JPH0915788A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 感材のバック面に最外層として、下記
(I),(II),(III)で表される繰り返し単位
を少なくとも1種以上含むポリマーを含有する疎水性ポ
リマー層を設ける。 [(I)中、R1 、R2 =H、F、メチル;R3 =H、
F、C数1〜4のアルキル;R4 =F含有基:(II)
中、R5 、R6 =H、C数1〜8のアルキル;Z=C数
6〜20のアルキル、アリール:(III)中、R7 〜
R12=H、C数1〜4のアルキル、ハロゲン;X=2価
基、J=C数1〜12のアルキレン] 【効果】 疎水性ポリマー層の耐水性を改良でき、乾燥
性、搬送性に優れ、カールを防止できるとともに、迅速
処理が可能で補充量を低減できる。
(I),(II),(III)で表される繰り返し単位
を少なくとも1種以上含むポリマーを含有する疎水性ポ
リマー層を設ける。 [(I)中、R1 、R2 =H、F、メチル;R3 =H、
F、C数1〜4のアルキル;R4 =F含有基:(II)
中、R5 、R6 =H、C数1〜8のアルキル;Z=C数
6〜20のアルキル、アリール:(III)中、R7 〜
R12=H、C数1〜4のアルキル、ハロゲン;X=2価
基、J=C数1〜12のアルキレン] 【効果】 疎水性ポリマー層の耐水性を改良でき、乾燥
性、搬送性に優れ、カールを防止できるとともに、迅速
処理が可能で補充量を低減できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀写真感光材
料、特に水洗処理後の乾燥性が改良され、迅速処理適性
に優れたハロゲン化銀写真感光材料に関するものであ
る。
料、特に水洗処理後の乾燥性が改良され、迅速処理適性
に優れたハロゲン化銀写真感光材料に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】迅速現像処理、例えばフィルムの先端を
自動現像機に挿入してから、現像槽、渡り部分、定着
槽、渡り部分、水洗槽、渡り部分を通過してフィルムの
先端が乾燥部から出て来た時間が15〜60秒で、か
つ、自動現像機のラインスピードが1000mm/min 以
上で処理する場合、ハロゲン化銀写真感光材料の乾燥性
を改良して乾燥時間を短縮する手段が有効である。乾燥
性改良の手段としてハロゲン化銀写真感光材料のバイン
ダー量を減らす方法があるが、この方法は、ハロゲン化
銀写真感光材料の力学強度の低下、擦り傷黒化、ローラ
ーマークの発生といった問題を生ずる。
自動現像機に挿入してから、現像槽、渡り部分、定着
槽、渡り部分、水洗槽、渡り部分を通過してフィルムの
先端が乾燥部から出て来た時間が15〜60秒で、か
つ、自動現像機のラインスピードが1000mm/min 以
上で処理する場合、ハロゲン化銀写真感光材料の乾燥性
を改良して乾燥時間を短縮する手段が有効である。乾燥
性改良の手段としてハロゲン化銀写真感光材料のバイン
ダー量を減らす方法があるが、この方法は、ハロゲン化
銀写真感光材料の力学強度の低下、擦り傷黒化、ローラ
ーマークの発生といった問題を生ずる。
【0003】擦り傷黒化、ローラーマークは共にハロゲ
ン化銀写真感光材料の商品価値を著しく低下させてしま
う。ハロゲン化銀乳剤層が支持体の一方の側にあるハロ
ゲン化銀写真感光材料(以降「片面感材」ともいう。)
の場合にはバック面の非感光性親水性コロイド層を除去
するか、またはバック面の非感光層バインダーを疎水性
バインダーとする事で乾燥性が良化する。しかし、この
方法ではハロゲン化銀写真感光材料のカールが著しく悪
化し、自動搬送系において、搬送不良を起こすなど実用
には供せられない。
ン化銀写真感光材料の商品価値を著しく低下させてしま
う。ハロゲン化銀乳剤層が支持体の一方の側にあるハロ
ゲン化銀写真感光材料(以降「片面感材」ともいう。)
の場合にはバック面の非感光性親水性コロイド層を除去
するか、またはバック面の非感光層バインダーを疎水性
バインダーとする事で乾燥性が良化する。しかし、この
方法ではハロゲン化銀写真感光材料のカールが著しく悪
化し、自動搬送系において、搬送不良を起こすなど実用
には供せられない。
【0004】一方、環境保全の観点から多くの分野で、
資源、発生ガス、廃水、廃棄物などの見直しが行われて
いる。写真処理の分野では、省資源化、廃水量の減量、
使用容器の減量などの点から、感光材料の処理に使用す
る処理液補充量を減量する必要性が高まっている。しか
し、現像液の補充量を減らすと著しく現像速度が遅くな
り、また、定着液の補充量を減らすと著しく定着液速度
が遅くなるため、従来はかなり多量(感光材料1m2当り
現像液は250〜500ml、定着液は500〜800m
l)の補充を行っている。現像速度および定着速度を早
くするため、処理温度を高くしたり、処理時の撹拌条件
を強化することが行われるが、臭気の発生、装置コスト
の上昇を招くなど種々の問題がある。このように、迅速
処理適性を有し、かつ、処理液の補充量の軽減が可能な
ハロゲン化銀写真感光材料が強く望まれている。
資源、発生ガス、廃水、廃棄物などの見直しが行われて
いる。写真処理の分野では、省資源化、廃水量の減量、
使用容器の減量などの点から、感光材料の処理に使用す
る処理液補充量を減量する必要性が高まっている。しか
し、現像液の補充量を減らすと著しく現像速度が遅くな
り、また、定着液の補充量を減らすと著しく定着液速度
が遅くなるため、従来はかなり多量(感光材料1m2当り
現像液は250〜500ml、定着液は500〜800m
l)の補充を行っている。現像速度および定着速度を早
くするため、処理温度を高くしたり、処理時の撹拌条件
を強化することが行われるが、臭気の発生、装置コスト
の上昇を招くなど種々の問題がある。このように、迅速
処理適性を有し、かつ、処理液の補充量の軽減が可能な
ハロゲン化銀写真感光材料が強く望まれている。
【0005】最近、特開平5- 127282号、同5-
127306号に、支持体のハロゲン化銀乳剤層が塗設
されている面と反対側の面に親水性コロイド層と疎水性
ポリマー層をこの順に塗設する技術が開示されており、
迅速処理適性を付与する有力な手段として知られるよう
になっている。しかしながら、これらについて検討した
結果、これらの発明における疎水性ポリマー層の処理液
遮断性は決して大きいものではなく、高度な迅速処理適
性付与、処理液補充量の低減を達成しようとするとき、
さらに処理液遮断性に優れた皮膜形成性のポリマー素材
が必要である。
127306号に、支持体のハロゲン化銀乳剤層が塗設
されている面と反対側の面に親水性コロイド層と疎水性
ポリマー層をこの順に塗設する技術が開示されており、
迅速処理適性を付与する有力な手段として知られるよう
になっている。しかしながら、これらについて検討した
結果、これらの発明における疎水性ポリマー層の処理液
遮断性は決して大きいものではなく、高度な迅速処理適
性付与、処理液補充量の低減を達成しようとするとき、
さらに処理液遮断性に優れた皮膜形成性のポリマー素材
が必要である。
【0006】より具体的には、処理液遮断性は親水性コ
ロイド層と疎水性ポリマー層との合計の膨潤度で評価で
きる。そして、この処理液遮断性が悪いと、例えば現像
槽から定着槽への現像液のもちこみ(キャリーオーバ
ー)が生じ、低補充を行うことができない。また、乾燥
性も悪化し迅速処理を行うことができない。さらに、処
理後でも、空気中の湿度の遮断も不十分となり、カール
が生じ、細線画像などの歪みを生じてしまう。
ロイド層と疎水性ポリマー層との合計の膨潤度で評価で
きる。そして、この処理液遮断性が悪いと、例えば現像
槽から定着槽への現像液のもちこみ(キャリーオーバ
ー)が生じ、低補充を行うことができない。また、乾燥
性も悪化し迅速処理を行うことができない。さらに、処
理後でも、空気中の湿度の遮断も不十分となり、カール
が生じ、細線画像などの歪みを生じてしまう。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的は
処理液遮断性に優れた疎水性ポリマー層を形成するポリ
マー素材を用いたハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことである。第2の目的は水洗処理後の乾燥性が良好
で、カールが小さく、かつ搬送性が良好なハロゲン化銀
写真感光材料を提供することである。第3の目的は、迅
速処理適性を有し、かつ、処理液の補充量が軽減された
ハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。第4
の目的は塗膜のひび割れがなく、かつ、耐付着性に優れ
たハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
処理液遮断性に優れた疎水性ポリマー層を形成するポリ
マー素材を用いたハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことである。第2の目的は水洗処理後の乾燥性が良好
で、カールが小さく、かつ搬送性が良好なハロゲン化銀
写真感光材料を提供することである。第3の目的は、迅
速処理適性を有し、かつ、処理液の補充量が軽減された
ハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。第4
の目的は塗膜のひび割れがなく、かつ、耐付着性に優れ
たハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(4)の構成によって達成される。 (1)支持体の一方の面に少なくとも一層の親水性コロ
イドをバインダーとするハロゲン化銀乳剤層を塗設し、
支持体の前記ハロゲン化銀乳剤層が塗設されている面と
反対側の面に親水性コロイドをバインダーとする非感光
性コロイド層と、前記非感光性親水性コロイド層の最外
層に疎水性ポリマー層とが塗設されたハロゲン化銀写真
感光材料において、前記疎水性ポリマー層を形成するポ
リマー素材が下記化5、化6および化7で表される繰り
返し単位を少なくとも1種以上含むハロゲン化銀写真感
光材料。
(1)〜(4)の構成によって達成される。 (1)支持体の一方の面に少なくとも一層の親水性コロ
イドをバインダーとするハロゲン化銀乳剤層を塗設し、
支持体の前記ハロゲン化銀乳剤層が塗設されている面と
反対側の面に親水性コロイドをバインダーとする非感光
性コロイド層と、前記非感光性親水性コロイド層の最外
層に疎水性ポリマー層とが塗設されたハロゲン化銀写真
感光材料において、前記疎水性ポリマー層を形成するポ
リマー素材が下記化5、化6および化7で表される繰り
返し単位を少なくとも1種以上含むハロゲン化銀写真感
光材料。
【0009】
【化5】
【0010】
【化6】
【0011】
【化7】
【0012】[化5において、R1 およびR2 は各々独
立に水素原子、メチル基またはフッ素原子を表す。R3
は水素原子、フッ素原子または炭素原子数1〜4のアル
キル基を表す。R1 、R2 およびR3 は各々同一であっ
ても異なっていてもよい。R4は少なくとも1個のフッ
素原子を有する一価の基を表す。化6において、R5 お
よびR6 は各々水素原子または炭素原子数1〜8のアル
キル基を表す。Zは炭素原子数6〜20のアルキル基ま
たはアリール基を表す。化7において、R7 、R8 、R
