JPH089656B2 - 紫外線硬化性シリコ−ン組成物 - Google Patents
紫外線硬化性シリコ−ン組成物Info
- Publication number
- JPH089656B2 JPH089656B2 JP26354086A JP26354086A JPH089656B2 JP H089656 B2 JPH089656 B2 JP H089656B2 JP 26354086 A JP26354086 A JP 26354086A JP 26354086 A JP26354086 A JP 26354086A JP H089656 B2 JPH089656 B2 JP H089656B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- parts
- weight
- composition according
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 46
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 16
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 28
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 claims 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 6
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 4
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006713 insertion reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940105324 1,2-naphthoquinone Drugs 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanol Chemical compound OCCCl SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- WLVPRARCUSRDNI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-phenyl-1-propanone Chemical compound CC(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WLVPRARCUSRDNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004861 4-isopropyl phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 239000004965 Silica aerogel Substances 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODFJOVXVLFUVNQ-UHFFFAOYSA-N acetarsol Chemical group CC(=O)NC1=CC([As](O)(O)=O)=CC=C1O ODFJOVXVLFUVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NYMPGSQKHIOWIO-UHFFFAOYSA-N hydroxy(diphenyl)silicon Chemical group C=1C=CC=CC=1[Si](O)C1=CC=CC=C1 NYMPGSQKHIOWIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002165 photosensitisation Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000008247 solid mixture Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- ABADVTXFGWCNBV-UHFFFAOYSA-N trichloro-(4-chlorophenyl)silane Chemical compound ClC1=CC=C([Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 ABADVTXFGWCNBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、紫外線硬化性シリコーン組成物に関し、さ
らに詳しくは酸素存在下においても良好な硬化性を示す
紫外線硬化性シリコーン組成物に関する。
らに詳しくは酸素存在下においても良好な硬化性を示す
紫外線硬化性シリコーン組成物に関する。
シリコーンを紫外線で硬化させる組成物および方法
は、先行技術に記載されている。例えば、米国特許第3,
726,710号は、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンに
各種の増感剤を添加し、高強度紫外線照射を用いる硬化
方法を示している。しかしながらこの方法によると、硬
化が表面にのみとどまり、内部まで均一に硬化しないと
いう欠点があった。また、米国特許第3,816,282号は、
メルカプト基含有ポリオルガノシロキサン、ポリメチル
ビニルシロキサンおよび各種の有機過酸化物で付加架橋
させる組成物を提示しているが、この組成物は室温にお
