JPH0834853A - 光学材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 プラスチック光学レンズ及び位相差フィルム
として使用できる高い屈折率を有し、しかも耐熱性及び
透明性に優れた光学材料を提供する。 【構成】 次の式（Ｉ）で表される繰り返し単位１０〜
４０モル％及び次の式（ＩＩ）で表される繰り返し単位
６０〜９０モル％からなり、還元粘度が０．３５〜０．
７ｄｌ／ｇ（３０℃、ジメチルホルムアミド中、濃度１
ｇ／ｄｌ）である芳香族ポリエーテルスルホン共重合体
からなる光学材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、屈折率１．７０以上の
芳香族ポリエーテルスルホン共重合体又は芳香族ポリエ
ーテルスルフィド共重合体からなる光学材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラスチック光学材料は、無機ガラスに
比べ軽量で、割れにくく、その上加工が容易であること
から、近年は眼鏡レンズ、カメラレンズ等の光学素子と
して急速に普及してきている。

【０００３】上記プラスチック光学材料として現在広く
用いられているものとしては、例えば、ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネートをラジカル重合させたも
の等がある。これらは、軽量で耐衝撃性に優れ、染色も
容易で、切削、研磨等の加工性も良好である等の優れた
性質を有しているが、屈折率（ｎ_D ）が無機ガラスの
１．５２に比べて１．５０と低いため、例えば、ガラス
レンズと同等の光学物性を得るには、レンズの中心厚、
コバ厚及び曲率等を大きくする必要があり、このため全
体に肉厚になることが避けられない欠点を有していた。

【０００４】特開昭６１−２８５１３号公報には特殊な
フマル酸ジエステルの重合物が高屈折率を有し、上記目
的に適することが開示されているが、屈折率は最高で
１．５３程度であり、無機ガラスを代替するものとして
は必ずしも充分なものではなかった。

【０００５】また、特開平２−１８５０１号公報には
１．６０の高い屈折率を有するポリカーボネート等を使
用する技術が開示されているが、耐熱性が１５０℃と低
く、例えば、高出力光源のもとでは光源の熱により変形
してしまう等の欠点を有していた。さらに、ポリカーボ
ネートは耐ケトン系薬品等の耐薬品性が低く、レンズ表
面に反射防止膜、ハードコート膜等を形成する際に、塗
料として使用可能な有機溶剤に制限を受ける等の問題点
があった。

【０００６】選択反射膜、選択透過膜等の光学多層膜と
して利用するには、１．７０以上というさらに高い屈折
率が要求されるが、市販されているプラスチック光学材
料中最高は、ＩＣＩ社製、ポリエーテルスルホンの１．
６４であり、高屈折率を有するプラスチック光学材料は
乏しく、また、１．７０を超える屈折率を有していても
透明性や材料の着色、脆性破壊等の問題点を有してお
り、実際に利用できるものは存在しなかった。従って、
現在使用されている光学多層膜は無機ガラスの蒸着で作
成されているが、大面積の蒸着が難しく高コストになる
ため、潜在的な市場要求はあるものの汎用的に利用され
るには至っていない状態であり、簡便な塗工法によって
塗膜を形成し得る高屈折率を有するプラスチック光学材
料に対する要求が高まっていた。

【０００７】一方、液晶表示用部材の１つである位相差
フィルムは、高速応答性液晶の利用に伴い、高屈折率の
素材が選ばれる方向にあるが、市販されている液晶の屈
折率の範囲は最高１．７５であり、このため位相差フィ
ルム素材用としても高屈折率の材料が望まれていた。