9 、R10、R11およびR12は各々独立に水素原子、炭素
原子数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子を表わ
す。Xは2価の連結基を表す。Jは炭素数1〜12のア
ルキレン基を表す。] (2)前記ポリマー素材が前記繰り返し単位の少なくと
も1種以上を75重量%以上含有する上記(1)のハロ
ゲン化銀写真感光材料。 (3)前記化6におけるZが炭素原子数6〜12のアリ
ール基である上記(1)または(2)のハロゲン化銀写
真感光材料。 (4)前記化7における2価の連結基Xが下記化8で表
される基、−COO−または−OCO−である上記
(1)または(2)のハロゲン化銀写真感光材料。
立に水素原子、メチル基またはフッ素原子を表す。R3
は水素原子、フッ素原子または炭素原子数1〜4のアル
キル基を表す。R1 、R2 およびR3 は各々同一であっ
ても異なっていてもよい。R4は少なくとも1個のフッ
素原子を有する一価の基を表す。化6において、R5 お
よびR6 は各々水素原子または炭素原子数1〜8のアル
キル基を表す。Zは炭素原子数6〜20のアルキル基ま
たはアリール基を表す。化7において、R7 、R8 、R
9 、R10、R11およびR12は各々独立に水素原子、炭素
原子数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子を表わ
す。Xは2価の連結基を表す。Jは炭素数1〜12のア
ルキレン基を表す。] (2)前記ポリマー素材が前記繰り返し単位の少なくと
も1種以上を75重量%以上含有する上記(1)のハロ
ゲン化銀写真感光材料。 (3)前記化6におけるZが炭素原子数6〜12のアリ
ール基である上記(1)または(2)のハロゲン化銀写
真感光材料。 (4)前記化7における2価の連結基Xが下記化8で表
される基、−COO−または−OCO−である上記
(1)または(2)のハロゲン化銀写真感光材料。
【0013】
【化8】
【0014】[化8において、R13は水素原子または炭
素原子数1〜4のアルキル基を表す。]
素原子数1〜4のアルキル基を表す。]
【0015】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
に説明する。
【0016】本発明のハロゲン化銀感光材料は、支持体
のハロゲン化銀乳剤層が塗設された反対側の面、いわゆ
る支持体裏面に非感光性親水性コロイド層(バック層)
を有するものであり、さらにバック層の最外層に疎水性
ポリマー層が塗設されている。
のハロゲン化銀乳剤層が塗設された反対側の面、いわゆ
る支持体裏面に非感光性親水性コロイド層(バック層)
を有するものであり、さらにバック層の最外層に疎水性
ポリマー層が塗設されている。
【0017】この場合の疎水性ポリマー層に含有される
ポリマー素材は、化5、化6および化7で表される繰り
返し単位を少なくとも1種以上含むものである。具体的
には、化5、化6または化7の同一の繰り返し単位から
なるホモポリマー、化5同士、化6同士または化7同士
の各々異なる繰り返し単位からなるコポリマー、化5、
化6および化7で表される各々の繰り返し単位の2種以
上から選択される異なる繰り返し単位からなるコポリマ
ー、さらにこれらのポリマーにおいて、化5〜化7以外
の他の繰り返し単位を含むコポリマーが挙げられる。こ
のなかで、化5〜化7以外の他の繰り返し単位を含むコ
ポリマーであるときは、化5〜化7で表される繰り返し
単位を50重量%以上含むことが好ましく、さらには7
5重量%以上含むことが好ましい。
ポリマー素材は、化5、化6および化7で表される繰り
返し単位を少なくとも1種以上含むものである。具体的
には、化5、化6または化7の同一の繰り返し単位から
なるホモポリマー、化5同士、化6同士または化7同士
の各々異なる繰り返し単位からなるコポリマー、化5、
化6および化7で表される各々の繰り返し単位の2種以
上から選択される異なる繰り返し単位からなるコポリマ
ー、さらにこれらのポリマーにおいて、化5〜化7以外
の他の繰り返し単位を含むコポリマーが挙げられる。こ
のなかで、化5〜化7以外の他の繰り返し単位を含むコ
ポリマーであるときは、化5〜化7で表される繰り返し
単位を50重量%以上含むことが好ましく、さらには7
5重量%以上含むことが好ましい。
【0018】まず、化5について説明すると、化5で表
される少なくとも1個のフッ素原子を含む繰り返し単位
を与えるエチレン性不飽和モノマーとしては、アクリル
酸エステル類、メタクリル酸エステル類、置換アクリル
アミド類、置換メタクリルアミド類、ビニルエステル
類、置換スチレン類が好ましい。
される少なくとも1個のフッ素原子を含む繰り返し単位
を与えるエチレン性不飽和モノマーとしては、アクリル
酸エステル類、メタクリル酸エステル類、置換アクリル
アミド類、置換メタクリルアミド類、ビニルエステル
類、置換スチレン類が好ましい。
【0019】化5において、R1 およびR2 は各々独立
に水素原子、メチル基またはフッ素原子を表す。R3 は
水素原子、フッ素原子または炭素原子数1〜4のアルキ
ル基を表し、これらのアルキル基はフッ素原子等が置換
されていてもよく、例えばメチル基、エチル基、n−ブ
チル基、トリフルオロメチル基であってよく、R3 とし
て、好ましくは水素原子、メチル基、トリフルオロメチ
ル基である。R1 、R2 およびR3 は各々同一であって
も異なっていてもよい。R4 は少なくとも1個のフッ素
原子を有する一価の基を表す。R4 の好ましい例とし
て、−F、−(CF2 )n −F(n=1〜10)、−
(CH2 )k −NHSO2 (CF2 )n −F(k=1〜
4、n=1〜10)、−O−(CF2 )n −F(n=1
〜10)、−O−(CF2 )n −OC6 F5 (n=2〜
3)、−COO−(CH2 )m −(CF2 )n −F(m
=1〜4、n=1〜10)、−COO−(CH2 )m −
(CF2 )n −H(m=1〜4、n=1〜10)、−C
OO−CH(CF3 )2 、−COOCH2 CH(OH)
CH2 −(CF2 )n −F(n=1〜10)、−COO
CH2 CH(OH)CH2 −(CF2 )n −CF(CF
3 )2 (n=1〜10)、−COOCH2 CF2 CHF
CF3 、−COO−(CH2 )m N(R14)SO2 −
(CF2 )n F(m=1〜4、n=1〜10、R14は炭
素原子数1〜4のアルキル基)、−COO−CH2 CH
(OH)CH2 −N(R15)SO2 −(CF2 )n −F
(n=1〜10、R15は炭素原子数1〜4のアルキル
基)、−COO−(CH2 )m −N(R16)CO−(C
F2 )n −F(m=1〜4、n=1〜10、R16は炭素
原子数1〜4のアルキル基)、−CONH−(CH2 )
m −(CF2 )n −F(m=1〜4、n=1〜10)、
−CONH−(CH2 )m −(CF2 )n −H(m=1
〜4、n=1〜10)、−CONH−C6 F5 、化9〜
化12で表される基、
に水素原子、メチル基またはフッ素原子を表す。R3 は
水素原子、フッ素原子または炭素原子数1〜4のアルキ
ル基を表し、これらのアルキル基はフッ素原子等が置換
されていてもよく、例えばメチル基、エチル基、n−ブ
チル基、トリフルオロメチル基であってよく、R3 とし
て、好ましくは水素原子、メチル基、トリフルオロメチ
ル基である。R1 、R2 およびR3 は各々同一であって
も異なっていてもよい。R4 は少なくとも1個のフッ素
原子を有する一価の基を表す。R4 の好ましい例とし
て、−F、−(CF2 )n −F(n=1〜10)、−
(CH2 )k −NHSO2 (CF2 )n −F(k=1〜
4、n=1〜10)、−O−(CF2 )n −F(n=1
〜10)、−O−(CF2 )n −OC6 F5 (n=2〜
3)、−COO−(CH2 )m −(CF2 )n −F(m
=1〜4、n=1〜10)、−COO−(CH2 )m −
(CF2 )n −H(m=1〜4、n=1〜10)、−C
OO−CH(CF3 )2 、−COOCH2 CH(OH)
CH2 −(CF2 )n −F(n=1〜10)、−COO
CH2 CH(OH)CH2 −(CF2 )n −CF(CF
3 )2 (n=1〜10)、−COOCH2 CF2 CHF
CF3 、−COO−(CH2 )m N(R14)SO2 −
(CF2 )n F(m=1〜4、n=1〜10、R14は炭
素原子数1〜4のアルキル基)、−COO−CH2 CH
(OH)CH2 −N(R15)SO2 −(CF2 )n −F
(n=1〜10、R15は炭素原子数1〜4のアルキル
基)、−COO−(CH2 )m −N(R16)CO−(C
F2 )n −F(m=1〜4、n=1〜10、R16は炭素
原子数1〜4のアルキル基)、−CONH−(CH2 )
m −(CF2 )n −F(m=1〜4、n=1〜10)、
−CONH−(CH2 )m −(CF2 )n −H(m=1
〜4、n=1〜10)、−CONH−C6 F5 、化9〜
化12で表される基、
【0020】
【化9】
【0021】
【化10】
【0022】
【化11】
【0023】
【化12】
【0024】−COO−(CH2 )m −N(R17)CO
−(CF2 )n −H(m=1〜4、n=1〜10、R17
は炭素原子数1〜4のアルキル基)、−CONH−(C
H2 )m −N(R18)CO−(CF2 )n −F(m=1
〜4、n=1〜10、R18は炭素原子数1〜4のアルキ
ル基)、−OCO−(CF2 )n H(n=1〜10)、
−OCO−(CF2 )n F(n=1〜10)、化13、
化14で表される基、
−(CF2 )n −H(m=1〜4、n=1〜10、R17
は炭素原子数1〜4のアルキル基)、−CONH−(C
H2 )m −N(R18)CO−(CF2 )n −F(m=1
〜4、n=1〜10、R18は炭素原子数1〜4のアルキ
ル基)、−OCO−(CF2 )n H(n=1〜10)、
−OCO−(CF2 )n F(n=1〜10)、化13、
化14で表される基、
【0025】
【化13】
【0026】
【化14】
【0027】−COOCH2 CH2 OCO−(CH2 )
m −(CF2 )n −F(m=1〜4、n=1〜10)、
−COOCH2 CH2 OCO−(CH2 )m −(CF
2 )n −H(m=1〜4、n=1〜10)、−COOC
H2 CH2 OCO−(CF2 )n −F(n=1〜1
0)、−COOCH2 CH(OH)CH2 −O−CH2
(CF2 )2 H、化15で表される基が挙げられる。
m −(CF2 )n −F(m=1〜4、n=1〜10)、
−COOCH2 CH2 OCO−(CH2 )m −(CF
2 )n −H(m=1〜4、n=1〜10)、−COOC
H2 CH2 OCO−(CF2 )n −F(n=1〜1
0)、−COOCH2 CH(OH)CH2 −O−CH2
(CF2 )2 H、化15で表される基が挙げられる。
【0028】
【化15】
【0029】これらのうち、−COO−(CH2 )m −
(CF2 )n −F(m=1〜4、n=1〜10)、−O
CO−(CH2 )m −(CF2 )n −F(m=1〜4、
n=1〜10)、−COOCH2 CH2 OCO−(CH
2 )m −(CF2 )n −F(m=1〜4、n=1〜1
0)、−COO−CH(CF3 )2 、−COO−(CH
2 )m −(CF2 )n −H(m=1〜4、n=1〜1
