JPH08362Y2 - 真空蒸着用マニピュレータ - Google Patents
真空蒸着用マニピュレータInfo
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- JPH08362Y2 JPH08362Y2 JP9065590U JP9065590U JPH08362Y2 JP H08362 Y2 JPH08362 Y2 JP H08362Y2 JP 9065590 U JP9065590 U JP 9065590U JP 9065590 U JP9065590 U JP 9065590U JP H08362 Y2 JPH08362 Y2 JP H08362Y2
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- substrate
- vapor deposition
- vacuum
- manipulator
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は真空槽に取付けられ、該真空槽内の蒸着源に
より基板に成膜材料の蒸着を行わせるための真空蒸着用
マニピュレータに関する。
より基板に成膜材料の蒸着を行わせるための真空蒸着用
マニピュレータに関する。
液晶配向基板用SiO回転重み付け斜蒸着膜の作製時に
は、まず最初に電極付基板の絶縁性を向上させる目的
で、基板に対する入射角を０〜20°に設定して基板を等
速回転させながら均一なSiO蒸着膜を形成させる。次
に、基板に対する入射角を75〜85°に設定して基板回転
速度に重み付けを行いながらカラム構造のSiO蒸着膜を
形成させる。（参考文献:K.Hiroshima,“Controlled Hi
gh−Tilt−Angle Nematic Alignment Compatible with
Glass Frit Sealing",Japanese J. Appl. Phys.,21,L76
1（1982）） また、非線形光学材料の蒸着薄膜作製時には、非線形
光学材料を配向させる必要がある。このような場合、蒸
着膜の配向を促進するための下地処理としてあらかじめ
SiOの回転重み付け斜蒸着を行い、その上に非線形光学
材料を多層に蒸着する方法が行われている。これらの蒸
着作業では、基板の空気中での汚染を避けるため全て真
空中で行えることが望ましい。このため、使用するマニ
ピュレータとして蒸着源に対する基板角度を真空槽外か
ら任意に設定でき、かつ、基板を連続的に回転させなが
ら成膜することが可能なものが必要である。また、複数
の蒸着源に基板方向をあわせることができることが必要
である。
は、まず最初に電極付基板の絶縁性を向上させる目的
で、基板に対する入射角を０〜20°に設定して基板を等
速回転させながら均一なSiO蒸着膜を形成させる。次
に、基板に対する入射角を75〜85°に設定して基板回転
速度に重み付けを行いながらカラム構造のSiO蒸着膜を
形成させる。（参考文献:K.Hiroshima,“Controlled Hi
gh−Tilt−Angle Nematic Alignment Compatible with
Glass Frit Sealing",Japanese J. Appl. Phys.,21,L76
1（1982）） また、非線形光学材料の蒸着薄膜作製時には、非線形
光学材料を配向させる必要がある。このような場合、蒸
着膜の配向を促進するための下地処理としてあらかじめ
SiOの回転重み付け斜蒸着を行い、その上に非線形光学
材料を多層に蒸着する方法が行われている。これらの蒸
着作業では、基板の空気中での汚染を避けるため全て真
空中で行えることが望ましい。このため、使用するマニ
ピュレータとして蒸着源に対する基板角度を真空槽外か
ら任意に設定でき、かつ、基板を連続的に回転させなが
ら成膜することが可能なものが必要である。また、複数
の蒸着源に基板方向をあわせることができることが必要
である。
従来、基板を回転させながら真空蒸着するためのマニ
ピュレータとしては、上下、左右の基板移動、および基