【０００８】また、芳香族系含硫黄ポリマーは耐熱性や
耐薬品性に優れたエンジニアリングプラスチックとして
有用なものであり、硫黄や芳香族環の分子屈折の高さか
ら、そのポリマーも高屈折率を有していると考えられて
いる。しかしながら、ＰＰＳ（ポリフェニレンスルフィ
ド）に代表されるスルフィド系のポリマーは、着色が激
しく透明性がよくないために、光学用途として使用する
には大きな問題点を持っていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記に鑑
み、プラスチック光学レンズ及び位相差フィルムとして
使用できる高い屈折率を有し、しかも耐熱性及び透明性
に優れた光学材料を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、光学材
料を、次の式（Ｉ）で表される繰り返し単位１０〜４０
モル％及び次の式（ＩＩ）で表される繰り返し単位６０
〜９０モル％からなり、還元粘度が０．３５〜０．７ｄ
ｌ／ｇ（３０℃、ジメチルホルムアミド中、濃度１ｇ／
ｄｌ）である芳香族ポリエーテルスルホン共重合体から
構成するところに存する。

【００１１】

【化３】

【００１２】上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位は、
１０〜４０モル％である。上記式（Ｉ）で表される繰り
返し単位が１０モル％未満であると屈折率が低下し、４
０モル％を超えると結晶性が発現して透明性を損なうの
で、上記範囲に限定される。

【００１３】上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を形
成するモノマーとしては特に限定されず、例えば、
２′，２′′−ジヒドロキシ−ｍ−クォーターフェニ
ル、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビ
フェニル、４−ヒドロキシ−４′−フルオロ−３，３′
−ジフェニルビフェニル、４，４′−ジフルオロ−３，
３′−ジフェニルビフェニル、４−ヒドロキシ−４′−
クロロ−３，３′−ジフェニルビフェニル、４−ヒドロ
キシ−４′−ブロモ−３，３′−ジフェニルビフェニ
ル、４，４′−ジブロモ−３，３′−ジフェニルビフェ
ニル、４，４′−ジクロロ−３，３′−ジフェニルビフ
ェニル等が挙げられる。好ましくは、４，４′−ジヒド
ロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニルである。

【００１４】上記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を
形成するモノマーとしては特に限定されず、例えば、
４，４′−ジクロロジフェニルスルホン、４，４′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホン等が挙げられる。

【００１５】本発明のポリエーテルスルホン共重合体に
は、上記モノマーに加えて、上記モノマーと共重合可能
であるモノマー等を共重合することができる。上記共重
合可能であるモノマーとしては、次に挙げる（１）群モ
ノマー、（２）群モノマー等が用いられる。

【００１６】（１）群モノマー ４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４′
−ジフルオロジフェニルスルホン、４，４′−ジクロロ
ジフェニルスルホン、４，４′−ジブロモジフェニルス
ルホン、４−ヒドロキシ−４′−フルオロジフェニルス
ルホン、４−ヒドロキシ−４′−クロロジフェニルスル
ホン、４−ヒドロキシ−４′−ブロモジフェニルスルホ
ン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
４，４′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、４，
４′−ジクロロジフェニルスルホキシド、４，４′−ジ
ブロモジフェニルスルホキシド、４−ヒドロキシ−４′
−フルオロジフェニルスルホキシド、

【００１７】４−ヒドロキシ−４′−クロロジフェニル
スルホキシド、４−ヒドロキシ−４′−ブロモジフェニ
ルスルホキシド、４，４′−ジヒドロキシジフェニルケ
トン、４，４′−ジフルオロジフェニルケトン、４，
４′−ジブロモジフェニルケトン、４−ヒドロキシ−
４′−フルオロジフェニルケトン、４−ヒドロキシ−
４′−クロロジフェニルケトン、４−ヒドロキシ−４′
−ブロモジフェニルケトン、４，４′−ジフルオロジフ
ェニルエーテル、４，４′−ジクロロジフェニルエーテ
ル、４，４′−ジブロモジフェニルエーテル、４−ヒド
ロキシ−４′−フルオロジフェニルエーテル、４−ヒド
ロキシ−４′−クロロジフェニルエーテル、４−ヒドロ
キシ−４′−ブロモジフェニルエーテル、４，４′−メ
チレンビスフェノール、