0)、−C6 H4 −COO−(CH2 )m −(CF2 )
n −F(化9に記載のもの:m=1〜4、n=1〜1
0)、−CONH−(CH2 )m −(CF2 )n −F
(m=1〜4、n=1〜10)が特に好ましい。化5で
表される繰り返し単位を有するホモポリマーの例を以下
に列挙するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
(CF2 )n −F(m=1〜4、n=1〜10)、−O
CO−(CH2 )m −(CF2 )n −F(m=1〜4、
n=1〜10)、−COOCH2 CH2 OCO−(CH
2 )m −(CF2 )n −F(m=1〜4、n=1〜1
0)、−COO−CH(CF3 )2 、−COO−(CH
2 )m −(CF2 )n −H(m=1〜4、n=1〜1
0)、−C6 H4 −COO−(CH2 )m −(CF2 )
n −F(化9に記載のもの:m=1〜4、n=1〜1
0)、−CONH−(CH2 )m −(CF2 )n −F
(m=1〜4、n=1〜10)が特に好ましい。化5で
表される繰り返し単位を有するホモポリマーの例を以下
に列挙するが、本発明はこれに限定されるものではな
い。
【0030】
【化16】
【0031】
【化17】
【0032】
【化18】
【0033】
【化19】
【0034】
【化20】
【0035】次に化6について説明すると、化6におい
て、R5 およびR6 は各々水素原子または炭素原子数1
〜8のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメ
チル基である。Zは炭素原子数6〜20の置換されても
よいアルキル基またはアリール基である。炭素原子数6
〜20の置換されてもよいアルキル基としては、例えば
n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2
- エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n
−ドデシル基、3- (2- エチルヘキシルオキシ)プロ
ピル基、3- (ジブチルアミノ)プロピル基などが挙げ
られ、この中でもn−ヘキシル基、2- エチルヘキシル
基が好ましい。炭素原子数6〜20の置換されてもよい
アリール基の例としてはフェニル基、モノメトキシフェ
ニル基、ジメトキシフェニル基、トリメトキシフェニル
基、モノメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、モ
ノクロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロ
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、モノフル
オロフェニル基、ジフルオロフェニル基等が挙げられ
る。この中でもフェニル基、モノメトキシフェニル基、
ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基が好まし
い。
て、R5 およびR6 は各々水素原子または炭素原子数1
〜8のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメ
チル基である。Zは炭素原子数6〜20の置換されても
よいアルキル基またはアリール基である。炭素原子数6
〜20の置換されてもよいアルキル基としては、例えば
n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2
- エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n
−ドデシル基、3- (2- エチルヘキシルオキシ)プロ
ピル基、3- (ジブチルアミノ)プロピル基などが挙げ
られ、この中でもn−ヘキシル基、2- エチルヘキシル
基が好ましい。炭素原子数6〜20の置換されてもよい
アリール基の例としてはフェニル基、モノメトキシフェ
ニル基、ジメトキシフェニル基、トリメトキシフェニル
基、モノメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、モ
ノクロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロ
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、モノフル
オロフェニル基、ジフルオロフェニル基等が挙げられ
る。この中でもフェニル基、モノメトキシフェニル基、
ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基が好まし
い。
【0036】Zとしては炭素原子数6〜20の置換され
てもよいアリール基が好ましい。
てもよいアリール基が好ましい。
【0037】以下に化6で表される繰り返し単位を含む
ホモポリマーの好ましい例について列挙するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
ホモポリマーの好ましい例について列挙するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
【0038】
【化21】
【0039】
【化22】
【0040】
【化23】
【0041】次に化7について説明すると、化7におい
て、R7 、R8 、R9 、R10、R11およびR12はそれぞ
れ独立に水素原子、炭素原子数1〜4の低級アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プ
ロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチ
ル基)、ハロゲン原子(例えば塩素原子、フッ素原子)
を表す。Xは2価の連結基を表すが、好ましくは化8で
表される基、−COO−または−OCO−である。化8
中、R13は水素原子または炭素原子数1〜4の低級アル
キル基(例えばメチル基)を表す。Jは炭素数1〜12
までのアルキレン基または置換アルキレン基を表すが、
好ましくは炭素数1〜6のアルキレン基である。Jとし
ては、エチレン基、プロピレン基、ヒドロキシエチレン
基、ヒドロキシプロピレン基などを例示できる。
て、R7 、R8 、R9 、R10、R11およびR12はそれぞ
れ独立に水素原子、炭素原子数1〜4の低級アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プ
ロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチ
ル基)、ハロゲン原子(例えば塩素原子、フッ素原子)
を表す。Xは2価の連結基を表すが、好ましくは化8で
表される基、−COO−または−OCO−である。化8
中、R13は水素原子または炭素原子数1〜4の低級アル
キル基(例えばメチル基)を表す。Jは炭素数1〜12
までのアルキレン基または置換アルキレン基を表すが、
好ましくは炭素数1〜6のアルキレン基である。Jとし
ては、エチレン基、プロピレン基、ヒドロキシエチレン
基、ヒドロキシプロピレン基などを例示できる。
【0042】以下に化7で表される繰り返し単位を含む
ホモポリマーの好ましい例について列挙するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
ホモポリマーの好ましい例について列挙するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
【0043】
【化24】
【0044】
【化25】
【0045】本発明のポリマー素材は上述の化5〜化7
で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含ん
でもかまわない。このような他の繰り返し単位を与える
エチレン性不飽和モノマーの好ましい例としてはアクリ
ル酸またはα−アルキルアクリル酸(例えばメタクリル
酸など)類から誘導されるエステル類もしくはアミド類
(例えば、n−ブチルアクリルアミド、t−ブチルアク
リルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、n−プロピルアクリレート、i−プロピルアクリレ
ート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレ
ート、i−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタ
クリレート、ベンジルアクリレート、2−エチルヘキシ
ルアクリレートなど)、ビニルエステル類(例えば酢酸
ビニル)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジ
エン類(例えばブタジエン、イソプレン)、芳香族ビニ
ル化合物(例えばスチレン、p−クロルスチレン、t−
ブチルスチレン、α−メチルスチレン)、ビニリデンク
ロライド、ビニルアルキルエーテル類(例えばビニルエ
チルエーテル)、エチレン、プロピレン、1−ブテン、
イソブテン等が挙げられるが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含ん
でもかまわない。このような他の繰り返し単位を与える
エチレン性不飽和モノマーの好ましい例としてはアクリ
ル酸またはα−アルキルアクリル酸(例えばメタクリル
酸など)類から誘導されるエステル類もしくはアミド類
(例えば、n−ブチルアクリルアミド、t−ブチルアク
リルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレー
ト、n−プロピルアクリレート、i−プロピルアクリレ
ート、n−ブチルアクリレート、n−ブチルメタクリレ
ート、i−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタ
クリレート、ベンジルアクリレート、2−エチルヘキシ
ルアクリレートなど)、ビニルエステル類(例えば酢酸
ビニル)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジ
エン類(例えばブタジエン、イソプレン)、芳香族ビニ
ル化合物(例えばスチレン、p−クロルスチレン、t−
ブチルスチレン、α−メチルスチレン)、ビニリデンク
ロライド、ビニルアルキルエーテル類(例えばビニルエ
チルエーテル)、エチレン、プロピレン、1−ブテン、
イソブテン等が挙げられるが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。
【0046】以下に、化5〜化7で表される繰り返し単
位、さらには他の繰り返し単位を含むコポリマーの好ま
しい例について列挙するが、本発明はこれらに限定され
るものではない。なお、構造式中の組成比は重量比であ
る。
位、さらには他の繰り返し単位を含むコポリマーの好ま
しい例について列挙するが、本発明はこれらに限定され
るものではない。なお、構造式中の組成比は重量比であ
る。
【0047】
【化26】
【0048】
【化27】
【0049】本発明のポリマー素材は、溶液重合、懸濁
重合、乳化重合、分散重合、沈澱重合など一般的な高分
子合成法であるラジカル重合によって合成することがで
きる。ラジカル重合法全般については大津隆行・木下雅