ける保存安定性が悪く、ゲル化が進行してしまうという
重大な欠点があった。また、メルカプト基含有ポリオル
ガノシロキサンの合成に多段階の工程を要し、メルカプ
ト基特有の悪臭を放つなどの欠点もあった。また、特開
昭50−86553号公報には、メルカプト基含有ポリオルガ
ノシロキサンおよびゲル化禁止剤として2価フェノール
またはそのアルキル誘導体から成る組成物が示されてい
るが、保存時の安定性は改良されたものの、メルカプト
基含有ポリオルガノシロキサンについての前記の欠点は
同様に残っていた。さらに、硬化が表面のみにとどま
り、内部まで均一に硬化しないという欠点もあった。ま
た、特開昭50−61486号公報は、ビニル基含有ポリオル
ガノシロキサンとポリオルガノハイドロジェンシロキサ
ンおよび増感剤を用い、付加反応により架橋させる組成
物を示しているが、これも硬化が表面のみにとどまり内
部まで硬化しないし、発泡現象をひき起こすという重大
な欠点を有していた。また、特開昭48−19682号公報
は、アクリル系不飽和基含有ポリオルガノシロキサンお
よび増感剤からなる組成物を提案しているが、この方法
はすぐれた感光効果をもつ反面、酸素の影響を受けやす
く、感光性の経時変化及び暗減衰が大きいという欠点が
ある。そのうえ、アクリル系飽和基含有ポリオルガノシ
ロキサンの合成に多段階を必要とし、得られたシリコー
ンの耐熱性が悪いという欠点があった。また、アジド基
含有ポリオルガノシロキサン、ビニル基含有ポリオルガ
ノシロキサンおよび有機過酸化物から成る組成物が、特
開昭54−69197号公報に提案されている。これは、アジ
ド基含有ポリオルガノシロキサンのアジドの分解による
ポリオルガノシロキサンの炭化水素基からの水素引抜反
応、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンのビニル基へ
の挿入反応およびナイトレンどうしのカップリング反応
による架橋、または有機過酸化物の分解によるポリオル
ガノシロキサンの炭化水素基からの水素引抜反応、ビニ
ル基含有ポリオルガノシロキサンのビニル基への挿入反
応による架橋を並用したものである。この提案は、すぐ
れた感光効果をもち、酸素の影響も受けず、感光性の経
時変化も少ないという利点があったが、黄変するという
欠点があった。また、特開昭55−125123号公報には、ビ
ニル基含有ポリオルガノシロキサンあるいはビニル基含
有ポリオルガノシロキサンと有機過酸化物とから成る組
成物に、波長100〜300nmの紫外線を照射する方法が記載
されているが、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンの
みの場合は、表面が硬化するのみにとどまり、深部まで
硬化しないし、硬化時間も、実用に耐えないほどの長時
間が必要であるという欠点があった。また、有機過酸化
物の併用も、同特許に例示されているペルオキシケター
ル系、ジアルキル系、および、エステル系有機過酸化物
では、表面が未硬化で、硬化時間も、実用に耐えないほ
どの長時間が必要であるという欠点があった。
は、先行技術に記載されている。例えば、米国特許第3,
726,710号は、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンに
各種の増感剤を添加し、高強度紫外線照射を用いる硬化
方法を示している。しかしながらこの方法によると、硬
化が表面にのみとどまり、内部まで均一に硬化しないと
いう欠点があった。また、米国特許第3,816,282号は、
メルカプト基含有ポリオルガノシロキサン、ポリメチル
ビニルシロキサンおよび各種の有機過酸化物で付加架橋
させる組成物を提示しているが、この組成物は室温にお
ける保存安定性が悪く、ゲル化が進行してしまうという
重大な欠点があった。また、メルカプト基含有ポリオル
ガノシロキサンの合成に多段階の工程を要し、メルカプ
ト基特有の悪臭を放つなどの欠点もあった。また、特開
昭50−86553号公報には、メルカプト基含有ポリオルガ
ノシロキサンおよびゲル化禁止剤として2価フェノール
またはそのアルキル誘導体から成る組成物が示されてい
るが、保存時の安定性は改良されたものの、メルカプト
基含有ポリオルガノシロキサンについての前記の欠点は
同様に残っていた。さらに、硬化が表面のみにとどま
り、内部まで均一に硬化しないという欠点もあった。ま
た、特開昭50−61486号公報は、ビニル基含有ポリオル
ガノシロキサンとポリオルガノハイドロジェンシロキサ
ンおよび増感剤を用い、付加反応により架橋させる組成
物を示しているが、これも硬化が表面のみにとどまり内
部まで硬化しないし、発泡現象をひき起こすという重大
な欠点を有していた。また、特開昭48−19682号公報
は、アクリル系不飽和基含有ポリオルガノシロキサンお
よび増感剤からなる組成物を提案しているが、この方法
はすぐれた感光効果をもつ反面、酸素の影響を受けやす
く、感光性の経時変化及び暗減衰が大きいという欠点が
ある。そのうえ、アクリル系飽和基含有ポリオルガノシ
ロキサンの合成に多段階を必要とし、得られたシリコー
ンの耐熱性が悪いという欠点があった。また、アジド基
含有ポリオルガノシロキサン、ビニル基含有ポリオルガ
ノシロキサンおよび有機過酸化物から成る組成物が、特
開昭54−69197号公報に提案されている。これは、アジ
ド基含有ポリオルガノシロキサンのアジドの分解による
ポリオルガノシロキサンの炭化水素基からの水素引抜反
応、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンのビニル基へ
の挿入反応およびナイトレンどうしのカップリング反応
による架橋、または有機過酸化物の分解によるポリオル
