JPH09100256A - ジアリールカーボネートの製造方法 - Google Patents
ジアリールカーボネートの製造方法Info
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- -1 diaryl carbonate Chemical compound 0.000 title claims abstract description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 33
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 6
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- AHWALFGBDFAJAI-UHFFFAOYSA-N phenyl carbonochloridate Chemical compound ClC(=O)OC1=CC=CC=C1 AHWALFGBDFAJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical group C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 5
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 2-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1O CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLJSLTNSFSOYQR-UHFFFAOYSA-N 3-propan-2-ylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(O)=C1 VLJSLTNSFSOYQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQUQWHNMBPIWGK-UHFFFAOYSA-N 4-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(O)C=C1 YQUQWHNMBPIWGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- UMHSKYSHOIGDPE-UHFFFAOYSA-N pyridine;quinoline Chemical compound C1=CC=NC=C1.N1=CC=CC2=CC=CC=C21 UMHSKYSHOIGDPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000007039 two-step reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCNTZFIIOFTKIY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxypyridine Chemical compound OC1=CC=NC=C1 GCNTZFIIOFTKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- FZFAMSAMCHXGEF-UHFFFAOYSA-N chloro formate Chemical compound ClOC=O FZFAMSAMCHXGEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 125000003392 indanyl group Chemical group C1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004893 oxazines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001712 tetrahydronaphthyl group Chemical group C1(CCCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004897 thiazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
し、目的とするジアリールカーボネーを高収量で製造す
る。 【解決手段】 芳香族ヒドロキシ化合物とホスゲンを触
媒の存在下液相中で反応させてジアリールカーボネート
を製造する際、該反応を下記2工程で行う。 [第1工程]芳香族ヒドロキシ化合物をホスゲンと反応
させて、該芳香族ヒドロキシ化合物を90%以上転化さ
せる。 [第2工程]第1工程の反応生成物に、該反応生成物中
のアリールクロロフォーメートに相当する化学量論以上
となるように、芳香族ヒドロキシ化合物を添加してアリ
ールクロロフォメートをジアリールカーボネートに転化
せしめる。
Description
ートの製造方法に関する。さらに、詳しくは分離が困難