悦共著:高分子合成の実験法(化学同人)や大津隆行:
講座重合反応論1ラジカル重合(化学同人)に、また乳
化重合については室井宗一:高分子ラテックスの化学
(高分子刊行会)に、さらに分散重合については Barre
tt,Keih E.J.: Dispersion Polymerization in Organic
Media ( JOHN WILLEY & SONS ) にの中で各製造法が詳
細に記されている。
重合、乳化重合、分散重合、沈澱重合など一般的な高分
子合成法であるラジカル重合によって合成することがで
きる。ラジカル重合法全般については大津隆行・木下雅
悦共著:高分子合成の実験法(化学同人)や大津隆行:
講座重合反応論1ラジカル重合(化学同人)に、また乳
化重合については室井宗一:高分子ラテックスの化学
(高分子刊行会)に、さらに分散重合については Barre
tt,Keih E.J.: Dispersion Polymerization in Organic
Media ( JOHN WILLEY & SONS ) にの中で各製造法が詳
細に記されている。
【0050】本発明のポリマー素材が懸濁重合、乳化重
合、分散重合によって合成される場合は、共重合モノマ
ーとしてエチレン性不飽和基を少なくとも2個含有する
エチレン性不飽和モノマーを使用することができる。エ
チレン性不飽和基を少なくとも2個有するエチレン性不
飽和モノマーの好ましい例としては、ジビニルベンゼ
ン、4,4’−イソプロピリデンジフェニレンジアクリ
レート、1,3−ブチレンジアクリレート、1,3−ブ
チレンジメタクリレート、1,4−シクロヘキシレンジ
メチレンジメタクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、ジイソプロピリデングリコールジメタク
リレート、ジビニルオキシメタン、エチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、エチリデンジアクリレート、エチリデンジメタクリ
レート、1,6−ジアクリルアミドヘキサン、N,N’
−メチレンビスアクリルアミド、N,N’−(1,2−
ジヒドロキシ)エチレンビスアクリルアミド、2,2−
ジメチル−1,3−トリメチレンジメタクリレート、フ
ェニルエチレンジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、テトラメチレンジアクリレー
ト、テトラメチレンジメタクリレート、2,2,2−ト
リクロロエチリデンジメタクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、トリ
エチレングリコールジメタクリレート、1,3,5−ト
リアクリロイルヘキサンヒドロs−トリアジン、ビスア
クリルアミド酢酸、エチリジントリメタクリレート、プ
ロピリジントリアクリレート、ビニルアリルオキシアセ
テート等である。
合、分散重合によって合成される場合は、共重合モノマ
ーとしてエチレン性不飽和基を少なくとも2個含有する
エチレン性不飽和モノマーを使用することができる。エ
チレン性不飽和基を少なくとも2個有するエチレン性不
飽和モノマーの好ましい例としては、ジビニルベンゼ
ン、4,4’−イソプロピリデンジフェニレンジアクリ
レート、1,3−ブチレンジアクリレート、1,3−ブ
チレンジメタクリレート、1,4−シクロヘキシレンジ
メチレンジメタクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、ジイソプロピリデングリコールジメタク
リレート、ジビニルオキシメタン、エチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、エチリデンジアクリレート、エチリデンジメタクリ
レート、1,6−ジアクリルアミドヘキサン、N,N’
−メチレンビスアクリルアミド、N,N’−(1,2−
ジヒドロキシ)エチレンビスアクリルアミド、2,2−
ジメチル−1,3−トリメチレンジメタクリレート、フ
ェニルエチレンジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、テトラメチレンジアクリレー
ト、テトラメチレンジメタクリレート、2,2,2−ト
リクロロエチリデンジメタクリレート、トリエチレング
リコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、トリ
エチレングリコールジメタクリレート、1,3,5−ト
リアクリロイルヘキサンヒドロs−トリアジン、ビスア
クリルアミド酢酸、エチリジントリメタクリレート、プ
ロピリジントリアクリレート、ビニルアリルオキシアセ
テート等である。
【0051】この中でも、ジビニルベンゼン、エチレン
グリコールジメタクリレートが特に好ましい。
グリコールジメタクリレートが特に好ましい。
【0052】本発明のポリマー素材が乳化重合によって
合成される場合に使用する界面活性剤好ましい例は、以
下に示されるようなアニオン性界面活性剤であるが、こ
れらに限定されるものではない。
合成される場合に使用する界面活性剤好ましい例は、以
下に示されるようなアニオン性界面活性剤であるが、こ
れらに限定されるものではない。
【0053】
【化28】
【0054】本発明のポリマー素材が乳化重合によって
合成される場合には皮膜形成促進などを目的として、例
えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ブタノール、アセトン、酢酸エチル、アセトニトリ
ル、メチルエチルケトンなどの揮発性有機溶剤、および
エチレングリコール、エチレングリコールモノイソプロ
ピルエーテル、ジメチルテレフタレート、トリメチルホ
スフェートなどの可塑剤が加えられてもよい。
合成される場合には皮膜形成促進などを目的として、例
えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ブタノール、アセトン、酢酸エチル、アセトニトリ
ル、メチルエチルケトンなどの揮発性有機溶剤、および
エチレングリコール、エチレングリコールモノイソプロ
ピルエーテル、ジメチルテレフタレート、トリメチルホ
スフェートなどの可塑剤が加えられてもよい。
【0055】本発明のポリマー素材が未架橋である場合
の平均分子量は重量平均分子量MWで5,000以上
1,000,000以下であることが好ましく、さらに
好ましくは10,000以上700,000以下であ
る。
の平均分子量は重量平均分子量MWで5,000以上
1,000,000以下であることが好ましく、さらに
好ましくは10,000以上700,000以下であ
る。
【0056】本発明の疎水性ポリマー層を構成するポリ
マー素材はバック層上に塗設された状態で「実質的な耐
水性」を発現させるため、ポリマー素材の25℃の溶解
度は水100g あたり5g 以下であることが好ましく、
さらに水100g あたり3g以下であることが好まし
い。
マー素材はバック層上に塗設された状態で「実質的な耐
水性」を発現させるため、ポリマー素材の25℃の溶解
度は水100g あたり5g 以下であることが好ましく、
さらに水100g あたり3g以下であることが好まし
い。
【0057】以下に本発明の化5〜化7で表される繰り
返し単位を有するポリマーの合成例を示す。
返し単位を有するポリマーの合成例を示す。
【0058】合成例1 ポリトリフルオロエチルメタク
リレート(P−2)の合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した200mlのガ
ラス製三口フラスコに、酢酸エチル78mlおよびトリフ
ルオロエチルメタクリレート25g を入れ、窒素気流下
70℃で加熱攪拌した。ジメチル−2,2’−アゾビス
イソブチレート0.125g を酢酸エチル2. 5mlに溶
解したもの(開始剤溶液)を添加し3時間攪拌した後,
同開始剤溶液を再度添加し、そのまま70℃で4時間加
熱攪拌を続けた。
リレート(P−2)の合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した200mlのガ
ラス製三口フラスコに、酢酸エチル78mlおよびトリフ
ルオロエチルメタクリレート25g を入れ、窒素気流下
70℃で加熱攪拌した。ジメチル−2,2’−アゾビス
イソブチレート0.125g を酢酸エチル2. 5mlに溶
解したもの(開始剤溶液)を添加し3時間攪拌した後,
同開始剤溶液を再度添加し、そのまま70℃で4時間加
熱攪拌を続けた。
【0059】これを室温まで冷却後、メタノール5リッ
トルに再沈澱して精製し、重量平均分子量137,00
0(ポリスチレン換算値)のポリトリフルオロエチルメ
タクリレート14. 9g (収率59%)を得た。
トルに再沈澱して精製し、重量平均分子量137,00
0(ポリスチレン換算値)のポリトリフルオロエチルメ
タクリレート14. 9g (収率59%)を得た。
【0060】合成例2 ポリヘキサフルオロプロピルメ
タクリレートラテックス(P−7)の合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した300mlのガ
ラス製三口フラスコに、界面活性剤SA−4を0.5g
および蒸留水160g 入れ、窒素気流下75℃で加熱攪
拌した。過硫酸カリウム0.16g を蒸留水10mlに溶
解したものを添加後直ちにヘキサフルオロプロピルメタ
クリレート50g を定速滴下装置を用いて2時間にわた
り滴下した。滴下完了後直ちに過硫酸カリウム0.16
g を蒸留水10mlに溶解したものを添加し、75℃で3
時間加熱攪拌を続けた。
タクリレートラテックス(P−7)の合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した300mlのガ
ラス製三口フラスコに、界面活性剤SA−4を0.5g
および蒸留水160g 入れ、窒素気流下75℃で加熱攪
拌した。過硫酸カリウム0.16g を蒸留水10mlに溶
解したものを添加後直ちにヘキサフルオロプロピルメタ
クリレート50g を定速滴下装置を用いて2時間にわた
り滴下した。滴下完了後直ちに過硫酸カリウム0.16
g を蒸留水10mlに溶解したものを添加し、75℃で3
時間加熱攪拌を続けた。
【0061】これを室温まで冷却後、ろ過して固形分1
8.2重量%、pH2.7、平均粒径91nm、変動係数
[=(粒径の標準偏差/平均粒径)×100]14%の
ラテックス211g (収率80%)を得た。重量平均分
子量は178,000(ポリスチレン換算値)であっ
た。
8.2重量%、pH2.7、平均粒径91nm、変動係数
[=(粒径の標準偏差/平均粒径)×100]14%の
ラテックス211g (収率80%)を得た。重量平均分
子量は178,000(ポリスチレン換算値)であっ
た。
【0062】その他の乳化重合体も同様にして合成し
た。
た。
【0063】合成例3 ポリo- メチルフェニルメタク
リルアミド(Q−18)の合成 o−メチルフェニルメタクリルアミドの合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した500mlのガ
ラス製三口フラスコに、o-トルイジン50g (0.47
mol )およびジメチルアセタミド150mlを入れ、室温
下で攪拌した。これにメタクリロイルクロライド48.
