JPH09135077A - プリント配線板製造方法 - Google Patents
プリント配線板製造方法Info
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
配線板製造方法を提供する。 【解決手段】 ワークシート20上に複数の導電パター
ン23と、当該複数の導電パターン23を囲む枠状パタ
ーン40とを形成する。これにより、ロールコーターを
用いて層間剤を塗布する際に、当該枠状パターン40に
高い印圧がかかり、外端部にある配線23aには高い印
圧が加わらなくなるため、導電パターン23上に均一の
厚さで層間剤を塗布することができる。即ち、層間剤が
均一の厚みに塗布されているため、適切にバィアホール
を形成することができる。
Description
造方法に関し、特に、ワークシートから多数のプリント
配線板を製造する製造方法に関するものである。
ークシートによる多面取りが行われている。このワーク
シートは、一般に340mm×510mm、或いは、510
mm×510mmの形状で、このワークシート上に多数のプ
リント配線板用の導電パターンを形成した後、ダイシン
グ等で個々のプリント配線板に分割している。
リント配線板に高密度化が求められ、配線回路の多層化
された多層プリント配線板が用いられるようになってい
る。この多層プリント配線板の製造は、ワークシートの
上に導体回路と樹脂絶縁層とを交互にビルトアップする
ことにより行われている。
トアップにより形成する際には、最下層の配線層を銅張
基板の不要部分をエッチングにより除去し、即ち、サブ
トラックティブ(subtractive)法により図
7(A)に示すような複数の配線パターン23を形成す
る。そして、このサブトラックティブ法により形成した
配線パターン23の上に、アディティブ法によって複数
の配線層を積層する方式が一般的に取られている。ここ
で、最下層の配線層をサブトラックティブ法により形成
するのは、サブトラックティブ法が信頼性の高い配線層
を廉価に形成し得るからである。
ターン23の上に配線層を積層するため、図4に示すロ
ールコーター50に図7(A)に示すワークシート20
を図中の矢印C方向に通して層間剤を塗布する際に、ロ
ールコーター50への入り側端部の配線23aと内側の
配線23bとで、層間剤の厚みが異なっていた。これを
図8を参照して説明する。図8(A)は、矢印C方向に
ロールコーター50を通過させたワークシートの縦断面
を示している。ロールコーター50を最初に通過する入
り側端部の配線23aには、比較的高い印圧が加わり、
この後にロールコーター50を通過する内側の配線23
b以降では、ほぼ均一の印圧が加わる。このため、入り
側端部の配線23a上の膜厚α1は、内側の配線23b
上の膜厚β1と比較して薄くなる。
層間剤24にバイアホール用の開口部をフォトリソグラ
フィーにて形成する際に、内側の配線23b上の膜厚β
1に条件を合わせると、当該配線23b上のバイアホー
ル用開口16bは、適正に開口できる。これ対して、入
り側端部の配線23a上のバイアホール用開口16aは
形状不良となり、絶縁不良を発生したり、或いは、当該
バイアホール用開口16aを形成する際のエッチング液
によって配線23a自体が変質したり、更に、該配線2
3aをワークシート20に固着させている図示しない接
着剤が溶融されて、配線23が浮き上がる等の問題が生
じた。
α1に条件を合わせると、当該配線23a上のバイアホ
ール用開口16aは、適正に開口できるが、内側の配線
23b上のバイアホール用開口16bは未開口の状態と
なり、上層の配線パターンとの接続を適正に行い得なく
なる。
撓性の有る部材で覆われ、表面には、約1mmピッチで溝
50aが形成されている。図4(B)にロールコーター
50表面の拡大図を示す。上述した層間剤は、ロールコ
ーター50の溝50a内に担持され、所定圧でワークシ
ート20に押し付けられることで、当該ワークシート2
0側に転写されて行く。ここで、図4(A)に示すよう
に配線パターン23の形成されたワークシート20をロ
ールコーター50に通して層間剤を塗布する際に、ワー
クシート20の端部は比較的大きな凹凸や傷があるた
め、層間剤がワークシート20の表面に転写し得ない部
分が発生する。ここで、図7(B)に示すように、ワー
クシート20の端部20aにて、層間剤が転写されない
と、当該端部20aからスジ状に層間剤の転写されない
所謂塗布スジ46が発生して、プリント配線板に不良を
発生させる原因となっていた。
せた際に、応力が加わりワークシート20に反りが発生
していた。
なされたものであり、適正にバイアホールを形成させ得
るプリント配線板製造方法を提供することを目的とす
る。
せないと共に、基板に反りを発生させないプリント配線
板製造方法を提供することにある。
め、請求項1のプリント配線板製造方法では、略矩形状
のワークシートに付けられた導電体箔を複数の導電パタ
ーンと、当該複数の導電パターンを囲む枠状のパターン
とを残し除去するステップと、前記ワークシートにロー
ルコーターを用いて層間剤を塗布するステップと、上記
ステップにて塗布された層間剤を硬化させるステップ
と、を有することを技術的特徴とする。
リント配線板製造方法では、略矩形状のワークシートに
付けられた導電体箔を複数の導電パターンと、該ワーク
シートの周縁部のメッキリード部とを残し除去するステ
ップと、前記ワークシートにロールコーターを用いて層
間剤を塗布するステップと、上記ステップにて塗布され
た層間剤を硬化させるステップと、を有し、前記ワーク
シートの周縁部のメッキリード部を、前記層間剤を硬化
させる際に、該ワークシートに反りを発生させない太さ
にしたことを技術的特徴とする。
では、請求項2において、前記ワークシートが縦寸法及
び横寸法が340mm以上であって、前記メッキリード部
の幅が10mm以上であることを技術的特徴とする。請求
項1〜3のいずれの製造方法においても、層間剤上に導
電パターンを形成する。
導電パターンと、当該複数の導電パターンを囲む枠状の
パターンとを形成する。これにより、ロールコーターを
用いて層間剤を塗布する際に、当該枠状のパターンに高
い印圧がかかり、導電パターンには高い印圧が加わらな
くなるため、導電パターン上に均一の厚さで層間剤を塗
布することができる。また、ワークシートの外端部に
て、ロールコーターから層間剤を付着できず塗布すじが
発生しても、ロールコーターが枠状のパターンと接触し
た際に高い印圧がかかり、層間剤が該枠状パターンに付
着するため、導電パターン上に塗布すじが残らなくな
る。更に、枠状に導電体箔を残すことにより、層間剤を
硬化させる際に均一な力が加わり、ワークシートに反り
を発生させることがなくなる。
を囲むメッキリードを太く形成する。これにより、層間
剤を硬化させる際に均一な力が加わり、ワークシートに
反りを発生させることがなくなる。また、ワークシート
の外端部にて、ロールコーターから層間剤を付着できず
塗布すじが発生しても、太いメッキリードと接触した際
に高い印圧がかかり、層間剤が該メッキリードに付着す
るため、導電パターン上に塗布すじが残らなくなる。
様について図を参照して説明する。図1及び図2は、本
発明の一実施態様に係る多層プリント配線板の製造工程
を示している。図1(A)に示すように、厚さ1mmのガ
ラスエポキシ又はBT(ビスマレイドトリアジン)から
成る基材20aの両面に18μmの銅箔22がラミネー
トされて成る520mm×520mmのワークシート20を
出発材料とし、その銅箔22を常法に従いパターン状に
エッチングすることにより、複数の配線パターン23を
形成する。この際に、ワークシート20の周縁部に10
mm幅の枠状のパターン40を図3(A)に示すように残
す。この枠状パターン40は、配線パターン23側と接
続されてない。図3(A)に示すワークシート20の断
面を図1(B)に表す。
ルジメチルエーテル)に溶解したクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂(日本化薬製:分子量2500)の25
%アクリル化物を70重量部、ポリエーテルスルフォン
(PES)30重量部、イミダゾール硬化剤(四国化成
製:商品名2E4MZ−CN)4重量部、感光性モノマ
ーであるカプロラクトン変成トリス(アクロキシエチ
ル)イソシアヌレート(東亜合成製:商品名アロニック
スM325)10重量部、光開始剤としてのベンゾフェ
ノン(関東化学製)5重量部、光増感剤としてのミヒラ
ーケトン(関東化学製)0.5重量部、さらにこの混合
物に対してエポキシ樹脂粒子の平均粒径5.5μmを3
5重量部、平均粒径0.5μmのものを5重量部を混合
した後、さらにNMPを添加しながら混合し、ホモディ
スパー攪拌機で粘度2000cps に調整し、続いて3本
ロールで混練して感光性接着剤溶剤を得る。
示すワークシート20の両面に、上記感光性接着剤用材
(層間剤)を図4に示すロールコーター50を用いて塗
布する。即ち、ワークシート20をロールコーター50
に図3(A)中の矢印C方向へ通す。この際に、図3
(A)に示すロールコーターへの入り側端部の配線23
aと内側の配線23bとで、層間剤26の厚みが均一と
なる。これを図8を参照して説明する。図8(C)は、
矢印C方向にロールコーター50を通過させたワークシ
ート20の縦断面を示している。ロールコーター50を
最初に通過する枠状パターン40にて比較的高い印圧が
加わり、この後にロールコーター50を通過する入り側
端部の配線23a及び内側の配線23bは、ほぼ均一の
印圧が加わる。このため、枠状パターン40上の膜厚γ
は、入り側端部の配線23a上の膜厚α2と内側の配線
23b上の膜厚β2と比較して薄くなるが、配線23a
上の膜厚α2と内側の配線23b上の膜厚β2とは等し
くなる。即ち、図3(A)に示す配線パターン23上の
全てにおいて膜厚が均一となる。
うにワークシート20の端部は比較的大きな凹凸がある
ため、図4(A)に示すようにワークシート20をロー
ルコーター50に通して層間剤を塗布する際に、層間剤
がワークシート20の表面に転写し得ない部分が発生す
る。ここで、図3(B)に示すように、ワークシート2
0の端部20aにて、層間剤が転写されないと、当該端
部20aからスジ状に層間剤が転写されない所謂塗布ス
ジ46が発生する。しかしながら、ロールコーター50
が枠状パターン40と当接した時点で、ロールコーター
50の表面が該枠状パターン40に押し当てられて、再
び層間剤がロールコーター50側に転写されるようにな
る。即ち、ワークシート20の端部で発生した塗布スジ
46は、枠状パターン40を越えて配線パターン23側
まで延在することがないため、塗布スジによるプリント
配線板の障害が発生しなくなる。
ト20を水平状態で20分間放置してから、60°Cで
30分の乾燥を行い、図1(C)に示すように厚さ60
μmの接着剤層26を形成する。
成されたワークシート20に、バイアホールを形成する
ため、100μmφの黒円が印刷されたフォトマスクフ
ィルムを密着させ、超高圧水銀灯にて500mj/cm2 で
露光する。これをDMTG溶液でスプレー現像すること
により、接着剤層26に100μmφのバイアホールと
なる開口28aを形成する(図1(D))。さらに、当
該ワークシート20を超高圧水銀灯にて3000mj/cm
2 で露光し、100°Cで1時間、その後150°Cで
5時間加熱処理することにより、フォトマスクフィルム
に相当する寸法精度に優れた開口(バイアホール形成用
開口)を有する厚さ50μmの樹脂層間絶縁層27を形
成する。なお、バイアホールとなる開口28aには、図
示しないスズメッキ層を部分的に露出させる。
係る多層プリント配線板の製造方法では、入り側端部の
配線23a上と内側の配線23b上とで膜厚が異なった
が、この第1実施態様では、入り側端部の配線23a上
と内側の配線23b上との膜厚とが等しくなっている。
従って、図8(D)で示すように配線パターン23上の
全てでバイアホールとなる開口28a、28bを高い寸
法精度で形成することができる。このため、後述する上
層の導体回路との接続を適正に行える他、入り側端部の
配線23aのオーバエッチングによるワークシート20
からの剥離、或いは、オーバエッチングによる絶縁不良
が生じない。
されたワークシート20を、70°CのCrO3 (80
0g/l)水溶液に10〜30分間浸漬し、樹脂層間絶
縁層27中のエポキシ樹脂粒子を溶解して、当該樹脂層
間絶縁層27の表面を粗化し(図2(E)参照)、その
後、中和溶液(シプレイ社製)に浸漬した後に水洗いす
る。
ワークシート20にパラジウム触媒(アトテック製)を
付与することにより、樹脂層間絶縁層27及びバイアホ
ール用開口28aに触媒核を付ける。
ボラック型エポキシ樹脂(日本化薬製:商品名EOCN
−103S)のエポキシ基25%をアクリル化した感光
性付与のオリゴマー(分子量4000)、イミダゾール
硬化剤(四国化成製:商品名2PMHZ−PW)、感光
性モノマーであるアクリル系イソシアネート(東亜合成
製:商品名アロニックスM215)、光開始剤としての
ベンゾフェノン(関東化学製)、光増感剤としてのミヒ
ラーケトン(関東化学製)を以下の組成でNMPを用い
て混合して、ホモディスパー攪拌機で粘度3000cps
に調整し、続いて3本ロールで混練して液状レジストを
得る。 樹脂組成物;感光性エポキシ/M215/BP/MK/
イミダゾール=70/10/5/0.5/5
ート20の両面に、上記液状レジストをロールコーター
を用いて塗布し、60°Cで30分の乾燥を行い厚さ3
0μmレジスト層を形成する。次いで、L/S(ライン
とスペースとの比)=50/50の導体回路パターンの
描画されたマスクフィルムを密着させ、超高圧水銀灯に
て1000mj/cm2 で露光し、DMTGでスプレー現像
処理することにより、ワークシート20上に導体回路パ
ターン部の抜けたメッキ用レジストを形成し、更に、超
高圧水銀灯にて6000mj/cm2 で露光し、100°C
で1時間、その後、150°Cで3時間の加熱処理を行
い、層間絶縁層27の上に図2(F)に示すように永久
レジスト30を形成する。
シート20に、予めめっき前処理(具体的には硫酸処理
等及び触媒核の活性化)を施し、その後、図5に示す組
成の無電解銅めっき浴による無電解めっきによって、レ
ジスト非形成部に厚さ15μm程度の無電解銅めっき3
4を析出させて、外層銅パターン、バイアホール32を
形成することにより、アディティブ法による導体層を形
成する(図2(G))。
2(G)を参照した工程までを繰り返すことにより、ア
ディティブ法による導体層を更にもう一層形成する(図
2(H))。このように配線層をビルドアップして行く
ことにより6層の配線層を形成する。
よって切断することにより、製品サイズのプリント配線
板を得る。
て、図6(A)を参照して説明する。図3を参照して上
述した第1実施態様では、ワークシート20の周縁に枠