板面内の回転運動の機能を有するチャンバ上置型のもの
が一般に使用されていた。このようなマニピュレータで
蒸着源に対する基板角度（以下蒸着角度と称する。）を
変化させようとする場合、例えば、基板表面のRHEEDに
よる構造解析用として作製された、チルト角を変化させ
るための機構を増設する等の方法がとられていた。
ピュレータとしては、上下、左右の基板移動、および基
板面内の回転運動の機能を有するチャンバ上置型のもの
が一般に使用されていた。このようなマニピュレータで
蒸着源に対する基板角度（以下蒸着角度と称する。）を
変化させようとする場合、例えば、基板表面のRHEEDに
よる構造解析用として作製された、チルト角を変化させ
るための機構を増設する等の方法がとられていた。
上述した従来の真空蒸着用マニピュレータは、蒸着角
度を変化させようとする場合、基板表面の構造解析用の
チルト角を変化させるための機構を設ける方法は、構造
上チルト角変化は数度の範囲に限られ、大きなチルト角
が得られず、さらに、基板を連続的に回転させるために
は外付けモータ等により回転運動をチャンバ内に導入す
る必要があり、機構が複雑になる、高真空状態を保ちに
くい等の欠点があり、また、チャンバ側面からマニピュ
レータを装着した場合には大きなチルト角が得られる
が、基板回転機構を増設すると構造が複雑になる、複数
の蒸着源に対する基板角度の設定が困難になる等の欠点
があり、かつ基板上下の移動距離が小さくなるため、膜
の成長水準での基板受渡しや基板搬送が行いにくいとい
う欠点があった。
度を変化させようとする場合、基板表面の構造解析用の
チルト角を変化させるための機構を設ける方法は、構造
上チルト角変化は数度の範囲に限られ、大きなチルト角
が得られず、さらに、基板を連続的に回転させるために
は外付けモータ等により回転運動をチャンバ内に導入す
る必要があり、機構が複雑になる、高真空状態を保ちに
くい等の欠点があり、また、チャンバ側面からマニピュ
レータを装着した場合には大きなチルト角が得られる
が、基板回転機構を増設すると構造が複雑になる、複数
の蒸着源に対する基板角度の設定が困難になる等の欠点
があり、かつ基板上下の移動距離が小さくなるため、膜
の成長水準での基板受渡しや基板搬送が行いにくいとい
う欠点があった。
本考案の目的は、蒸着角度の変化が大きく、機構が複
雑とならず、高真空状態を保ちやすく、複数の蒸着源に
対する基板角度設定が容易で、かつ、上下の移動距離が
大きく、膜の成長後の基板受渡しや基板搬送が行いやす
い、真空蒸着用マニピュレータを提供することである。
雑とならず、高真空状態を保ちやすく、複数の蒸着源に
対する基板角度設定が容易で、かつ、上下の移動距離が
大きく、膜の成長後の基板受渡しや基板搬送が行いやす
い、真空蒸着用マニピュレータを提供することである。
本考案の真空蒸着用マニピュレータは、 基板が搭載された基板ホルダを、該基板ホルダに垂直
な直線のまわりに回転させるステッピングモータと、 前記ステッピングモータの回転軸上の基板ホルダ取付
点またはその近傍の点を中心として、前記ステッピング
モータの回転軸を前記基板ホルダに垂直な平面内に回転
させ、前記基板の蒸着源に対する角度を設定する基板角
度設定機構とを有する。
な直線のまわりに回転させるステッピングモータと、 前記ステッピングモータの回転軸上の基板ホルダ取付
点またはその近傍の点を中心として、前記ステッピング
モータの回転軸を前記基板ホルダに垂直な平面内に回転
させ、前記基板の蒸着源に対する角度を設定する基板角
度設定機構とを有する。
基板が搭載された基板ホルダがステッピングモータに
よって回転され、前記ステッッピングモータの回転軸が
基板ホルダに垂直な平面内に回転されるので、蒸着角度
の変化が大きく、機構が複雑とならず、外部からの操作
で蒸着角度の設定ができて高真空状態を保ちやすく、か
つ基板の上下移動距離を大きくすることができる。
よって回転され、前記ステッッピングモータの回転軸が
基板ホルダに垂直な平面内に回転されるので、蒸着角度
の変化が大きく、機構が複雑とならず、外部からの操作