ガノシロキサンの炭化水素基からの水素引抜反応、ビニ
ル基含有ポリオルガノシロキサンのビニル基への挿入反
応による架橋を並用したものである。この提案は、すぐ
れた感光効果をもち、酸素の影響も受けず、感光性の経
時変化も少ないという利点があったが、黄変するという
欠点があった。また、特開昭55−125123号公報には、ビ
ニル基含有ポリオルガノシロキサンあるいはビニル基含
有ポリオルガノシロキサンと有機過酸化物とから成る組
成物に、波長100〜300nmの紫外線を照射する方法が記載
されているが、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンの
みの場合は、表面が硬化するのみにとどまり、深部まで
硬化しないし、硬化時間も、実用に耐えないほどの長時
間が必要であるという欠点があった。また、有機過酸化
物の併用も、同特許に例示されているペルオキシケター
ル系、ジアルキル系、および、エステル系有機過酸化物
では、表面が未硬化で、硬化時間も、実用に耐えないほ
どの長時間が必要であるという欠点があった。
さらに特開昭48−16991公報および特開昭53−134085
号公報では、メタクリロイルプロポキシ変性ポリシロキ
サンと増感剤、溶剤から成る組成物が提示され、紫外線
照射により強度の高い皮膜が形成されることが記されて
いる。また特開昭54−162787号公報には、(メタ)アク
リロキシアルキル基含有ポリオルガノシロキサン、アク
リレート系架橋剤および感光剤から成る組成物が提示さ
れ、低いエネルギーの紫外線照射により速く硬化するこ
とが記されている。しかしながら、これらのアクリル系
基含有組成物は、いずれも酸素存在下で紫外線照射を行
った場合の硬化が不十分で、表面にベタツキ状態が残る
という問題を有している。
号公報では、メタクリロイルプロポキシ変性ポリシロキ
サンと増感剤、溶剤から成る組成物が提示され、紫外線
照射により強度の高い皮膜が形成されることが記されて
いる。また特開昭54−162787号公報には、(メタ)アク
リロキシアルキル基含有ポリオルガノシロキサン、アク
リレート系架橋剤および感光剤から成る組成物が提示さ
れ、低いエネルギーの紫外線照射により速く硬化するこ
とが記されている。しかしながら、これらのアクリル系
基含有組成物は、いずれも酸素存在下で紫外線照射を行
った場合の硬化が不十分で、表面にベタツキ状態が残る
という問題を有している。
本発明の目的は、酸素の存在下でも紫外線照射により
良好に硬化し、また低温特性に優れたシリコーン組成物
を提供することにある。
良好に硬化し、また低温特性に優れたシリコーン組成物
を提供することにある。
本発明者らはこのような紫外線硬化性シリコーン組成
物を得るべく検討を重ねた結果、(メタ)アクリロキシ
アルキル基を含有する3次元構造をもつシロキサン単位
とアリル基を含有する3次元構造をもつシロキサン単位
を有するシリコーン化合物を用いることにより酸素存在
下においても紫外線瀟洒で良好に硬化する組成物が得ら
れることを見出し、ここに本発明をなすに至った。
物を得るべく検討を重ねた結果、(メタ)アクリロキシ
アルキル基を含有する3次元構造をもつシロキサン単位
とアリル基を含有する3次元構造をもつシロキサン単位
を有するシリコーン化合物を用いることにより酸素存在
下においても紫外線瀟洒で良好に硬化する組成物が得ら
れることを見出し、ここに本発明をなすに至った。
本発明はすなわち、 (A) 平均式; (式中、R1は水素原子またはメチル基、Q1は炭素数1〜
5の置換または非置換の2価の炭化水素基、R2は置換ま
たは非置換のアリール基、R3は置換または非置換の1価
の炭化水素基、aは1〜3、bは0〜8、cは0〜3、
dは2〜10の整数を表わし、a/(a+b+c+d)≧0.
08かつ(b+c)/(a+b+c+d)≧0.10であ
る。)で表わされるポリシロキサン 100重量部 (B) 式; (式中、R4は水素原子またはメチル基、R5は炭素数1〜
3のアルキル基またはアリール基、Q2は炭素数1〜5の
2価の炭化水素基、eは0〜8の整数を表わす。)で表
わされるアクリル系化合物 5〜2000重量部 (C) 増感剤(A)+(B)の合計100重量部に対し
0.5〜15重量部 から成ることを特徴とする紫外線硬化性シリコーン組成
物である。
5の置換または非置換の2価の炭化水素基、R2は置換ま
たは非置換のアリール基、R3は置換または非置換の1価
の炭化水素基、aは1〜3、bは0〜8、cは0〜3、
dは2〜10の整数を表わし、a/(a+b+c+d)≧0.
08かつ(b+c)/(a+b+c+d)≧0.10であ
る。)で表わされるポリシロキサン 100重量部 (B) 式; (式中、R4は水素原子またはメチル基、R5は炭素数1〜
3のアルキル基またはアリール基、Q2は炭素数1〜5の
2価の炭化水素基、eは0〜8の整数を表わす。)で表
わされるアクリル系化合物 5〜2000重量部 (C) 増感剤(A)+(B)の合計100重量部に対し
0.5〜15重量部 から成ることを特徴とする紫外線硬化性シリコーン組成
物である。
本発明における(A)成分のポリシロキサンは、平均
式; で示される化合物で、本発明の組成物において硬化物の
主成分となるとともに、酸素存在下でも紫外線照射によ
り本組成物を良好に硬化させる本発明における最も特徴
的な成分である。R1としては水素原子またはメチル基が
あげられる。Q1は炭素数1〜5の置換または非置換の2
価の炭化水素基で、メチレン基、エチレン基、プロピレ
ン基、ブチレン基などのアルキレン基;フェニレン基な
どのアリーレン基などやそれらの基にハロゲン原子が置
換した基をあげることができるが、合成の容易さから炭
素数2〜4のアルキレン基が好ましい。またR2としては
フェニレン基、トリル基、キシレン基、ビフェニル基な