【００１８】４，４′−エチリデンビスフェノール、
４，４′−メチレンビス（２−メチルフェノール）、
４，４′−メチレンビス（２，６−ジメチルフェノー
ル）、４，４′−イソプロピリデンビスフェノール、
４，４′−イソプロピリデンビス（２−メチルフェノー
ル）、４，４′−（１，３−ジメチルブチリデン）ビス
フェノール、４，４′−イソプロピリデンビス（２，
６′−ジメチルフェノール）、４，４′−（１−フェニ
ルエチリデン）ビスフェノール、４，４′−イソプロピ
リデンビス（２−フェニルフェノール）、４−クロロ−
４′−（ｐ−ヒドロキシフェニル）ジフェニルケトン。

【００１９】（２）群モノマー ４，４′−ジヒドロキシビフェニル ４−ヒドロキシ−４′−フルオロビフェニル、４−ヒド
ロキシ−４′−クロロビフェニル、４−ヒドロキシ−
４′−ブロモビフェニル、４，４′−ジフルオロビフェ
ニル、４，４′−ジクロロビフェニル、４，４′−ジブ
ロモビフェニル４，４′′−ジヒドロキシ−１，１′：
２′，１′′−ターフェニル、４，４′′−ジヒドロキ
シ−１，１′：３′，１′′−ターフェニル、４，
４′′−ジクロロ−１，１′：２′，１′′−ターフェ
ニル、４，４′′−ジクロロ−１，１′：３′，１′′
−ターフェニル、４，４′′−ジクロロ−１，１′：
４′，１′′−ターフェニル、４−ヒドロキシ−４′′
−クロロ−１，１′：２′，１′′−ターフェニル、４
−ヒドロキシ−４′′−クロロ−１，１′：３′，
１′′−ターフェニル、４−ヒドロキシ−４′′−クロ
ロ−１，１′：４′，１′′−ターフェニル、４，
４′′′−ジクロロ−１，１′：４′，１′′：
４′′，１′′′−クォーターフェニル、

【００２０】４−ヒドロキシ−４′′′−クロロ−１，
１′：４′，１′′：４′′，１′′′−クォーターフ
ェニル、４，４′′′−ジヒドロキシ−１，１′：
２′，１′′：２′′，１′′′−クォーターフェニ
ル、４，４′′′−ジクロロ−１，１′：２′、
１′′：２′′，１′′′−クォーターフェニル、４−
ヒドロキシ−４′′′−クロロ−１，１′：２′，
１′′：２′′，１′′′−クォーターフェニル、４，
４′′′−ジヒドロキシ−１，１′：３′，１′′：
３′′，１′′′−クォーターフェニル、４，４′′′
−ジクロロ−１，１′：３′，１′′：３′′，
１′′′−クォーターフェニル、４−ヒドロキシ−
４′′′−クロロ−１，１′：３′，１′′：３′′，
１′′′−クォーターフェニル、４，４′−ジメルカプ
トジフェニルスルフィド、４，４′−ジクロロジフェニ
ルスルフィド。 上記（１）群モノマー又は上記（２）群モノマーは、単
独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

【００２１】本発明では、上記（１）群モノマー及び上
記（２）群モノマーのほか、上記ポリエーテルスルホン
共重合体と共重合可能であるジヒドロキシ化合物モノマ
ー、ジハロゲン化合物モノマー等を用いてもよい。

【００２２】上記ジヒドロキシ化合物モノマー、ジハロ
ゲン化合物モノマーとしては特に限定されず、例えば、
ｐ−クレゾール、４，４′−ジヒドロキシジフェニル、
４，４′′−ジヒドロキシ−ｐ−ターフェニル、４，
４′′′−ジヒドロキシ−ｐ−クォーターフェニル、
２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパ
ン、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、４，
４′−ジヒドロキシベンゾフェノン、４，４′−ジヒド
ロキシジフェニルエーテル、４，４′−ジヒドロキシジ
フェニルスルフィド、１，４−ビス−（４−ジヒドロキ
シジフェニル）−エーテル、１，４−ビス−（４−ジヒ
ドロキシベンゾイル）−ベンゼン、４−ヒドロキシ−
４′−（ｐ−ヒドロキシフェニル）ジフェニルスルホ
ン、４−クロロ−４′−（ｐ−ヒドロキシフェニル）ジ
フェニルスルホン、４，４′−ジクロロジフェニルケト
ン等が挙げられる。