で蒸着角度の設定ができて高真空状態を保ちやすく、か
つ基板の上下移動距離を大きくすることができる。
次に、本考案の実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本考案に真空蒸着用マニピュレータの一実施
例の要部断面正面図、第２図は第１図の一部の側面図、
第３図は第１図の真空蒸着用マニピュレータのを備えた
真空装置の縦断面図、第４図（ａ）は第１図の基板ホル
ダ２の正面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の基板ホルダ２
の側面図、第５図は基板ホルダ２の回転角度と回転速度
の関係を示すグラフである。
例の要部断面正面図、第２図は第１図の一部の側面図、
第３図は第１図の真空蒸着用マニピュレータのを備えた
真空装置の縦断面図、第４図（ａ）は第１図の基板ホル
ダ２の正面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の基板ホルダ２
の側面図、第５図は基板ホルダ２の回転角度と回転速度
の関係を示すグラフである。
この真空蒸着用マニピュレータは、フランジ１と基板
ホルダ２と傘歯車4,5,6,7,8,9と歯車軸10,11,12,13とス
テッピングモータ14とツメ15と回転導入機構16と金具17
とマグネット18,19とモータ取付板20とから構成されて
いる。
ホルダ２と傘歯車4,5,6,7,8,9と歯車軸10,11,12,13とス
テッピングモータ14とツメ15と回転導入機構16と金具17
とマグネット18,19とモータ取付板20とから構成されて
いる。
フランジ１の穴を貫通して設けられている回転導入機
構16には金具17が固定されている。回転導入機構16内に
は歯車軸10があり、歯車軸10はマグネット19により回転
される。歯車軸10の回転は、金具17に支持されている歯
車軸11,12,13と歯車軸11,12,13に取付けられている傘歯
車4,5,…,9の作用によって歯車軸13に伝達される。歯車
軸13にはモータ取付板20が固定されており、モータ取付
板20に取付けられたステッピングモータ14は歯車軸13を
軸心として第２図の矢印方向に回転される。ここでステ
ッピングモータ14は助川電気製VM型または山洋電気製ST
EP−SYN型等の超高真空対応のものが使用される。モー
タ取付板20はツメ15により同図に示されるように90°の
範囲内で回転するようになっている。ステッピングモー
タ14のモータ軸には基板ホルダ２が取付けられており、
基板ホルダ２には成膜用基板３が保持される。したがっ
て歯車軸10が回転すると基板ホルダ２および基板３も90
°の範囲で歯車軸13を軸心として回転する。また、基板
ホルダ２および基板３は外部からの操作によってステッ
ピングモータ14が回転するとモータ軸を軸心として回転
する。以上に説明した部分が請求項１の基板角度設定機
構にステッピングモータを含んで対応している。一方、
回転導入機構16はマグネット18によって回転され、回転
導入機構16の回転は金具17を回転導入機構16の軸心廻り
に回転させるのでステッピングモータ14と基板ホルダ２
を含む可動部分も回転される。
構16には金具17が固定されている。回転導入機構16内に
は歯車軸10があり、歯車軸10はマグネット19により回転
される。歯車軸10の回転は、金具17に支持されている歯
車軸11,12,13と歯車軸11,12,13に取付けられている傘歯
車4,5,…,9の作用によって歯車軸13に伝達される。歯車
軸13にはモータ取付板20が固定されており、モータ取付
板20に取付けられたステッピングモータ14は歯車軸13を
軸心として第２図の矢印方向に回転される。ここでステ
ッピングモータ14は助川電気製VM型または山洋電気製ST
EP−SYN型等の超高真空対応のものが使用される。モー
タ取付板20はツメ15により同図に示されるように90°の
範囲内で回転するようになっている。ステッピングモー
タ14のモータ軸には基板ホルダ２が取付けられており、
基板ホルダ２には成膜用基板３が保持される。したがっ