状パターン40が形成されていたが、この第2実施態様
では、電解メッキを行うためのメッキリード44がワー
クシート20の周縁に配設されている。ここで、ワーク
シート20には、第2実施態様では340mm×340mm
のサイズのものが用いられ、銅箔は18μmに形成され
ている。そして、メッキリード44の幅は10mmに形成
されている。なお、メッキリード44と配線パターン2
3は、電気的に接続されているが、図面が複雑になるた
め接続のためのパターンは省略されている点に注意され
たい。
された従来技術に係るワークシート20を示している。
従来のメッキリード144は、必要な電流を通し得るよ
うに1mm程度の幅で形成されていた。このため、層間剤
をロールコーター50にて塗布する際に、ワークシート
20の端部20aにて層間剤を転写し得なくなると、当
該端部20aからスジ状に層間剤の転写されない所謂塗
布スジ46が、メッキリード144を越えて延在してい
た。これに対して、第2実施態様のワークシート20に
は、10mm幅のメッキリード44が形成されているた
め、上述した第1実施態様と同様に、塗布スジが該メッ
キリード44を越えて配線パターン23まで延在するこ
とがない。
ト20に10mm幅のメッキリード44を配設し、ワーク
シート20上の残銅率を均一に近づけたことにより、塗
布した層間剤を硬化させた際に、ワークシート20に反
りが発生しない。なお、この第2実施態様では、340
mm×340mmのワークシート20を用いたが、520mm
×520mmのワークシートでも、10mm幅のメッキリー
ド44を配設することにより、第1実施態様と同様に層
間剤を硬化させる際に、ワークシート20に反りが発生
しないと予測される。なお、図6(B)のメッキリード
144と配線パタン23とは電気的に接続されている
が、図面が複雑になるため接続のためのパターンは省略
されている点に注意されたい。
ワークシート20の基材20aとしてガラスエポキシ又
はBTを用いる例を挙げたが、本発明は、ワークシート
20としてガラスポリイミド、ポリイミドフィルム等の
可撓性を有する種々の材料を用いる際に、反りの発生を
防ぐことができる。更に、可撓性の低い、アルミナ基
板、低温焼成セラミック基板、窒化アルミニウム基板、
アルミニウム基板、鉄基板、銅基板等を用いる際にも、
本発明は、層間剤を均一の厚みにすることによりバイア
ホールを適切に形成させると共に、塗布スジの発生を防
ぐことができる。
方法によれば、ワークシート上に枠状のパターンを形成
することにより、導電パターン上に均一の厚さで層間剤
を塗布することが可能となり、バイアホールを適切に形
成できる。また、配線パターン上に塗布すじが発生しな
いため、不良のプリント配線板を発生させることがな
い。更に、当該枠状パターンにより、層間剤を硬化させ
る際に均一な力が加わり、ワークシートに反りを発生さ
せることがない。
形成することにより、導電パターン上に均一の厚さで層
間剤を塗布することが可能となり、バイアホールを適切
に形成できる。また、配線パターン上に塗布すじが発生
しないため、不良のプリント配線板を発生させることが
ない。更に、太いメッキリードにより、層間剤を硬化さ
せる際に均一な力が加わり、ワークシートに反りを発生
させることがない。
面図である。
の製造工程を示す工程図である。
の製造工程を示す工程図である。
ークシートの平面図であり、図6(B)は、従来技術に
係るワークシートの平面図である。
層間剤に設けられたバイアホールを示す説明図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 略矩形状のワークシートに付けられた導
電体箔を複数の導電パターンと、当該複数の導電パター
ンを囲む枠状のパターンとを残し除去するステップと、 前記ワークシートにロールコーターを用いて層間剤を塗
布するステップと、 上記ステップにて塗布された層間剤を硬化させるステッ
プと、を有することを特徴とするプリント配線板製造方
法。 - 【請求項2】 略矩形状のワークシートに付けられた導
電体箔を複数の導電パターンと、該ワークシートの周縁
部のメッキリード部とを残し除去するステップと、 前記ワークシートにロールコーターを用いて層間剤を塗
布するステップと、 上記ステップにて塗布された層間剤を硬化させるステッ
プと、を有し、 前記ワークシートの周縁部のメッキリード部を、前記層
間剤を硬化させる際に、該ワークシートに反りを発生さ
せない太さにしたことを特徴とするプリント配線板製造
方法。 - 【請求項3】 前記ワークシートが縦寸法及び横寸法が
340mm以上であって、 前記メッキリード部の幅が10mm以上であることを特徴
とする請求項2のプリント配線板製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31468495A JP3447029B2 (ja) | 1995-11-07 | 1995-11-07 | プリント配線板製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31468495A JP3447029B2 (ja) | 1995-11-07 | 1995-11-07 | プリント配線板製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09135077A true JPH09135077A (ja) | 1997-05-20 |
| JP3447029B2 JP3447029B2 (ja) | 2003-09-16 |
Family
ID=18056311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31468495A Expired - Lifetime JP3447029B2 (ja) | 1995-11-07 | 1995-11-07 | プリント配線板製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3447029B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11126979A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 多層基板及びその母材 |
| WO2000016597A1 (fr) * | 1998-09-14 | 2000-03-23 | Ibiden Co., Ltd. | Plaquette de circuit imprime et son procede de fabrication |
| EP2019571A2 (en) | 2007-07-25 | 2009-01-28 | TDK Corporation | Electronic component-embedded board and method of manufacturing the same |
| JP2013115368A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Rohm Co Ltd | Ledモジュール |
-
1995
- 1995-11-07 JP JP31468495A patent/JP3447029B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPH11126979A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 多層基板及びその母材 |
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| US7230188B1 (en) | 1998-09-14 | 2007-06-12 | Ibiden Co., Ltd. | Printed wiring board and its manufacturing method |
| US7691189B2 (en) | 1998-09-14 | 2010-04-06 | Ibiden Co., Ltd. | Printed wiring board and its manufacturing method |
| US7827680B2 (en) | 1998-09-14 | 2010-11-09 | Ibiden Co., Ltd. | Electroplating process of electroplating an elecrically conductive sustrate |
| US8065794B2 (en) | 1998-09-14 | 2011-11-29 | Ibiden Co., Ltd. | Printed wiring board and its manufacturing method |
| EP2019571A2 (en) | 2007-07-25 | 2009-01-28 | TDK Corporation | Electronic component-embedded board and method of manufacturing the same |
| US8237059B2 (en) | 2007-07-25 | 2012-08-07 | Tdk Corporation | Electronic component-embedded board and method of manufacturing the same |
| JP2013115368A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Rohm Co Ltd | Ledモジュール |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3447029B2 (ja) | 2003-09-16 |
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