8g (0.47mol )を2時間にわたり滴下した後、そ
のまま3時間攪拌を続けた。
リルアミド(Q−18)の合成 o−メチルフェニルメタクリルアミドの合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した500mlのガ
ラス製三口フラスコに、o-トルイジン50g (0.47
mol )およびジメチルアセタミド150mlを入れ、室温
下で攪拌した。これにメタクリロイルクロライド48.
8g (0.47mol )を2時間にわたり滴下した後、そ
のまま3時間攪拌を続けた。
【0064】この後室温まで冷却し、氷水700g 中に
入れ結晶化させ、乾燥後63. 7gのシクロオクチルア
クリルアミドモノマーの白色結晶を得た(収率78
%)。
入れ結晶化させ、乾燥後63. 7gのシクロオクチルア
クリルアミドモノマーの白色結晶を得た(収率78
%)。
【0065】ポリo- メチルフェニルメタクリルアミド
の合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した300mlのガ
ラス製三口フラスコに、1−メトキシ−2−プロパノー
ル200mlおよびo- メチルフェニルメタクリルアミド
50g を入れ、窒素気流下70℃で加熱攪拌した。ジメ
チル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.5g を1
−メトキシ−2−プロパノール5mlに溶解したものを入
れ、70℃で2時間加熱攪拌後ジメチル−2,2’−ア
ゾビスイソブチレート0.5g を1−メトキシ−2−プ
ロパノール5mlに溶解したものを入れ、さらに70℃で
4時間加熱攪拌を続けた。
の合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した300mlのガ
ラス製三口フラスコに、1−メトキシ−2−プロパノー
ル200mlおよびo- メチルフェニルメタクリルアミド
50g を入れ、窒素気流下70℃で加熱攪拌した。ジメ
チル−2,2’−アゾビスイソブチレート0.5g を1
−メトキシ−2−プロパノール5mlに溶解したものを入
れ、70℃で2時間加熱攪拌後ジメチル−2,2’−ア
ゾビスイソブチレート0.5g を1−メトキシ−2−プ
ロパノール5mlに溶解したものを入れ、さらに70℃で
4時間加熱攪拌を続けた。
【0066】この後室温まで冷却し、蒸留水5リットル
に再沈澱して精製し,重量平均分子量14,700(ポ
リスチレン換算値)のポリo−メチルフェニルメタクリ
ルアミド45g を得た(収率90%)。DSCで測定し
たガラス転移温度は126℃であった。
に再沈澱して精製し,重量平均分子量14,700(ポ
リスチレン換算値)のポリo−メチルフェニルメタクリ
ルアミド45g を得た(収率90%)。DSCで測定し
たガラス転移温度は126℃であった。
【0067】その他の(メタ)アクリルアミド系溶液重
合体も同様にして合成した。
合体も同様にして合成した。
【0068】合成例4 ポリフェノキシエチルアクリレ
ート(R−1)の合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した200mlのガ
ラス製三口フラスコに、酢酸エチル78mlおよびフェノ
キシエチルアクリレート(25g を入れ、窒素気流下7
0℃で加熱攪拌した。ジメチル−2,2’−アゾビスイ
ソブチレート0.125g を酢酸エチル2. 5mlに溶解
したもの(開始剤溶液)を添加し3時間攪拌した後,同
開始剤溶液を再度添加し、そのまま70℃で4時間加熱
攪拌を続けた。
ート(R−1)の合成 攪拌装置、温度計、還流冷却管を装着した200mlのガ
ラス製三口フラスコに、酢酸エチル78mlおよびフェノ
キシエチルアクリレート(25g を入れ、窒素気流下7
0℃で加熱攪拌した。ジメチル−2,2’−アゾビスイ
ソブチレート0.125g を酢酸エチル2. 5mlに溶解
したもの(開始剤溶液)を添加し3時間攪拌した後,同
開始剤溶液を再度添加し、そのまま70℃で4時間加熱
攪拌を続けた。
【0069】これを室温まで冷却後、メタノール5リッ
トルに再沈澱して精製し、重量平均分子量40,400
(ポリスチレン換算値)のポリフェノキシエチルアクリ
レート(16. 8g (収率67%))を得た。
トルに再沈澱して精製し、重量平均分子量40,400
(ポリスチレン換算値)のポリフェノキシエチルアクリ
レート(16. 8g (収率67%))を得た。
【0070】その他の(メタ)アクリレート系溶液重合
体も同様にして合成した。
体も同様にして合成した。
【0071】本発明の疎水性ポリマー層における上記ポ
リマーの含有量は30wt% 以上、さらには50wt% 以上
とすることが好ましい。このような含有量とすることで
本発明の効果が向上する。これに対し、含有量が少なく
なると本発明の実効が得られなくなる。また、感材1m2
あたりの上記ポリマーの塗布量は0.01〜10g 、さ
らには0.1〜3g とすることが好ましい。このような
塗布量とすることで、本発明の効果が向上する。これに
対し、塗布量が少なくなると本発明の実効がなく、塗布
量が多くなりすぎると、疎水性ポリマー層が厚くなって
しまい、感光材料にカールが生じやすくなる。
リマーの含有量は30wt% 以上、さらには50wt% 以上
とすることが好ましい。このような含有量とすることで
本発明の効果が向上する。これに対し、含有量が少なく
なると本発明の実効が得られなくなる。また、感材1m2
あたりの上記ポリマーの塗布量は0.01〜10g 、さ
らには0.1〜3g とすることが好ましい。このような
塗布量とすることで、本発明の効果が向上する。これに
対し、塗布量が少なくなると本発明の実効がなく、塗布
量が多くなりすぎると、疎水性ポリマー層が厚くなって
しまい、感光材料にカールが生じやすくなる。
【0072】本発明の疎水性ポリマー層には、必要に応
じてマット剤、界面活性剤、染料、すべり剤、架橋剤、
増粘剤、UV吸収剤、コロイダルシリカ等の無機微粒子
などの写真用添加剤を添加してもよい。これらの添加剤
については、例えば、リサーチ・ディスクロージャー誌
176巻17643項(1978年12月)の記載を参
考にすることができる。
じてマット剤、界面活性剤、染料、すべり剤、架橋剤、
増粘剤、UV吸収剤、コロイダルシリカ等の無機微粒子
などの写真用添加剤を添加してもよい。これらの添加剤
については、例えば、リサーチ・ディスクロージャー誌
176巻17643項(1978年12月)の記載を参
考にすることができる。
【0073】本発明の疎水性ポリマー層は1層であって
も2層以上であっても良い。本発明の疎水性ポリマー層
の厚みには特に制限はない。しかし疎水性ポリマー層の
厚みが小さ過ぎる場合、疎水性ポリマー層の耐水性が不
充分となり、バック層が処理液に膨潤する様になってし
まい不適切である。逆に疎水性ポリマー層の厚みが大き
過ぎる場合、疎水性ポリマー層の水蒸気透過性が不充分
となり、バック層の親水性コロイド層の吸脱湿が阻害さ
れて感光材料に大きなカールを発生させてしまう。勿論
疎水性ポリマー層の厚みは用いるバインダーの物性値に
も依存する。従って疎水性ポリマー層厚みは、この両者
を考慮して決定する必要がある。疎水性ポリマー層の好
ましい厚みは、疎水性ポリマー層のバインダー種にもよ
るが、0.05〜10μm 、より好ましくは0.1〜5
μm の範囲である。なお本発明の疎水性ポリマー層が2
層以上から構成される場合には、すべての疎水性ポリマ
ー層の厚みの和を本発明のハロゲン化銀写真感光材料の
ポリマー層の厚みとする。
も2層以上であっても良い。本発明の疎水性ポリマー層
の厚みには特に制限はない。しかし疎水性ポリマー層の
厚みが小さ過ぎる場合、疎水性ポリマー層の耐水性が不
充分となり、バック層が処理液に膨潤する様になってし
まい不適切である。逆に疎水性ポリマー層の厚みが大き
過ぎる場合、疎水性ポリマー層の水蒸気透過性が不充分
となり、バック層の親水性コロイド層の吸脱湿が阻害さ
れて感光材料に大きなカールを発生させてしまう。勿論
疎水性ポリマー層の厚みは用いるバインダーの物性値に
も依存する。従って疎水性ポリマー層厚みは、この両者
を考慮して決定する必要がある。疎水性ポリマー層の好
ましい厚みは、疎水性ポリマー層のバインダー種にもよ
るが、0.05〜10μm 、より好ましくは0.1〜5
μm の範囲である。なお本発明の疎水性ポリマー層が2
層以上から構成される場合には、すべての疎水性ポリマ
ー層の厚みの和を本発明のハロゲン化銀写真感光材料の
ポリマー層の厚みとする。
【0074】本発明の疎水性ポリマー層を塗設する方法
に特に制限はない。バック層を塗布乾燥した後に、バッ
ク層上に疎水性ポリマー層を塗布しその後乾燥しても良
いし、バック層と疎水性ポリマー層を同時に塗布し、そ
の後乾燥してもよい。
に特に制限はない。バック層を塗布乾燥した後に、バッ
ク層上に疎水性ポリマー層を塗布しその後乾燥しても良
いし、バック層と疎水性ポリマー層を同時に塗布し、そ
の後乾燥してもよい。
【0075】本発明において疎水性ポリマー層が塗設さ
れるバック層は、親水性コロイドをバインダーとする層
であるが、これについて述べる。バック層に用いられる
親水性コロイドとしては、カールの観点からハロゲン化
銀乳剤層が塗設されている面の写真層のバインダーに近
い吸湿率、吸湿速度を持つものが好ましい。本発明のバ
ック層のバインダーに用いる親水性コロイドとして最も
好ましいものはゼラチンである。ゼラチンとしては、い
わゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼ
ラチン、ゼラチン誘導体及び変性ゼラチン等、当業界で
一般に用いられているものはいずれも用いることができ
る。これらのゼラチンのうち、最も好ましく用いられる
のは石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンである。ゼラチ
ン以外の親水性コロイドとしてコロイド状アルブミン、
カゼイン等の蛋白質、寒天、アルギン酸ナトリウム、デ
ンプン誘導体等の糖誘導体、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシメチルセルロース等のセルロース化合
物、ポリビニルアルコール、ポリ−N−ビニルピロリド
ン、ポリアクリルアミド等の合成親水性高分子等を挙げ
ることができる。合成親水性高分子の場合、他の成分を
共重合してもよいが、疎水性共重合成分が多過ぎる場
合、バック層の吸湿量、吸湿速度が小さくなり、カール
の観点から不適当である。これらの親水性コロイドは、
単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよ
い。
れるバック層は、親水性コロイドをバインダーとする層
であるが、これについて述べる。バック層に用いられる
親水性コロイドとしては、カールの観点からハロゲン化
銀乳剤層が塗設されている面の写真層のバインダーに近
い吸湿率、吸湿速度を持つものが好ましい。本発明のバ
ック層のバインダーに用いる親水性コロイドとして最も
好ましいものはゼラチンである。ゼラチンとしては、い
わゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼ
ラチン、ゼラチン誘導体及び変性ゼラチン等、当業界で
一般に用いられているものはいずれも用いることができ
る。これらのゼラチンのうち、最も好ましく用いられる
のは石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチンである。ゼラチ
ン以外の親水性コロイドとしてコロイド状アルブミン、
カゼイン等の蛋白質、寒天、アルギン酸ナトリウム、デ
ンプン誘導体等の糖誘導体、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシメチルセルロース等のセルロース化合
物、ポリビニルアルコール、ポリ−N−ビニルピロリド
ン、ポリアクリルアミド等の合成親水性高分子等を挙げ
ることができる。合成親水性高分子の場合、他の成分を
共重合してもよいが、疎水性共重合成分が多過ぎる場
合、バック層の吸湿量、吸湿速度が小さくなり、カール
の観点から不適当である。これらの親水性コロイドは、
単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよ
い。
【0076】本発明のバック層には、バインダー以外、
マット剤、界面活性剤、染料、架橋剤、増粘剤、防腐
剤、UV吸収剤、コロイダルシリカ等の無機微粒子等の
写真用添加剤を添加しても良い。これらの添加剤につい
ては、疎水性ポリマー層同様、例えばリサーチ・ディス
クロージャー誌176巻17643項(1978年12
月)の記載を参考にすることができる。
マット剤、界面活性剤、染料、架橋剤、増粘剤、防腐
剤、UV吸収剤、コロイダルシリカ等の無機微粒子等の
写真用添加剤を添加しても良い。これらの添加剤につい
ては、疎水性ポリマー層同様、例えばリサーチ・ディス
クロージャー誌176巻17643項(1978年12
月)の記載を参考にすることができる。
【0077】本発明のバック層は1層でもよいし2層以
上であってもよい。また本発明のバック層の厚みに特に
制限はなく、適用する写真感光材料の種類によるが、カ
ールの観点からは感光性ハロゲン化銀乳剤層側の厚みに
対応させるかあるいは近くすることが望ましく、一般的
には0. 2〜20μm であることが好ましく、0. 5〜
10μm であることがさらに好ましい。バック層が2層
以上からなる場合には全てのバック層の厚みの和を本発
明のハロゲン化銀写真感光材料のバック層の厚みとす
る。
上であってもよい。また本発明のバック層の厚みに特に
制限はなく、適用する写真感光材料の種類によるが、カ
ールの観点からは感光性ハロゲン化銀乳剤層側の厚みに
対応させるかあるいは近くすることが望ましく、一般的
には0. 2〜20μm であることが好ましく、0. 5〜
10μm であることがさらに好ましい。バック層が2層
以上からなる場合には全てのバック層の厚みの和を本発
明のハロゲン化銀写真感光材料のバック層の厚みとす
る。
【0078】本発明のバック層はバック層の外側の層に
疎水性ポリマー層が塗設されることによって実質的に耐
水性であることが必要である。「実質的に耐水性」とは
本発明においてバック層と疎水性ポリマー層が積層され
た場合、バック層と疎水性ポリマー層の合計厚みに対し
て38℃の水に1分間浸漬した後の合計厚みが浸漬前の
合計厚みの1.5倍以下であることを意味する。浸漬後
の合計厚みはさらに1.45倍以下となることが好まし
い。本発明では水に浸漬した後の厚みの増加(膨潤厚
み)が2μm 以下であり、1. 5μm 以下であることが
好ましい。
疎水性ポリマー層が塗設されることによって実質的に耐
水性であることが必要である。「実質的に耐水性」とは
本発明においてバック層と疎水性ポリマー層が積層され
た場合、バック層と疎水性ポリマー層の合計厚みに対し
て38℃の水に1分間浸漬した後の合計厚みが浸漬前の
合計厚みの1.5倍以下であることを意味する。浸漬後
の合計厚みはさらに1.45倍以下となることが好まし
い。本発明では水に浸漬した後の厚みの増加(膨潤厚
み)が2μm 以下であり、1. 5μm 以下であることが
好ましい。
【0079】本発明のバック層を塗設する方法について
は特に制限はない。従来ハロゲン化銀写真感光材料の親
水性コロイド層を塗設する公知の方法を用いることがで
きる。例えばディップコート法、エアーナイフコート
法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバ
ーコート法、グラビアコート法、あるいは、米国特許第
2681294号記載のホッパーを使用するエクストル
ージョンコート法、または米国特許第2761418
号、同3508947号、同2761791号記載の多
層同時塗布方法を用いることができる。
は特に制限はない。従来ハロゲン化銀写真感光材料の親
水性コロイド層を塗設する公知の方法を用いることがで
きる。例えばディップコート法、エアーナイフコート
法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバ
ーコート法、グラビアコート法、あるいは、米国特許第
2681294号記載のホッパーを使用するエクストル
ージョンコート法、または米国特許第2761418
号、同3508947号、同2761791号記載の多
層同時塗布方法を用いることができる。
【0080】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤等、感光
性ハロゲン化銀写真感光材料のバック面以外の要素につ
いては、例えば特開平5- 127282号の欄8以降の
記載を使用することができる。
性ハロゲン化銀写真感光材料のバック面以外の要素につ
いては、例えば特開平5- 127282号の欄8以降の
記載を使用することができる。
【0081】本発明の感光材料に用いられる各種添加
剤、現像処理方法等に関しては、特に制限はないが、印
刷感材の場合には例えば下記箇所に記載されたものを好
ましく用いることができる。
剤、現像処理方法等に関しては、特に制限はないが、印
刷感材の場合には例えば下記箇所に記載されたものを好
ましく用いることができる。
【0082】 項目 該当箇所 1)ヒドラジン造核剤 平成2−12236号公報第2頁右上欄19行目から同第7 頁右上欄3行目の記載、同3−174143号公報第20頁 右下欄1行目から同第27頁右上欄20行目の一般式(II) および化合物II−1ないしII−54。 2)造核促進剤 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行目から同 第16頁左上欄10行目の一般式(II−m)ないし(II−p )および化合物例II−1ないしII−22、特開平1−179 939号公報に記載の化合物。 3)ハロゲン化銀乳剤とその製法 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12行目から同 第21頁左下欄14行目、特開平2−12236号公報第7 頁右上欄19行目から同第8頁左下欄12行目、および特願 平3−189532号に記載のセレン増感法。 4)分光増感色素 特開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目から同右 下欄4行目、同2−103536号公報第16頁右下欄3行 目から同第17頁左下欄20行目、さらに特開平1−112 235号、同2−124560号、同3−7928号、特願 平3−189532号および同3−411064号に記載の 分光増感色素。 5)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目から同右下 欄7行目、および特開平2−18542号公報第2頁左下欄 13行目から同第4頁右下欄18行目。 6)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19行目から 同第18頁右上欄4行目および同右下欄1行目から5行目、 さらに特開平1−237538号公報に記載のチオスルフィ ン酸化合物。 7)ポリマーラテックス(バック面以外) 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12行目から 同20行目。 8)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行目から同 第19頁左上欄1行目。 9)マット剤、滑り剤、可塑剤 特開平2−103536号公報第19頁左上欄15行目から 同第19頁右上欄15行目。 10)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行目から同 第17行目。 11)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行目から同 18行目の染料、同2−294638号公報および特願平3 −185773号に記載の固体染料。 12)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目から20行 目。 13)黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号および特開平1−118832 号公報に記載の化合物。 14)レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表される化 合物(特に化合物例1ないし50)、同3−174143号 公報第3頁ないし第20頁に記載の一般式(R−1)、(R −2)、(R−3)、化合物例1ないし75、さらに特願平 3−69466号、同3−15648号に記載の化合物。 15)モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化合物(特 に化合物例II−1ないしII−26)。 16)ジヒドロキシベンゼン類 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から第12頁左 下欄の記載、およびEP452772A号公報に記載の化合 物。 17)現像液および現像方法 特開平2−103536号公報第19頁右上欄16行目から 同第21頁左上欄8行目。
【0083】また、スキャナー感材の場合には例えば下
記に示す該当箇所に記載されたものを好ましく用いるこ
とができる。
記に示す該当箇所に記載されたものを好ましく用いるこ
とができる。
【0084】 項目 該当箇所 1)ハロゲン化銀乳剤とその製法 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12行目から同 第21頁左下欄14行目および特開平2−12236号公報 第7頁右上欄19行目から同第8頁左下欄12行目、特願平 3−116573号。 2)分光増感色素 特開平2−55349号公報第7頁左上欄8行目から同第8 頁右下欄8行目、同2−39042号公報第7頁右下欄8行 目から同第13頁右下欄5行目。 3)界面活性剤、帯電防止剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目から同右下 欄7行目および特開平2−18542号公報第2頁左下欄1 3行目から同第4頁右下欄18行目。 4)カブリ防止剤、安定剤 特開平2−103526号公報第17頁右下欄19行目から 同第18頁右上欄4行目および同右下欄1行目から5行目。 5)ポリマーラテックス(バック面以外) 特開平2−103526号公報第18頁左下欄12行目から 同20行目。 7)酸基を有する化合物 特開平2−103526号公報第18頁右下欄6行目から同 第19頁左上欄1行目、および同2−55349号公報第8 頁右下欄13行目から同第11頁左上欄8行目。