て歯車軸10が回転すると基板ホルダ２および基板３も90
°の範囲で歯車軸13を軸心として回転する。また、基板
ホルダ２および基板３は外部からの操作によってステッ
ピングモータ14が回転するとモータ軸を軸心として回転
する。以上に説明した部分が請求項１の基板角度設定機
構にステッピングモータを含んで対応している。一方、
回転導入機構16はマグネット18によって回転され、回転
導入機構16の回転は金具17を回転導入機構16の軸心廻り
に回転させるのでステッピングモータ14と基板ホルダ２
を含む可動部分も回転される。
この真空蒸着用マニピュレータは、第１図に示されて
いないが、基板ホルダ２を上下に移動させる機構を付加
するとが比較的容易にできる。
いないが、基板ホルダ２を上下に移動させる機構を付加
するとが比較的容易にできる。
次に、この真空蒸着用マニピュレータを使用して基板
に成膜材料の蒸着を行う場合の操作を説明する。
に成膜材料の蒸着を行う場合の操作を説明する。
まず、成膜用基板３を基板ホルダに保持させたのち、
基板ホルダ２の回転をステッピングモータ14に外部より
パルス信号を与えることにより行う。また、蒸着角度の
設定は、マグネット19を回転させるとこにより歯車軸10
を回転させ、傘歯車5,6,7,8,9の順に回転運動を伝達す
ることで行う。この場合、マグネット19の回転にともな
いステッピングモータ14は第２図に示したような回転を
するため、蒸着角度を０〜90°の間で容易に設定するこ
とができる。
基板ホルダ２の回転をステッピングモータ14に外部より
パルス信号を与えることにより行う。また、蒸着角度の
設定は、マグネット19を回転させるとこにより歯車軸10
を回転させ、傘歯車5,6,7,8,9の順に回転運動を伝達す
ることで行う。この場合、マグネット19の回転にともな
いステッピングモータ14は第２図に示したような回転を
するため、蒸着角度を０〜90°の間で容易に設定するこ
とができる。
第３図は複数の蒸着源をもつ真空装置に真空蒸着マニ
ピュレータが取付けられた例を示しており、ｋ−セル2
2,23が真空槽21内に装着されている。ｋ−セル22と23の
それぞれに対して基板の向きを設定するには、真空蒸着
用マニピュレータ24のマグネット18を回転させて回転導
入機構16を回転させることにより基板ホルダ２をＫ−セ
ル22または23の方向に向ける。
ピュレータが取付けられた例を示しており、ｋ−セル2
2,23が真空槽21内に装着されている。ｋ−セル22と23の
それぞれに対して基板の向きを設定するには、真空蒸着
用マニピュレータ24のマグネット18を回転させて回転導
入機構16を回転させることにより基板ホルダ２をＫ−セ
ル22または23の方向に向ける。
次に、本実施例の真空蒸着用マニピュレータによる効
果の具体例を説明する。
果の具体例を説明する。
具体例１ 第３図の真空装置において次のような蒸着操作を行っ
た。
た。
蒸着操作1:基板ホルダ２上にITO電極付のガラス基板
を固定し、ｋ−セル22に対する成膜用基板の入射角度が
０°となるようにマグネット19を回転して角度を設定し
た。また、ステッピングモータ14に加えるパルスを調節
して、基板が毎分20回転で等速回転するように設定し
た。真空槽21内の真空度を10-6torr以下に保って、あら
かじめｋ−セル22中に装填してあった粒状のSiOを加熱
して昇華させ基板上に蒸着した。膜厚が500Åになった
ところで一旦蒸着を中止した。
を固定し、ｋ−セル22に対する成膜用基板の入射角度が
０°となるようにマグネット19を回転して角度を設定し
た。また、ステッピングモータ14に加えるパルスを調節
して、基板が毎分20回転で等速回転するように設定し
た。真空槽21内の真空度を10-6torr以下に保って、あら
かじめｋ−セル22中に装填してあった粒状のSiOを加熱
して昇華させ基板上に蒸着した。膜厚が500Åになった
ところで一旦蒸着を中止した。
蒸着操作2:蒸着操作１に引き続き、マグネット19を回
転して入射角度を80°に設定した。また、ステッピング
モータ14に加えるパルスを調節して、基板が毎分20回転
で、かつ、第４図（ａ）に示す基板ホルダ２のＸ点が、
ｋ−セル方向を０°とした場合に第５図に示すような回
転運動をするようにパルスの加え方を設定した。真空槽
21内の真空度を10-6torr以下に保って、SiOを加熱して
昇華させ、基板上にカラム構造を有する回転重み付け斜
蒸着膜を500Å堆積した。
転して入射角度を80°に設定した。また、ステッピング
モータ14に加えるパルスを調節して、基板が毎分20回転
で、かつ、第４図（ａ）に示す基板ホルダ２のＸ点が、
ｋ−セル方向を０°とした場合に第５図に示すような回
転運動をするようにパルスの加え方を設定した。真空槽
21内の真空度を10-6torr以下に保って、SiOを加熱して
昇華させ、基板上にカラム構造を有する回転重み付け斜
蒸着膜を500Å堆積した。
以上の操作を行ったITO電極付ガラス基板２枚を、蒸
着方向が同じ向きでギャップが２μｍの液晶セルになる
ように張り合わせ、メルク社の強誘電性液晶組成物ZLI
−4000を注入して、２枚の電極間の抵抗値、メモリー性
の有無、コントラスト（明状態と暗状態の光透過率の
比）を測定した。結果を、蒸着操作１がない試料（比較
例１）、および蒸着操作１と蒸着操作２の間の蒸着角度
の設定変更を大気中で行った試料（比較例２）とともに
表１に示す。
着方向が同じ向きでギャップが２μｍの液晶セルになる
ように張り合わせ、メルク社の強誘電性液晶組成物ZLI
−4000を注入して、２枚の電極間の抵抗値、メモリー性
の有無、コントラスト（明状態と暗状態の光透過率の
比）を測定した。結果を、蒸着操作１がない試料（比較
例１）、および蒸着操作１と蒸着操作２の間の蒸着角度
の設定変更を大気中で行った試料（比較例２）とともに
表１に示す。
表１において具体例は２枚の電極間の抵抗値は「1MΩ
以上」、メモリー性の有無は「有」およびコントラスト
は「50」であり、いずれも結果が良好であることを示し
ている。
以上」、メモリー性の有無は「有」およびコントラスト
は「50」であり、いずれも結果が良好であることを示し
ている。
表１で比較例１の液晶セルの抵抗値が小さいのは、蒸
着操作２の蒸着膜がカラム構造となっているため液晶組
成物が直接ITO電極と接しているためである。したがっ
て蒸着操作２の前に蒸着操作１を行う必要があることが
わかるが、そのさい比較例２のように、蒸着角度の設定
を大気中で行うと、付着した導電性塵埃のため液晶セル
の抵抗値が小さくなるものと考えられる。本実施例のマ
ニピュレータを使用した場合は蒸着操作１と２を引続き
高真空中で行うことができるので大気による基板の汚染
がなく、良好な結果が得られる。
着操作２の蒸着膜がカラム構造となっているため液晶組
成物が直接ITO電極と接しているためである。したがっ
て蒸着操作２の前に蒸着操作１を行う必要があることが
わかるが、そのさい比較例２のように、蒸着角度の設定
を大気中で行うと、付着した導電性塵埃のため液晶セル
の抵抗値が小さくなるものと考えられる。本実施例のマ
ニピュレータを使用した場合は蒸着操作１と２を引続き
高真空中で行うことができるので大気による基板の汚染
がなく、良好な結果が得られる。
具体例２ 具体例１と同じ真空装置において次のような蒸着操作
を行った。
を行った。
蒸着操作1:基板ホルダ２上に石英ガラス基板を固定
し、ｋ−セル22に対する蒸着基板の角度が80°となるよ
うにマグネット19を回転させて角度を設定した。また、
ステッピングモータ14に加えるパルスを調節して、基板
が毎分20回転で、かつ、第４図（ａ）に示す基板ホルダ
２のＸ点が、ｋ−セル方向を０°として場合に第５図に
示すような回転運動をするようにパルスの加え方を設定
した。真空容器21内の真空度を10-6torr以下に保って、
SiOを加熱して昇華させ、基板上にカラム構造を有する
回転重み付け斜蒸着膜を500Å堆積し、一旦蒸着を中止
した。
し、ｋ−セル22に対する蒸着基板の角度が80°となるよ
うにマグネット19を回転させて角度を設定した。また、
ステッピングモータ14に加えるパルスを調節して、基板
が毎分20回転で、かつ、第４図（ａ）に示す基板ホルダ
２のＸ点が、ｋ−セル方向を０°として場合に第５図に
示すような回転運動をするようにパルスの加え方を設定
した。真空容器21内の真空度を10-6torr以下に保って、
SiOを加熱して昇華させ、基板上にカラム構造を有する
回転重み付け斜蒸着膜を500Å堆積し、一旦蒸着を中止
した。
蒸着操作2:蒸着操作１に引き続き、ｋ−セル23に対す
る蒸着基板の角度が20°となるようにマグネット18,19
を回転させて角度を設定した。また、ステッピングモー
タ14に加えるパルスを調節して、基板が毎分20回転で回
転運動をするようにパルスの加え方を設定した。真空槽
21内の真空度を10-6torr以下に保って、あらかじめｋ−
セル23に装填してあったNKV−202（関東化学社製）を30
00Å堆積した。
る蒸着基板の角度が20°となるようにマグネット18,19
を回転させて角度を設定した。また、ステッピングモー
タ14に加えるパルスを調節して、基板が毎分20回転で回
転運動をするようにパルスの加え方を設定した。真空槽
21内の真空度を10-6torr以下に保って、あらかじめｋ−
セル23に装填してあったNKV−202（関東化学社製）を30
00Å堆積した。
以上の操作を行った蒸着膜の２次非線形光学定数、偏
光度を測定した。結果を、蒸着操作１がない試料（比較
例３）、および蒸着操作１と蒸着操作２の間の蒸着角度
の設定変更を大気中で行った試料（比較例４）とともに
表２に示す。
光度を測定した。結果を、蒸着操作１がない試料（比較
例３）、および蒸着操作１と蒸着操作２の間の蒸着角度
の設定変更を大気中で行った試料（比較例４）とともに
表２に示す。
表２において具体例２は２次非線形光学定数（SHG）が
「２×10-9e.s.u.」および偏光度が「0.85」でともに良
好な結果を示している。比較例３で結果が良くないこと
は蒸着操作１による非線形光学材料の基板下地処理の必
要性を示しているが、蒸着操作１と非線形光学材料の蒸
着操作２を行った場合でも、両者の間に蒸着角度の設定
変更を大気で行った場合は比較例４が示すように２次非
線形光学定数、偏光度ともに充分な結果が得られない。
本実施例のマニピュレータによれば蒸着操作１と２を引
続き高真空中で行えるので表２に見るように特性の向上
が計れる。
「２×10-9e.s.u.」および偏光度が「0.85」でともに良
好な結果を示している。比較例３で結果が良くないこと
は蒸着操作１による非線形光学材料の基板下地処理の必
要性を示しているが、蒸着操作１と非線形光学材料の蒸
着操作２を行った場合でも、両者の間に蒸着角度の設定
変更を大気で行った場合は比較例４が示すように２次非
線形光学定数、偏光度ともに充分な結果が得られない。
本実施例のマニピュレータによれば蒸着操作１と２を引
続き高真空中で行えるので表２に見るように特性の向上
が計れる。
以上説明したように本考案は、基板ホルダをステッピ
ングモータにより回転させ、かつ前記ステッピングモー
タの回転軸を基板ホルダに垂直な平面内に回転させるこ
とにより、蒸着角度の変化が大きく、機構を複雑とせ
ず、かつ高真空状態を保ちながら蒸着角度の設定および
変更ができるので特性の良好な成膜基板が得られ、さら
に複数の蒸着源に対する基板角度の設定や成膜後の基板
受渡し、搬送も容易に実施できるという効果がある。
ングモータにより回転させ、かつ前記ステッピングモー
タの回転軸を基板ホルダに垂直な平面内に回転させるこ
とにより、蒸着角度の変化が大きく、機構を複雑とせ
ず、かつ高真空状態を保ちながら蒸着角度の設定および
変更ができるので特性の良好な成膜基板が得られ、さら
に複数の蒸着源に対する基板角度の設定や成膜後の基板
受渡し、搬送も容易に実施できるという効果がある。
第１図は本考案の真空蒸着用マニピュレータの一実施例
の要部断面正面図、第２図は第１図の一部の側面図、第
３図は第１図の真空蒸着用マニピュレータを備えた真空
装置の縦断面図、第４図（ａ）は第１図の基板ホルダ２
の正面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の基板ホルダ２の側