【００２３】上記ジヒドロキシ化合物モノマー、ジハロ
ゲン化合物モノマーは、生成する共重合体の３０モル％
以下であることが好ましい。３０モル％を超えると、屈
折率の低下が起こる。

【００２４】上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体
の還元粘度は、０．３５〜０．７ｄｌ／ｇ（３０℃、ジ
メチルホルムアミド中、濃度１．０ｇ／ｄｌ）である。
還元粘度が０．３５ｄｌ／ｇ未満であると、成形体が脆
性破壊を起こし、０．７ｄｌ／ｇを超えると、成形性が
低下して残留複屈折を示すので、上記範囲に限定され
る。

【００２５】上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体
を製造する方法は特に限定されず、例えば、アルカリ金
属塩の存在下極性溶媒中で加熱重合する求核置換重縮合
法等を用いることができる。

【００２６】上記アルカリ金属塩としては特に限定され
ず、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビ
ジウム、シュウ酸カリウム、重炭酸カリウム等が好まし
く、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムは特に好ましい。

【００２７】上記極性溶媒としては特に限定されず、例
えば、スルホラン、ジフェニルスルホン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルスルホン等のスルホン系溶媒；ジメ
チルアセトアミド、ジメチルイミダゾリン、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリド
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
イミダゾリン等のアミド系溶媒；Ｎ−エチルカプロラク
タム、Ｎ−ｎ−プロピルカプロラクタム等のカプロラク
タム系溶媒等が挙げられる。これらは、単独で用いても
よく、２種以上を併用してもよい。また、水を除去する
ために、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の水と共
沸する溶媒を用いてもよい。

【００２８】上記加熱重合において、重合温度は、通常
１００〜４００℃の範囲がよく、特に１５０〜２８０℃
が好ましい。

【００２９】上記加熱重合を行う方法としては特に限定
されず、例えば、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位
を形成するモノマー、及び、上記式（ＩＩ）で表される
繰り返し単位を形成するモノマーを一括して重合槽に投
入する方法、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を形
成するモノマー、及び、上記式（ＩＩＩ）で表される繰
り返し単位を形成するモノマーの一部を重合後期に投入
する分子構造制御が可能な方法等が挙げられる。上記加
熱重合を促進するために、上記加熱重合を行う前に、上
記水と共沸する溶媒を用いて還流脱水を行ってもよい。

【００３０】上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体
の回収方法、精製方法としては特に限定されず、例え
ば、上記加熱重合の終了後、上記芳香族ポリエーテルス
ルホン共重合体に対する良溶媒を用いて反応混合物を希
釈した後、上記芳香族ポリエーテルスルホン共重合体に
対する貧溶媒を加えて上記芳香族ポリエーテルスルホン
共重合体を析出させ、適切な洗浄液で洗浄する再沈法、
抽出溶媒を用いて上記芳香族ポリエーテルスルホン共重
合体から不純物を部分的に取り除き、適切な洗浄液で洗
浄した後に回収する抽出法等の公知の方法が挙げられ
る。

【００３１】本発明２の光学材料は、上記式（Ｉ）で表
される繰り返し単位５〜４５モル％及び次の式（ＩＩ
Ｉ）で表される繰り返し単位９５〜５５モル％からな
り、還元粘度が０．３０〜０．７５ｄｌ／ｇ（３０℃、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン中、濃度０．５ｇ／ｄｌ）
である芳香族ポリエーテルスルフィド共重合体から構成
される。

【００３２】

【化４】

【００３３】上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位は、
５〜４５モル％である。上記式（Ｉ）で表される繰り返
し単位が、５モル％未満であると、耐熱性が低下し、４
５モル％を超えると、結晶化が発現して透明性を損なう
ので、上記範囲に限定される。

【００３４】上記芳香族ポリエーテルスルフィド共重合
体の還元粘度は、０．３０〜０．７５ｄｌ／ｇ（Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン中、３０℃、０．５ｇ／ｄｌ）で
ある。上記還元粘度が０．３０ｄｌ／ｇ未満であると、
成形時に脆性破壊を起こし、０．７５ｄｌ／ｇを超える
と、成形時の応力歪みが成形体に残存して複屈折等が発
生するので、上記範囲に限定される。

【００３５】上記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位
を形成するモノマーとしては特に限定されず、例えば、
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４−ヒ
ドロキシ−４′−フルオロジフェニルスルフィド、４−
ヒドロキシ−４′−クロロジフェニルスルフィド、４−
ヒドロキシ−４′−ブロモジフェニルスルフィド、４，
４′−ジクロロジフェニルスルフィド、４，４′−ジフ
ルオロフェニルスルフィド等が挙げられる。好ましく
は、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４
−ヒドロキシ−４′−クロロジフェニルスルフィド、
４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド等が挙げられ
る。

【００３６】本発明２では、上記モノマーのほか、上記
モノマーと共重合可能である上記（１）群モノマー、上
記（２）群モノマーを用いてもよい。上記（１）群モノ
マーの総添加量は、全モノマー量に対して５０モル％以
下が好ましい。５０モル％を超えると、屈折率が１．７
０未満に低下する。上記（２）群モノマーの総添加量
は、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を形成するモ
ノマーとの合計量が、全モノマー量に対して４５モル％
以下となる範囲が好ましい。４５モル％を超えると、結
晶化度が高まり透明性が低下する。

【００３７】上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を形
成するモノマー、上記式（ＩＩＩ）で表される繰り返し
単位を形成するモノマー、上記（１）群モノマー、及
び、上記（２）群モノマーに含まれるハロゲンの数は、
水酸基の数の０．９５〜１．０５倍が好ましい。この範
囲を逸脱すると重合反応が阻害され、上記芳香族ポリエ
ーテルスルフィド共重合体の還元粘度は、０．３ｄｌ／
ｇ未満になる。

【００３８】上記アルカリ金属塩としては、アルカリ金
属水酸化物を用いてもよい。上記アルカリ金属水酸化物
としては特に限定されず、例えば、水酸化カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化ルビジウム等が挙げられる。

【００３９】上記加熱重合での重合温度は、１２０〜３
５０℃が好ましい。１２０℃未満であると、反応が進ま
ないので還元粘度が０．３０ｄｌ／ｇ未満になり、３５
０℃を超えると、副反応によりポリマーが着色する。好
ましくは、１５０〜３２０℃である。

【００４０】

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。 実施例１ 攪拌機、ガス導入管、温度計及び先端に受器を付した凝
縮器を備えた反応容器に、２′，２′′−ジヒドロキシ
−ｍ−クォーターフェニル６８．０重量部、４，４′−
ジクロロジフェニルスルホン１４３．５重量部、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン７５．０重量
部、無水炭酸カリウム１５．２重量部、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン５００重量部、トルエン２００重量部を仕
込み、窒素置換を行った。次に窒素雰囲気下、攪拌及び
昇温を開始し、１７０℃にてトルエンを留出することに
より系中の水分を除去した。さらに温度を上昇させ２３
０℃にて重合反応を２時間実施した。得られた重合溶液
を冷却し、アセトン、メタノール混合溶媒中に注いでポ
リマーのみを析出させた。さらに水洗いすることにより
塩化カリウムを除去し、真空乾燥器にて１２０℃、２４
時間乾燥し白色のポリマー粉体を得た。

【００４１】このポリマー粉体の還元粘度は、ウベロー
デ粘度計を用いて、ジメチルホルムアミド中、１．０ｇ
／ｄｌの濃度で、３０℃において測定した。次にこのポ
リマー粉体をジメチルホルムアミド中に溶解し、キャス
ト法にてフィルムを作成し、以下のように、耐熱性、屈
折率及び透明性を測定し、結果を表１に示した。

【００４２】耐熱性は、ガラス転移温度により判断し
た。ガラス転移温度の測定は、セイコー電子社製ＤＳＣ
を用い、昇温速度２０℃／分の条件下、ペネトレーショ
ン法で行った。屈折率は、アッベ屈折計（アタゴ社製、
４Ｔ型）でジヨードメタンを接触液として測定した。透
明性は、ポリマー粉体をプレス成形にて０．５ｍｍの板
に成形し、全光線透過率が８０％以上のものを○、８０
％未満のものを不透明と判断した。

【００４３】表１中、Ａは２′，２′′−ジヒドロキシ
−ｍ−クォーターフェニルを、Ｂは４，４′−ジクロロ
ジフェニルスルホンを、Ｃは４，４′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを表す。〔１〕は、式（Ｉ）のモル分
率を表し、〔２〕は、式（ＩＩ）のモル分率を表す。

【００４４】実施例２及び３、比較例１及び２ ２′，２′′−ジヒドロキシ−ｍ−クォーターフェニ
ル、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン及び４，
４′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを表１に示した
量とした以外は、実施例１と同様にポリマー粉体を得、
フィルムを作成して測定し、結果を表１に示した。

【００４５】比較例３ ポリエーテルスルホン（ＩＣＩ社製、ＶＩＣＴＲＥＸ
ＰＥＳ）を上記ポリマー粉体の代わりに用いて、実施例
１と同様の方法にて評価し、結果を表１に示した。

【００４６】比較例４ ジエチレングリコールビスアリルカーボネート１００重
量部、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート３重量
部を加え、５０×５０×１０５ｍｍの型の中に流し込
み、窒素雰囲気下４０℃のオーブン中に２４時間保持し
た。その後、８０℃で４時間、さらに１２０℃で２時間
保持し、硬化を完了させた。評価は実施例１と同様の方
法にて行い、結果を表１に示した。

【００４７】実施例４ 攪拌機、ガス導入管、温度計及びデーンシュターク管を
付した凝縮器を備えた反応器に、４，４′−ジビドロキ
シ−３，３′−ジフェニルビフェニル８１．２０重量部
（４０モル％、以下全モノマーの中に占める該モノマー
のモル分率）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスル
フィド１３．０９重量部（１０モル％）、４，４′−ジ
クロロジフェニルスルフィド７６．５６重量部（５０モ
ル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を仕込み窒素
置換を行った。次に窒素雰囲気下でＮ−メチル−２−ピ
ロリドン（以下「ＮＭＰ」という）５００重量部、トル
エン２００重量部を仕込み、攪拌しながら昇温を開始し
た。１８０℃に達したところで昇温を停止して、その状
態で５時間、トルエンと水を共沸させて還流脱水を行っ
た。次に１９０℃に昇温し、そのまま５時間重合反応を
行った。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、ＮＭＰ
を２０００重量部注ぎ、次に大量のメタノール−アセト
ン混合溶媒中に溶液を注ぎ、ホモジナイザーで攪拌しな
がら析出させた。そして、メタノール、水と順次洗浄す
ることにより溶媒と塩化カリウムを除去した。

【００４８】この得られたポリマーの還元粘度は、０．
４０ｄｌ／ｇ（３０℃、ＮＭＰ中０．５ｇ／ｄｌ）であ
った。次にこのポリマーを１軸型押出機でペレット化し
た。更に射出成形機で温度３００℃の条件にて０．５×
５０×１０５ｍｍの平板を作成した。同試験片を用いて
還元粘度、透明性、屈折率（ｎ）の試験を行った。還元
粘度は、ＮＭＰ中、３０℃において０．５ｇ／ｄｌの濃
度で測定した。０．３ｄｌ／ｇ以上になると脆性破壊を
起こさずに成形できる。透明性は、全光線透過率が７５
％以上のものを○、７５％未満のものを不透明とした。
屈折率は、溝尻光学社製ＤＶＡ−３６Ｌ型自動エリプソ
メータを用い、波長６３２．８ｎｍで測定した。結果を
表３に示した。

【００４９】実施例５ モノマーとして４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジ
フェニルビフェニル４０．６０重量部（２０モル％）、
４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド３９．２
９重量部（３０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニ
ルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、無水炭
酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４
と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を
表３に示した。

【００５０】実施例６ モノマーとして４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジ
フェニルビフェニル２０．３０重量部（１０モル％）、
４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド５２．３
８重量部（４０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニ
ルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、無水炭
酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４
と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を
表３に示した。

【００５１】実施例７ モノマーとして４，４′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホン１５．０２重量部（１０モル％）、４，４′−ジク
ロロジフェニルスルホン１５．０２重量部（１０モル
％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニル
ビフェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，４′
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド２６．１８重量部
（２０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルフ
ィド６１．２５重量部（４０モル％）、無水炭酸カリウ
ム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同様に
して重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３に示
した。

【００５２】実施例８ モノマーとして４，４′−イソプロピリデンビスフェノ
ール（ビスフェノールＡ）１３．７０重量部（１０モル
％）、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン１５．０
２重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシ−
３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（２
０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフ
ィド２６．１８重量部（２０モル％）、４，４′−ジク
ロロジフェニルスルフィド６１．２５重量部（４０モル
％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以
外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行
った。結果を表３に示した。

【００５３】実施例９ モノマーとして４−クロロ−４′−（ｐ−ヒドロキシフ
ェニル）ジフェニルスルホン４１．３８重量部（２０モ
ル％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニ
ルビフェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド２６．１８重
量部（２０モル％）、４，４′−ジクロロジフェニルス
ルフィド６１．２５重量部（４０モル％）、無水炭酸カ
リウム４５．６重量部を用いたこと以外は実施例４と同
様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。結果を表３
に示した。

【００５４】実施例１０ モノマーとして４，４′−ジヒドロキシビフェニル２
２．２４重量部（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキ
シ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６０重量部
（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルス
ルフィド１３．０９重量部（１０モル％）、４，４′−
ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重量部（５０
モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこ
と以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価
を行った。結果を表３に示した。

【００５５】実施例１１ モノマーとして４，４′′′−ジヒドロキシ−１，
１′：４′，１′′：４′′，１′′′−クォーターフ
ェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，４′−ジ
ヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６
０重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフ
ェニルスルフィド１３．０９重量部（１０モル％）、
４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重
量部（５０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部
を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、
成形、評価を行った。結果を表３に示した。

【００５６】実施例１２ モノマーとして４，４′′′−ジヒドロキシ−１，
１′：３′，１′′：３′′，１′′′−クォーターフ
ェニル４０．６０重量部（２０モル％）、４，４′−ジ
ヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェニル４０．６
０重量部（１０モル％）、４，４′−ジヒドロキシジフ
ェニルスルフィド１３．０９重量部（１０モル％）、
４，４′−ジクロロジフェニルスルフィド７６．５６重
量部（５０モル％）、無水炭酸カリウム４５．６重量部
を用いたこと以外は実施例４と同様にして重合、洗浄、
成形、評価を行った。結果を表３に示した。

【００５７】実施例１３ モノマーとして４，４′′−ジヒドロキシ−１，１′：
４′，１′′−クォーターフェニル３１．４８重量部
（２０モル％）、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−
ジフェニルビフェニル４０．６０重量部（１０モル
％）、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド１
３．０９重量部（１０モル％）、４，４′−ジクロロジ
フェニルスルフィド７６．５６重量部（５０モル％）、
無水炭酸カリウム４５．６重量部を用いたこと以外は実
施例４と同様にして重合、洗浄、成形、評価を行った。
結果を表３に示した。

【００５８】比較例５ 帝人化成社製のポリカーボネート樹脂パンライトを実施
例４と同様に成形し、物性測定を行った。結果を表３に
示した。 比較例６及び７ ４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジフェニルビフェ
ニル、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
４，４′−ジクロロジフェニルスルフィドを表２に示し
たモル分率にしたこと以外は、実施例４と同様にして重
合、評価を行った。結果を表３に示した。

【００５９】表２中、Ｄは、４，４′−ジヒドロキシ−
３，３′−ジフェニルビフェニルを表し、Ｅは、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン（（１）群モノ
マー）を表し、Ｆは、４，４′−イソプロピリデンビス
フェノール（（１）群モノマー）を表し、Ｇは、４，
４′−ジクロロジフェニルスルホン（（１）群モノマ
ー）を表し、Ｈは、４−クロロ−４′−（ｐ−ヒドロキ
シフェニル）ジフェニルスルホン（（１）群モノマー）
を表し、Ｉは、４，４′−ジヒドロキシビフェニル
（（２）群モノマー）を表し、Ｊは、４，４′′′−ジ
ヒドロキシ−１，１′：４′，１′′：４′′，
１′′′−クォーターフェニル（（２）群モノマー）を
表し、Ｋは、４，４′′′−ジヒドロキシ−１，１′：
３′，１′′：３′′，１′′′−クォーターフェニル
（（２）群モノマー）を表し、Ｌは、４，４′′−ジヒ
ドロキシ−１，１′：４′，１′′−ターフェニル
（（２）群モノマー）を表し、Ｍは、ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）スルフィドを表し、Ｎは、４，４′−
ジクロロジフェニルスルフィドを表す。〔３〕は、式
（Ｉ）のモル分率を表し、〔４〕は、式（ＩＩＩ）のモ
ル分率を表し、〔５〕は、（１）群モノマーモノマー由
来のエーテル構造のモル分率を表し、〔６〕は、（２）
群モノマーモノマー由来のエーテル構造のモル分率及び
式（Ｉ）のモル分率を表す。

【００６０】

【表１】

【００６１】

【表２】

【００６２】

【表３】

【００６３】

【発明の効果】本発明の光学材料は、上述の構成からな
る芳香族ポリエーテルスルホン共重合体を使用するの
で、１．７０以上の高屈折率を有し、着色が少なく透明
性、耐熱性等に優れており、光学レンズ、位相差補償
板、光学多層膜等の各種光学材料に好適に利用できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 是本 敏宏 茨城県つくば市和台32 積水化学工業株式 会社内 (72)発明者 永井 康彦 大阪府三島郡島本町百山２−１ 積水化学 工業株式会社内 (72)発明者 深井 知裕 滋賀県甲賀郡水口町泉1259 積水化学工業 株式会社内 (72)発明者 斉藤 寅之助 大阪府茨木市山手台５丁目17番21号 (72)発明者 角町 博記 大阪府茨木市南春日丘１丁目11番３号

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次の式（Ｉ）で表される繰り返し単位１
   ０〜４０モル％及び次の式（ＩＩ）で表される繰り返し
   単位６０〜９０モル％からなり、還元粘度が０．３５〜
   ０．７ｄｌ／ｇ（３０℃、ジメチルホルムアミド中、濃
   度１ｇ／ｄｌ）である芳香族ポリエーテルスルホン共重
   合体からなることを特徴とする光学材料。 【化１】
2. 【請求項２】 次の式（Ｉ）で表される繰り返し単位５
   〜４５モル％及び次の式（ＩＩＩ）で表される繰り返し
   単位９５〜５５モル％からなり、還元粘度が０．３０〜
   ０．７５ｄｌ／ｇ（３０℃、Ｎ−メチル−２−ピロリド
   ン中、濃度０．５ｇ／ｄｌ）である芳香族ポリエーテル
   スルフィド共重合体からなることを特徴とする光学材
   料。 【化２】