どのアリール基および2,4−クロロフェニル基などの置
換アリール基が例示されるが、合成の容易さと良好な硬
化性を示すことからフェニル基または2,4−クロロフェ
ニル基であることがより好ましい。R3としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、
アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基などのア
ルキル基;アルル基、キルロヘキセニル基などのアルケ
ニル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシ
クロアルキル基;トリル基、キシリル基、メキチル基な
どのアルカリ基;ベンジル基、フェニルエチル基などの
アラルキル基;あるいは、これらの基の水素原子の一部
もしくは全部がハロゲン原子などで置換された基、例え
ば3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロメチル基、
クロロフェニル基、シアノエチル基などが例示される
が、合成の容易さ、形成された硬化皮膜の強度および耐
熱性の点からすべてがメチル基であることが好ましい。
式; で示される化合物で、本発明の組成物において硬化物の
主成分となるとともに、酸素存在下でも紫外線照射によ
り本組成物を良好に硬化させる本発明における最も特徴
的な成分である。R1としては水素原子またはメチル基が
あげられる。Q1は炭素数1〜5の置換または非置換の2
価の炭化水素基で、メチレン基、エチレン基、プロピレ
ン基、ブチレン基などのアルキレン基;フェニレン基な
どのアリーレン基などやそれらの基にハロゲン原子が置
換した基をあげることができるが、合成の容易さから炭
素数2〜4のアルキレン基が好ましい。またR2としては
フェニレン基、トリル基、キシレン基、ビフェニル基な
どのアリール基および2,4−クロロフェニル基などの置
換アリール基が例示されるが、合成の容易さと良好な硬
化性を示すことからフェニル基または2,4−クロロフェ
ニル基であることがより好ましい。R3としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、
アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基などのア
ルキル基;アルル基、キルロヘキセニル基などのアルケ
ニル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシ
クロアルキル基;トリル基、キシリル基、メキチル基な
どのアルカリ基;ベンジル基、フェニルエチル基などの
アラルキル基;あるいは、これらの基の水素原子の一部
もしくは全部がハロゲン原子などで置換された基、例え
ば3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロメチル基、
クロロフェニル基、シアノエチル基などが例示される
が、合成の容易さ、形成された硬化皮膜の強度および耐
熱性の点からすべてがメチル基であることが好ましい。
また、各キロキサン成分を示すa,b,cおよびdは、a
が1〜3の整数、bが0〜8の整数、cが0〜3の整
数、dは2〜10の整数であり、空気中での良好な硬化性
を得るためにはa/(a+b+c+d)≧0.08かつ(b+
c)/(a+b+c+d)≧0.10の条件を満足すること
が必要であり、さらにd/(a+b+c+d)≧0.12であ
ることがより好ましい。
が1〜3の整数、bが0〜8の整数、cが0〜3の整
数、dは2〜10の整数であり、空気中での良好な硬化性
を得るためにはa/(a+b+c+d)≧0.08かつ(b+
c)/(a+b+c+d)≧0.10の条件を満足すること
が必要であり、さらにd/(a+b+c+d)≧0.12であ
ることがより好ましい。
このような化合物としては、次のような平均式で示さ
れる物質が例示される。
れる物質が例示される。
このようにポリシロキサンは、γ−(メタ)アクリロ
キシプロピルトリメトキシシランなどの(メタ)アクリ
ロキシ基を含有する3官能性シラン;フェニルトリクロ
ロシラン、クロロフェニルトリクロロシラン、ジフェニ
ルジクロロシランなどのアリール基含有クロロシラン;
ジメチルクロロシランなどの2官能性シランを周知の方
法で共加水分解し、水酸化カリウム等の触媒化で縮合す
ることにより得られる。
キシプロピルトリメトキシシランなどの(メタ)アクリ
ロキシ基を含有する3官能性シラン;フェニルトリクロ
ロシラン、クロロフェニルトリクロロシラン、ジフェニ
ルジクロロシランなどのアリール基含有クロロシラン;
ジメチルクロロシランなどの2官能性シランを周知の方
法で共加水分解し、水酸化カリウム等の触媒化で縮合す
ることにより得られる。
本発明における(B)のアクリル系化合物は、 (式中、R4,R5Q2,eは前述のとおり。)で示されるもの
で、(A)成分が固体状の場合はその溶媒としての作用
をするとともに、硬化物の機械的特性を保つための成分
である。R4としてはR1と同様水素原子またはメチル基が
例示される。R5としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基のアルキル基;フェニル基などのアリール基が例示
されるが、良好な光硬化性が得られ、また高い屈折率を
必要とする場合はアリール基が好ましい。Q2はメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などの炭素
数1〜5のアルキレン基;フェニレン基などのアリール
基などやそれらの基にハロゲンなどの置換基を単入した
基をあげることができるが、(A)成分との相溶性から