【0085】なお、本発明に好適な低補充迅速処理と
は、例えば現像、定着、水洗の処理工程に従う黒白感光
材料では、現像液および定着液の各補充量が感材1m2当
たり225ml以下、好ましくは30〜225ml、特に好
ましくは50〜180mlであり、現像は20〜50℃程
度の温度で5〜60秒程度、定着は20〜50℃程度の
温度で5〜60秒程度行う。また、水洗液の補充量は感
材1m2当たり20リットル以下、好ましくは3リットル
以下であり、水洗は0〜50℃程度の温度で5〜60秒
程度行う。また、乾燥工程も含め、現像開始から乾燥終
了までの全処理時間は20〜100秒程度である。
は、例えば現像、定着、水洗の処理工程に従う黒白感光
材料では、現像液および定着液の各補充量が感材1m2当
たり225ml以下、好ましくは30〜225ml、特に好
ましくは50〜180mlであり、現像は20〜50℃程
度の温度で5〜60秒程度、定着は20〜50℃程度の
温度で5〜60秒程度行う。また、水洗液の補充量は感
材1m2当たり20リットル以下、好ましくは3リットル
以下であり、水洗は0〜50℃程度の温度で5〜60秒
程度行う。また、乾燥工程も含め、現像開始から乾燥終
了までの全処理時間は20〜100秒程度である。
【0086】
【実施例】以下、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0087】実施例1 両面に下引き層を塗布した厚さ100μm のポリエチレ
ンテレフタレート支持体の一方の面に下記処方のバック
層をスライドコートにより塗布した。
ンテレフタレート支持体の一方の面に下記処方のバック
層をスライドコートにより塗布した。
【0088】 バック層処方 ゼラチン 2.5g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 30mg/m2 N,N’−エチレンビス−(ビニルスルホンアセトアミド) 25mg/m2
【0089】バック層のpHは1規定の塩酸により調整
し、5.7とした。用いたゼラチンの等電点のpHは
4.8であった。
し、5.7とした。用いたゼラチンの等電点のpHは
4.8であった。
【0090】バック層を塗布後25℃65%RHで1週
間放置してゼラチンの架橋硬膜を進めたのち、以下の塗
布量となるようにポリマー層をワイアバーで塗布し35
℃30%RHの条件で乾燥した。塗布液中のポリマー濃
度は18重量%になるように調製した。なお、比較例の
重合体は化29に示すものである。
間放置してゼラチンの架橋硬膜を進めたのち、以下の塗
布量となるようにポリマー層をワイアバーで塗布し35
℃30%RHの条件で乾燥した。塗布液中のポリマー濃
度は18重量%になるように調製した。なお、比較例の
重合体は化29に示すものである。
【0091】 表1に記載の溶液重合体または乳化重合体 2.0g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 16.5mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3μ) 10mg/m2 C8 F17SO3 K 5mg/m2
【0092】
【化29】
【0093】このようにして得られた試料を25℃60
%RH の雰囲気下で1週間保存した後、以下の評価を実施
した。
%RH の雰囲気下で1週間保存した後、以下の評価を実施
した。
【0094】(1)バック層の膨潤率 安立電気(株)製電子マイクロメーターで膨潤前の膜厚
は測定力30±5g 、膨潤した膜厚は測定力2±0.5
g で25℃、38℃の2点で測定を行った。
は測定力30±5g 、膨潤した膜厚は測定力2±0.5
g で25℃、38℃の2点で測定を行った。
【0095】(2)カール回復速度 長さ5cm、巾1cmに裁断した試料を25℃、60%RH の
条件下で3日間保存し、ついで25℃10%RH の雰囲気
下に移しその後のカールを測定した。カール値は以下の
式で定義した。
条件下で3日間保存し、ついで25℃10%RH の雰囲気
下に移しその後のカールを測定した。カール値は以下の
式で定義した。
【0096】カール値=1/(試料の曲率半径(cm)) カール回復速度はカール値を以下の式に代入して算出し
た。 カール回復速度={(20秒後のカール値)/(2時間
後のカール値)}×100(%) カール回復速度の大きいものほど好ましく、実用上60
%以上が必要である。得られた結果を表1に示す。
た。 カール回復速度={(20秒後のカール値)/(2時間
後のカール値)}×100(%) カール回復速度の大きいものほど好ましく、実用上60
%以上が必要である。得られた結果を表1に示す。
【0097】
【表1】
【0098】表1から明らかなように、本発明の溶液重
合体または乳化重合体は比較例と比べ、膨潤厚み、特に
処理液の温度に相当する38℃での膨潤厚みを抑えるの
に有効であり、かつカール回復性も維持していることが
わかる。
合体または乳化重合体は比較例と比べ、膨潤厚み、特に
処理液の温度に相当する38℃での膨潤厚みを抑えるの
に有効であり、かつカール回復性も維持していることが
わかる。
【0099】実施例2 支持体として両面にゼラチン下塗層を施した厚み100
μm のポリエチレンテレフタレートを用いた。上記支持
体の一方の面に下記処方のバック層を下層にポリマー層
を上層にして、スライドコートにより塗布した。スライ
ドコートによる塗布条件としては、注液器の先端から支
持体までの距離が0.25mm、支持体の搬送速度が15
0m/分であった。
μm のポリエチレンテレフタレートを用いた。上記支持
体の一方の面に下記処方のバック層を下層にポリマー層
を上層にして、スライドコートにより塗布した。スライ
ドコートによる塗布条件としては、注液器の先端から支
持体までの距離が0.25mm、支持体の搬送速度が15
0m/分であった。
【0100】 バック層処方 ゼラチン 2.5g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 30mg/m2 N,N’−エチレンビス−(ビニルスルホンアセトアミド) 25mg/m2
【0101】バック層のpHは1規定の塩酸により調整
し、5.7とした。用いたゼラチンの等電点のpHは
4.8であった。また、バック層塗布液の温度は35
℃、剪断速度10(1/秒)における粘度は50〜6mP
a・s であった。
し、5.7とした。用いたゼラチンの等電点のpHは
4.8であった。また、バック層塗布液の温度は35
℃、剪断速度10(1/秒)における粘度は50〜6mP
a・s であった。
【0102】 ポリマー層 表2に記載の乳化重合体 2.0g/m2 ドデシルベンセンスルホン酸ナトリウム 16.5mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子 10mg/m2 C8 F17SO3 K 5mg/m2
【0103】塗布後引き続いてチリングゾーンにて乾球
温度が20℃、湿球温度が15℃の風を吹き当てて塗布
膜をゲル化した後、乾球温度が35℃で湿球温度が20
℃の乾燥風を吹き当てて乾燥させた。
温度が20℃、湿球温度が15℃の風を吹き当てて塗布
膜をゲル化した後、乾球温度が35℃で湿球温度が20
℃の乾燥風を吹き当てて乾燥させた。
【0104】このようにして得られた試料を25℃60
%RH の雰囲気下で1週間保存した後、以下の評価を実施
した。
%RH の雰囲気下で1週間保存した後、以下の評価を実施
した。
【0105】(1)バック層の膨潤率 安立電気(株)製電子マイクロメーターで膨潤前の膜厚
は測定力30±5g 、膨潤した膜厚は測定力2±0.5
g で38℃で測定を行った。
は測定力30±5g 、膨潤した膜厚は測定力2±0.5
g で38℃で測定を行った。
【0106】(2)塗膜のひび割れ(クラック) 塗膜の割れの程度を以下の3段階で評価した。 ○:割れなし △:長さ2mm以下の細かい割れが発生 ×:長さ2mm以上の割れが発生
【0107】(3)耐付着性 長さ5cm、巾5cmに裁断した試料各2枚を塗布面同士を
重ね合わせ、100kg/cm2の加重下で16時間放置し、
付着の程度を以下の4段階で評価した。 ◎:付着面積 0〜5% ○:付着面積 6〜30% △:付着面積 31〜60% ×:付着面積 61〜100%
重ね合わせ、100kg/cm2の加重下で16時間放置し、
付着の程度を以下の4段階で評価した。 ◎:付着面積 0〜5% ○:付着面積 6〜30% △:付着面積 31〜60% ×:付着面積 61〜100%
【0108】実施例1と同様に膨潤率、耐接着性、クラ
ックを評価した。結果を表2に示した。
ックを評価した。結果を表2に示した。
【0109】
【表2】
【0110】表2から明らかなように、本発明の乳化重
合体は同時塗布においても耐水性、耐接着性、クラック
の点で優れた性能を示すことがわかる。
合体は同時塗布においても耐水性、耐接着性、クラック
の点で優れた性能を示すことがわかる。
【0111】実施例3 二軸延伸したポリエチレンテレフタレート支持体(厚み
100μm )の両面に下記組成の下塗層第1層および第
2層を塗布した後、一方の面に下記組成の導電層(表面
抵抗率:25℃10%RH で2×1010Ω)を塗布し
た。こののち実施例2と同様にバック層とポリマー層の
同時塗布を行った。
100μm )の両面に下記組成の下塗層第1層および第
2層を塗布した後、一方の面に下記組成の導電層(表面
抵抗率:25℃10%RH で2×1010Ω)を塗布し
た。こののち実施例2と同様にバック層とポリマー層の
同時塗布を行った。
【0112】ポリマー素材は表2における乳化重合体中
から選択して使用した。比較例としてはポリマー層なし
でバック層のみの試料、バック層のない試料およびポリ
マー層に本発明以外のポリマー素材を使用した試料を作
製し、使用に供した。
から選択して使用した。比較例としてはポリマー層なし
でバック層のみの試料、バック層のない試料およびポリ
マー層に本発明以外のポリマー素材を使用した試料を作
製し、使用に供した。
【0113】 <下塗層第1層> 塩化ビニリデン/メチルメタクリレート/アクリロニトリル/メタクリル酸( 90/8/1/1重量比)の共重合体の水性分散物 15重量部 2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25重量部 ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm ) 0.05重量部 化合物−1(化30に記載) 0.20重量部 水を加えて 100重量部
【0114】さらに、10重量%のKOHを加え、pH
=6に調整した塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾
燥膜厚が0.9μm になる様に塗布した。
=6に調整した塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾
燥膜厚が0.9μm になる様に塗布した。
【0115】 <下塗層第2層> ゼラチン 1重量部 メチルセルロース 0.05重量部 化合物−2(化30に記載) 0.02重量部 C12H25O(CH2 CH2 O)10H 0.03重量部 化合物−3(化30に記載) 3.5×10-3重量部 酢酸 0.2重量部 水を加えて 100重量部
【0116】この塗布液を乾燥温度170℃2分間で、
乾燥膜厚が0.1μm になるように塗布した。
乾燥膜厚が0.1μm になるように塗布した。
【0117】 <導電層> SnO2 /Sb(9/1重量比、平均粒径0.25μm ) 300mg/m2 ゼラチン(Ca2+含有量30ppm ) 170mg/m2 化合物−3(化30に記載) 7mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 40mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 9mg/m2
【0118】
【化30】
【0119】さらにこの支持体のバック層と反対側に特
開平5−127282号の実施例3に記載の感光性層
(染色層、乳剤層および保護層上下層)を同時塗布し、
25℃60%RH の雰囲気下で1週間保存した後、以下の
評価を実施した。
開平5−127282号の実施例3に記載の感光性層
(染色層、乳剤層および保護層上下層)を同時塗布し、
25℃60%RH の雰囲気下で1週間保存した後、以下の
評価を実施した。
【0120】(1)バック層、ポリマー層の処理液の膨
潤度 バック層、ポリマー層の水洗工程終了後の膜厚dの測
定:下記の現像処理の水洗工程の終了した試料を、液体
窒素により凍結乾燥する。その切片の走査型電子顕微鏡
観察により、バック層、ポリマー層につきそれぞれdを
求める。バック層、ポリマー層の乾燥後の膜厚d0 の測
定:下記の現像処理の乾燥工程終了後の試料の切片の走
査型電子顕微鏡観察により、バック層、ポリマー層につ
きそれぞれd0 を求める。
潤度 バック層、ポリマー層の水洗工程終了後の膜厚dの測
定:下記の現像処理の水洗工程の終了した試料を、液体
窒素により凍結乾燥する。その切片の走査型電子顕微鏡
観察により、バック層、ポリマー層につきそれぞれdを
求める。バック層、ポリマー層の乾燥後の膜厚d0 の測
定:下記の現像処理の乾燥工程終了後の試料の切片の走
査型電子顕微鏡観察により、バック層、ポリマー層につ
きそれぞれd0 を求める。
【0121】(2)乳剤層+保護層の膨潤率 安立電気(株)製電子マイクロメーターで膨潤前の膜厚
は測定力30±5g 、膨潤した膜厚は測定力2±0.5
g で38℃で測定を行った。
は測定力30±5g 、膨潤した膜厚は測定力2±0.5
g で38℃で測定を行った。
【0122】(3)カール 長さ5cm、巾1cmに裁断した試料を25℃、60%RH の
条件下で3日間保存し、ついで25℃10%RH の雰囲気
下に移しその後2時間後のカールを測定した。カール値
は以下の式で定義した。 カール値=1/(試料の曲率半径(cm)) 但し、乳剤面が内側のときのカール値を正、外側のとき
のカール値を負とする。実用上許容されるカール値は−
0.02から+0.02の範囲である。
条件下で3日間保存し、ついで25℃10%RH の雰囲気
下に移しその後2時間後のカールを測定した。カール値
は以下の式で定義した。 カール値=1/(試料の曲率半径(cm)) 但し、乳剤面が内側のときのカール値を正、外側のとき
のカール値を負とする。実用上許容されるカール値は−
0.02から+0.02の範囲である。
【0123】(4)乾燥性 25℃60%RH の雰囲気下でFG−710NH自動現像
機(富士写真フイルム(株)製)を用いて、乾燥温度5
0℃で、ラインスピードを変えることにより、乾燥時間
を変えて大全サイズ(51cm×61cm)の試料を現像処
理し、処理直後の試料が完全に乾いている最短の乾燥時
間を求めた。
機(富士写真フイルム(株)製)を用いて、乾燥温度5
0℃で、ラインスピードを変えることにより、乾燥時間
を変えて大全サイズ(51cm×61cm)の試料を現像処
理し、処理直後の試料が完全に乾いている最短の乾燥時
間を求めた。
【0124】(5)ジャミング 前記FG−710NH自動現像機の乾燥部のローラーを
フェノール樹脂製平滑ローラーに変えて、四つ切サイズ
(25.4cm×30.5cm)の試料20枚を下記の処理
条件で通し、ジャミングの発生を調べた。
フェノール樹脂製平滑ローラーに変えて、四つ切サイズ
(25.4cm×30.5cm)の試料20枚を下記の処理
条件で通し、ジャミングの発生を調べた。
【0125】 処理条件 現像 38℃ 14.0秒 定着 38℃ 9.7秒 水洗 25℃ 9.0秒 スクイズ 2.4秒 乾燥 55℃ 8.3秒 合計 43.4秒 ラインスピード 2800mm/min
【0126】なお、現像液および定着液は下記組成のも
のを使用し、補充量はフィルム1m2あたり200mlで行
った。
のを使用し、補充量はフィルム1m2あたり200mlで行
った。
【0127】 現像液組成(処理温度38℃) 1,2−ジヒドロキシベンゼン−3,5−ジスルホン酸ソーダ 0.5g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0g 炭酸ナトリウム 5.0g ホウ酸 10.0g 亜硫酸カリウム 85.0g 臭化ナトリウム 6.0g ジエチレングリコール 40.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.2g ハイドロキノン 30.0g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル−3−ピラゾリドン 1.6g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ−4−(1H)−キナ ゾリノン 0.05g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム 0.3g 水酸化カリウムを加え、水を加えて1リットルとしpHを10.7にあわせる
【0128】 定着液(処理温度38℃) チオ硫酸ナトリウム 160g/l 1,4,5−トリメチル−1,2,4−トリアゾリウム−3−チオレート 0.25mol/l 重亜硫酸ナトリウム 30g/l エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム・二水液 0.25mol/l 水酸化ナトリウムでpH=6.0に調整する 得られた結果を表3に示す。
【0129】
【表3】
【0130】結果から明らかなように、本発明による試
料は比較例と異なり、乾燥性が良好でカール、ジャミン
グとも問題のないことがわかる。
料は比較例と異なり、乾燥性が良好でカール、ジャミン
グとも問題のないことがわかる。
【0131】
【発明の効果】本発明により疎水性ポリマー層の耐水性
(処理液遮断性)を改良することができ、水洗処理後の
乾燥性が良好で、カールが小さく、かつ搬送性が良好な
ハロゲン化銀写真感光材料を提供することができる。ま
た、迅速処理適性を有し、かつ、処理液の補充量が軽減
されたハロゲン化銀写真感光材料を提供することができ
る。
(処理液遮断性)を改良することができ、水洗処理後の
乾燥性が良好で、カールが小さく、かつ搬送性が良好な
ハロゲン化銀写真感光材料を提供することができる。ま
た、迅速処理適性を有し、かつ、処理液の補充量が軽減
されたハロゲン化銀写真感光材料を提供することができ
る。
【化31】
【化32】
【化33】
Claims (4)
- 【請求項1】 支持体の一方の面に少なくとも一層の親
水性コロイドをバインダーとするハロゲン化銀乳剤層を
塗設し、支持体の前記ハロゲン化銀乳剤層が塗設されて
いる面と反対側の面に親水性コロイドをバインダーとす
る非感光性コロイド層と、前記非感光性親水性コロイド
層の最外層に疎水性ポリマー層とが塗設されたハロゲン
化銀写真感光材料において、前記疎水性ポリマー層を形
成するポリマー素材が下記化1、化2および化3で表さ
れる繰り返し単位を少なくとも1種以上含むハロゲン化
銀写真感光材料。 【化1】 【化2】 【化3】 [化1において、R1 およびR2 は各々独立に水素原
子、メチル基またはフッ素原子を表す。R3 は水素原
子、フッ素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基を
表す。R1 、R2 およびR3 は各々同一であっても異な
っていてもよい。R4は少なくとも1個のフッ素原子を
有する一価の基を表す。化2において、R5 およびR6
は各々水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基を
表す。Zは炭素原子数6〜20のアルキル基またはアリ
ール基を表す。化3において、R7 、R8 、R9 、
R10、R11およびR12は各々独立に水素原子、炭素原子
数1〜4のアルキル基またはハロゲン原子を表わす。X
は2価の連結基を表す。Jは炭素数1〜12のアルキレ
ン基を表す。] - 【請求項2】 前記ポリマー素材が前記繰り返し単位の
少なくとも1種以上を75重量%以上含有する請求項1
のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項3】 前記化2におけるZが炭素原子数6〜1
2のアリール基である請求項1または2のハロゲン化銀
写真感光材料。 - 【請求項4】 前記化3における2価の連結基Xが下記
化4で表される基、−COO−または−OCO−である
請求項1または2のハロゲン化銀写真感光材料。 【化4】 [化4において、R13は水素原子または炭素原子数1〜
4のアルキル基を表す。]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7186186A JPH0915788A (ja) | 1995-06-29 | 1995-06-29 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7186186A JPH0915788A (ja) | 1995-06-29 | 1995-06-29 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0915788A true JPH0915788A (ja) | 1997-01-17 |
Family
ID=16183901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7186186A Pending JPH0915788A (ja) | 1995-06-29 | 1995-06-29 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0915788A (ja) |
-
1995
- 1995-06-29 JP JP7186186A patent/JPH0915788A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |