JPH09208611A - 螢光体分散感放射線性組成物 - Google Patents
螢光体分散感放射線性組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 放射線照射、現像および焼成工程を経たのち
でも、十分な膜厚を有し、表示輝度の高い螢光面を形成
しうる螢光体分散感放射線性組成物を提供する。 【解決手段】 （イ）螢光体、（ロ）有機高分子バイン
ダー、（ハ）光架橋性モノマーおよび／またはオリゴマ
ー並びに（ニ）光ラジカル発生剤を含有する螢光体分散
感放射線性組成物において、（ニ）光ラジカル発生剤
が、（ａ）２，４，５−トリアリールイミダゾールの二
量体、（ｂ）アミノ基含有ベンゾフェノン系光増感剤お
よび（ｃ）２−メルカプトベンゾチアゾールに代表され
るチオール系連鎖移動剤の組合せを含有することを特徴
とする螢光体分散感放射線性組成物。
でも、十分な膜厚を有し、表示輝度の高い螢光面を形成
しうる螢光体分散感放射線性組成物を提供する。 【解決手段】 （イ）螢光体、（ロ）有機高分子バイン
ダー、（ハ）光架橋性モノマーおよび／またはオリゴマ
ー並びに（ニ）光ラジカル発生剤を含有する螢光体分散
感放射線性組成物において、（ニ）光ラジカル発生剤
が、（ａ）２，４，５−トリアリールイミダゾールの二
量体、（ｂ）アミノ基含有ベンゾフェノン系光増感剤お
よび（ｃ）２−メルカプトベンゾチアゾールに代表され
るチオール系連鎖移動剤の組合せを含有することを特徴
とする螢光体分散感放射線性組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、螢光体分散感放射
線性組成物に関わり、さらに詳しくはプラズマディスプ
レイパネル等の螢光体表示デバイスにおける螢光面材料
として好適な螢光体分散感放射線性組成物に関する。
線性組成物に関わり、さらに詳しくはプラズマディスプ
レイパネル等の螢光体表示デバイスにおける螢光面材料
として好適な螢光体分散感放射線性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、大型パネルでありながら製造プロセスが容易であ
り、視野角が広く、自発光タイプであり表示品位が高い
等の特性を有し、フラットパネル表示デバイスの中で注
目されており、特にカラーＰＤＰは、２０インチ以上の
大型壁掛けハイビジョンＴＶ（ＨＤＴＶ）用の表示デバ
イスとして、近い将来主流になるものと期待されてい
る。カラーＰＤＰは、ガス放電により紫外線を発生さ
せ、その紫外線により螢光体を発光させることにより、
カラー表示を可能にするものであり、一般に、基板上に
赤色発光用、緑色発光用および青色発光用の３色の螢光
面を設けて、各色の画素単位が全体的に均一に混在した
状態に構成されている。カラーＰＤＰをさらに具体的に
説明すると、透明基板の表面に、バリヤーリブと称され
る絶縁材からなる複数の隔壁が設けられており、該隔壁
によって多数の凹所が区画され、該凹所内に螢光面が設
けられるとともに、該螢光面にプラズマを作用させる電
極を配置することにより、それぞれの螢光面を画素単位
とするものである。このようなカラーＰＤＰの製造方法
としては、従来、ペースト状の螢光体組成物を例えばス
クリーン印刷により、透明基板表面の画素単位領域毎に
配置して螢光面を形成するスクリーン印刷法と、感放射
線性の螢光体組成物層を形成し、マスクを介して例えば
紫外線を照射したのち、現像することにより、透明基板
表面の画素単位領域毎に螢光面を設けるフォトリソグラ
フィー法とが知られている。とりわけフォトリソグラフ
ィー法は、微細パターンの形成が容易であり、高性能カ
ラーＰＤＰの分野での利用が期待されており、そのため
の螢光体分散感放射線性組成物の開発が鋭意進められて
いる。このような螢光体分散感放射線性組成物は、螢光
体を分散させたペースト状組成物であり、その例として
は、ポリビニルアルコールとジアゾニウム化合物や重ク
ロム酸化合物との混合物、ゼラチンと有機系硬化剤との
混合物等のビヒクル中に螢光体を分散させた組成物（特
開平５−２０５６３２号公報参照）が知られている。し
かしながら、前記螢光体分散感放射線性組成物を用いて
ＰＤＰ用螢光面を形成する場合、組成物中に分散された
螢光体が紫外線の透過を阻害し、感放射線性樹脂成分の
感度が著しく低下させるため、透明基板表面の凹所の底
部にまで紫外線を有効に到達させ、該樹脂成分を十分硬
化させることが困難であり、その結果、引き続く現像お
よび焼成工程を経たのちに凹所内に残存する螢光体層の
膜厚が薄くなり、十分な表示輝度が得られないという問
題があった。
は、大型パネルでありながら製造プロセスが容易であ
り、視野角が広く、自発光タイプであり表示品位が高い
等の特性を有し、フラットパネル表示デバイスの中で注
目されており、特にカラーＰＤＰは、２０インチ以上の
大型壁掛けハイビジョンＴＶ（ＨＤＴＶ）用の表示デバ
イスとして、近い将来主流になるものと期待されてい
る。カラーＰＤＰは、ガス放電により紫外線を発生さ
せ、その紫外線により螢光体を発光させることにより、
カラー表示を可能にするものであり、一般に、基板上に
赤色発光用、緑色発光用および青色発光用の３色の螢光
面を設けて、各色の画素単位が全体的に均一に混在した
状態に構成されている。カラーＰＤＰをさらに具体的に
説明すると、透明基板の表面に、バリヤーリブと称され
る絶縁材からなる複数の隔壁が設けられており、該隔壁
によって多数の凹所が区画され、該凹所内に螢光面が設
けられるとともに、該螢光面にプラズマを作用させる電
極を配置することにより、それぞれの螢光面を画素単位
とするものである。このようなカラーＰＤＰの製造方法
としては、従来、ペースト状の螢光体組成物を例えばス
クリーン印刷により、透明基板表面の画素単位領域毎に
配置して螢光面を形成するスクリーン印刷法と、感放射
線性の螢光体組成物層を形成し、マスクを介して例えば
紫外線を照射したのち、現像することにより、透明基板
表面の画素単位領域毎に螢光面を設けるフォトリソグラ
フィー法とが知られている。とりわけフォトリソグラフ
ィー法は、微細パターンの形成が容易であり、高性能カ
ラーＰＤＰの分野での利用が期待されており、そのため
の螢光体分散感放射線性組成物の開発が鋭意進められて
いる。このような螢光体分散感放射線性組成物は、螢光
体を分散させたペースト状組成物であり、その例として
は、ポリビニルアルコールとジアゾニウム化合物や重ク
ロム酸化合物との混合物、ゼラチンと有機系硬化剤との
混合物等のビヒクル中に螢光体を分散させた組成物（特
開平５−２０５６３２号公報参照）が知られている。し
かしながら、前記螢光体分散感放射線性組成物を用いて
ＰＤＰ用螢光面を形成する場合、組成物中に分散された
螢光体が紫外線の透過を阻害し、感放射線性樹脂成分の
感度が著しく低下させるため、透明基板表面の凹所の底
部にまで紫外線を有効に到達させ、該樹脂成分を十分硬
化させることが困難であり、その結果、引き続く現像お
よび焼成工程を経たのちに凹所内に残存する螢光体層の
膜厚が薄くなり、十分な表示輝度が得られないという問
題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術に
おける前記問題点に鑑みてなされたものであり、その課
題は、放射線照射、現像および焼成工程を経たのちで
も、十分な膜厚を有し、表示輝度の高い螢光面を形成し
うる螢光体分散感放射線性組成物を提供することにあ
る。
おける前記問題点に鑑みてなされたものであり、その課
題は、放射線照射、現像および焼成工程を経たのちで
も、十分な膜厚を有し、表示輝度の高い螢光面を形成し
うる螢光体分散感放射線性組成物を提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によると、前記課
題は、（イ）螢光体、（ロ）有機高分子バインダー、
（ハ）光架橋性モノマーおよび／またはオリゴマー並び
に（ニ）光ラジカル発生剤を含有する螢光体分散感放射
線性組成物において、（ニ）光ラジカル発生剤が、
（ａ）２，４，５−トリアリールイミダゾリルの二量
体、（ｂ）アミノ基含有ベンゾフェノン系光増感剤およ
び（ｃ）下記式（１）で表されるチオール系連鎖移動剤
の組合せを含有することを特徴とする螢光体分散感放射
線性組成物（以下、単に「螢光体分散組成物」とい
う。）、
題は、（イ）螢光体、（ロ）有機高分子バインダー、
（ハ）光架橋性モノマーおよび／またはオリゴマー並び
に（ニ）光ラジカル発生剤を含有する螢光体分散感放射
線性組成物において、（ニ）光ラジカル発生剤が、
（ａ）２，４，５−トリアリールイミダゾリルの二量
体、（ｂ）アミノ基含有ベンゾフェノン系光増感剤およ
び（ｃ）下記式（１）で表されるチオール系連鎖移動剤
の組合せを含有することを特徴とする螢光体分散感放射
線性組成物（以下、単に「螢光体分散組成物」とい
う。）、
【０００５】
【化１】〔式（１）において、Z は -O-、-S- 、-NH-ま
たは-CONH-を示す。〕によって達成される。
たは-CONH-を示す。〕によって達成される。
【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。（イ）螢光体 本発明における螢光体としては、特に限定されるもので
はなく、適宜のものを選定して使用することができる。
このような螢光体のうち、赤色発光用螢光体の代表例と
しては、Y2O3：Eu、Y2SiO5：Eu、Y3Al5O12：Eu、YVO4：
Eu、 (Y,Gd)BO3：Eu、 Zn3(PO4)2：Mn等を挙げることが
できる。これらの螢光体は、単独でまたは２種以上を混
合して使用することができる。また、緑色発光用螢光体
の代表例としては、 Zn2SiO4：Mn、 BaAl12O19：Mn、Ba
MgAl14O23：Mn、 LaPO4：(Ce,Tb) 、 Y3(Al,Ga)5O12：T
b等を挙げることができる。これらの螢光体は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。ま
た、青色発光用螢光体の代表例としては、Y2SiO5：Ce、
BaMgAl14O23：Eu、(Ca,Sr,Ba)10(PO4)6Cl2：Eu、Y2SiO
5：Ce、(Zn,Cd)S : Ag 等を挙げることができる。これ
らの螢光体は、単独でまたは２種以上を混合して使用す
ることができる。螢光体の使用量は、（ロ）有機高分子
バインダー１００重量部に対して、通常、１０〜２００
０重量部、好ましくは２０〜１５００重量部である。こ
の場合、螢光体の配合量が１０重量部未満では、螢光面
における螢光体密度が低くなり、十分な表示輝度が得ら
れず、一方２０００重量部を超えると、放射線非照射部
に地汚れや膜残りを生じやすくなる。
はなく、適宜のものを選定して使用することができる。
このような螢光体のうち、赤色発光用螢光体の代表例と
しては、Y2O3：Eu、Y2SiO5：Eu、Y3Al5O12：Eu、YVO4：
Eu、 (Y,Gd)BO3：Eu、 Zn3(PO4)2：Mn等を挙げることが
できる。これらの螢光体は、単独でまたは２種以上を混
合して使用することができる。また、緑色発光用螢光体
の代表例としては、 Zn2SiO4：Mn、 BaAl12O19：Mn、Ba
MgAl14O23：Mn、 LaPO4：(Ce,Tb) 、 Y3(Al,Ga)5O12：T
b等を挙げることができる。これらの螢光体は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。ま
た、青色発光用螢光体の代表例としては、Y2SiO5：Ce、
BaMgAl14O23：Eu、(Ca,Sr,Ba)10(PO4)6Cl2：Eu、Y2SiO
5：Ce、(Zn,Cd)S : Ag 等を挙げることができる。これ
らの螢光体は、単独でまたは２種以上を混合して使用す
ることができる。螢光体の使用量は、（ロ）有機高分子
バインダー１００重量部に対して、通常、１０〜２００
０重量部、好ましくは２０〜１５００重量部である。こ
の場合、螢光体の配合量が１０重量部未満では、螢光面
における螢光体密度が低くなり、十分な表示輝度が得ら
れず、一方２０００重量部を超えると、放射線非照射部
に地汚れや膜残りを生じやすくなる。
【０００７】（ロ）有機高分子バインダー 本発明における有機高分子バインダーとしては、種々の
樹脂を用いることができるが、特にアルカリ可溶性樹脂
が好ましい。ここでいう「アルカリ可溶性」とは、後述
するアルカリ現像液によって溶解し、目的とする現像処
理が遂行される程度に溶解性を有する性質を意味する。
アルカリ可溶性樹脂の好ましい具体例としては、（メ
タ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラ
ック樹脂等を挙げることができる。このようなアルカリ
可溶性樹脂のうち、特に好ましく用いられる樹脂の具体
例としては、下記するモノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）
との共重合体、またはモノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）
およびモノマー（Ｃ）の共重合体を挙げることができ
る。モノマー（Ａ）としては、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコ
ン酸、シトラコン酸、メサコン酸、けい皮酸等のカルボ
キシル基含有モノマー類；（メタ）アクリル酸２−ヒド
ロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロ
ピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル等の
水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−
ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェ
ノール性水酸基含有モノマー類や、その他のアルカリ可
溶性官能基含有モノマー類を挙げることができる。これ
らのモノマー（Ａ）は、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。モノマー（Ｂ）としては、例
えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エ
チル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリ
レート等の、水酸基を含有しない（メタ）アクリル酸エ
ステル類；スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビ
ニル系モノマー類；１，３−ブタジエン、イソプレン等
の共役ジエン類を挙げることができる。これらのモノマ
ー（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。モノマー（Ｃ）としては、例えばポリス
チレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）
アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等
のポリマー鎖の一方の末端に、例えば（メタ）アクリロ
イル基等の重合性不飽和基を有するマクロモノマー類を
挙げることができる。これらのモノマー（Ｃ）は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。前
記共重合体を製造する際のモノマー（Ａ）の含有率は、
全モノマーに対して、通常、５〜５０重量％、好ましく
は１０〜４０重量％である。この場合、モノマー（Ａ）
の含有率が５重量％未満では、有機高分子バインダーの
アルカリ現像液への溶解性が低下し、放射線非照射部に
地汚れや膜残りが生じやすくなる傾向があり、一方５０
重量％を超えると、有機高分子バインダーのアルカリ現
像液への溶解性が過大となり、螢光面が基板から脱落し
やすくなる螢光がある。有機高分子バインダーのゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、キャリア
ー：テトラヒドロフラン）によるポリスチレン換算重量
平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、通常、１
０，０００〜１，０００，０００、好ましくは２０，０
００〜７００，０００である。この場合、有機高分子バ
インダーのＭｗが１０，０００未満では、最適現像をも
たらす現像時間の幅が狭くなり、いわゆる現像処理のマ
ージンが小さくなりがちであり、一方１，０００，００
０を超えると、現像後の放射線照射部周辺にスカムが発
生しやすく、パターンエッジのシャープさが不足しがち
となり、さらに放射線非照射部に地汚れや膜残りが生じ
やすくなる傾向がある。
樹脂を用いることができるが、特にアルカリ可溶性樹脂
が好ましい。ここでいう「アルカリ可溶性」とは、後述
するアルカリ現像液によって溶解し、目的とする現像処
理が遂行される程度に溶解性を有する性質を意味する。
アルカリ可溶性樹脂の好ましい具体例としては、（メ
タ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラ
ック樹脂等を挙げることができる。このようなアルカリ
可溶性樹脂のうち、特に好ましく用いられる樹脂の具体
例としては、下記するモノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）
との共重合体、またはモノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）
およびモノマー（Ｃ）の共重合体を挙げることができ
る。モノマー（Ａ）としては、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコ
ン酸、シトラコン酸、メサコン酸、けい皮酸等のカルボ
キシル基含有モノマー類；（メタ）アクリル酸２−ヒド
ロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロ
ピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル等の
水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−
ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェ
ノール性水酸基含有モノマー類や、その他のアルカリ可
溶性官能基含有モノマー類を挙げることができる。これ
らのモノマー（Ａ）は、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。モノマー（Ｂ）としては、例
えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エ
チル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリ
レート等の、水酸基を含有しない（メタ）アクリル酸エ
ステル類；スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビ
ニル系モノマー類；１，３−ブタジエン、イソプレン等
の共役ジエン類を挙げることができる。これらのモノマ
ー（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。モノマー（Ｃ）としては、例えばポリス
チレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）
アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等
のポリマー鎖の一方の末端に、例えば（メタ）アクリロ
イル基等の重合性不飽和基を有するマクロモノマー類を
挙げることができる。これらのモノマー（Ｃ）は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。前
記共重合体を製造する際のモノマー（Ａ）の含有率は、
全モノマーに対して、通常、５〜５０重量％、好ましく
は１０〜４０重量％である。この場合、モノマー（Ａ）
の含有率が５重量％未満では、有機高分子バインダーの
アルカリ現像液への溶解性が低下し、放射線非照射部に
地汚れや膜残りが生じやすくなる傾向があり、一方５０
重量％を超えると、有機高分子バインダーのアルカリ現
像液への溶解性が過大となり、螢光面が基板から脱落し
やすくなる螢光がある。有機高分子バインダーのゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、キャリア
ー：テトラヒドロフラン）によるポリスチレン換算重量
平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、通常、１
０，０００〜１，０００，０００、好ましくは２０，０
００〜７００，０００である。この場合、有機高分子バ
インダーのＭｗが１０，０００未満では、最適現像をも
たらす現像時間の幅が狭くなり、いわゆる現像処理のマ
ージンが小さくなりがちであり、一方１，０００，００
０を超えると、現像後の放射線照射部周辺にスカムが発
生しやすく、パターンエッジのシャープさが不足しがち
となり、さらに放射線非照射部に地汚れや膜残りが生じ
やすくなる傾向がある。
【０００８】さらに、前記アルカリ可溶性樹脂以外の有
機高分子バインダーとしては、ポリビニルアルコール、
ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチ
ルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルセルロース、ゼラチン、カゼイン等を挙げる
ことができる。また、有機高分子バインダーが炭素−炭
素不飽和結合を有する場合、水素添加物として用いるこ
ともできる。この場合の水素添加率は、通常、７０％以
下、好ましくは５０％以下である。本発明において、有
機高分子バインダーは、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。
機高分子バインダーとしては、ポリビニルアルコール、
ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチ
ルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルセルロース、ゼラチン、カゼイン等を挙げる
ことができる。また、有機高分子バインダーが炭素−炭
素不飽和結合を有する場合、水素添加物として用いるこ
ともできる。この場合の水素添加率は、通常、７０％以
下、好ましくは５０％以下である。本発明において、有
機高分子バインダーは、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。
【０００９】（ハ）光架橋性モノマーおよびオリゴマー 本発明における光架橋性モノマーおよびオリゴマーとし
ては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコー
ル等のアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート
類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレ
ート類；グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタ
エリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリスヒド
ロキシエチルフォスフェート等の多価ヒドロキシ化合物
の多価（メタ）アクリレート類；ポリエステル、エポキ
シ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹
脂、スピラン樹脂等のオリゴ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポ
リイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等
の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレー
ト類；４−（メタ）アクリロイルフェニルシンナモイル
エステルの（共）重合樹脂；４−アジドベンズアルデヒ
ドとポリビニルアルコール、フェノールノボラック樹脂
等の水酸基含有樹脂との縮合物等を挙げることができ
る。これらの光架橋性モノマーおよびオリゴマーのう
ち、特に多価ヒドロキシ化合物の多価（メタ）アクリレ
ート類、具体的にはトリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）ア
クリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチル
フォスフェート等が好ましい。これらの光架橋性モノマ
ーおよびオリゴマーは、それぞれ単独でまたは２種以上
を混合して使用することができる。光架橋性モノマーお
よび／またはオリゴマーの使用量は、（ロ）有機高分子
バインダー１００重量部に対して、好ましくは５〜５０
０重量部、特に好ましくは２０〜２００重量部である。
この場合、光架橋性モノマーおよび／またはオリゴマー
の使用量が５重量部未満では、螢光面が基板から脱落し
やすくなり、一方５００重量部を超えると、放射線非照
射部に地汚れや膜残りが生じやすくなる傾向がある。
ては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコー
ル等のアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート
類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等のポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレ
ート類；グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタ
エリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリスヒド
ロキシエチルフォスフェート等の多価ヒドロキシ化合物
の多価（メタ）アクリレート類；ポリエステル、エポキ
シ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹
脂、スピラン樹脂等のオリゴ（メタ）アクリレート類；
両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポ
リイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等
の両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレー
ト類；４−（メタ）アクリロイルフェニルシンナモイル
エステルの（共）重合樹脂；４−アジドベンズアルデヒ
ドとポリビニルアルコール、フェノールノボラック樹脂
等の水酸基含有樹脂との縮合物等を挙げることができ
る。これらの光架橋性モノマーおよびオリゴマーのう
ち、特に多価ヒドロキシ化合物の多価（メタ）アクリレ
ート類、具体的にはトリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）ア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）ア
クリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチル
フォスフェート等が好ましい。これらの光架橋性モノマ
ーおよびオリゴマーは、それぞれ単独でまたは２種以上
を混合して使用することができる。光架橋性モノマーお
よび／またはオリゴマーの使用量は、（ロ）有機高分子
バインダー１００重量部に対して、好ましくは５〜５０
０重量部、特に好ましくは２０〜２００重量部である。
この場合、光架橋性モノマーおよび／またはオリゴマー
の使用量が５重量部未満では、螢光面が基板から脱落し
やすくなり、一方５００重量部を超えると、放射線非照
射部に地汚れや膜残りが生じやすくなる傾向がある。
【００１０】（ニ）光ラジカル発生剤 本発明における光ラジカル発生剤は、（ａ）２，４，５
−トリアリールイミダゾールの二量体（以下、「成分
（ａ）」という。）、（ｂ）アミノ基含有ベンゾフェノ
ン系光増感剤（以下、「成分（ｂ）」という。）および
（ｃ）前記式（１）で表されるチオール系連鎖移動剤
（以下、「成分（ｃ）」という。）の組合せを含有する
ものである。ここで、成分（ａ）は、その２個のイミダ
ゾール環の各２，４，５−位に置換あるいは未置換のア
リール基を有するイミダゾリル二量体である。このよう
な成分（ａ）としては、例えば２，２’，４，４’，
５，５’−ヘキサフェニルビイミダゾール、２，２’−
ビス（２−フルオロフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，
４−ジフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，
６−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ク
ロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
ビイミダゾール、２，２’−ビス（４−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（３−メチルフェニル）ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メチルフェニル）ビ
イミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラキス（３−メトキシフェ
ニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メト
キシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−
クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（３，４，５−トリメトキシフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェ
ニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−
トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキ
ス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシ
カルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’，４，４’−テトラキス
（４−クロロフェニル）−５，５’−ジフェニルビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
−トリアリールイミダゾールの二量体（以下、「成分
（ａ）」という。）、（ｂ）アミノ基含有ベンゾフェノ
ン系光増感剤（以下、「成分（ｂ）」という。）および
（ｃ）前記式（１）で表されるチオール系連鎖移動剤
（以下、「成分（ｃ）」という。）の組合せを含有する
ものである。ここで、成分（ａ）は、その２個のイミダ
ゾール環の各２，４，５−位に置換あるいは未置換のア
リール基を有するイミダゾリル二量体である。このよう
な成分（ａ）としては、例えば２，２’，４，４’，
５，５’−ヘキサフェニルビイミダゾール、２，２’−
ビス（２−フルオロフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，
４−ジフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，
６−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ク
ロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
ビイミダゾール、２，２’−ビス（４−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（３−メチルフェニル）ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メチルフェニル）ビ
イミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラキス（３−メトキシフェ
ニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メト
キシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−
クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（３，４，５−トリメトキシフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，
５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェ
ニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−
トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキ
ス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシ
カルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’，４，４’−テトラキス
（４−クロロフェニル）−５，５’−ジフェニルビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
【００１１】２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（３−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（３，４，５−
トリメトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチ
ルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４−ジエチルフェニル）−４、４’、５、５’−
テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，
４，６−トリエチルフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−
エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−
ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチ
ルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−メトキシフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（４−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−
ジメトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフ
ェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−
トリメトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メトキ
シフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−メトキシフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メトキシフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキ
シカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’，
４，４’−テトラキス（４−メトキシフェニル）−５，
５’−ジフェニルビイミダゾール、
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（３−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（３，４，５−
トリメトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチ
ルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４−ジエチルフェニル）−４、４’、５、５’−
テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，
４，６−トリエチルフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−
エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス
（４−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−
ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テ
トラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチ
ルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−メトキシフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（４−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−
ジメトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフ
ェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−
トリメトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メトキ
シフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−メトキシフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メトキシフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキ
シカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’，
４，４’−テトラキス（４−メトキシフェニル）−５，
５’−ジフェニルビイミダゾール、
【００１２】２，２’−ビス（２−メチルメルカプトフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（４−メチルメルカプトフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２−メチルメルカプトフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシ
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチ
ルメルカプトフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２−メチルメルカプトフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカル
ボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２
−メチルメルカプトフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２−ニトロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジニトロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリニトロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ニト
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２，４−ジシアノフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２，４，６−トリシアノフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシ
カルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２−シアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニ
ルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フ
ェニルフェニル）−４、４’、５、５’−テトラフェニ
ルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジフェニ
ルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビ
イミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリフェ
ニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニ
ル）−４、４’、５、５’−テトラキス（４−メトキシ
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェ
ニルフェニル）−４、４’、５、５’−テトラキス（４
−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキ
シカルボニルフェニル）ビイミダゾール、
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（４−メチルメルカプトフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２−メチルメルカプトフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシ
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチ
ルメルカプトフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２−メチルメルカプトフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカル
ボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２
−メチルメルカプトフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２−ニトロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（２，４−ジニトロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４，６−トリニトロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニル
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ニト
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−
エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−ニトロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２，４−ジシアノフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２，４，６−トリシアノフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシ
カルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２−シアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
キス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニ
ルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フ
ェニルフェニル）−４、４’、５、５’−テトラフェニ
ルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジフェニ
ルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビ
イミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリフェ
ニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニ
ル）−４、４’、５、５’−テトラキス（４−メトキシ
フェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェ
ニルフェニル）−４、４’、５、５’−テトラキス（４
−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキ
シカルボニルフェニル）ビイミダゾール、
【００１３】２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−ナフチル）−４，４’，５，５’−テ
トラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フ
ルオロ−１−ナフチル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロ
−１−ナフチル）−４，４’，５，５’−テトラフェニ
ルビイミダゾール、２，２’−ビス（４−クロロ−１−
ナフチル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロ−１−
ナフチル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモ−１−ナフチ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−メチル−１−ナフチル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（４−メチル−１−ナフチル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジメチル−１−ナフチル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−メトキシ−１−ナフチル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（４−メトキシ−１−ナフチル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジメトキシ−１−ナフチル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（２−クロロフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（４−クロロフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（２−メチルフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（４−メチルフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（２−メトキシフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（９−アントニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−
ジピレニル−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（９−フェナントリル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等
を挙げることができる。これらの成分（ａ）は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−ナフチル）−４，４’，５，５’−テ
トラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フ
ルオロ−１−ナフチル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロ
−１−ナフチル）−４，４’，５，５’−テトラフェニ
ルビイミダゾール、２，２’−ビス（４−クロロ−１−
ナフチル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロ−１−
ナフチル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモ−１−ナフチ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（２−メチル−１−ナフチル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（４−メチル−１−ナフチル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジメチル−１−ナフチル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２−メトキシ−１−ナフチル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（４−メトキシ−１−ナフチル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２’−ビス（２，４−ジメトキシ−１−ナフチル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（２−クロロフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（４−クロロフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（２−メチルフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（４−メチルフェニル）ビイミダゾール、
２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，５’
−テトラキス（２−メトキシフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（１−ナフチル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−メトキシフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２’−ビス（９−アントニル）−４，４’，
５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−
ジピレニル−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイ
ミダゾール、２，２’−ビス（９−フェナントリル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等
を挙げることができる。これらの成分（ａ）は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。
【００１４】また、成分（ｂ）としては、例えば４，
４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，
４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，
４’−ビス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４，４’−ビス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４，４’−ビス（メチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４，４’−ビス（エチルアミノ）ベンゾフェノン、
４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、４−ジエチルアミノベンゾフェノ
ン、４−メチルアミノベンゾフェノン、４−エチルアミ
ノベンゾフェノン、４−アミノベンゾフェノン、４−メ
トキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−メ
トキシ−４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等を挙げ
ることができる。これらの成分（ｂ）は、単独でまたは
２種以上を混合して使用することができる。
４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，
４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，
４’−ビス（ジ−ｎ−プロピルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４，４’−ビス（ジ−ｎ−ブチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４，４’−ビス（メチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４，４’−ビス（エチルアミノ）ベンゾフェノン、
４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、４−ジエチルアミノベンゾフェノ
ン、４−メチルアミノベンゾフェノン、４−エチルアミ
ノベンゾフェノン、４−アミノベンゾフェノン、４−メ
トキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−メ
トキシ−４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等を挙げ
ることができる。これらの成分（ｂ）は、単独でまたは
２種以上を混合して使用することができる。
【００１５】また、成分（ｃ）は、具体的には２−メル
カプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサ
ゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メル
カプト−４（３Ｈ）−キナゾリノンである。これらの成
分（ｃ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。本発明における光ラジカル発生剤の各成
分の使用割合は、成分（ａ）１００重量部に対して、成
分（ｂ）が、通常、１０〜１０００重量部、好ましくは
２０〜５００重量部であり、成分（ｃ）が、通常、１０
〜１０００重量部、好ましくは２０〜５００重量部であ
る。また、本発明における光ラジカル発生剤全体として
の（ハ）光架橋性モノマーおよび／またはオリゴマー１
００重量部に対する使用量は、通常、５〜５００重量
部、好ましくは１０〜４００重量部である。この場合、
光ラジカル発生剤の使用量が５重量部未満では、放射線
照射により十分架橋反応を進行させることができず、画
素パターンにアンダーカットが生じるおそれがあり、一
方５００重量部を超えると、現像時に画素が基板から脱
落するおそれがあり、また放射線非照射部に地汚れや膜
残りを生じやすくなる傾向がある。
カプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサ
ゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メル
カプト−４（３Ｈ）−キナゾリノンである。これらの成
分（ｃ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。本発明における光ラジカル発生剤の各成
分の使用割合は、成分（ａ）１００重量部に対して、成
分（ｂ）が、通常、１０〜１０００重量部、好ましくは
２０〜５００重量部であり、成分（ｃ）が、通常、１０
〜１０００重量部、好ましくは２０〜５００重量部であ
る。また、本発明における光ラジカル発生剤全体として
の（ハ）光架橋性モノマーおよび／またはオリゴマー１
００重量部に対する使用量は、通常、５〜５００重量
部、好ましくは１０〜４００重量部である。この場合、
光ラジカル発生剤の使用量が５重量部未満では、放射線
照射により十分架橋反応を進行させることができず、画
素パターンにアンダーカットが生じるおそれがあり、一
方５００重量部を超えると、現像時に画素が基板から脱
落するおそれがあり、また放射線非照射部に地汚れや膜
残りを生じやすくなる傾向がある。
【００１６】さらに、本発明においては、前記光ラジカ
ル発生剤とともに、その他の硬化促進剤、光ラジカル発
生剤等（以下、これらをまとめて「他の硬化促進剤等」
という。）を併用することもできる。このような他の硬
化促進剤等としては、例えばカルボニル化合物、アゾ化
合物、アジド化合物、有機硫黄化合物、過酸化物、トリ
ハロメタン化合物等を挙げることができる。前記カルボ
ニル化合物としては、例えばジアセチル、ベンジル、ベ
ンゾイン、２−ヒドロキシ−１−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−
ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２
−フェニルアセトフェノン、２−メチル− [４−（メチ
ルチオ）フェニル ]−２−モルフォリノ−１−プロパン
−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、ベン
ゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，４−ジエチルチオキサントン等を挙げるこ
とができる。これらのカルボニル化合物は、単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。前記アゾ
化合物あるいはアジド化合物としては、例えばアゾイソ
ブチロニトリル、アゾイソバレロニトリル、４−アジド
ベンズアルデヒド、４−アジドアセトフェノン、４−ア
ジドベンザルアセトフェノン、４−アジドベンザルアセ
トン、アジドピレン、４−ジアゾジフェニルアミン、４
−ジアゾ−４’−メトキシジフェニルアミン、４−ジア
ゾ−３’−メトキシジフェニルアミン、ジアジドカルコ
ン、２，６−ビス（４’−アジドベンザル）シクロヘキ
サノン、２，６−ビス（４’−アジドベンザル）−４−
メチルシクロヘキサノン、１，３−ビス（４’−アジド
ベンザル）−２−プロパノン、１，３−ビス（４’−ア
ジドシンナミリデン）−２−プロパノン、４，４’−ジ
アジドスチルベン等を挙げることができる。これらのア
ゾ化合物およびアジド化合物は、単独でまたは２種以上
を混合して使用することができる。前記有機硫黄化合物
としては、例えばｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ドデ
シルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン等のメル
カプタン類や、ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジ
エチルキサントゲンジスルフィド、テトラエチルチウラ
ムジスルフィド等のジスルフィド類等を挙げることがで
きる。これらのメルカプタン類およびジスルフィド類
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。前記過酸化物としては、例えばクメンハイドロパ
ーオキシド、パラメンタンハイドロパーオキシド、ジ−
ｔ−ブチルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ジエ
チルエーテルパーオキシド等を挙げることができる。こ
れらの過酸化物は、単独でまたは２種以上を混合して使
用することができる。前記トリハロメタン化合物として
は、例えば１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−
（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−
ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−クロロフェニ
ル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチ
ル）−５−（２’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジ
ン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−
メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン等を挙げることが
できる。これらのトリハロメタン化合物は、単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。また、前
記以外の他の硬化促進剤等として、重クロム酸アンモニ
ウム、重クロム酸カリウム等を添加することもできる。
本発明における他の硬化促進剤等の合計使用量は、
（ニ）光ラジカル発生剤全体の８０重量％以下であるこ
とが好ましい。
ル発生剤とともに、その他の硬化促進剤、光ラジカル発
生剤等（以下、これらをまとめて「他の硬化促進剤等」
という。）を併用することもできる。このような他の硬
化促進剤等としては、例えばカルボニル化合物、アゾ化
合物、アジド化合物、有機硫黄化合物、過酸化物、トリ
ハロメタン化合物等を挙げることができる。前記カルボ
ニル化合物としては、例えばジアセチル、ベンジル、ベ
ンゾイン、２−ヒドロキシ−１−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−
ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２
−フェニルアセトフェノン、２−メチル− [４−（メチ
ルチオ）フェニル ]−２−モルフォリノ−１−プロパン
−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、ベン
ゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフ
ェノン、２，４−ジエチルチオキサントン等を挙げるこ
とができる。これらのカルボニル化合物は、単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。前記アゾ
化合物あるいはアジド化合物としては、例えばアゾイソ
ブチロニトリル、アゾイソバレロニトリル、４−アジド
ベンズアルデヒド、４−アジドアセトフェノン、４−ア
ジドベンザルアセトフェノン、４−アジドベンザルアセ
トン、アジドピレン、４−ジアゾジフェニルアミン、４
−ジアゾ−４’−メトキシジフェニルアミン、４−ジア
ゾ−３’−メトキシジフェニルアミン、ジアジドカルコ
ン、２，６−ビス（４’−アジドベンザル）シクロヘキ
サノン、２，６−ビス（４’−アジドベンザル）−４−
メチルシクロヘキサノン、１，３−ビス（４’−アジド
ベンザル）−２−プロパノン、１，３−ビス（４’−ア
ジドシンナミリデン）−２−プロパノン、４，４’−ジ
アジドスチルベン等を挙げることができる。これらのア
ゾ化合物およびアジド化合物は、単独でまたは２種以上
を混合して使用することができる。前記有機硫黄化合物
としては、例えばｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ドデ
シルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン等のメル
カプタン類や、ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジ
エチルキサントゲンジスルフィド、テトラエチルチウラ
ムジスルフィド等のジスルフィド類等を挙げることがで
きる。これらのメルカプタン類およびジスルフィド類
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。前記過酸化物としては、例えばクメンハイドロパ
ーオキシド、パラメンタンハイドロパーオキシド、ジ−
ｔ−ブチルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ジエ
チルエーテルパーオキシド等を挙げることができる。こ
れらの過酸化物は、単独でまたは２種以上を混合して使
用することができる。前記トリハロメタン化合物として
は、例えば１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−
（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−
ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−クロロフェニ
ル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチ
ル）−５−（２’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジ
ン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−
メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン等を挙げることが
できる。これらのトリハロメタン化合物は、単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。また、前
記以外の他の硬化促進剤等として、重クロム酸アンモニ
ウム、重クロム酸カリウム等を添加することもできる。
本発明における他の硬化促進剤等の合計使用量は、
（ニ）光ラジカル発生剤全体の８０重量％以下であるこ
とが好ましい。
【００１７】添加剤 本発明の螢光体分散組成物は、前記成分（イ）〜（ニ）
以外に、必要に応じて、熱硬化性樹脂、熱硬化性樹脂用
硬化触媒、密着促進剤、充填剤、界面活性剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等の各種添加剤を含有す
ることもできる。前記熱硬化性樹脂としては、例えばエ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アニリン樹脂、
フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アクリレー
ト樹脂等を挙げることができる。また、熱硬化性樹脂用
硬化触媒としては、例えば、エポキシ樹脂に対しては、
多価アミン類、酸無水物類、フッ化アンチモン化合物
等；メラミン樹脂、尿素樹脂あるいはアニリン樹脂に対
しては、アンモニウム塩類、アルコールアミン類、金属
塩類、有機酸類；不飽和ポリエステル樹脂に対しては、
ベンゾイルパーオキシド、メチルエチルケトンパーオキ
シド等の過酸化物類；さらにアクリレート樹脂に対して
は、アゾイソブチロニトリル、アゾイソバレロニトリル
等のアゾ化合物、ｐ，ｐ’−ジメトキシベンジル、ｐ，
ｐ’−ジクロロベンジル等のベンジル化合物、２，２−
ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメチル−２−ヒ
ドロキシアセトフェノン等のアセトフェノン類等を挙げ
ることができる。前記密着促進剤としては、例えばビニ
ルトリメトキシラン、ビニルトリエトキシラン、ビニル
トリス（２−メトキシエトキ）シラン、Ｎ−（２−アミ
ノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメト
キシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができ
る。前記充填剤としては、例えば低融点ガラス、アルミ
ナ、シリカ等を挙げることができる。前記界面活性剤と
しては、例えばノニオン系界面活性剤、カチオン系界面
活性剤、アニオン系界面活性剤等を挙げることができ
る。前記密着促進剤としては、例えばビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエ
チル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができ
る。前記酸化防止剤としては、例えば２，２−チオビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−
ジ−ｔ−ブチルフェノール等を挙げることができる。前
記紫外線吸収剤としては、例えば２−（３−ｔ−ブチル
−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等を挙
げることができる。前記凝集防止剤としては、例えばポ
リアクリル酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等を
挙げることができる。そのほか、無機顔料、有機顔料、
染料を配合することもできる。前記各添加剤は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。
以外に、必要に応じて、熱硬化性樹脂、熱硬化性樹脂用
硬化触媒、密着促進剤、充填剤、界面活性剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等の各種添加剤を含有す
ることもできる。前記熱硬化性樹脂としては、例えばエ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アニリン樹脂、
フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アクリレー
ト樹脂等を挙げることができる。また、熱硬化性樹脂用
硬化触媒としては、例えば、エポキシ樹脂に対しては、
多価アミン類、酸無水物類、フッ化アンチモン化合物
等；メラミン樹脂、尿素樹脂あるいはアニリン樹脂に対
しては、アンモニウム塩類、アルコールアミン類、金属
塩類、有機酸類；不飽和ポリエステル樹脂に対しては、
ベンゾイルパーオキシド、メチルエチルケトンパーオキ
シド等の過酸化物類；さらにアクリレート樹脂に対して
は、アゾイソブチロニトリル、アゾイソバレロニトリル
等のアゾ化合物、ｐ，ｐ’−ジメトキシベンジル、ｐ，
ｐ’−ジクロロベンジル等のベンジル化合物、２，２−
ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメチル−２−ヒ
ドロキシアセトフェノン等のアセトフェノン類等を挙げ
ることができる。前記密着促進剤としては、例えばビニ
ルトリメトキシラン、ビニルトリエトキシラン、ビニル
トリス（２−メトキシエトキ）シラン、Ｎ−（２−アミ
ノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメト
キシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができ
る。前記充填剤としては、例えば低融点ガラス、アルミ
ナ、シリカ等を挙げることができる。前記界面活性剤と
しては、例えばノニオン系界面活性剤、カチオン系界面
活性剤、アニオン系界面活性剤等を挙げることができ
る。前記密着促進剤としては、例えばビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエ
チル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができ
る。前記酸化防止剤としては、例えば２，２−チオビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−
ジ−ｔ−ブチルフェノール等を挙げることができる。前
記紫外線吸収剤としては、例えば２−（３−ｔ−ブチル
−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等を挙
げることができる。前記凝集防止剤としては、例えばポ
リアクリル酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等を
挙げることができる。そのほか、無機顔料、有機顔料、
染料を配合することもできる。前記各添加剤は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。
【００１８】溶媒 本発明の螢光体分散組成物は、そのままで、あるいは
（イ）螢光体以外の成分を適当な溶媒に溶解した螢光体
分散液状組成物として使用される。このような溶媒とし
ては、例えばエーテル類、エステル類、エーテルエステ
ル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミド
エステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド
類、スルホン類、（ハロゲン化）炭化水素類等が挙げら
れ、より具体的には、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエー
テル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロ
ピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレン
グリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒ
ドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、
プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エス
テル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エス
テル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセ
テート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル
アセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエー
テルアセテート類、環式または非環式ケトン類、アセト
酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミ
ド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジ
アルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ター
ピネオール類等や、エタノールと水との混合物等を挙げ
ることができる。これらの溶媒は、単独でまたは２種以
上を混合して使用することができる。溶媒の使用量は、
本発明の螢光体分散組成物の全固形分１００重量部に対
して、通常、５〜１０００重量部、好ましくは１０〜５
００重量部である。本発明の螢光体分散組成物は、前記
（イ）〜（ニ）成分を、場合により使用される前記添加
剤あるいは溶媒とともに、例えばボールミル、ペブルミ
ル、シェーカー、ホモジナイザー、三本ロール、サンド
ミル等の混合機を用いて混合することにより調製するこ
とができる。
（イ）螢光体以外の成分を適当な溶媒に溶解した螢光体
分散液状組成物として使用される。このような溶媒とし
ては、例えばエーテル類、エステル類、エーテルエステ
ル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミド
エステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド
類、スルホン類、（ハロゲン化）炭化水素類等が挙げら
れ、より具体的には、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエー
テル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル
類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロ
ピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレン
グリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒ
ドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、
プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エス
テル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エス
テル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセ
テート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル
アセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエー
テルアセテート類、環式または非環式ケトン類、アセト
酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミ
ド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジ
アルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ター
ピネオール類等や、エタノールと水との混合物等を挙げ
ることができる。これらの溶媒は、単独でまたは２種以
上を混合して使用することができる。溶媒の使用量は、
本発明の螢光体分散組成物の全固形分１００重量部に対
して、通常、５〜１０００重量部、好ましくは１０〜５
００重量部である。本発明の螢光体分散組成物は、前記
（イ）〜（ニ）成分を、場合により使用される前記添加
剤あるいは溶媒とともに、例えばボールミル、ペブルミ
ル、シェーカー、ホモジナイザー、三本ロール、サンド
ミル等の混合機を用いて混合することにより調製するこ
とができる。
【００１９】本発明の螢光体分散組成物は、プラズマデ
ィスプレイパネル等の螢光体表示デバイスの螢光面の形
成に極めて好適に使用することができる。プラズマディ
スプレイパネルは、例えばガラス基板等の透明基板上に
放電空間を区画する隔壁と表示用電極を有し、隣接する
隔壁間の凹所内に、本発明の螢光体分散感放射線性樹脂
組成物からなる螢光体層が、例えばスクリーン印刷等に
より充填され、マスクを介して該螢光体層に光を照射
し、現像したのち、焼成処理を行うことにより螢光面が
形成される。プラズマディスプレイパネルを製造する際
に使用される放射線としては、例えば可視光、紫外線、
遠紫外線等が好ましい。放射線照射量等の照射条件は、
組成物の配合組成に応じて適宜選定される。また、焼成
処理の条件は、加熱温度が、通常、３００〜８００℃、
好ましくは４００〜６００℃であり、また加熱時間は、
通常、１〜３６０分、好ましくは１０〜２４０分であ
る。プラズマディスプレイパネルを製造する際に使用さ
れる現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウム
ハイドロキサイド等のアルカリ性化合物の水溶液、水等
を挙げることができるが、アルカリ性化合物の水溶液が
好ましい。前記アルカリ性化合物の水溶液の濃度は、通
常、０．００５〜５重量％、好ましくは０．０１〜３重
量％である。また、アルカリ性化合物の水溶液からなる
現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性
有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。
なお、アルカリ性水溶液からなる現像液を使用する場合
には、一般に、現像後水洗する。本発明の螢光体分散組
成物からなる螢光体層は、膜厚が２００μｍ程度であっ
ても、放射線照射により膜深部に到るまで全体を均質に
硬化させることができ、膜厚が厚く、表示輝度の高い螢
光面を形成することができる。
ィスプレイパネル等の螢光体表示デバイスの螢光面の形
成に極めて好適に使用することができる。プラズマディ
スプレイパネルは、例えばガラス基板等の透明基板上に
放電空間を区画する隔壁と表示用電極を有し、隣接する
隔壁間の凹所内に、本発明の螢光体分散感放射線性樹脂
組成物からなる螢光体層が、例えばスクリーン印刷等に
より充填され、マスクを介して該螢光体層に光を照射
し、現像したのち、焼成処理を行うことにより螢光面が
形成される。プラズマディスプレイパネルを製造する際
に使用される放射線としては、例えば可視光、紫外線、
遠紫外線等が好ましい。放射線照射量等の照射条件は、
組成物の配合組成に応じて適宜選定される。また、焼成
処理の条件は、加熱温度が、通常、３００〜８００℃、
好ましくは４００〜６００℃であり、また加熱時間は、
通常、１〜３６０分、好ましくは１０〜２４０分であ
る。プラズマディスプレイパネルを製造する際に使用さ
れる現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウム
ハイドロキサイド等のアルカリ性化合物の水溶液、水等
を挙げることができるが、アルカリ性化合物の水溶液が
好ましい。前記アルカリ性化合物の水溶液の濃度は、通
常、０．００５〜５重量％、好ましくは０．０１〜３重
量％である。また、アルカリ性化合物の水溶液からなる
現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性
有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。
なお、アルカリ性水溶液からなる現像液を使用する場合
には、一般に、現像後水洗する。本発明の螢光体分散組
成物からなる螢光体層は、膜厚が２００μｍ程度であっ
ても、放射線照射により膜深部に到るまで全体を均質に
硬化させることができ、膜厚が厚く、表示輝度の高い螢
光面を形成することができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて、本発明の
実施の形態を具体的に説明する。但し、本発明は、これ
らの実施例に何ら制約されるものではない。以下の％お
よび部は、重量に基づく。 合成例１ エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート １００部 メチルメタクリレート ７０部 メタクリル酸 ３０部 アゾイソブチロニトリル １部 の混合物を、攪拌機付オートクレーブに仕込み、室温で
均一になるまで攪拌したのち、８０℃に昇温した。次い
で８０℃で３時間重合し、さらに１００℃で２時間重合
したのち、室温まで冷却して、ポリマー溶液Ａを得た。
重合中は、窒素による空気遮断と攪拌を継続した。得ら
れたポリマー（これを、「ポリマーＡ」とする。）は、
重合収率が９８％であり、東ソー（株）製ＧＰＣ（商品
名ＨＬＣ−８０２Ａ）により測定したＭｗが１００，０
００であった。
実施の形態を具体的に説明する。但し、本発明は、これ
らの実施例に何ら制約されるものではない。以下の％お
よび部は、重量に基づく。 合成例１ エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート １００部 メチルメタクリレート ７０部 メタクリル酸 ３０部 アゾイソブチロニトリル １部 の混合物を、攪拌機付オートクレーブに仕込み、室温で
均一になるまで攪拌したのち、８０℃に昇温した。次い
で８０℃で３時間重合し、さらに１００℃で２時間重合
したのち、室温まで冷却して、ポリマー溶液Ａを得た。
重合中は、窒素による空気遮断と攪拌を継続した。得ら
れたポリマー（これを、「ポリマーＡ」とする。）は、
重合収率が９８％であり、東ソー（株）製ＧＰＣ（商品
名ＨＬＣ−８０２Ａ）により測定したＭｗが１００，０
００であった。
【００２１】
実施例１ 厚さ１．１ｍｍの所定の電極とリブを有するガラス基板
上に、下記に示す螢光体分散組成物を、スクリーン印刷
により塗布したのち、８０℃のクリーンオーブン内で１
０分間乾燥して、膜厚２００μｍの螢光体層を形成し
た。 螢光体分散組成物 螢光体 ・・・Y2O3：Eu（赤色） ７５０部 有機高分子バインダー・・・合成例１のポリマーＡ ７０部 光架橋性モノマー ・・・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ８０部 光ラジカル発生剤 ・・・２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’ ，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（これ を、「成分(a-1) 」とする。) １０部 ・・・４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン １０部 ・・・２−メルカプトベンゾチアゾール ５部 ・・・イルガキュア1700(*1) １０部 溶剤 ・・・３−エトキシプロピオン酸エチル １００重量部 (*1) ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンとビスア シルフォスフィンオキシドとの重量比３：１の混合物 得られた螢光体層に対して、マスクを介し、超高圧水銀
灯により紫外線（ｉ線、波長３６５ｎｍ）を１００ｍＪ
／ｃｍ2 の照射量で照射した。次いで、０．１重量％の
水酸化カリウム水溶液で２分間シャワー現像を行い、続
いて超純水により１分間シャワー洗浄を行って、紫外線
非照射部の螢光体層を除去し、空気中で乾燥した。その
後、１８０℃のクリーンオーブン内で３０分間加熱後、
さらに５２０℃の焼成炉内で３０分間焼成処理を行っ
て、発光用螢光面を形成し、プラズマディスプレイパネ
ルを作製した。得られたプラズマディスプレイパネル
は、螢光面の膜厚が約２００μｍであり、十分な厚さを
有し、作動時に高い表示輝度を示した。評価結果を表１
に示す。
上に、下記に示す螢光体分散組成物を、スクリーン印刷
により塗布したのち、８０℃のクリーンオーブン内で１
０分間乾燥して、膜厚２００μｍの螢光体層を形成し
た。 螢光体分散組成物 螢光体 ・・・Y2O3：Eu（赤色） ７５０部 有機高分子バインダー・・・合成例１のポリマーＡ ７０部 光架橋性モノマー ・・・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ８０部 光ラジカル発生剤 ・・・２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’ ，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（これ を、「成分(a-1) 」とする。) １０部 ・・・４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン １０部 ・・・２−メルカプトベンゾチアゾール ５部 ・・・イルガキュア1700(*1) １０部 溶剤 ・・・３−エトキシプロピオン酸エチル １００重量部 (*1) ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンとビスア シルフォスフィンオキシドとの重量比３：１の混合物 得られた螢光体層に対して、マスクを介し、超高圧水銀
灯により紫外線（ｉ線、波長３６５ｎｍ）を１００ｍＪ
／ｃｍ2 の照射量で照射した。次いで、０．１重量％の
水酸化カリウム水溶液で２分間シャワー現像を行い、続
いて超純水により１分間シャワー洗浄を行って、紫外線
非照射部の螢光体層を除去し、空気中で乾燥した。その
後、１８０℃のクリーンオーブン内で３０分間加熱後、
さらに５２０℃の焼成炉内で３０分間焼成処理を行っ
て、発光用螢光面を形成し、プラズマディスプレイパネ
ルを作製した。得られたプラズマディスプレイパネル
は、螢光面の膜厚が約２００μｍであり、十分な厚さを
有し、作動時に高い表示輝度を示した。評価結果を表１
に示す。
【００２２】実施例２〜４ 表１に示す成分および現像液を用いた以外は実施例１と
同様にして、螢光体分散組成物の調製およびプラズマデ
ィスプレイパネルの作製を行った。得られたプラズマデ
ィスプレイパネルは、螢光面の膜厚がいずれも約２００
μｍであり、十分な厚さを有し、作動時に高い表示輝度
を示した。評価結果を表１に示す。
同様にして、螢光体分散組成物の調製およびプラズマデ
ィスプレイパネルの作製を行った。得られたプラズマデ
ィスプレイパネルは、螢光面の膜厚がいずれも約２００
μｍであり、十分な厚さを有し、作動時に高い表示輝度
を示した。評価結果を表１に示す。
【００２３】実施例５〜６ 表２に示す成分および現像液を用いた以外は実施例１と
同様にして、螢光体分散組成物の調製およびプラズマデ
ィスプレイパネルの作製を行った。得られたプラズマデ
ィスプレイパネルは、螢光面の膜厚がいずれも約２００
μｍであり、十分な厚さを有し、作動時に高い表示輝度
を示した。評価結果を表２に示す。
同様にして、螢光体分散組成物の調製およびプラズマデ
ィスプレイパネルの作製を行った。得られたプラズマデ
ィスプレイパネルは、螢光面の膜厚がいずれも約２００
μｍであり、十分な厚さを有し、作動時に高い表示輝度
を示した。評価結果を表２に示す。
【００２４】比較例１〜２ 表２に示す成分および現像液を用いた以外は実施例１と
同様にして、螢光体分散組成物の調製およびプラズマデ
ィスプレイパネルの作製を行った。その結果、比較例１
のプラズマディスプレイパネルは、紫外線非照射部の膜
残りが著しく、作動時の表示輝度も不十分であった。な
お、比較例１の螢光面の膜厚が１５μｍであった。ま
た、比較例２のプラズマディスプレイパネルでは、螢光
体層の一部が現像中に流失して、螢光面の膜厚が３μｍ
となり、十分な膜厚が得られず、作動時の表示輝度も不
十分であった。評価結果を表２に示す。
同様にして、螢光体分散組成物の調製およびプラズマデ
ィスプレイパネルの作製を行った。その結果、比較例１
のプラズマディスプレイパネルは、紫外線非照射部の膜
残りが著しく、作動時の表示輝度も不十分であった。な
お、比較例１の螢光面の膜厚が１５μｍであった。ま
た、比較例２のプラズマディスプレイパネルでは、螢光
体層の一部が現像中に流失して、螢光面の膜厚が３μｍ
となり、十分な膜厚が得られず、作動時の表示輝度も不
十分であった。評価結果を表２に示す。
【００２５】
【発明の効果】本発明の螢光体分散組成物は、従来の螢
光体分散組成物に比べて、膜厚が厚く、表示輝度の高い
螢光面を形成することができ、したがって、今後ますま
す進行するとみられるプラズマディスプレイパネル等の
螢光体表示デバイスの大型化および高精密化の進展に資
するところが大である。
光体分散組成物に比べて、膜厚が厚く、表示輝度の高い
螢光面を形成することができ、したがって、今後ますま
す進行するとみられるプラズマディスプレイパネル等の
螢光体表示デバイスの大型化および高精密化の進展に資
するところが大である。
【表１】
【表２】
フロントページの続き (72)発明者 別所 信夫 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 （イ）螢光体、（ロ）有機高分子バイン
ダー、（ハ）光架橋性モノマーおよび／またはオリゴマ
ー並びに（ニ）光ラジカル発生剤を含有する螢光体分散
感放射線性組成物において、（ニ）光ラジカル発生剤
が、（ａ）２，４，５−トリアリールイミダゾールの二
量体、（ｂ）アミノ基含有ベンゾフェノン系光増感剤お
よび（ｃ）下記式（１）で表されるチオール系連鎖移動
剤の組合せを含有することを特徴とする螢光体分散感放
射線性組成物。 【化１】 〔式（１）において、Z は -O-、-S- 、-NH-または-CON
H-を示す。〕
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8042178A JPH09208611A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | 螢光体分散感放射線性組成物 |
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