炭素数2〜4のアルキレン基が好ましく、毒性や低温で
の硬化性の面からエチレン基がより好ましい。またeは
0〜8の整数で、(A)成分との相溶性および良好な硬
化性を与えることから1〜5の整数であることが好まし
い。
で、(A)成分が固体状の場合はその溶媒としての作用
をするとともに、硬化物の機械的特性を保つための成分
である。R4としてはR1と同様水素原子またはメチル基が
例示される。R5としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基のアルキル基;フェニル基などのアリール基が例示
されるが、良好な光硬化性が得られ、また高い屈折率を
必要とする場合はアリール基が好ましい。Q2はメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などの炭素
数1〜5のアルキレン基;フェニレン基などのアリール
基などやそれらの基にハロゲンなどの置換基を単入した
基をあげることができるが、(A)成分との相溶性から
炭素数2〜4のアルキレン基が好ましく、毒性や低温で
の硬化性の面からエチレン基がより好ましい。またeは
0〜8の整数で、(A)成分との相溶性および良好な硬
化性を与えることから1〜5の整数であることが好まし
い。
本発明における(B)成分の配合量は、(A)成分10
0重量部に対し5〜2000重量部、好ましくは10〜1000重
量部である。5重量部未満では組成物の粘度が高すぎて
作業性に問題があり、また2000重量部を超えると本発明
の特徴である酸素存在下における紫外線照射による硬化
性が著しく悪くなる。
0重量部に対し5〜2000重量部、好ましくは10〜1000重
量部である。5重量部未満では組成物の粘度が高すぎて
作業性に問題があり、また2000重量部を超えると本発明
の特徴である酸素存在下における紫外線照射による硬化
性が著しく悪くなる。
本発明における(C)の増感剤は、光を受けて励起化
し、(メタ)アクリロキシ基を含有するシロキサンに励
起エネルギーを与えて紫外線照射による硬化反応を促進
するものである。このような物質としては、アセトフェ
ノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインブチル
エーテル、ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−2
−ヒドロキシプロピオフェノン、1−(4−イソプロピ
ルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパノ
ン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オンなどのケトン系あるいはエーテル系化合
物、ベンゾキノン、アントラキノン、1,2−ナフトキノ
ンなどのキノン系化合物などが例示されるが、硬化速度
を速める意味で2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルプロパン−1−オンが最も好ましい。
し、(メタ)アクリロキシ基を含有するシロキサンに励
起エネルギーを与えて紫外線照射による硬化反応を促進
するものである。このような物質としては、アセトフェ
ノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインブチル
エーテル、ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−2
−ヒドロキシプロピオフェノン、1−(4−イソプロピ
ルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパノ
ン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オンなどのケトン系あるいはエーテル系化合
物、ベンゾキノン、アントラキノン、1,2−ナフトキノ
ンなどのキノン系化合物などが例示されるが、硬化速度
を速める意味で2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルプロパン−1−オンが最も好ましい。
この(C)成分の配合量は、(A)+(B)の合計10
0重量部に対して0.5〜15重量部、好ましくは1.0〜10重
量部である。0.5重量部未満では好ましい増感効果が得
られず、15重量部を越えると増粘しやすく系の安定性に
支障をきたす。
0重量部に対して0.5〜15重量部、好ましくは1.0〜10重
量部である。0.5重量部未満では好ましい増感効果が得
られず、15重量部を越えると増粘しやすく系の安定性に
支障をきたす。
本発明の組成物には、必要に応じて増粘剤としてポリ
アクリルレジン、ポリメタクリルレジンを用いてもよ
い。これにより、硬化物に柔軟性を付与することもでき
る。ただし多すぎると、紫外線による酸素存在下での硬
化性が失われるので、配合量は(A)成分100重量部に
対し10重量部以下でなければならない。また、柔軟剤と
して、ケイ素に結合せる全有機中の5〜40モル%がフェ
ニル基であるポリメチルフェニルシロキサンを用いても
よく、これにより硬化物の硬さを調整することもでき
る。これも多すぎると、分離現象や硬化物からのにじみ
を生じるので、その配合量は(A)成分100重量部に対
し10重量部以下でなければならない。
アクリルレジン、ポリメタクリルレジンを用いてもよ
い。これにより、硬化物に柔軟性を付与することもでき
る。ただし多すぎると、紫外線による酸素存在下での硬
化性が失われるので、配合量は(A)成分100重量部に
対し10重量部以下でなければならない。また、柔軟剤と
して、ケイ素に結合せる全有機中の5〜40モル%がフェ
ニル基であるポリメチルフェニルシロキサンを用いても
よく、これにより硬化物の硬さを調整することもでき
る。これも多すぎると、分離現象や硬化物からのにじみ
を生じるので、その配合量は(A)成分100重量部に対
し10重量部以下でなければならない。
また、硬化物の機械的強度をさらに向上させるため
に、必要に応じて煙霧質シリカ沈澱シリカ、焼成シリ
カ、シリカエアロゲル、石英微粉末などを加えても何等
さしつかえない。これらのシリカは単独で用いても2種
以上を混合して用いてもよく、また、そのまま用いて
も、表面をポリメチルシロキサン、オクタンメチルシク
ロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシラザンのような
有機ケイ素化合物で処理して用いてもよい。
に、必要に応じて煙霧質シリカ沈澱シリカ、焼成シリ
カ、シリカエアロゲル、石英微粉末などを加えても何等
さしつかえない。これらのシリカは単独で用いても2種
以上を混合して用いてもよく、また、そのまま用いて
も、表面をポリメチルシロキサン、オクタンメチルシク
ロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシラザンのような
有機ケイ素化合物で処理して用いてもよい。
さらに本発明の組成物には、支持体に塗布するための
粘度を調整する目的で溶剤を用いることができる。この
ような溶剤としては、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトンなどのようなケトン系溶剤、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤などを使
用することができる。
粘度を調整する目的で溶剤を用いることができる。この
ような溶剤としては、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトンなどのようなケトン系溶剤、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤などを使
用することができる。
なお、本発明の組成物は、上記溶解のほかに例えばハ
ロゲン化炭化水素溶剤、アルコール系溶剤、エステル系
溶剤などで、(メタ)アクリロキシ基に対し不活性なも
のを希釈剤として用いてよい。
ロゲン化炭化水素溶剤、アルコール系溶剤、エステル系
溶剤などで、(メタ)アクリロキシ基に対し不活性なも
のを希釈剤として用いてよい。
本発明の組成物によれば、従来の紫外線硬化性シリコ
ーン組成物と異なり、酸素存在下においても紫外線を短
時間照射することにより効果的に硬化させることができ
る。而して得られた硬化生成物は電気特性、耐熱性、耐
候性が極めて優れている。そのため硬化生成物は、半導
体の接合部の保護コーティング、コンデンサーコイルな
どの受動素子の防湿コーティング、光ファイバーのプラ
イマリー、バッファーコーティングなど、幅広い用途に
適用できる。
ーン組成物と異なり、酸素存在下においても紫外線を短
時間照射することにより効果的に硬化させることができ
る。而して得られた硬化生成物は電気特性、耐熱性、耐
候性が極めて優れている。そのため硬化生成物は、半導
体の接合部の保護コーティング、コンデンサーコイルな
どの受動素子の防湿コーティング、光ファイバーのプラ
イマリー、バッファーコーティングなど、幅広い用途に
適用できる。
以下、本発明を実施例によって説明する。実施例中、
部はいずれも重量部を表わす。
部はいずれも重量部を表わす。
参考例1 フラスコに水1000部およびトルエン1000部を仕込み、
温度を10℃に保ちその中にγ−メタクリロキシプロピル
トルエトキシシラン、フェニルトリクロロシランおよび
ジメチルジクロロシランを第1表に示す割合で1時間か
けて滴下し、70℃で1時間保って撹拌しながら加水分解
を行った。反応終了後下層を分離し、水洗、加熱による
脱水を行った後、0.1水酸化カリウム水溶液中で115℃で
5時間保って縮合反応を行い、その後エチレンクロロヒ
ドリンで中和後、トルエンを一部脱溶し、濾過して第1
表のメタクリロキシ基含有シロキサンを得た。
温度を10℃に保ちその中にγ−メタクリロキシプロピル
トルエトキシシラン、フェニルトリクロロシランおよび
ジメチルジクロロシランを第1表に示す割合で1時間か
けて滴下し、70℃で1時間保って撹拌しながら加水分解
を行った。反応終了後下層を分離し、水洗、加熱による
脱水を行った後、0.1水酸化カリウム水溶液中で115℃で
5時間保って縮合反応を行い、その後エチレンクロロヒ
ドリンで中和後、トルエンを一部脱溶し、濾過して第1
表のメタクリロキシ基含有シロキサンを得た。
参考例2 比較例化合物のメタクリロキシ基含有シロキサンとし
て、次の化合物を得た。
て、次の化合物を得た。
フラスコに水1000部、トルエン150部およびn−ブチ
ルアルコール200部を仕込み、温度を10℃に保ちながら
その中にジメチルジクロロキラン150部、ジフェニルジ
ルクロロシラン100部、フェニルトリクロロシラン40部
およびγ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン
60部を1時間かけて滴下し、参考例1と同様な方法で加
水分解した。これを30分間撹拌して静置後水層を分離
し、水洗後減圧蒸留によりトルエン、ブチルアルコール
等を留去することにより固形組成物Pを得た。
ルアルコール200部を仕込み、温度を10℃に保ちながら
その中にジメチルジクロロキラン150部、ジフェニルジ
ルクロロシラン100部、フェニルトリクロロシラン40部
およびγ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン
60部を1時間かけて滴下し、参考例1と同様な方法で加
水分解した。これを30分間撹拌して静置後水層を分離
し、水洗後減圧蒸留によりトルエン、ブチルアルコール
等を留去することにより固形組成物Pを得た。
実施例1 参考例1,2によって得られた化合物(A1,A2並びにP)
に、第2表に示す割合でアクリル系化合物 および増感剤として (2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン
−1−オン)を混合し、万能混練機で均一に分散させて
本発明の組成物S11〜S14および比較組成物C11,C12を得
た。
に、第2表に示す割合でアクリル系化合物 および増感剤として (2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン
−1−オン)を混合し、万能混練機で均一に分散させて
本発明の組成物S11〜S14および比較組成物C11,C12を得
た。
これらの組成物を直径約6cmのポリテトラフルオロエ
チレンでコーティングしたステンレス容器に約2cmの厚
みになるように流し込み、脱泡後、紫外線照射用の80w/
cmの高圧水銀ランプ(ウシオ電機(株)製、UV−7000)
で空気中にて10cmの距離から0.5秒間照射し、その硬化
状態を比較確認することにより光硬化性を調べた。ま
た、完全に硬化したS11〜14について、JIS K 6301に準
じる方法にて硬化物の硬さを測定した。その結果を第2
表に示す。
チレンでコーティングしたステンレス容器に約2cmの厚
みになるように流し込み、脱泡後、紫外線照射用の80w/
cmの高圧水銀ランプ(ウシオ電機(株)製、UV−7000)
で空気中にて10cmの距離から0.5秒間照射し、その硬化
状態を比較確認することにより光硬化性を調べた。ま
た、完全に硬化したS11〜14について、JIS K 6301に準
じる方法にて硬化物の硬さを測定した。その結果を第2
表に示す。
実施例2 参考例1のA2,B1,増粘剤としてダイアナルBR102(三
菱レイヨン(株)製、ポリ(メタ)アクリルレジン、両
末端がトリメチルシロキサン単位で閉塞され残りがジメ
チルシロキサン単位70%とジフェニルシロキサン単位30
%から成り25℃における粘度が200cStのポリメチルフェ
ニルシロキサンおよび2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オンを第3表の比率で実施例
1と同じ方法で均一に混合し、組成物S21,S22を得た。
菱レイヨン(株)製、ポリ(メタ)アクリルレジン、両
末端がトリメチルシロキサン単位で閉塞され残りがジメ
チルシロキサン単位70%とジフェニルシロキサン単位30
%から成り25℃における粘度が200cStのポリメチルフェ
ニルシロキサンおよび2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニルプロパン−1−オンを第3表の比率で実施例
1と同じ方法で均一に混合し、組成物S21,S22を得た。
この組成物について、実施例1と同様の方法で光硬化
性試験、硬さおよび粘度を測定した。いずれも良好な光
硬化性を示した。また、増粘剤およびポリフェニルシロ
キサンを用いることで、硬化物の硬さを低くすることも
できることがわかる。
性試験、硬さおよび粘度を測定した。いずれも良好な光
硬化性を示した。また、増粘剤およびポリフェニルシロ
キサンを用いることで、硬化物の硬さを低くすることも
できることがわかる。
参考例3 フラスコに水1000部およびトルエン1000部を仕込み、
実施例1と同様の方法にてγ−メタクリロキシプロピル
トリエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフ
ェニルジクロロシランおよびジメチルジクロロシランを
第4表に示す割合で配合して加水分解、縮合反応、中
和、脱溶、濾過を行い、第4表にメタクリロキシ含有シ
ロキサンA3〜A6を得た。
実施例1と同様の方法にてγ−メタクリロキシプロピル
トリエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフ
ェニルジクロロシランおよびジメチルジクロロシランを
第4表に示す割合で配合して加水分解、縮合反応、中
和、脱溶、濾過を行い、第4表にメタクリロキシ含有シ
ロキサンA3〜A6を得た。
実施例3 化合物A3〜A6およびP、CH2=CH−CO−(OC2H4)2−
OC6H4・C9H19(B2)および2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−フェニルプロパン−1−オンを第5表に示す比率
で均一になるように混合し、組成物S31〜S34および比較
組成物C31を得た。これらについて、照射条件を0.5秒、
1秒、2秒にする以外は実施例1と同様の方法にて光硬
化性試験を行った。その結果を第5表に示す。
OC6H4・C9H19(B2)および2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−フェニルプロパン−1−オンを第5表に示す比率
で均一になるように混合し、組成物S31〜S34および比較
組成物C31を得た。これらについて、照射条件を0.5秒、
1秒、2秒にする以外は実施例1と同様の方法にて光硬
化性試験を行った。その結果を第5表に示す。
Claims (11)
- 【請求項1】(A) 平均式; (式中、R1は水素原子またはメチル基、Q1は炭素数1〜
5の置換または非置換の2価の炭化水素基、R2は置換ま
たは非置換のアリール基、R3は置換または非置換の1価
の炭化水素基、aは1〜3、bは0〜8、cは0〜3、
dは2〜10の整数を表わし、a/(a+b+c+d)≧0.
08かつ(b+c)/(a+b+c+d)≧0.10であ
る。)で表わされるポリシロキサン 100重量部 (B) 式; (式中、R4は水素原子またはメチル基、R5は炭素数1〜
3のアルキル基またはアリール基、Q2は炭素数1〜5の
2価の炭化水素基、eは0〜8の整数を表わす。)で表
わされるアクリル系化合物 5〜2000重量部 (C) 増感剤(A)+(B)の合計100重量部に対し
0.5〜15重量部 から成ることを特徴とする紫外線硬化性シリコーン組成
物。 - 【請求項2】(A)のQ1が炭素数2〜4のアルキレン基
である特許請求の範囲第1項記載の組成物。 - 【請求項3】(A)のR2がフェニル基または2,4−クロ
ロフェニル基である特許請求の範囲第1項記載の組成
物。 - 【請求項4】(A)のR3がメチル基である特許請求の範
囲第1項記載の組成物。 - 【請求項5】(A)のb/(a+b+c+d)が0.12以上
である特許請求の範囲第1項記載の組成物。 - 【請求項6】(B)のR5がアリール基である特許請求の
範囲第1項記載の組成物。 - 【請求項7】(B)のQ2がエチレン基である特許請求の
範囲第1項記載の組成物。 - 【請求項8】(B)eが1〜5の整数である特許請求の
範囲第1項記載の組成物。 - 【請求項9】(B)成分の配合量が(A)成分100重量
部に対し10〜1000重量部である特許請求の範囲第1項記
載の組成物。 - 【請求項10】(C)が2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−フェニルプロパン−1−オンである特許請求の範囲
第1項記載の組成物。 - 【請求項11】(C)成分の配合量が(A)+(B)の
合計100重量部に対し、1.0〜10重量部である特許請求の
範囲第1項記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26354086A JPH089656B2 (ja) | 1986-11-05 | 1986-11-05 | 紫外線硬化性シリコ−ン組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26354086A JPH089656B2 (ja) | 1986-11-05 | 1986-11-05 | 紫外線硬化性シリコ−ン組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63117024A JPS63117024A (ja) | 1988-05-21 |
| JPH089656B2 true JPH089656B2 (ja) | 1996-01-31 |
Family
ID=17390959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26354086A Expired - Lifetime JPH089656B2 (ja) | 1986-11-05 | 1986-11-05 | 紫外線硬化性シリコ−ン組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH089656B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3643459A1 (de) * | 1986-12-19 | 1988-06-23 | Bayer Ag | Polyethersiloxan - pfropfpolymerisate |
| US5182315A (en) * | 1990-11-19 | 1993-01-26 | Loctite Corporation | Photocurable silicone gel composition, and method of making the same |
| US5212211A (en) * | 1990-11-19 | 1993-05-18 | Loctite Corporation | Polymodal-cure silicone composition, and method of making the same |
| US5179134A (en) * | 1990-11-19 | 1993-01-12 | Loctite Corporation | Photocurable silicone composition, and method of making the same |
| US5348986A (en) * | 1990-11-19 | 1994-09-20 | Loctite Corporation | Photocurable silicone composition, and method of making same |
| US5738976A (en) * | 1995-03-16 | 1998-04-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Photo-curable organopolysiloxane composition and a method for producing a (meth) acryloyloxyl group-containing organopolysiloxane used therein |
| JPH09151334A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 電子部品保護材料組成物 |
| US20090029287A1 (en) * | 2006-01-24 | 2009-01-29 | Asahi Kasei Emd Corporation | Photosensitive resin composition |
| JP2012097251A (ja) * | 2010-10-04 | 2012-05-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 放射線硬化性組成物 |
| CN102443112A (zh) * | 2010-10-04 | 2012-05-09 | 信越化学工业株式会社 | 放射线固化性组合物 |
| CN104610696B (zh) * | 2015-01-05 | 2017-05-24 | 烟台德邦先进硅材料有限公司 | 一种用于uv固化的有机硅组合物 |
| KR102763969B1 (ko) * | 2018-12-04 | 2025-02-07 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 자외선 경화형 실리콘 점착제 조성물 및 그 경화물 |
-
1986
- 1986-11-05 JP JP26354086A patent/JPH089656B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63117024A (ja) | 1988-05-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08211616A (ja) | 放射線硬化性組成物、その硬化方法及びパターン形成方法 | |
| JPH0680103B2 (ja) | エラストマーに硬化されるシリコーン組成物 | |
| JPH037615B2 (ja) | ||
| JPH06166740A (ja) | ペンダントシリコーン樹脂を担持するuv硬化性エポキシシリコーン | |
| JPH058946B2 (ja) | ||
| JPH0354972B2 (ja) | ||
| JPH089656B2 (ja) | 紫外線硬化性シリコ−ン組成物 | |
| KR20010023087A (ko) | 이중 경화 실리콘 조성물 | |
| US4451634A (en) | Silicone elastomer compositions suitable for ultraviolet ray curing | |
| KR20120131188A (ko) | 코팅제 조성물 | |
| JPH03425B2 (ja) | ||
| JPH0710953B2 (ja) | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
| JP2713760B2 (ja) | 高分子分散剤およびエポキシ樹脂組成物 | |
| JP3022101B2 (ja) | 剥離性オルガノポリシロキサン組成物及び剥離紙 | |
| US4697877A (en) | Surface-coated optical fiber | |
| EP0678542B1 (en) | Photocurable silicone composition | |
| JPH0791512B2 (ja) | 放射線硬化性コーティング剤 | |
| JPH06322272A (ja) | 紫外線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
| JPS6224017B2 (ja) | ||
| JPH0198609A (ja) | アクリルグラフトシリコーン粒子ならびにその製法 | |
| JPH0637592B2 (ja) | 紫外線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
| JPH01126317A (ja) | 紫外線硬化型ポリオルガノシロキサン組成物 | |
| JPH07224133A (ja) | 紫外線硬化型シリコーン樹脂組成物 | |
| JPS60199013A (ja) | 光硬化性シリコ−ン組成物 | |
| JPS5889650A (ja) | 紫外線による硬化に適したシリコ−ンゴム組成物 |