なアリールクロロフォーメートの副生が抑制された、ジ
アリールカーボネートの製造方法に関するものである。
ルボニルを反応させることにより、ジアリールカーボネ
ートを取得することができることは知られている。例え
ばアメリカ合衆国特許第2,837,555号明細書には、触媒
としてハロゲン化テトラメチルアンモニウムの存在下に
無溶剤縮合を行うことが提案されている。しかしなが
ら、この方法では経済的な反応速度を得るためには、比
較的多量の触媒を必要とし且つ180〜215℃の比較
的高い温度を用いることが必要であり、それが熱的に不
安定なハロゲン化テトラメチルアンモニウムの分解のお
それを伴う。加うるに、化学量論的に必要とされる量よ
りもずっと高い割合でホスゲンが消費される。
アルミニウムを用い、且つ100〜150℃の温度領域
で上記反応を実施することが提案されている。この方法
は、良好な収率が得られるものの、触媒をその生成物か
ら分離させる際に困難がある。実際、これらのアルミニ
ウム化合物は特定度合いの揮発性を有しており、これら
のアルミニウム化合物が原因となる熱分解反応が生じる
可能性があり、これらが不純物、品質の低下および収率
の低下をもたらすこととなる。
芳香族ヒドロキシ化合物を触媒量の含窒素複素環塩基の
存在下ホスゲンと反応させてジアリールカーボネートを
製造する方法に関するものである。この方法は上述した
方法より単純であり、より良い収率を与えることを報告
している。しかしながら、この方法においても、ジフェ
ニルカーボネート(以下、DPCと略記することがあ
る)の中間生成物であるフェニルクロロフォーメートと
フェノールの反応によるDPC生成速度が、フェニルク
ロロフォーメートの生成速度に較べて充分な速度をもっ
ていないため、反応終了時にDPCとともに少量のフェ
ニルクロロフォーメートが残留する。このような、フェ
ニルクロロフォーメートの残留は工業的な実施上極めて
不利である。即ち、DPCとフェニルクロロフォーメー
トは沸点が近接しているためDPCの蒸留分離精製が困
難であり、しかもDPC中へのフェニルクロロフォーメ
ート等の酸性化合物の混入はDPCの着色の原因ともな
ることが指摘されている(特開平7−138208号公
報参照)。
DPCの製造においてはプロセス上未だ不十分な点が多
く、汚染物質であり分離の容易でないアリールクロロフ
ォーメートの含有を抑えていかに工業的に有利に、目的
とするDPCを取得するかが問題であった。
み鋭意検討を行った結果、特定の2つの工程で反応を行
うことが有効であることを見い出し本発明に到達した。
即ち、本発明は、芳香族ヒドロキシ化合物とホスゲンを
触媒の存在下液相中で反応させてジアリールカーボネー
トを製造する方法において、芳香族ヒドロキシ化合物を
ホスゲンと反応させて、該芳香族ヒドロキシ化合物を9
0%以上転化させる第1工程;および第1工程の反応生
成物に、該反応生成物中のアリールクロロフォーメート
に相当する化学量論以上となるように、芳香族ヒドロキ
シ化合物を添加してアリールクロロフォーメートをジア
リールカーボネートに転化せしめる第2工程;を包含す
ることを特徴とするジアリールカーボネートの製造方法
である。
を経て行われ、第1工程で芳香族ヒドロキシ化合物のホ
スゲン化反応を行い、次いで第2工程で、第1工程で生
成したアリールクロロフォーメートを、別途添加された
芳香族ヒドロキシ化合物と反応させて目的のジアリール
カーボネートに転化させることからなる。
な芳香族ヒドロキシ化合物は、下記式(I): Ar−OH (I) [式中、Arは、フェニル、ナフチル、アントリル、フ
ェナントリル、インダニルまたはテトラヒドロナフチル
基を示すか、或いはN、OおよびS群から選ばれるヘテ
ロ原子を1または2個有する5員又は6員の芳香族複素
環式化合物由来の基を示し、ここで、これらの同素環式
基又は複素環式基は、1または2個の置換基、例えば直
鎖もしくは分岐C1〜C4−アルキル基、直鎖もしくは分
岐C1−C4−アルコキシ基で置換されていてもよく、こ
れらは、フェニル、シアノおよびハロゲン(例えばF、
Cl、Br)で置換されていてもよく、そしてここで更
に、これらの複素環式基は縮合ベンゼン環に連結してい
てもよい]で表される化合物である。
キシ化合物としては、例えば、フェノール;o−、m−
およびp−クレゾール、o−、m−およびp−イソプロ
ピルフェノール;相当するハロゲノまたはアルコキシフ
ェノール類、例えばp−クロロフェノールまたはp−メ
トキシフェノールなど;ナフタレン、アントラセンおよ
びフェナントレンのモノヒドロキシ化合物;4−ヒドロ
キシビリジンおよびヒドロキシキノリンなどである。任
意に置換されていてもよいフェノール類が好適に用いら
れ、中でもフェノールが特に好適に用いられる。
が、好適に使用される触媒としては、窒素原子が芳香族
の5−または6員環中に存在している含窒素芳香族複素
環化合物である。具体的には、次の化合物を挙げること
ができる。ピリジン;キノリン;イソキノリン;ピコリ
ン;アクリジン;ピラジン;ピリタジ;ピリミジン;お
よびベンゼン環が、例えばアルキル、カルバルコキシ、