面図、第５図は基板ホルダ２の回転角度と回転速度の関
係を示すグラフである。 １……フランジ、２……基板ホルダ、３……基板、4,5,
6,7,8,9……傘歯車、10,11,12,13……歯車軸、14……ス
テッピングモータ、15……ツメ、16……回転導入機構、
17……金具、18,19……マグネット、20……モータ取付
板、21……真空槽、22,23……ｋ−セル、24……真空蒸
着用マニピュレータ。
の要部断面正面図、第２図は第１図の一部の側面図、第
３図は第１図の真空蒸着用マニピュレータを備えた真空
装置の縦断面図、第４図（ａ）は第１図の基板ホルダ２
の正面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の基板ホルダ２の側
面図、第５図は基板ホルダ２の回転角度と回転速度の関
係を示すグラフである。 １……フランジ、２……基板ホルダ、３……基板、4,5,
6,7,8,9……傘歯車、10,11,12,13……歯車軸、14……ス
テッピングモータ、15……ツメ、16……回転導入機構、
17……金具、18,19……マグネット、20……モータ取付
板、21……真空槽、22,23……ｋ−セル、24……真空蒸
着用マニピュレータ。
Claims (2)
- 【請求項１】真空槽に取付けられ、該真空槽内の蒸着源
により基板に成膜材料の蒸着を行わせるための真空蒸着
用マニピュレータにおいて、 前記基板が搭載された基板ホルダを、該基板ホルダに垂
直な直線のまわりに回転させるステッピングモータと、 前記ステッピングモータの回転軸上の基板ホルダ取付点
またはその近傍の点を中心として、前記ステッピングモ
ータの回転軸を前記基板ホルダに垂直な平面内に回転さ
せ、前記基板の蒸着源に対する角度を設定する基板角度
設定機構とを有することを特徴とする真空蒸着用マニピ
ュレータ。 - 【請求項２】ステッピングモータの回転軸が回転される
平面を変える機構を有する請求項１記載の真空蒸着用マ
ニピュレータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9065590U JPH08362Y2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 真空蒸着用マニピュレータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9065590U JPH08362Y2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 真空蒸着用マニピュレータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448261U JPH0448261U (ja) | 1992-04-23 |
| JPH08362Y2 true JPH08362Y2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=31825591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9065590U Expired - Lifetime JPH08362Y2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 真空蒸着用マニピュレータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08362Y2 (ja) |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP9065590U patent/JPH08362Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0448261U (ja) | 1992-04-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |