2 後にC
BRモード判定回路121でCBRモード信号が生成さ
れ、WLポンプ125とTGポンプ135とに入力され
る。そして、時間Δt=d1 (d2 <d1 )後にクロッ
ク生成回路119でポンプクロックAが生成されWLポ
ンプ123,125に入力される。WLポンプ125内
のANDゲート403のAND出力がH(論理ハイ)と
なりWLポンプ123に加えてWLポンプ125が動作
し、リフレッシュ動作中のワード線WLに十分な内部電
圧Vppが供給される。一方、/RASの立上がりに応
答して、クロック生成回路129でポンプクロックBが
生成され、TGポンプ133,135に入力される。遅
延回路701で遅延されて時間Δt=d3 (d1 <
d3 )にTGポンプ135に入力されたCBRモード信
号によりANDゲート403のAND出力はHになり、
TGポンプ133に加えてTGポンプ135が動作し、
リフレッシュ動作中のトランスファゲート制御線TG1
に十分な内部電圧Vppが供給される。
【0069】ここで、図8を用いて、クロック生成回路
119からのポンプクロックAのWLポンプ125への
入力とクロック生成回路129からのポンプクロックB
のTGポンプ135への入力のタイミングを異ならせる
ことについての利点を説明する。
119からのポンプクロックAのWLポンプ125への
入力とクロック生成回路129からのポンプクロックB
のTGポンプ135への入力のタイミングを異ならせる
ことについての利点を説明する。
【0070】図8において、始めトランスファゲート制
御線TG1,TG2は電位Vppにプリチャージされて
おり、ワード線WLはGNDである。外部/RASが立
下がるのに応答して、まずトランスファゲート制御線T
G2がGNDに放電され、トランジスタQ2およびQ
2′がOFFする。続いてワード線WLが活性化し電位
Vppに充電されメモリセルの記憶データが反転ビット
線/BL1に読出され、トランジスタQ1およびQ1′
を介してセンスアンプ801に読出電位が伝達される。
センスアンプ801が活性化されて読出電位が増幅し、
メモリセルに記憶データがリストアされる。その後、外
部/RASが立上がるのに応答して、ワード線WLがG
NDに放電され、トランスファゲート制御線TG2が電
位Vppにプリチャージされる。つまり、上記の動作に
より、Vpp電源より電荷が消費されるのは/RASが
立下がった直後と/RASが立上がった直後である。し
たがって、RASが立下がった直後にWLポンプ125
が動作し/RASが立上がった直後にTGポンプ135
が動作するようにWL充電用のポンプクロックAとTG
充電用のポンプクロックBのタイミングを変化させる
と、Vpp電源の変動より少なくすることが可能であ
る。
御線TG1,TG2は電位Vppにプリチャージされて
おり、ワード線WLはGNDである。外部/RASが立
下がるのに応答して、まずトランスファゲート制御線T
G2がGNDに放電され、トランジスタQ2およびQ
2′がOFFする。続いてワード線WLが活性化し電位
Vppに充電されメモリセルの記憶データが反転ビット
線/BL1に読出され、トランジスタQ1およびQ1′
を介してセンスアンプ801に読出電位が伝達される。
センスアンプ801が活性化されて読出電位が増幅し、
メモリセルに記憶データがリストアされる。その後、外
部/RASが立上がるのに応答して、ワード線WLがG
NDに放電され、トランスファゲート制御線TG2が電
位Vppにプリチャージされる。つまり、上記の動作に
より、Vpp電源より電荷が消費されるのは/RASが
立下がった直後と/RASが立上がった直後である。し
たがって、RASが立下がった直後にWLポンプ125
が動作し/RASが立上がった直後にTGポンプ135
が動作するようにWL充電用のポンプクロックAとTG
充電用のポンプクロックBのタイミングを変化させる
と、Vpp電源の変動より少なくすることが可能であ
る。
【0071】これにより、ワード線WLに加えて、さら
にトランスファゲート制御線TG1の電圧のへたりをな
くすことが可能となる。
にトランスファゲート制御線TG1の電圧のへたりをな
くすことが可能となる。
【0072】(3) 第3実施例 図11は、本発明の第3実施例によるDRAM100の
RASバッファ115とCASバッファ117と内部電
圧生成回路130との構成を示すブロック図である。
RASバッファ115とCASバッファ117と内部電
圧生成回路130との構成を示すブロック図である。
【0073】図11を参照して、内部電圧生成回路13
0の構成は図6の第2実施例と同様である。ただし、第
2実施例の場合と異なり、WLポンプ123とWLポン
プ125との出力ノードが接続され、TGポンプ133
とTGポンプ135との出力ノードが接続されている。
0の構成は図6の第2実施例と同様である。ただし、第
2実施例の場合と異なり、WLポンプ123とWLポン
プ125との出力ノードが接続され、TGポンプ133
とTGポンプ135との出力ノードが接続されている。
【0074】図11において、WLポンプ123,12
5の生成電荷はVpp電源に供給され、TGポンプ13
3,135の生成電荷はVpp電源と異なるノードのV
pp′電源に供給される。
5の生成電荷はVpp電源に供給され、TGポンプ13
3,135の生成電荷はVpp電源と異なるノードのV
pp′電源に供給される。
【0075】したがって、第2実施例のようにポンプク
ロックAとポンプクロックBとのタイミングを異ならせ
る必要はなく、ポンプクロックA,Bのタイミングを調
整するための遅延回路などの構成が不必要となって、装
置の簡易化を図ることが可能である。
ロックAとポンプクロックBとのタイミングを異ならせ
る必要はなく、ポンプクロックA,Bのタイミングを調
整するための遅延回路などの構成が不必要となって、装
置の簡易化を図ることが可能である。
【0076】(4) 第4実施例 図12は、本発明の第4実施例によるDRAM100の
RASバッファ115とCASバッファ117と内部電
圧生成回路140との構成を示すブロック図である。
RASバッファ115とCASバッファ117と内部電
圧生成回路140との構成を示すブロック図である。
【0077】図12を参照して、内部電圧生成回路14
0は、CBRモード判定回路121と、クロック生成回
路149と、Vbbポンプ143,145とを含む。
0は、CBRモード判定回路121と、クロック生成回
路149と、Vbbポンプ143,145とを含む。
【0078】CBRモード判定回路121はRASバッ
ファ115とCASバッファ117とに接続されてい
る。クロック生成回路149はRASバッファ115に
接続されている。Vbbポンプ143はクロック生成回
路149に接続され、Vbbポンプ145はクロック生
成回路149とCBRモード判定回路121とに接続さ
れている。
ファ115とCASバッファ117とに接続されてい
る。クロック生成回路149はRASバッファ115に
接続されている。Vbbポンプ143はクロック生成回
路149に接続され、Vbbポンプ145はクロック生
成回路149とCBRモード判定回路121とに接続さ
れている。
【0079】すなわち、図2に示された第1実施例の内
部電圧生成回路130と比較して、クロック生成回路1
19の代わりにクロック生成回路149が、WLポンプ
123,125の代わりにVbbポンプ143,145
が接続されている。
部電圧生成回路130と比較して、クロック生成回路1
19の代わりにクロック生成回路149が、WLポンプ
123,125の代わりにVbbポンプ143,145
が接続されている。
【0080】図12において、第1実施例から第3実施
例の場合と同様に、CBRモード判定回路121は外部
/RASおよび外部/CASに基づいてRASバッファ
115とCASバッファ117とで生成された内部/R
ASおよび内部/CASの入力のタイミングからCBR
モードのタイミングを判定し、CBRモード信号を生成
してVbbポンプ145に出力する。外部/RASに基
づいて生成される内部/RASによりクロック生成回路
149でポンプクロックCが生成される。Vbbポンプ
143,145はポンプクロックCを受けてVbb電源
より電荷を引き抜く。ただし、Vbbポンプ145はC
BRモード信号が活性化されている場合のみ(CBRモ
ードである場合のみ)動作する。したがって、CBRモ
ード信号が活性(CBRモード)のときVbb電源から
十分に電荷を引き抜き、CBRモード時の基板電流の増
大による電位Vbbの変動を抑えることが可能となる。
例の場合と同様に、CBRモード判定回路121は外部
/RASおよび外部/CASに基づいてRASバッファ
115とCASバッファ117とで生成された内部/R
ASおよび内部/CASの入力のタイミングからCBR
モードのタイミングを判定し、CBRモード信号を生成
してVbbポンプ145に出力する。外部/RASに基
づいて生成される内部/RASによりクロック生成回路
149でポンプクロックCが生成される。Vbbポンプ
143,145はポンプクロックCを受けてVbb電源
より電荷を引き抜く。ただし、Vbbポンプ145はC
BRモード信号が活性化されている場合のみ(CBRモ
ードである場合のみ)動作する。したがって、CBRモ
ード信号が活性(CBRモード)のときVbb電源から
十分に電荷を引き抜き、CBRモード時の基板電流の増
大による電位Vbbの変動を抑えることが可能となる。
【0081】図13は、図12のVbbポンプ143の
一例であるVbb生成回路143′の図である。
一例であるVbb生成回路143′の図である。
【0082】図14は、図12のVbbポンプ145の
一例であるVbb生成回路145′の図である。
一例であるVbb生成回路145′の図である。
【0083】図14を参照して、ポンプ部分1802は
図13に示されたVbb生成回路と同一の回路であり、
第1実施例のWLポンプ125,第2,第3実施例のT
Gポンプ135の場合とほぼ同様の動作により、ポンプ
クロックCとCBRモード信号とのAND出力に同期し
てVbb電源から電荷を引き抜く。
図13に示されたVbb生成回路と同一の回路であり、
第1実施例のWLポンプ125,第2,第3実施例のT
Gポンプ135の場合とほぼ同様の動作により、ポンプ
クロックCとCBRモード信号とのAND出力に同期し
てVbb電源から電荷を引き抜く。
【0084】すなわち、ポンプクロックCを受けてGN
Dからの負電荷をキャパシタCpに充電し、Vbb電源
に負電荷を供給することによってVbb電源の電位を下
げる。
Dからの負電荷をキャパシタCpに充電し、Vbb電源
に負電荷を供給することによってVbb電源の電位を下
げる。
【0085】このようにして、CBRモード時に基板に
流れ込む基板電流が増大することによってVbb電源の
電位が浅くなる(高くなる)ことを防ぐことが可能とな
る。
流れ込む基板電流が増大することによってVbb電源の
電位が浅くなる(高くなる)ことを防ぐことが可能とな
る。
【0086】
【発明の効果】請求項1に係る半導体記憶装置は、モー
ド信号が第1のモードを示すとき、複数のメモリブロッ
クのうちの第1の数のメモリブロックが動作し、第1の
供給能力により、動作中のメモリブロックに内部電圧が
供給され、モード信号が第2のモードを示すとき、上記
第1の数よりも多い第2の数のメモリブロックが動作
し、上記第1の供給能力よりも大きい第2の供給能力に
より、動作中のメモリブロックに内部電圧が供給される
ので、モード信号が第2のモードを示すとき、動作中の
メモリブロックの数が増加しても、内部電圧もまたそれ
に応じて供給される。
ド信号が第1のモードを示すとき、複数のメモリブロッ
クのうちの第1の数のメモリブロックが動作し、第1の
供給能力により、動作中のメモリブロックに内部電圧が
供給され、モード信号が第2のモードを示すとき、上記
第1の数よりも多い第2の数のメモリブロックが動作
し、上記第1の供給能力よりも大きい第2の供給能力に
より、動作中のメモリブロックに内部電圧が供給される
ので、モード信号が第2のモードを示すとき、動作中の
メモリブロックの数が増加しても、内部電圧もまたそれ
に応じて供給される。
【0087】その結果、動作中のメモリブロックの数が
増加してもモード信号に基づいて内部電圧の電位の変動
を防止することが可能な半導体記憶装置を提供すること
ができる。請求項2に係る半導体記憶装置は、請求項1
の半導体記憶装置において、モード信号にかかわらず動
作中のメモリブロックに供給するための内部電圧が生成
され、モード信号が第2のモードを示すときのみ動作中
の第2の数のメモリブロックに供給する内部電圧が生成
され、内部電圧を生成するためのクロック信号が生成さ
れるので、第2のモードを示すときには、第1のモード
を示すときに生成される内部電圧に加えて、さらに大き
な内部電圧が生成され、それらの内部電圧はクロック信
号を用いて生成される。
増加してもモード信号に基づいて内部電圧の電位の変動
を防止することが可能な半導体記憶装置を提供すること
ができる。請求項2に係る半導体記憶装置は、請求項1
の半導体記憶装置において、モード信号にかかわらず動
作中のメモリブロックに供給するための内部電圧が生成
され、モード信号が第2のモードを示すときのみ動作中
の第2の数のメモリブロックに供給する内部電圧が生成
され、内部電圧を生成するためのクロック信号が生成さ
れるので、第2のモードを示すときには、第1のモード
を示すときに生成される内部電圧に加えて、さらに大き
な内部電圧が生成され、それらの内部電圧はクロック信
号を用いて生成される。
【0088】その結果、モード信号に基づいて、動作中
のメモリブロックの数に応じた内部電圧を生成し、各メ
モリブロックに供給することが可能となる。
のメモリブロックの数に応じた内部電圧を生成し、各メ
モリブロックに供給することが可能となる。
【0089】請求項3に係る半導体記憶装置は、請求項
1の半導体記憶装置において、モード信号にかかわら
ず、動作中のメモリブロックに供給する内部電圧の基と
なる第1および第3電圧が生成され、モード信号が第2
のモードを示すときのみ動作中の第2の数のメモリブロ
ックに供給する内部電圧の基となる第2および第4電圧
がさらに生成され、第1および第2電圧を生成するため
の第1クロック信号が生成され、第3および第4電圧を
生成するための第2クロック信号が生成されるので、第
1クロック信号によるタイミングでモード信号にかかわ
らず第1電圧が生成し、動作中のメモリブロックに内部
電圧が供給され、第2のモードのときさらに第2電圧が
生成され、動作中の第2の数のメモリブロックに十分な
内部電圧が供給され、第2クロック信号によるタイミン
グで、モード信号にかかわらず第3電圧が生成され、動
作中のメモリブロックに内部電圧が供給され、第2のモ
ードのときさらに第4電圧が生成され、動作中の第2の
数のメモリブロックに内部電圧が供給される。
1の半導体記憶装置において、モード信号にかかわら
ず、動作中のメモリブロックに供給する内部電圧の基と
なる第1および第3電圧が生成され、モード信号が第2
のモードを示すときのみ動作中の第2の数のメモリブロ
ックに供給する内部電圧の基となる第2および第4電圧
がさらに生成され、第1および第2電圧を生成するため
の第1クロック信号が生成され、第3および第4電圧を
生成するための第2クロック信号が生成されるので、第
1クロック信号によるタイミングでモード信号にかかわ
らず第1電圧が生成し、動作中のメモリブロックに内部
電圧が供給され、第2のモードのときさらに第2電圧が
生成され、動作中の第2の数のメモリブロックに十分な
内部電圧が供給され、第2クロック信号によるタイミン
グで、モード信号にかかわらず第3電圧が生成され、動
作中のメモリブロックに内部電圧が供給され、第2のモ
ードのときさらに第4電圧が生成され、動作中の第2の
数のメモリブロックに内部電圧が供給される。
【0090】その結果、異なるタイミングで電圧を生成
し、内部電圧を各メモリブロックに供給することが可能
となる。
し、内部電圧を各メモリブロックに供給することが可能
となる。
【0091】請求項4に係る半導体記憶装置は、請求項
1の半導体記憶装置において、モード信号にかかわら
ず、動作中のメモリブロックの第1の機能回路に供給す
る第1の内部電圧が生成され、モード信号が第2のモー
ドを示すときのみ、動作中の第2の数のメモリブロック
の第1の機能回路に供給する第1の内部電圧が生成さ
れ、モード信号にかかわらず、動作中のメモリブロック
の第2の機能回路に供給する第2の内部電圧が生成さ
れ、モード信号が第2のモードを示すときのみ、動作中
の第2の数のメモリブロックの第2の機能回路に供給す
る第2の内部電圧が生成されるので、モード信号が第1
のモードから第2のモードとなって動作中のメモリブロ
ックの数が増加してもそれに応じて各メモリブロックに
おける第1および第2の機能回路の各々に、それぞれ第
1および第2の内部電圧が供給される。
1の半導体記憶装置において、モード信号にかかわら
ず、動作中のメモリブロックの第1の機能回路に供給す
る第1の内部電圧が生成され、モード信号が第2のモー
ドを示すときのみ、動作中の第2の数のメモリブロック
の第1の機能回路に供給する第1の内部電圧が生成さ
れ、モード信号にかかわらず、動作中のメモリブロック
の第2の機能回路に供給する第2の内部電圧が生成さ
れ、モード信号が第2のモードを示すときのみ、動作中
の第2の数のメモリブロックの第2の機能回路に供給す
る第2の内部電圧が生成されるので、モード信号が第1
のモードから第2のモードとなって動作中のメモリブロ
ックの数が増加してもそれに応じて各メモリブロックに
おける第1および第2の機能回路の各々に、それぞれ第
1および第2の内部電圧が供給される。
【0092】その結果、メモリブロックの第1および第
2の機能回路の各々において、それぞれ第1および第2
の内部電圧の低下を防止することが可能となる。
2の機能回路の各々において、それぞれ第1および第2
の内部電圧の低下を防止することが可能となる。
【0093】請求項5に係る半導体記憶装置は、請求項
1ないし4のいずれかの半導体記憶装置において、ロウ
アドレスストローブ信号が入力された後にコラムアドレ
スストローブ信号が入力されるとモード信号が第1のモ
ードを示し、ロウアドレスストローブ信号が入力される
前にコラムアドレスストローブ信号が入力されるとモー
ド信号が第2のモードを示すようにされるので、ロウア
ドレスストローブ信号が入力された後にコラムアドレス
ストローブ信号が入力されるとモード信号が上記第1の
モードを示すときの動作が行なわれ、ロウアドレススト
ローブ信号が入力される前にコラムアドレスストローブ
信号が入力されるとモード信号が上記第2のモードを示
すときの動作が行なわれる。
1ないし4のいずれかの半導体記憶装置において、ロウ
アドレスストローブ信号が入力された後にコラムアドレ
スストローブ信号が入力されるとモード信号が第1のモ
ードを示し、ロウアドレスストローブ信号が入力される
前にコラムアドレスストローブ信号が入力されるとモー
ド信号が第2のモードを示すようにされるので、ロウア
ドレスストローブ信号が入力された後にコラムアドレス
ストローブ信号が入力されるとモード信号が上記第1の
モードを示すときの動作が行なわれ、ロウアドレススト
ローブ信号が入力される前にコラムアドレスストローブ
信号が入力されるとモード信号が上記第2のモードを示
すときの動作が行なわれる。
【0094】その結果、ロウアドレスストローブ信号が
入力される前にコラムアドレスストローブ信号が入力さ
れるリフレッシュ動作時において、ロウアドレスストロ
ーブ信号が入力された後にコラムアドレスストローブ信
号が入力される通常動作時と比較して、動作中のメモリ
ブロックの数が増加しても、内部電圧が十分に生成され
内部電圧の変動を防止することが可能となる。
入力される前にコラムアドレスストローブ信号が入力さ
れるリフレッシュ動作時において、ロウアドレスストロ
ーブ信号が入力された後にコラムアドレスストローブ信
号が入力される通常動作時と比較して、動作中のメモリ
ブロックの数が増加しても、内部電圧が十分に生成され
内部電圧の変動を防止することが可能となる。
【図1】 本発明の実施例によるDRAM100の全体
構成を示すブロック図である。
構成を示すブロック図である。
【図2】 図1のRASバッファ115とCASバッフ
ァ117と内部電圧生成回路130との構成を示すブロ
ック図である。
ァ117と内部電圧生成回路130との構成を示すブロ
ック図である。
【図3】 図2のWLポンプ125の一例であるVpp
生成回路(昇圧ポンプ)300を示す図である。
生成回路(昇圧ポンプ)300を示す図である。
【図4】 図3のVpp生成回路30の動作を示すタイ
ミングチャートである。
ミングチャートである。
【図5】 図3のVpp生成回路30の動作を示すタイ
ミングチャートである。
ミングチャートである。
【図6】 本発明の第2実施例によるRASバッファ1
15とCASバッファ117と内部電圧生成回路130
との構成を示すブロック図である。
15とCASバッファ117と内部電圧生成回路130
との構成を示すブロック図である。
【図7】 図6のTGポンプ135の一例であるVpp
生成回路を示す図である。
生成回路を示す図である。
【図8】 本発明の実施例のDRAM100に含まれる
メモリセルアレイの一部構成を示す図である。
メモリセルアレイの一部構成を示す図である。
【図9】 第2実施例のWLポンプ125の一例である
Vpp生成回路とTGポンプ135の一例であるVpp
生成回路の動作を示すタイミングチャートである。
Vpp生成回路とTGポンプ135の一例であるVpp
生成回路の動作を示すタイミングチャートである。
【図10】 第2実施例のWLポンプ125の一例であ
るVpp生成回路とTGポンプ135の一例であるVp
p生成回路の動作を示すタイミングチャートである。
るVpp生成回路とTGポンプ135の一例であるVp
p生成回路の動作を示すタイミングチャートである。
【図11】 本発明の第3実施例によるDRAM100
のRASバッファ115とCASバッファ117と内部
電圧生成回路130との構成を示すブロック図である。
のRASバッファ115とCASバッファ117と内部
電圧生成回路130との構成を示すブロック図である。
【図12】 本発明の第4実施例によるDRAM100
のRASバッファ115とCASバッファ117と内部
電圧生成回路140との構成を示すブロック図である。
のRASバッファ115とCASバッファ117と内部
電圧生成回路140との構成を示すブロック図である。
【図13】 図12のVbbポンプ143の一例である
Vbb生成回路の図である。
Vbb生成回路の図である。
【図14】 図12のVbbポンプ145の一例である
Vbb生成回路の図である。
Vbb生成回路の図である。
【図15】 通常の動作モード時の/RASおよび/C
ASの入力を示すタイミングチャートである。
ASの入力を示すタイミングチャートである。
【図16】 CBRモード時の入力を示すタイミングチ
ャートである。
ャートである。
【図17】 従来の一般的なDRAMに含まれるメモリ
アレイ1600の一例を示す図である。
アレイ1600の一例を示す図である。
【図18】 Vpp生成回路として用いられる一般的な
昇圧ポンプ1800の回路図である。
昇圧ポンプ1800の回路図である。
100 DRAM、115 RASバッファ、117
CASバッファ、119,129,149 クロック生
成回路、121 CBRモード判定回路、123,12
5 WLポンプ、133,135 TGポンプ、14
3,145 Vbbポンプ、130,140 内部電圧
生成回路、1801,1802 ポンプ部分、303
ANDゲート、1800,125′,135′ Vpp
生成回路、143′,145′ Vbb生成回路、/R
AS ロウアドレスストローブ信号、/CAS コラム
アドレスストローブ信号。
CASバッファ、119,129,149 クロック生
成回路、121 CBRモード判定回路、123,12
5 WLポンプ、133,135 TGポンプ、14
3,145 Vbbポンプ、130,140 内部電圧
生成回路、1801,1802 ポンプ部分、303
ANDゲート、1800,125′,135′ Vpp
生成回路、143′,145′ Vbb生成回路、/R
AS ロウアドレスストローブ信号、/CAS コラム
アドレスストローブ信号。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 諸岡 毅一 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社ユー・エル・エス・アイ開発研究 所内
Claims (5)
- 【請求項1】 各々が行および列からなるマトリックス
状に配置された複数のメモリセルを含む複数のメモリブ
ロックと、 外部から入力された外部制御信号に応答して第1および
第1のモードと異なる第2のモードを選択的に示すモー
ド信号を生成するモード信号生成手段と、 前記モード信号に応答して前記モード信号が第1のモー
ドを示すとき前記複数のメモリブロックのうちの第1の
数のメモリブロックを動作させ、前記モード信号が前記
第2のモードを示すとき前記第1の数よりも多い第2の
数のメモリブロックを動作させる分割動作手段と、 外部から与えられた外部電源電圧に基づいて内部電圧を
生成して前記複数のメモリブロックのうち前記分割動作
手段により動作中のメモリブロックに供給する内部電圧
生成手段とを含み、前記内部電圧生成手段は、前記モー
ド信号に応答して前記第1のモードのとき第1の供給能
力を有し、前記第2のモードのとき前記第1の供給能力
よりも大きい第2の供給能力を有する半導体記憶装置。 - 【請求項2】 前記内部電圧生成手段は、 前記モード信号にかかわらず前記分割動作手段により動
作中の前記メモリブロックに供給するための内部電圧を
生成する第1電圧生成手段と、 前記モード信号が前記第1のモードを示すとき不活性状
態で動作せず前記モード信号が前記第2のモードを示す
とき活性化され前記分割動作手段により動作中の前記第
2の数のメモリブロックに供給するための内部電圧を前
記第1電圧生成手段とともに生成する第2電圧生成手段
と、 前記第1および第2電圧生成手段に前記内部電圧を生成
するためのクロック信号を生成するクロック信号生成手
段とを含む請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 【請求項3】 前記内部電圧生成手段は、 前記モード信号にかかわらず前記分割動作手段により動
作中の前記メモリブロックに供給する内部電圧を生成す
る第1および第3電圧生成手段と、 前記モード信号が前記第1のモードを示すときは不活性
状態で動作せず前記モード信号が前記第2のモードを示
すとき活性化され前記分割動作手段により動作中の前記
第2の数のメモリブロックに供給する内部電圧を前記第
1および第3電圧生成手段とともに生成する第2および
第4電圧生成手段と、 前記第1および第2電圧生成手段に与える第1のクロッ
ク信号を生成する第1クロック信号生成手段と、 前記第3および第4電圧生成手段に与える第2のクロッ
ク信号を生成する第2クロック信号生成手段とを含む請
求項1に記載の半導体記憶装置。 - 【請求項4】 前記複数のメモリブロックの各々が第1
の機能回路と前記第1の機能回路と異なる第2の機能回
路とを含み、 前記内部電圧生成手段は、 前記モード信号にかかわらず前記分割動作手段により動
作中の前記メモリブロックの前記第1の機能回路に供給
する第1の内部電圧を生成する第1電圧生成手段と、 前記モード信号が前記第1のモードを示すときは不活性
状態で動作せず前記モード信号が前記第2のモードを示
すとき活性化され前記分割動作手段により動作中の前記
第2の数のメモリブロックの前記第1の機能回路に供給
する第1の内部電圧を生成する第2電圧生成手段と、 前記モード信号にかかわらず前記分割動作手段により動
作中の前記メモリブロックの前記第2の機能回路に供給
する第2の内部電圧を生成する第3電圧生成手段と、 前記モード信号が前記第1のモードを示すときは不活性
状態で動作せず前記モード信号が前記第2のモードを示
すとき活性化され前記分割動作手段により動作中の前記
第2の数のメモリブロックの前記第2の機能回路に供給
する第2の内部電圧を生成する第4電圧生成手段とを含
む請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 【請求項5】 前記外部制御信号がロウアドレスストロ
ーブ信号とコラムアドレスストローブ信号とであって、
前記モード信号生成手段は前記ロウアドレスストローブ
信号が入力された後に前記コラムアドレスストローブ信
号が入力されると前記モード信号が前記第1のモードを
示し、前記ロウアドレスストローブ信号が入力される前
に前記コラムアドレスストローブ信号が入力されると前
記モード信号が前記第2のモードを示すようにされる請
求項1から4のいずれかに記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7116021A JPH08315570A (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 半導体記憶装置 |
| DE19613667A DE19613667C2 (de) | 1995-05-15 | 1996-04-04 | Halbleiterspeichereinrichtung |
| KR1019960014855A KR100203344B1 (ko) | 1995-05-15 | 1996-05-07 | 내부 전압의 공급능력이 제어 가능한 반도체 기억장치 |
| US08/645,347 US5699303A (en) | 1995-05-15 | 1996-05-13 | Semiconductor memory device having controllable supplying capability of internal voltage |
| US08/924,501 US5841705A (en) | 1995-05-15 | 1997-09-05 | Semiconductor memory device having controllable supplying capability of internal voltage |
| US09/137,707 US5995435A (en) | 1995-05-15 | 1998-08-21 | Semiconductor memory device having controllable supplying capability of internal voltage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7116021A JPH08315570A (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08315570A true JPH08315570A (ja) | 1996-11-29 |
Family
ID=14676828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7116021A Pending JPH08315570A (ja) | 1995-05-15 | 1995-05-15 | 半導体記憶装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5699303A (ja) |
| JP (1) | JPH08315570A (ja) |
| KR (1) | KR100203344B1 (ja) |
| DE (1) | DE19613667C2 (ja) |
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- 1996-04-04 DE DE19613667A patent/DE19613667C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-07 KR KR1019960014855A patent/KR100203344B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-13 US US08/645,347 patent/US5699303A/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-09-05 US US08/924,501 patent/US5841705A/en not_active Expired - Fee Related
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| KR960042736A (ko) | 1996-12-21 |
| US5699303A (en) | 1997-12-16 |
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| DE19613667A1 (de) | 1996-11-21 |
| US5841705A (en) | 1998-11-24 |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040601 |