ハロゲン等の不活性基によって置換されていてもよい、
相当するベンゼン複素環式化合物;オキサジン類;例え
ばフェノチアジンのようなチアジン類;例えば2,4,
6−トリメチルトリアジンのようなトリアジン類;例え
ば2−メチル−イミダゾールのような、アルキル、アル
コキシ、カルバコキシまたはハロゲンによって置換され
たこの種の化合物;および、例えばベンズイミダゾー
ル、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾールなどの、相
当するベンゾ複素環式化合物。これらの中でも好適な触
媒は、ピリジン;キノリン;ピコリン;イミダゾール
類;ベンズイミダゾール類;ピラゾール類;トリアゾー
ル類およびベンゾトリアゾール類である。
基づくモル%ベースで通常0.01〜20%の範囲で使
用される。更に好ましい触媒濃度範囲は、0.1〜10
モル%であり、最も好ましい範囲は1〜5モル%であ
る。
態様としては、反応装置として完全混合槽型反応器を使
用し、第1工程において触媒の存在下液相中で、芳香族
ヒドロキシ化合物に、通常芳香族ヒドロキシ化合物1モ
ルに対して0.4〜1.5、好ましくは0.5〜0.7の量
のホスゲンを導入し、反応中に形成される塩化水素を任
意に、連続的に又は不連続的に除去しながら反応を行わ
せる。芳香族ヒドロキシ化合物が90%以上、好ましく
は95〜100%転化した時点でホスゲンの供給を停止
する。次いで、第2工程において、第1工程の反応生成
物に該反応生成物中のアリールクロロフォーメートに相
当する化学量論以上、好ましくはアリールクロロフォー
メート1モルに対して1〜5モルとなるように、芳香族
ヒドロキシ化合物を添加してアリールクロロフォーメー
トをジアリールカーボネートに転化させる。このような
2工程反応により、最終反応生成物中のアリールクロロ
フォーメート量は、ジアリールカーボネート1モルに対
して、2モル%以下、更には1%以下にすることができ
る。
は連続反応方式のどちらも採用可能である。反応は、触
媒が分解せず安定に存在する限りいかなる温度において
も実施可能である。温度範囲は、通常60〜250℃、
好ましくは100〜180℃、更に好ましくは130〜
180℃である。本発明の方法においては、2工程とも
液相中で行われる。好適には溶融状態で実施され、その
際、芳香族ヒドロキシ化合物およびジアリールカーボネ
ートの融点以上の反応温度で行われる。必要とあれば溶
媒を用いても良く、脂肪族および芳香族炭化水素、例え
ばペンタン、ヘキサン、オクタン、ベンゼン、異性体キ
シレン類、ジエチルベンゼン、アルキルナフタレン類、
ビフェニル;ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタ
ン、トリクロロエチレンなどの如き溶媒を挙げることが
できる。
最終反応液は、例えば通常の蒸留等の分離方法により生
成物と触媒の分離が行われる。得られた粗ジアリールカ
ーボネートは用途に応じて任意に、例えば蒸留、水洗又
は晶析などでそのカーボネートのさらなる精製を行って
もよい。
明するが、本発明の要旨を超えない限り、本発明はこれ
らの実施例によって限定されるものではない。なお、D
PC、フェノール、およびフェニルクロロフォーメート
のモル百分率は以下の様に定義した。
0mlのガラスコルベンに、フェノール47.2g(0.
502モル)、フェノールに対して3モル%のイミダソ
ールを仕込みN2流通下に加熱、昇温させた。150℃
に達した時点で、ホスゲンを0.6g/分の流量で連続
的に65分間バブリングした。全量で0.39モルのホ
スゲンを反応系に供給した。得られた反応生成物の組成
(モル百分率)は、それぞれ、DPC86.9モル%、
フェニルクロロフォーメート12.4モル%、フェノー
ルが0.6モル%であった。このときの芳香族ヒドロキ
シ化合物の転化率は99.0%であった。
ル6.6g(0.07モル)を添加し、N2をバブリング
しながら150℃で1時間反応を行った。最終反応液の
組成(モル百分率)は、それぞれDPC98.6モル
%、フェノール1モル%、フェニルクロロフォーメート
0.3モル%であった。仕込んだフェノールに対してフ
ェニルクロロフォーメートの副生率は0.3%であり、
DPC収率は98.0%であった。
7.0g(0.50モル)、フェノールに対して3モル%
のイミダゾールを仕込みN2流通下で150℃に加熱
し、ホスゲン0.6g/分を65分間連続的にバブリン
グした。全量で0.39モルのホスゲンを反応系に供給
した。ホスゲン化反応によって得られた反応液組成(モ
ル百分率)は、それぞれDPC85.9モル%、フェニ
ルクロロフォーメート14.0モル%、フェノールは痕
跡量であった。このときの芳香族ヒドロキシ化合物の転
化率は99.5%であった。
ゲンの供給をとめて、150℃で30分撹拌下放置し、
その後N2をバブリングしながら150℃からゆっくり
100℃に冷却しながら1.5時間放置した。工程Bで
得られた最終反応液の液組成(モル百分率)は、それぞ
れDPC89.0%、フェニルクロロフォーメート11.
0%、フェノール0%であった。
0mlのガラス製コルベンに、フェノール47g(0.
5モル)、フェノールに対して3モル%の混合ピコリン
を仕込みN2雰囲気下、加熱、昇温した。150℃に達
した時点でホスゲン0.3g/分の流量で90分間連続
的に供給した。全量で0.275モルのホスゲンを反応
系に供給した。ホスゲン化工程で得られた反応液組成
(モル百分率)は、それぞれDPC89.8%、フェニ
ルクロロフォーメート8.0%、フェノール2.3%であ
った。このときの芳香族ヒドロキシ化合物の転化率は9
7.9%であった。
応生成物に新たにフェノール2.7g(0.029モル)
を添加して、撹拌条件下150℃で0.5時間放置し
た。その後N2をバブリングしながら150℃からゆっ
くりと100℃に冷却しながら1.5時間放置した。こ
のようにして得られた最終反応液の液組成(モル百分
率)は、それぞれDPC97.3%、フェニルクロロフ
ォーメート0.9%、フェノール1.7%であった。仕込
みフェノールに対してDPCの収率は94.2%であ
り、フェニルクロロフォーメートの副生率は0.9%で
あった。
を行い、DPC91.0モル%、フェニルクロロフォー
メート7.4モル%及びフェノール1.6モル%の組成
(モル百分率)からなる反応混合物を得た。全量で0.
275モルのホスゲンを反応系に供給した。このときの
芳香族ヒドロキシ化合物の転化率は98.5%であっ
た。
で実施例2と同様の処理を行い最終反応液組成(モル百
分率)として、それぞれDPC94.1モル%、フェニ
ルクロロフォーメート4.8モル%及びフェノール1.0
モル%であった。最終的に得られた反応成績は仕込みフ
ェノールをベースにして、DPC収率90.6%であ
り、フェニルクロロフォーメート副生率が4.6%であ
った。
媒の存在下、液相中で反応させてジアリールカーボネー
トを製造する際に、本発明のよる特定の2工程反応を採
用することにより、所望のジアリールカーボネートの収
量を高め、かつアリールクロロフォーメートの副生を抑
制される。従って、本発明の方法は、その粗反応生成物
中にジアリールカーボネートの品質に悪影響を及ぼすア
リールクロロフォーメートがほとんど残在していないと
同時に、最大限の収率で所望のジアリールカーボネート
を得ることができる大きな利点を有しており、粗反応生
成物の精製工程の処理が大きく簡略化され、工業的に極
めて有利である。
Claims (4)
- 【請求項1】 芳香族ヒドロキシ化合物とホスゲンを触
媒の存在下液相中で反応させてジアリールカーボネート
を製造する方法において、芳香族ヒドロキシ化合物をホ
スゲンと反応させて、該芳香族ヒドロキシ化合物を90
%以上転化させる第1工程;および第1工程の反応生成
物に、該反応生成物中のアリールクロロフォーメートに
相当する化学量論以上となるように、芳香族ヒドロキシ
化合物を添加してアリールクロロフォーメートをジアリ
ールカーボネートに転化せしめる第2工程;を包含する
ことを特徴とするジアリールカーボネートの製造方法。 - 【請求項2】 第1工程における芳香族ヒドロキシ化合
物の転化率が95〜100%である請求項1記載の方
法。 - 【請求項3】 第2工程で添加される芳香族ヒドロキシ
化合物が、第1工程反応生成物中のアリールクロロフォ
ーメートに対して、1〜5(モル比)である請求項1記
載の方法。 - 【請求項4】 第2工程の反応生成物中のアリールクロ
ロフォーメートの量が、ジアリールカーボネート1モル
に対して2モル%以下である請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25788195A JP3546100B2 (ja) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | ジアリールカーボネートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25788195A JP3546100B2 (ja) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | ジアリールカーボネートの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09100256A true JPH09100256A (ja) | 1997-04-15 |
| JP3546100B2 JP3546100B2 (ja) | 2004-07-21 |
Family
ID=17312487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25788195A Expired - Fee Related JP3546100B2 (ja) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | ジアリールカーボネートの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3546100B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013007597A1 (de) | 2011-07-08 | 2013-01-17 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Verfahren zur herstellung von diarylcarbonaten |
| WO2013007601A1 (de) | 2011-07-08 | 2013-01-17 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Verfahren zur herstellung von diarylcarbonaten |
| WO2015169775A1 (de) | 2014-05-09 | 2015-11-12 | Covestro Deutschland Ag | Verfahren zur herstellung von diarylcarbonaten |
| CN115784930A (zh) * | 2022-10-24 | 2023-03-14 | 湖南化工研究院有限公司 | 一种水杨腈杂质的制备方法 |
-
1995
- 1995-10-04 JP JP25788195A patent/JP3546100B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO2013007597A1 (de) | 2011-07-08 | 2013-01-17 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Verfahren zur herstellung von diarylcarbonaten |
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| CN115784930A (zh) * | 2022-10-24 | 2023-03-14 | 湖南化工研究院有限公司 | 一种水杨腈杂质的制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3546100B2 (ja) | 2004-07-21 |
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