JPH09258359A - ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
れたハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 【解決手段】一般式(II)のヒドラジン誘導体を固体微
粒子分散状態で含有するハロゲン化銀写真感光材料。
(式中、Aは連結基を、Bは一般式(III) で表わされる
基を、mは2〜6の整数を表わす) 式中Ar1、Ar2は芳香族基または芳香族ヘテロ環
基、L1、L2は連結基、nは0または1を表す。R1
は水素原子、アルキル基等、G1は−CO−基、−SO
2−基、−SO−基等、を表す。R2はR1に定義した
基と同じ範囲内より選ばれ、R1と異なっていてもよ
い。
Description
感光材料に関し、特に写真製版用に用いられる超硬調ハ
ロゲン化銀写真感光材料に関する。
物の多様性、複雑性に対処するため、また環境意識の高
まりから、オリジナル再現性の良好な写真感光材料と処
理廃液の低減できる処理システムが望まれていた。
いは線画像の再生を良好ならしめるために、超硬調(特
にγが10以上)の写真性を示す画像形成システムが必
要である。高コントラストの写真特性を得る方法として
は、古くからいわゆる“伝染現像効果”を利用したリス
現像方式が使用されてきたが、現像液が不安定で使いづ
らいという欠点を有していた。良好な保存安定性を有す
る処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる画像形
成システムが要望され、その1つとして米国特許第4,
166,742号、同第4,168,977号、同第
4,221,857号、同第4,224,401号、同
第4,243,739号、同第4,269,922号、
同第4,272,606号、同第4,311,781
号、同第4,332,878号、同4,618,574
号、同第4,634,661号、同第4,681,83
6号、同第5,650,746号等が開示されている。
これらはヒドラジン誘導体を添加した表面潜像型のハロ
ゲン化銀写真感光材料を、pH11.0〜12.3の安
定なMQまたはPQ現像液で処理し、γが10を越える
超硬調のネガ画像を得るシステムであり、この方法によ
れば超硬調で高感度の写真特性が得られ、現像液中に高
濃度の亜硫酸塩を添加することができるので、現像液の
空気酸化に対する安定性は従来のリス現像液に比べて飛
躍的に向上する。
保恒剤によって現像液の安定性を高めることを可能とし
たが、超硬調な写真画像を得るためには、比較的高いp
H値の現像液を用いることが必要であり、そのために現
像液が空気酸化されやすく多量の現像液を補充する必要
があった。そこで、ヒドラジン化合物の造核現像を利用
した超硬調な写真画像形成システムを、より低いpHの
現像液で実現する工夫が試みられてきた。
61−267759号)、米国特許第4,737,45
2号(特開昭60−179734号)、米国特許第5,
104,769号、同4,798,780号、特開平1
−179939号、同1−179940号、米国特許第
4,998,604号、同4,994,365号、特願
平7−37817号には、pH11.0未満の安定な現
像液を用いて超硬調な画像を得る為に、高活性なヒドラ
ジン造核剤、および造核促進剤を用いる方法が開示され
ている。また、塩化銀含有率が高くかつ化学増感を施し
たハロゲン化銀乳剤が、高い造核活性を有することも開
示されている。しかしながら、この方法においてもハロ
ゲン化銀写真感光材料1平方メートルを処理する際に現
像液の補充量が320〜450ミリリットル程度必要であり、
さらなる処理安定性の向上が望まれていた。
核剤を用いると、ヒドラジン造核剤を含む乳剤層塗布液
を溶解状態で経時した場合の増感が非常に大きくなり、
製造適性上問題となることがあった。
塗布液に添加することは、特開平2−3033号、特開
平7−175159号、特開平4−102848号で開
示されている。しかし、上記の問題を解決するには至っ
ていなかった。
は、超硬調で処理安定性に優れ、かつ製造適性の優れた
ハロゲン化銀写真感光材料とその処理方法を提供するこ
とである。
上に、少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有
するハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化
銀乳剤層もしくは他の親水性コロイド層の少なくとも一
層に、少なくとも一種の一般式(NB)で表されるヒド
ラジン誘導体を固体微粒子分散状態で含有することを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成され
た。 一般式(NB)
(B−1)で表される基を表し、mは2から6の整数を
表す。 一般式(B−1)
族ヘテロ環基を表し、L1 、L2 は連結基を表し、nは
0または1を表す。R1 は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミノ基またはヒドラジノ基を表し、G1 は−CO−
基、−SO2 −基、−SO−基、
イミノメチレン基を表す。R2 はR1に定義した基と同
じ範囲内より選ばれ、R1 と異なっていてもよい。
詳細に説明する。一般式(NB)の部分構造をなす一般
式(B−1)において、Ar1 、Ar2で表わされる芳
香族基とは単環もしくは2環のアリール基で、例えばベ
ンゼン環、ナフタレン環であり、またAr1 、Ar2 で
表わされる芳香族ヘテロ環基とは、単環または2環の、
芳香族のヘテロ環基で、他のアリール基と縮環していて
もよく、例えばピリジン環、ピリミジン環、イミダゾー
ル環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベ
ンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール
環等が挙げられる。Ar1 、Ar2 は、好ましくは芳香
族基であり、さらに好ましくはフェニレン基である。
代表的な置換基としては例えばアルキル基(活性メチン
基を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、複素環基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基
(例えばピリジニオ基)、ヒドロキシ基、アルコキシ基
(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を
繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、アシルオ
キシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、ウレタン基、カ
ルボキシル基(その塩を含む)、イミド基、アミノ基、
カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、チ
オウレイド基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジ
ド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級アン
モニオ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、また
はヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スル
ホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル
基、スルホ基(その塩を含む)、スルファモイル基、ア
シルスルファモイル基、(アルキルもしくはアリール)
スルホニルウレイド基、(アルキルもしくはアリール)
スルホニルカルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、
ニトロ基、リン酸アミド基、燐酸エステル構造を含む
基、アシルウレイド基、セレン原子またはテルル原子を
含む基、3級スルホニウム構造または4級スルホニウム
構造を持つ基、4級化されたリン原子を含む基などが挙
げられる。これらの置換基は、これら置換基でさらに置
換されていても良い。
のアルキル基、アラルキル基、複素環基、置換アミノ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、
スルファモイルアミノ基、イミド基、チオウレイド基、
リン酸アミド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイ
ル基、カルボキシル基(その塩を含む)、(アルキル、
アリール、またはヘテロ環)チオ基、スルホ基(その塩
を含む)、フルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基等が挙げられる。なおAr1 は好ましく
は、無置換のフェニレン基である。
れるアルキル基として好ましくは、炭素数1〜10のア
ルキル基であり、アリール基としては単環または2環の
アリール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むもので
ある。ヘテロ環基としては少なくとも1つの窒素、酸
素、および硫黄原子を含む5〜6員環の化合物で、例え
ばイミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、テ
トラゾリル基、ピリジル基、ピリジニオ基、キノリニオ
基、キノリニル基などがある。ピリジル基またはピリジ
ニオ基が特に好ましい。アルコキシ基としては炭素数1
〜8のアルコキシ基のものが好ましく、アリールオキシ
基としては単環のものが好ましく、アミノ基としては無
置換アミノ基、及び炭素数1〜10のアルキルアミノ
基、アリールアミノ基、飽和もしくは不飽和のヘテロ環
アミノ基が好ましい。R1 は置換されていても良く、好
ましい置換基としてはAr1 、Ar2 の置換基として例
示したものがあてはまる。
は、G1 が−CO−基の場合には水素原子、アルキル基
(例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオ
ロメチル基、2−カルボキシテトラフルオロエチル基、
ピリジニオメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−
メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニル
メチル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキ
シベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル
基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホン
アミドフェニル基、o−カルバモイルフェニル基、4−
シアノフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニル基な
ど)などであり、特に水素原子、アルキル基が好まし
い。また、G1 が−SO2 −基の場合には、R1 はアル
キル基(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例え
ば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。G1 が−CO
CO−基の場合にはアルコキシ基、アリールオキシ基、
アミノ基が好ましく、特にアルキルアミノ基、アリール
アミノ基、もしくはヘテロ環アミノ基(4級化された窒
素原子を含むヘテロ環基を含む)が好ましく、例えば
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イルア
ミノ基、プロピルアミノ基、アニリノ基、o−ヒドロキ
シアニリノ基、5−ベンゾトリアゾリルアミノ基、N−
ベンジル−3−ピリジニオアミノ基等が挙げられる。
又、R1 はG1 −R1 の部分を残余分子から分裂させ、
−G1 −R1 部分の原子を含む環式構造を生成させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、その例と
しては、例えば特開昭63−29751号などに記載の
ものが挙げられる。
ゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込まれてい
てもよい。かかる吸着基としては、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、チオ尿素基、チオアミド基、メルカプト
複素環基、トリアゾール基などの米国特許第4,38
5,108号、同4,459,347号、特開昭59−
195233号、同59−200231号、同59−2
01045号、同59−201046号、同59−20
1047号、同59−201048号、同59−201
049号、特開昭61−170733号、同61−27
0744号、同62−948号、同63−234244
号、同63−234245号、同63−234246号
に記載された基があげられる。またこれらハロゲン化銀
への吸着基は、プレカーサー化されていてもよい。その
様なプレカーサーとしては、特開平2−285344号
に記載された基が挙げられる。
表される連結基とは、−O−、−S−、−N(RN ) −
(RN は水素原子、アルキル基、またはアリール基を表
す。)、−CO−、−C(=S)−、−SO2 −、−S
O−、−P=O−、アルキレン基の単独、またはこれら
の基の組み合わせからなる基である。ここで組み合わせ
からなる基を具体的に示せば、−CON(RN ) −、−
SO2 N(RN ) −、−COO−、−N(RN ) CON
(RN ) −、−N(RN ) CSN(RN ) −、−N(R
N ) SO2 N(RN ) −、−SO2 N(RN ) CO−、
−SO2 N(RN ) CON(RN ) −、−N(RN ) C
OCON(RN ) −、−CON(RN )CO−、−S−
アルキレン基−CONH−、−O−アルキレン基−CO
NH−、−O−アルキレン基−NHCO−等の基が挙げ
られる。なおこれらの基は左右どちらから連結されてい
てもよい。一般式(B−1)に於いてL1 、L2 で表さ
れる連結基が、3価以上の基を含む時は、L1 は一般式
(B−1)に於いて−Ar1 −NHNH−G1 −R1 で
表される基を2つ以上連結していてもよく、またL2 は
一般式(B−1)に於いて−Ar2 −L1 −Ar1 −N
HNH−G1 −R1 で表される基を2つ以上連結してい
てもよい。この場合、L1 、L2 に含まれる3価以上の
連結基とは具体的には、アミノ基またはアルキレン基で
ある。一般式(B−1)に於いてL1 は、好ましくは−
SO2 NH−、−NHCONH−、−NHC(=S)N
H−、−OH、−S−、−N(RN ) −、活性メチン基
であり、特に好ましくは−SO2 NH−基である。L2
は好ましくは−CON(RN ) −、−SO2 N(RN )
−、−COO−、−N(RN ) CON(RN )−、−N
(RN ) CSN(RN ) −基である。
基とは、2から6のBで表される基を連結しうる2価か
ら6価の連結基であり、−O−、−S−、−N
(RN ′)−(RN ′は水素原子、アルキル基、または
アリール基を表す。)、−N+ (RN′)2 −(2つの
RN ′は同じでも異なっていてもよく、また結合して環
状となっていてもよい)、−CO−、−C(=S)−、
−SO2 −、−SO−、−P=O−、アルキレン基、シ
クロアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、
アリーレン基、ヘテロ環基の単独、またはこれらの基の
組み合わせからなる基、或いは単結合である。ここに於
いてヘテロ環基とは、ピリジニオ基の様な4級化された
窒素原子を含むヘテロ環基であってもよい。
基は置換されていてもよく、置換基としては一般式(B
−1)のAr1 、Ar2 が有していてもよい置換基の例
と同じものが挙げられる。
ンゼン環、ナフタレン環、飽和もしくは不飽和のヘテロ
環、ピリジニオ基の様な4級化された窒素原子を含むヘ
テロ環、アンモニオ基の様な4級化された窒素原子、あ
るいはシクロアルキレン基等の少なくとも1つが含まれ
ることが好ましい。nが1の時、Aで表される連結基に
は、単結合、ベンゼン環、ナフタレン環、飽和もしくは
不飽和のヘテロ環、ピリジニオ基の様な4級化された窒
素原子を含むヘテロ環、アンモニオ基の様な4級化され
た窒素原子、あるいはシクロアルキレン基等の少なくと
も1つが含まれることが好ましい。
数を表すが、好ましくは2、3または4であり、特に好
ましくは2または3である。
を以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定さ
れるものではない。
(微結晶粒子)の固体分散物として感材に添加される。
ヒドラジン系造核剤の微(結晶)粒子固体分散物は、所
望により適当な溶媒(水、アルコールなど)を用い、分
散剤の存在下で公知の微細化手段(例えば、ボールミ
ル、振動ボールミル、遊星ボールミル、サンドミル、コ
ロイドミル、ジェットミル、ローラーミル)を用い機械
的に調製することができる。また、ヒドラジン系造核剤
の微(結晶)粒子は、分散用界面活性剤を用いて、ヒド
ラジン系造核剤を適当な溶媒中で溶解させた後、ヒドラ
ジン系造核剤の貧溶媒に添加して微結晶を析出させる方
法や、pHをコントロールさせることによってまずヒド
ラジン系造核剤を溶解させ、その後pHを変化させて微
結晶化する方法などを利用して得ることができる。ヒド
ラジン系造核剤の微粉末を含有してなる層は、このよう
にして得たヒドラジン系造核剤の微(結晶)粒子を適当
なバインダー中に分散させることによってほぼ均一な粒
子の固体分散物として調製した後、これを所望の支持体
上に塗設することによって設けることができる。また解
離状態のヒドラジン系造核剤を塩の形で塗布した後、酸
性ゼラチンを上塗りすることにより分散固定を塗布時に
得る方法を用いることによっても設けることができる。
基を有するポリマーおよび、感光性乳剤層や非感光層に
用いることができる親水性コロイドや合成ポリマーが用
いられる。親水性コロイドに特に制限はないが、通常ゼ
ラチンが好ましい。
性剤を用いることができ、アニオン性、ノニオン性、両
性の界面活性剤が好ましい。特にアニオン性及び/又は
ノニオン性界面活性剤の使用が好ましい。
子は、平均粒子径0.005μm 〜10μm 、好ましく
は0.01μm 〜1μm 、更に好ましくは0.01μm
〜0.5μm である。
してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層ある
いは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよい
が、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水
性コロイド層に添加することが好ましい。
ルに対し1×10-6〜1×10-2モルが好ましく、1×
10-5〜1×10-3モルがより好ましく、5×10-5〜
1×10-3モルが最も好ましい。
アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体または
ヒドロキシメチル誘導体などが挙げられる。以下にその
例を列挙する。特開平7−77783号公報48頁2行
〜37行に記載の化合物で、具体的には49頁〜58頁
に記載の化合物A−1)〜A−73)。特開平7−84
331号に記載の(化21)、(化22)および(化2
3)で表される化合物で、具体的には同公報6頁〜8頁
に記載の化合物。特開平7−104426号に記載の一
般式〔Na〕および一般式〔Nb〕で表される化合物
で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載のNa−1
〜Na−22の化合物およびNb−1〜Nb−12の化
合物。特願平7−37817号に記載の一般式(1)、
一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)、一般式
(5)、一般式(6)および一般式(7)で表される化
合物で、具体的には同明細書に記載の1−1〜1−19
の化合物、2−1〜2−22の化合物、3−1〜3−3
6の化合物、4−1〜4−5の化合物、5−1〜5−4
1の化合物、6−1〜6−58の化合物および7−1〜
7−38の化合物。
剤は、一般式(A−1)、(A−2)、(A−3)、お
よび(A−4)で表されるオニウム塩化合物である。以
下詳細に説明する。
ロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル
基、シクロアルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基を
表わし、これらはさらに置換基を有していてもよい。L
はQ+ とその炭素原子で結合するm価の有機基を表わ
し、ここにmは1から4の整数を表す。Xn-はn価の対
アニオンを表わし、nは1から3の整数を表す。但しR
10、R20、R30またはLが、その置換基にアニオン基を
有し、Q+ と分子内塩を形成する場合、Xn-は必要な
い。
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデ
シル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などの直鎖又
は分枝状のアルキル基;置換もしくは無置換のベンジル
基などのアラルキル基;シクロプロピル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フ
ェニル基、ナフチル基、フエナントリル基などのアリー
ル基;アリル基、ビニル基、5−ヘキセニル基、などの
アルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル
基などのシクロアルケニル基;フェニルエチニル基等の
アルキニル基;ピリジル基、キノリル基、フリル基、イ
ミダゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベン
ゾトリアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリル
基、ピリミジル基、ピロリジル基などのヘテロ環基が挙
げられる。
は、R10、R20、R30で表わされる基の他に、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子、ニトロ基、(アルキルもしくはアリール)アミノ
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキル又は
アリール)チオ基、カルボンアミド基、カルバモイル
基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシ
ル基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル基
(カルボキシラートを含む)、スルホン酸基(スルホナ
ートを含む)、シアノ基、オキシカルボニル基、アシル
基等が挙げられる。
表す時、R10、R20、R30と同義の基が挙げられるが、
この他にmが2以上の整数を表す時、トリメチレン基、
テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタメチレン
基、オクタメチレン基、ドデカメチレン基などのポリメ
チレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン
基などのアリーレン基、トリメチレンメチル基、テトラ
メチレンメチル基などの多価アルキレン基、フェニレン
−1,3,5−トルイル基、フェニレン−1,2,4,
5−テトライル基などの多価アリーレン基などが挙げら
れる。
は、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロ
ゲンイオン、アセテートイオン、オキサレートイオン、
フマレートイオン、ベンゾエートイオンなどのカルボキ
シレートイオン、p−トルエンスルホネート、メタンス
ルホネート、ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネー
トなどのスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イ
オン、炭酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。
R30は好ましくは炭素数20以下の基であり、Qがリン
原子を表す時、炭素数15以下のアリール基が特に好ま
しく、Qが窒素原子を表す時、炭素数15以下のアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基が特に好ましい。mは
1または2が好ましく、mが1を表わす時、Lは好まし
くは炭素数20以下の基であり、総炭素数15以下のア
ルキル基、アラルキル基、またはアリール基が特に好ま
しい。mが2を表わす時、Lで表わされる2価の有機基
は、好ましくはアルキレン基、アリーレン基、アラルキ
レン基、さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、
−N(NR′)−基(NR′は水素原子またはR10、R
20、R30と同義の基を表わし、分子内に複数のNR′が
存在する時、これらは同じであっても異なっていても良
く、さらには互いに結合していても良い)、−S−基、
−SO−基、−SO2 −基を組みあわせて形成される2
価の基である。mが2を表わす時、Lはその炭素原子で
Q+ と結合する総炭素数20以下の2価の基であること
が好ましい。mが2以上の整数を表わす時、分子内にR
10、R20、R30はそれぞれ複数存在するが、その複数の
R10、R20、R30はそれぞれ同じであっても異なってい
ても良い。
ロゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネート
イオン、硫酸イオンが好ましく、nは1または2が好ま
しい。
合物の多くのものは公知であり、試薬として市販のもの
である。一般的合成法としては、Qがリン原子の時、ホ
スフィン酸類をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エス
テルなどのアルキル化剤と反応させる方法:あるいはホ
スホニウム塩類の対陰イオンを常法により交換する方法
がある。またQが窒素原子の時、1級、2級、もしくは
3級のアミノ化合物をハロゲン化アルキル類、スルホン
酸エステル等のアルキル化剤と反応させる方法がある。
体例を以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定
されるものではない。
3)について説明する。
れた窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテ
ロ環を完成させるための有機残基を表わし、炭素原子、
水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよ
く、更にベンゼン環が縮環してもかまわない。A1 、A
2 、A3 、A4 が形成する不飽和ヘテロ環の例として
は、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダ
ゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾト
リアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリミジン環、ピ
ラゾール環などを挙げることができる。特に好ましく
は、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環である。
ン、アリーレン、アルケニレン、アルキニレン、−SO
2 −、−SO−、−O−、−S−、−N(RN ) −、−
C=O−、−P=O−を単独または組合せて構成される
ものが好ましい。ただし、RN はアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基、水素原子を表わす。特に好ましい例
として、B、Cはアルキレン、アリーレン、−C=O
−、−O−、−S−、−N(RN )−を単独または組合
せて構成されるものを挙げることができる。
が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。アルキ
ル基に置換基が置換してもよく、置換基としては、ハロ
ゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あるい
は無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒドロキシ
エチル基など)、置換あるいは無置換のアリール基(例
えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル基な
ど)、置換あるいは無置換のアシル基(例えば、ベンゾ
イル基、p−ブロモベンゾイル基、アセチル基など)、
(アルキルもしくはアリール)オキシカルボニル基、ス
ルホ基(スルホナートを含む)、カルボキシ基(カルボ
キシラートを含む)、メルカプト基、ヒドロキシ基、ア
ルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基など)、
アリールオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、
チオウレイド基、(アルキルもしくはアリール)アミノ
基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基等が挙げられる。特に好ましくは、R1 、R2 は各
々炭素数1〜10のアルキル基である。好ましい置換基
の例として、カルバモイル基、オキシカルボニル基、ア
シル基、アリール基、スルホ基(スルホナートを含
む)、カルボキシ基(カルボキシラートを含む)、ヒド
ロキシ基を挙げることができる。
素原子と共に形成する不飽和ヘテロ環は、置換基を有し
ていてもよい。この場合の置換基の例としては、上記に
R1、R2 のアルキル基の置換基として挙げた置換基か
ら選ばれる。置換基として好ましくは、炭素数0〜10
のアリール基、アルキル基、カルバモイル基、(アルキ
ルもしくはアリール)アミノ基、オキシカルボニル基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキルもしくは
アリール)チオ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、
スルホンアミド基、スルホ基(スルホナートを含む)、
カルボキシ基(カルボキシラートを含む)等が挙げられ
る。
一般式(A−1)と同じものであり、その好ましい範囲
もまた同じである。
法により容易に合成することができるが、以下の文献が
参考になる。(参照、Quart.Rev., 16、163(19
62).)
具体的化合物を以下に示すが、本発明はこれに限定され
るものではない。
子の他に炭素原子、水素原子、酸素原子、硫黄原子を含
んでもよく、さらにベンゼン環が縮環していてもよく、
また置換基を有していてもよい。形成されるヘテロ環の
例としては、一般式(A−2)および一般式(A−3)
のA1 、A2 、A3 、A4 が形成する含窒素不飽和ヘテ
ロ環の例と同じものが挙げられる。好ましい範囲もまた
同じであり、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環
が好ましい。Zを含む含窒素不飽和ヘテロ環が置換基を
有する時、その置換基の例は一般式(A−2)および一
般式(A−3)のA1 、A2 、A3 、A4 が形成する含
窒素不飽和ヘテロ環が有していてもよい置換基の例と同
じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じである。
すが、これらは炭素数1〜20で、置換もしくは無置換
で、さらに直鎖もしくは分枝、或いは環状であってもよ
い。その置換基としては、一般式(A−2)のR1 、R
2 で表されるアルキル基が有していてもよい置換基の例
と同じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じであ
る。
一般式(A−1)と同じものであり、その好ましい範囲
もまた同じである。
物は、一般によく知られた方法により容易に合成するこ
とができるが、以下の文献が参考になる。(参照、Quar
t.Rev., 16、163(1962).)
化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
ましく用いられ、特に以下に示す化合物が好ましく用い
られる。特開平7−84331号に記載き(化21)、
(化22)および(化23)で表される化合物で、具体
的には同公報6頁〜8頁に記載の化合物。特開平7−1
04426号に記載の一般式〔Na〕で表される化合物
で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載のNa−1
〜Na−22の化合物。特願平7−37817号に記載
の一般式(1)、一般式(2)、一般式(3)、一般式
(4)、一般式(5)、一般式(6)および一般式
(7)で表される化合物で、具体的には同明細書に記載
の1−1〜1−19の化合物、2−1〜2−22の化合
物、3−1〜3−36の化合物、4−1〜4−5の化合
物、5−1〜5−41の化合物、6−1〜6−58の化
合物および7−1〜7−38の化合物。
機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類
(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに
溶解して用いることができる。また、既によく知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作製して用いることかできる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、造核促進
剤の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散し用いることができる。
ロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あるいは他
の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハ
ロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイ
ド層に添加することが好ましい。本発明の造核促進剤添
加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜2×10
-2モルが好ましく、1×10-5〜2×10-2モルがより
好ましく、2×10-5〜1×10-2モルが最も好まし
い。
剤のハロゲン組成に特別な制限はないが、本発明の目的
をより効果的に達成するうえで、塩化銀含有率50モル
%以上の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀が好ましい。沃
化銀の含有率は5モル%を下回ること、特に2モル%よ
り少ないことが好ましい。
照度露光に適した感光材料及び線画撮影用感光材料は、
高コントラスト及び低カブリを達成するために、ロジウ
ム化合物を含有する。本発明に用いられるロジウム化合
物として、水溶性ロジウム化合物を用いることができ
る。たとえば、ハロゲン化ロジウム(III) 化合物、また
はロジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オ
キザラト等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウ
ム(III) 錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキ
サアミンロジウム(III) 錯塩、トリザラトロジウム(II
I) 錯塩等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、
水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウ
ム化合物の溶液を安定化させるために一般によく行われ
る方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液(例えば塩
酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ
(例えば、KCl、NaCl、KBr、NaBr等)を
添加する方法を用いることができる。水溶性ロジウムを
用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジ
ウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して
溶解させることも可能である。添加量は、ハロゲン化銀
乳剤の銀1モル当たり1×10-8〜5×10-6モル、好
ましくは5×10-8〜1×10-6モルである。これらの
化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒子の製造時及び乳
剤を塗布する前の各段階において適宜行うことができる
が、特に乳剤形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組
み込まれることが好ましい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides 著 Chimie et Physique Photograph
ique(Paul Montel社刊、1967年)、G.F.Dufin 著 P
hotographic Emulsion Chemistry(The Focal Press刊、
1966年)、V.L.Zelikman et al著 Making and Coat
ing Photographic Fmulsion(The Focal Press 刊、19
64年)などに記載された方法を用いて調製することが
できる。
る方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組
み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン
過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆混合法)
を用いることもできる。同時混合法の一つの形式として
ハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一定に保つ
方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤
を使用して粒子形成させることが好ましい。より好まし
くは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭53−824
08号、同55−77737号に記載されている。好ま
しいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリジンチオンである。コントロ
ールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使
用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ
分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本
発明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手
段である。また、粒子サイズを均一にするためには、英
国特許第1,535,016号、特公昭48−3689
0号、同52−16364号に記載されているように、
硝酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度
に応じて変化させる方法や、英国特許第4,242,4
45号、特開昭55−158124号に記載されている
ように水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽
和度を越えない範囲において早く成長させることが好ま
しい。本発明の乳剤は単分散乳剤が好ましく変動係数が
20%以下、特に好ましくは15%以下である。単分散
ハロゲン化銀乳剤中の粒子の平均粒子サイズは0.5μ
m 以下であり、特に好ましくは0.1μm 〜0.4μm
である。
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法
などが好ましい。
硫黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定
時間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては
公知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン
中に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例
えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、
チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加
量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大
きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀
1モル当り10-7〜10-2モルであり、より好ましくは
10-5〜10-3モルである。
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44−15748号、同43−13489号、
特願平2−13097号、同2−229300号、同3
−121798号等に記載の化合物を用いることができ
る。特に特願平3−121798号中の一般式(VIII)お
よび(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン
化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平4−
146739号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特願平2−22
2819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635(1980)、ibid
1102(1979)、ibid 645(1979)、
ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキ
ン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.)
1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai)編、ザ
・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・ア
ンド・テルリウム・カンパウンズ(Teh Chemistry of Or
ganic Serenium and Tellunium Compounds),Vol 1(1
986)、同Vol 2(1987)に記載の化合物を用い
ることができる。特に特願平4−146739号中の一
般式(II)、(III) 、(IV)で示される化合物が好ましい。
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3モ
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。本発
明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラ
ジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好
ましい。本発明に用いられる金増感としては具体的に
は、塩化金酸、カリウムクロレート、カリウムオーリチ
オシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン化銀1
モル当たり10-7〜10-2モル程度を用いることができ
る。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀
粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム
塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよ
い。本発明においては、還元増感を用いることかでき
る。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホルム
アミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いること
ができる。本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許
(EP)−293,917に示される方法により、チオ
スルホン酸化合物を添加してもよい。本発明に用いられ
る感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよい
し、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、
ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増
感の条件の異なるもの)併用してもよい。
に適したハロゲン化銀乳剤は90モル%以上、より好ま
しくは95モル%以上が塩化銀からなるハロゲン化銀で
あり、臭化銀を0〜10モル%含む塩臭化銀もしくは塩
沃臭化銀である。臭化銀あるいは沃化銀の比率が増加す
ると明室下でのセーフライト安全性の悪化、あるいはγ
が低下して好ましくない。
ロゲン化銀乳剤は、遷移金属錯体を含むことが望まし
い。遷移金属としては、Rh、Ru、Re、Os、I
r、Cr、などが挙げられる。配位子としては、ニトロ
シル及びチオニトロシル架橋配位子、ハロゲン化物配位
子(フッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物)、シアン
化物配位子、シアネート配位子、チオシアネート配位
子、セレノシアネート配位子、テルロシアネート配位
子、アシド配位子及びアコ配位子が挙げられる。アコ配
位子が存在する場合には、配位子の1つ又は2つを占め
ることが好ましい。
には、単塩、錯塩など任意の形の金属塩にして粒子調製
時に添加することができる。ロジウム塩としては、一塩
化ロジウム、二塩化ロジウム、三塩化ロジウム、ヘキサ
クロロロジウム酸アンモニウム等が挙げられるが、好ま
しくは水溶性の三価のロジウムのハロゲン錯化合物、例
えばヘキサクロロロジウム(III) 酸もしくはその塩(ア
ンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩など)であ
る。これらの水溶性ロジウム塩の添加量はハロゲン化銀
1モル当り1.0×10-6モル〜1.0×10-3モルの
範囲で用いられる。好ましくは1.0×10-5モル〜
1.0×10-3モル、特に好ましくは5.0×10-5モ
ル〜5.0×10-4モルである。
は、特に制約はない。本発明に用いる増感色素の添加量
は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ等により異なる
が、ハロゲン化銀1モル当り4×10-6〜8×10-3モ
ルの範囲で用いられる。例えば、ハロゲン化銀粒子サイ
ズが0.2〜1.3μm の場合には、ハロゲン化銀粒子
の表面積1m2当り、2×10-7〜3.5×10-6モルの
添加量範囲が好ましく、特に6.5×10-7〜2.0×
10-6モルの添加量範囲が好ましい。
色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光ま
たは赤外光に分光増感されてもよい。増感色素として
は、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックス
シアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロ
ホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色
素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用い
ることができる。本発明に使用される有用な増感色素は
例えばRESEARCH DISCLOSURE Item 17643IV−A項
(1978年12月、p.23)、同Item 1831 X項
(1978年8月、p.437)に記載もしくは引用され
た文献に記載されている。特に各種スキャナー光源の分
光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択
することができる。例えば、 A)アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭60−1
62247号、特開平2−48653号、米国特許第
2,161,331号、西独特許936,071号、特
願平3−189532号記載のシンプルメロシアニン
類、B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特
開昭50−62425号、同54−18726号、同5
9−102229号に示された三核シアニン色素類、
C)LED光源及び赤色半導体レーザーに対しては特公
昭48−42172号、同51−9609号、同55−
39818号、特開昭62−284343号、特開平2
−105135号に記載されたチアカルボシアニン類、
D)赤外半導体レーザー光源に対しては特開昭59−1
91032号、特開昭60−80841号に記載された
トリカルボシアニン類、特開昭59−192242号、
特開平3−67242号の一般式(IIIa)、一般式(III
b)に記載された4−キノリン核を含有するジカルボシ
アニン類などが有利に選択される。これらの増感色素は
単独に用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよ
く、増感色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばし
ば用いられる。増感色素とともに、それ自身分光増感作
用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない
物質であって、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでも
よい。有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及
び強色増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャー
(Research Disclosure) 176巻17643(1978
年12月発行)第23頁IVのJ項に記載されている。
には特願平7−104647号に記載のS1−1〜S1
−13の色素が特に好ましく用いられる。
他に特願平4−228745号の8頁の下から1行目か
ら13頁の上から4行目に記載の一般式(I)で表わさ
れる増感色素が特に好ましい。また、特願平4−228
745号の一般式(I)記載のものも好ましく用いられ
る。具体的には特願平7−104647号に記載のS2
−1〜S2−10の色素が特に好ましく用いられる。ま
た特願平6−103272号の一般式(I)で表わされ
る増感色素で、具体的には同明細書に記載のI−1〜I
−34の色素も好ましく用いられる。
ては、具体的には特願平7−104647号に記載のS
3−1〜S3−8の色素が特に好ましく用いられる。
的には特願平7−104647号に記載のS4−1〜S
4−9の色素が特に好ましく用いられる。
願平5−201254号に記載の一般式(IV)の増感色
素(20頁14行目から22頁23行目)が好ましく用
いられる。具体的には特願平7−104647号に記載
のS5−1〜S5−20の色素が特に好ましく用いられ
る。
に関しては、特に制限はなく、例えば下記箇所に記載さ
れたものを好ましく用いることができる。
11行目から同公報第12頁左下5行目に記載のポリヒ
ドロキシベンゼン化合物、具体的には、同公報に記載の
化合物 (III)−1〜25の化合物。
般式(I)で表される実質的には可視域に吸収極大を持
たない化合物。具体的には、同公報に記載き化合物I−
1〜I−26の化合物。
下19行目から同公報18頁右上4行目に記載のかぶり
防止剤。
下12行目から同頁左下20行目に記載のポリマーラテ
ックス。
上15行目から同公報19頁右上15行目に記載のマッ
ト際、滑り剤、可塑剤。
上5行目から同頁右上17行目に記載の硬膜剤。
下6行目から同公報19頁左上1行目に記載の酸基を有
する化合物。
3行目から同公報第3頁右上7行目に記載の導電性物
質。具体的には、同公報第2頁右下2行目から同頁右下
10行目に記載の金属酸化物、および同公報に記載の化
合物P−1〜P−7の導電性高分子化合物。
下1行目から同頁右上18行目に記載の水溶性染料。
3−185773号に記載の固体分散染料。
行目から同頁右下3行目に記載の界面活性剤。特開平2
−103536号公報第18頁左下4行目から同頁左下
7行目に記載のPEG系界面活性剤。特開平3−399
48号公報第12頁左下6行目から同公報第13頁右下
5行目に記載の含弗素界面活性剤。具体的には、同公報
に記載の化合物VI−1〜VI−15の化合物。特開平5−
274816号公報に記載の酸化されることにより現像
抑制剤を放出しうるレドックス化合物。好ましくは同公
報に記載の一般式(R−1)、一般式(R−2)、一般
式(R−3)で表されるレドックス化合物。具体的に
は、同公報に記載の化合物R−1〜R−68の化合物。
行から20行に記載のバインダー。
ては、例えばバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプ
ロピレン合成紙、ガラス板、セルロースアセテート、セ
ルロースナイトレート、例えばポリエチレンテレフタレ
ートなどのポリエステルフィルムを挙げることができ
る。これらの支持体は、それぞれハロゲン化銀写真感光
材料の使用目的に応じて適宜選択される。
液には、通常用いられる添加剤(例えば、現像主薬、ア
ルカリ剤、pH緩衝剤、保恒剤、キレート剤)を含有す
ることができる。本発明の現像処理には、公知の方法の
いずれかを用いることができるし、現像処理液には公知
のものを用いることができる。本発明に使用する現像液
に用いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキ
シベンゼン類、あるいはアスコルビン酸誘導体を含むこ
とが好ましく、さらに現像能力の点でジヒドロキシベン
ゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合せ、
ジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノール類の組
合せ、アスコルビン酸誘導体と1−フェニル−3−ピラ
ゾリドン類の組合せまたは、アスコルビン酸誘導体とp
−アミノフェノール類の組合せが好ましく、最も好まし
い組合せは、アスコルビン酸誘導体とp−アミノフェノ
ール類の組合せである。
主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、
イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
ハイドロキノンモノスルホン酸塩などがあるが、特にハ
イドロキノンが好ましい。本発明に好ましく用いられる
アスコルビン酸誘導体現像主薬は一般式(1)の化合物
である。
ぞれヒドロキシ基、アミノ基(置換基としては炭素数1
〜10のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−
ブチル基、ヒドロキシエチル基などを置換基として有す
るものを含む。)、アシルアミノ基(アセチルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基など)、アルキルスルホニルア
ミノ基(メタンスルホニルアミノ基など)、アリールス
ルホニルアミノ基(ベンゼンスルホニルアミノ基、p−
トルエンスルホニルアミノ基など)、アルコキシカルボ
ニルアミノ基(メトキシカルボニルアミノ基など)、メ
ルカプト基、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチ
オ基など)を表わす。R1 、R2 として好ましい例とし
て、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルスルホニルアミ
ノ基、アリールスルホニルアミノ基を挙げることができ
る。
ル基、カルボキシル基、カルボキシアルキル基、スルホ
基、スルホアルキル基、アミノ基、アミノアルキル基、
アルキル基、アルコキシ基、メルカプト基を表わすか、
または、PとQは結合して、R1 、R2 が置換している
二つのビニル炭素原子とYが置換している炭素原子と共
に、5〜7員環を形成するのに必要な原子群を表わす。
環構造の具体例として、−O−、−C(R4)(R5)−、
−C(R6)=、−C(=O)−、−N(R7)−、−N
=、を組み合わせて構成される。ただしR4 、R5 、R
6 、R7 は水素原子、炭素数1〜10の置換してもよい
アルキル基(置換基としてヒドロキシ基、カルボキシ
基、スルホ基を挙げることができる)、ヒドロキシ基、
カルボキシ基を表わす。更にこの5〜7員環に飽和ある
いは不飽和の縮合環を形成しても良い。
ノン環、ジヒドロピロン環、ピラノン環、シクロペンテ
ノン環、シクロヘキセノン環、ピロリノン環、ピラゾリ
ノン環、ピリドン環、アザシクロヘキセノン環、ウラシ
ル環などが挙げられ、好ましい5〜7員環の例として、
ジヒドロフラノン環、シクロペンテノン環、シクロヘキ
セノン環、ピラゾリノン環、アザシロクヘキセノン環、
ウラシル環を挙げることができる。
基である。ここでR3 は水素原子、ヒドロキシル基、ア
ルキル基(例えばメチル、エチル)、アシル基(例えば
アセチル)、ヒドロキシアルキル基(例えばヒドロキシ
メチル、ヒドロキシエチル)、スルホアルキル基(例え
ばスルホメチル、スルホエチル)、カルボキシアルキル
基(例えばカルボキシメチル、カルボキシエチル)を表
わす。以下に一般式(I)の化合物の具体例を示すが本
発明はこれに限定されるものではない。
あるいはエリソルビン酸(アスコルビン酸のジアステレ
オマー)である。一般式(1)の化合物の使用量の一般
的な範囲としては、現像液1リットル当り、5×10-3
モル〜1モル、特に好ましくは10-2モル〜0.5モル
である。
ピラゾリドン又はその誘導体の現像主薬としては1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジ
メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル
−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドンなどがあ
る。本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬と
してはN−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノ
フェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミ
ノフェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシ
ン等があるが、なかでもN−メチル−p−アミノフェノ
ールが好ましい。ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は通
常0.05〜0.8モル/リットルの量で用いられるの
が好ましい。特に好ましくは、0.2〜0.6モル/リ
ットルの範囲である。またジヒドロキシベンゼン類と1
−フェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノフ
ェノール類の組合せを用いる場合には前者を0.05〜
0.6モル/リットル、さらに好ましくは0.2〜0.
5モル/リットル、後者を0.06モル/リットル以
下、さらに好ましくは0.03モル/リットル以下の量
で用いるのが好ましい。アスコルビン酸誘導体現像主薬
は通常0.05〜1.0モル/リットルの量で用いられ
るのが好ましい。特に好ましくは、0.1〜0.5モル
/リットルの範囲である。またアスコルビン酸誘導体と
1−フェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノ
フェノール類の組合せを用いる場合には前者を0.05
〜1.0モル/リットル、さらに好ましくは0.1〜
0.5モル/リットル、後者を0.2モル/リットル以
下、さらに好ましくは0.1モル/リットル以下の量で
用いるのが好ましい。
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アン
モニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。
ジヒドロキシベンゼン系現像主薬を用いる場合は、亜硫
酸塩は0.20モル/リットル以上、特に0.3モル/
リットル以上用いられるが、余りに多量添加すると現像
液中の銀汚れの原因になるので、上限は1.2モル/リ
ットルとするのが望ましい。特に好ましくは、0.35
〜0.7モル/リットルである。一方、アスコルビン酸
誘導体現像主薬を用いる場合は、亜硫酸塩は少なくてよ
く、0.5モル/リットル以下でよい。
場合は、保恒剤として、亜硫酸塩と併用してアスコルビ
ン酸誘導体を少量使用しても良い。アスコルビン酸誘導
体としては、アスコルビン酸、その立体異性体であるエ
リソルビン酸やそのアルカリ金属塩(ナトリウム、カリ
ウム塩)などがあるが、エリソルビン酸ナトリウムを用
いることが素材コストの点で好ましい。添加量はジヒド
ロキシベンゼン系現像主薬に対して、モル比で0.03
〜0.12の範囲が好ましく、特に好ましくは0.05
〜0.10の範囲である。保恒剤としてアスコルビン酸
誘導体を使用する場合には現像液中にホウ素化合物を含
まないことが好ましい。
臭化ナトリウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤;エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤;ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノ
ールアミン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進
剤;メルカプト系化合物、インダゾール系化合物、ベン
ゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物
をカブリ防止剤又は黒ポツ(black pepper) 防止剤とし
て含んでもよい。具体的には、5−ニトロインダゾー
ル、5−p−ニトロベンゾイルアミノインダゾール、1
−メチル−5−ニトロインダゾール、6−ニトロインダ
ゾール、3−メチル−5−ニトロインダゾール、5−ニ
トロベンズイミダゾール、2−イソプロピル−5−ニト
ロベンズイミダゾール、5−ニトロベンズトリアゾー
ル、4−〔(2−メルカプト−1,3,4−チアジアゾ
ール−2−イル)チオ〕ブタンスルホン酸ナトリウム、
5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−チオー
ル、メチルベンゾトリアゾール、5−メチルベンゾトリ
アゾール、2−メルカプトベンゾトリアゾールなどを挙
げることができる。これらカブリ防止剤の量は、通常、
現像液1リットル当り0.01〜10mmolであり、より
好ましくは0.1〜2mmolである。
機のキレート剤を併用することができる。無機キレート
剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタ
リン酸ナトリウム等を用いることができる。一方、有機
キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリ
カルボン酸、有機スルホン酸、アミノスルホン酸及び有
機ホスホノカルボン酸を用いることができる。有機カル
ボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コ
ハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、アシエ
ライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジ
カルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、イ
タコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等を挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。
酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチ
レンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジ
アミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、1,2−ジ
アミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3−ジアミノ−2
−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四
酢酸、その他特開昭52−25632号、同55−67
747号、同57−102624号、及び特公昭53−
40900号明細書等に記載の化合物を挙げることがで
きる。
214,454号、同3,794,591号、及び西独
特許公開2,227,639号等に記載のヒドロキシア
ルキリデン−ジホスホン酸やリサーチ・ディスクロージ
ャー(Research Disclosure)第181巻、Item 181
70(1979年5月号)等に記載の化合物が挙げられ
る。アミノホスホン酸としては、アミノトリス(メチレ
ンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホス
ホン酸、アミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられる
が、その他上記リサーチ・ディスクロージャー1817
0号、特開昭57−208554号、同54−6112
5号、同55−29883号及び同56−97347号
等に記載の化合物を挙げることができる。
52−102726号、同53−42730号、同54
−121127号、同55−4024号、同55−40
25号、同55−126241号号、同55−6595
5号、同55−65956号、及び前述のリサーチ・デ
ィスクロージャー18170号等に記載の化合物を挙げ
ることができる。これらのキレート剤はアルカリ金属塩
やアンモニウム塩の形で使用してもよい。これらキレー
ト剤の添加量としては、現像液1リットル当り好ましく
は、1×10-4〜1×10-1モル、より好ましくは1×
10-3〜1×10-2モルである。
開昭56−24347号、特公昭56−46585号、
特公昭62−2849号、特開平4−362942号記
載の化合物を用いることができる。また、現像ムラ防止
剤として特開昭62−212651号記載の化合物、溶
解助剤として特開昭61−267759号記載の化合物
を用いることができる。さらに必要に応じて色調剤、界
面活性剤、消泡剤、硬膜剤を含んでもよい。
処理時間との関係において決定されるが、一般に現像温
度は約20℃〜約50℃、好ましくは25〜45℃、現
像時間は5秒〜2分、好ましくは7秒/1分30秒であ
る。
充液の双方が、「該液1リットルに0.1モルの水酸化
ナトリウムを加えたときのpH上昇が0.25以下」の
性質を有することが好ましい。使用する現像開始液ない
し現像補充液がこの性質を有することを確かめる方法と
しては、試験する現像開始液ないし現像補充液のpHを
10.0に合わせ、ついでこの液1リットルに水酸化ナ
トリウムを0.1モル添加し、この時の液のpH値を測
定し、pH値の上昇が0.25以下であれば上記に規定
した性質を有すると判定する。本発明では特に、上記試
験を行った時のpH値の上昇が0.2以下である現像開
始液及び現像補充液を用いることが好ましい。
与える方法としては、緩衝剤を使用するのが好ましい。
緩衝剤としては、炭酸塩、特開昭62−186259号
に記載のホウ酸、特開昭60−93433号に記載の糖
類(例えばサッカロース)、オキシム類(例えばアセト
オキシム)、フェノール類(例えば5−スルホサリチル
酸)、第3リン酸塩(例えばナトリウム塩、カリウム
塩)などが用いられ、好ましくは炭酸塩、ホウ酸が用い
られる。緩衝剤、特に炭酸塩の使用量は、好ましくは、
0.5モル/リットル以上、特に0.5〜1.5モル/
リットルである。
通常の水溶性無機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム)を用いることができる。
8.5〜12.0であることが好ましく、特に好ましく
は8.5〜11.0の範囲である。現像補充液のpHお
よび連続処理時の現像タンク内の現像液のpHもこの範
囲である。pHの設定のために用いるアルカリ剤には通
常の水溶性無機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム)
を用いることができる。
を処理する際に、現像液の補充液量は225ミリリットル以
下、好ましくは225〜30ミリリットル、特に180〜50
ミリリットルである。現像補充液は、現像開始液と同一の組成
を有していてもよいし、現像で消費される成分について
開始液よりも高い濃度を有していてもよい。
スペース等の目的で、処理液を濃縮化し、使用時に希釈
して用いるようにすることは好ましいことである。現像
液の濃縮化のためには、現像液に含まれる塩成分をカリ
ウム塩化することが有効である。
オ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、必要により
酒石酸、クエン酸、グルコン酸、ホウ酸、イミノジ酢
酸、5−スルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、タイロ
ン、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五
酢酸、ニトリロ三酢酸これらの塩を含む水溶液である。
近年の環境保護の観点からは、ホウ酸は含まれない方が
好ましい。本発明に用いられる定着液の定着剤としては
チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムなどであ
り、定着速度の点からはチオ硫酸アンモニウムが好まし
いが、近年の環境保護の観点からチオ硫酸ナトリウムが
使われても良い。これら既知の定着剤の使用量は適宜変
えることができ、一般には約0.1〜約2モル/リット
ルである。特に好ましくは0.2〜1.5モル/リット
ルである。定着液には所望により、硬膜剤(例えば水溶
性アルミニウム化合物)、保恒剤(例えば、亜硫酸塩、
重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸)、pH調整
剤(例えば、アンモニア、硫酸)、キレート剤、界面活
性剤、湿潤剤、定着促進剤を含むことができる。界面活
性剤としては、例えば硫酸化物、スルフォン化物などの
アニオン界面活性剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開
昭57−6740号公報記載の両性界面活性剤などが挙
げられる。また、公知の消泡剤を添加してもよい。湿潤
剤としては、例えばアルカノールアミン、アルキレング
リコールなどが挙げられる。定着促進剤としては、例え
ば特公昭45−35754号、同58−122535
号、同58−122536号各公報記載のチオ尿素誘導
体、分子内に3重結合を持つアルコール、米国特許第
4,126,459号記載のチオエーテル化合物、特開
平4−229860号記載のメソイオン化合物などが挙
げられ、また特開平2−44355号記載の化合物を用
いてもよい。また、pH緩衝剤としては、例えば酢酸、
リンゴ酸、こはく酸、酒石酸、クエン酸、シュウ酸、マ
レイン酸、グリコール酸、アジピン酸などの有機酸、ホ
ウ酸、リン酸塩、亜硫酸塩などの無機緩衝剤が使用でき
る。好ましいものとして酢酸、酒石酸、亜硫酸塩が用い
られる。ここでpH緩衝剤は、現像液の持ち込みによる
定着液のpH上昇を防ぐ目的で使用され、0.01〜
1.0モル/リットル、より好ましくは0.02〜0.
6モル/リットル程度用いる。また、色素溶出促進剤と
して、特開昭64−4739号記載の化合物を用いるこ
ともできる。
性アルミニウム塩、クロム塩がある。好ましい化合物は
水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。好まし
い添加量は0.01モル〜0.2モル/リットル、さら
に好ましくは0.03〜0.08モル/リットルであ
る。定着温度は、約20℃〜約50℃、好ましくは25
〜45℃で、定着時間は5秒〜1分、好ましくは7秒〜
50秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に
対して500ml/m2以下であり、特に200ml/m2以下
が好ましい。
で水洗または安定化処理される。水洗または安定化処理
は、水洗水量は通常ハロゲン化銀感光材料1m2当り、2
0リットル以下で行われ、3リットル以下の補充量(0
も含む、すなわちため水水洗)で行うこともできる。す
なわち、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置
の配管を不要とすることができる。水洗水の補充量を少
なくする方法として、古くより多段向流方式(例えば2
段、3段など)が知られている。この多段向流方式を本
発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に正常な方
向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触
して処理されていくので、さらに効率の良い水洗がなさ
れる。水洗を少量の水で行う場合は、特開昭63−18
350号、同62−28725号などに記載のスクイズ
ローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設けるこ
とがより好ましい。あるいは、また、少量水洗時に問題
となる公害負荷低減のために種々の酸化剤添加やフィル
ター濾過を組み合わせてもよい。更に、本発明の方法で
水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応じ
て補充することによって生ずる水洗又は安定化浴からお
オーバーフロー液の一部又は全部は特開昭60−235
133号に記載されているようにその前の処理工程であ
る定着能を有する処理液に利用することもできる。ま
た、少量水洗時に発生し易い水泡ムラ防止および/また
はスクイズローラーに付着する処理剤成分が処理された
フィルムに転写することを防止するために水溶性界面活
性剤や消泡剤を添加してもよい。また、感光材料から溶
出した染料による汚染防止に、特開昭63−16345
6号記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよい。ま
た、前記水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、
その例として特開平2−201357号、同2−132
435号、同1−102553号、特開昭46−444
46号に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴
として使用してもよい。この安定浴にも必要に応じてア
ンモニウム化合物、Bi、Alなどの金属化合物、蛍光
増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜剤、殺菌
剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加え
ることもできる。水洗工程もしくは安定化工程に用いら
れる水としては水道水のほか脱イオン処理した水やハロ
ゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤(オゾン、過酸化水
素、塩素酸塩など)等によって殺菌された水を使用する
ことが好ましいし、また、特開平4−39652号、特
開平5−241309号記載の化合物を含む水洗水を使
用してもよい。水洗または安定浴温度及び時間は0〜5
0℃、5秒〜2分が好ましい。
73147号に記載された酸素透過性の低い包材で保管
することか好ましい。本発明に用いられる処理液は粉剤
および固形化しても良い。その方法は、公知のものを用
いることができるが、特開昭61−259921号、特
開平4−85533号、特開平4−16841号記載の
方法を使用することが好ましい。特に好ましくは特開昭
61−259921号記載の方法である。補充量を低減
する場合には処理槽の空気との接触面積を小さくするこ
とによって液の蒸発、空気酸化を防止することが好まし
い。ローラー搬送型の自動現像機については米国特許第
3,025,779号明細書、同第3,545,971
号明細書などに記載されており、本明細書においては単
にローラー搬送型プロセッサーとして言及する。ローラ
ー搬送型プロセッサーは現像、定着、水洗及び乾燥の四
工程からなっており、本発明の方法も、他の工程(例え
ば、停止工程)を除外しないが、この四工程を踏襲する
のが最も好ましい。水洗工程の代わりに安定工程による
四工程でも構わない。
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
(花王(株))の25%水溶液を調整した。次に、表9
に示すヒドラジン化合物1gに対し、上記デモールSN
B水溶液1.2gと水59gを加えて混合し、スラリー
とした。このスラリーを、分散機(1/16ガロン、サ
ンドグラインダーミル(アイメックス(株)製)に入
れ、メディアとして直径0.8〜1.2mmのガラスビー
ズ170gを用い、15時間分散した。次にヒドラジン
化合物濃度1%、ゼラチン濃度5%になるようにゼラチ
ン水溶液を加えて混合し、防黴剤としてプロキセルをゼ
ラチンに対して2000ppm 添加した。最後にアスコル
ビン酸を加えpHを5.0に調整した。本発明のヒドラ
ジン化合物の比較例として、下記のヒドラジン化合物を
使用した。
モルあたり3.5×10-7モルに相当するK3IrCl6 と
2.0×10-7モルに相当するK2Rh(H2O)Cl5を含むハロ
ゲン塩水溶液、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル−
2−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液
に、攪拌しながらダブルジェット法により添加し、平均
粒子サイズ0.25μm 、塩化銀含有率70モル%の塩
臭化銀粒子を調製した。
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた後、p
H6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当たり2mg
のチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸を加えて6
0℃で最適感度になるように化学増感した。その後、安
定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデン150mgを加え、さらに防腐
剤としてプロキセル100mgを加えた。得られた粒子は
それぞれ平均粒子サイズ0.25μm 、塩化銀含有率7
0モル%の塩臭化銀立方体であった。(変動係数10
%)
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、UL層、EM層、PC層、OC層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。以下に各層の調製法およ
び塗布量を示す。
対し30wt%のポリエチルアクリレートの分散物を添加
し、ゼラチン0.5g/m2になるように塗布した。
下記化合物(S−1)を銀1モルあたり5×10-4モ
ル、(S−2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モル
あたり3×10-4モルの下記(a)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(b)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(c)で示されるトリアジ
ン化合物、2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキ
シキノリン、5×10-4モルの(A)で示される造核促
進剤、5×10-4モルの(p)で示される界面活性剤を
添加した。さらに、ハイドロキノンを100mg/m2、N
−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg
/m2塗布されるように添加した。次に造核剤として実施
例1で調整したヒドラジン化合物の固体分散物を、ある
いはヒドラジン化合物のメタノール溶液をヒドラジン化
合物として5×10-4mol/Agmol 、表10に示すように
添加した。さらに、(d)で示される水溶性ラテックス
を200mg/m2、ポリエチルアクリレートの分散物を2
00mg/m2、メチルアクリレートと2−アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩と2−ア
セトアセトキシエチルメタクリレートのラテックス共重
合体(重量比88:5:7)を200mg/m2、平均粒径
0.02μm のコロイダルシリカを200mg/m2、さら
に硬膜剤として1,3−ジビニルスルホニル−2−プロ
パノールを200mg/m2、増粘剤としてポリスチレンス
ルホン酸ナトリウムを30mg/m2加えた。溶液のpHは
酢酸を用いて5.65に調製した。それらを塗布銀量
2.6g/m2になるように塗布した。
して50wt%のエチルアクリレートの分散物および、下
記界面活性剤(w)を5mg/m2、1,5−ジヒドロキシ
−2−ベンズアルドキシムを10mg/m2塗布されるよう
に添加し、ゼラチン0.5g/m2になるように塗布し
た。
子サイズ約3.5μm の不定形なSiO2マット剤40mg/
m2、メタノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミ
ド100mg/m2とシリコーンオイル20mg/m2および塗
布助剤として下記構造式(e)で示されるフッ素界面活
性剤5mg/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
100mg/m2を塗布した。
よびバック保護層を有する。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2
整した。
9.4に合わせた現像液B、現像液Aに水酸化ナトリウ
ムを添加してpHを10.0に合わせた現像液Cを調整
した。
介し、ステップウェッジを通して発光時間10-5sec の
キセノンフラッシュ光で露光し、現像液A、B、Cを用
いて富士写真フイルム社製FG−680AG自動現像機
で、35℃、20秒間現像した後、定着、水洗、乾燥処
理を行った。なお処理時の現像液、定着液の補充液量は
試料1m2あたり、それぞれ100mlとした。
た。画像のコントラストを示す指標(ガンマ)として
は、特性曲線の fog+濃度0.1の点から fog+濃度
3.0の点を直線で結び、この直線の傾きをガンマ値と
して表した。すなわち、ガンマ=(3.0−0.1)/
〔log(濃度3.0を与える露光量)−(濃度0.1を与
える露光量)〕であり、ガンマ値は大きいほど硬調な写
真特性であることを示している。 (3) 写真感度 感度は濃度1.5を与える露光量の逆数をもって表し、
比較試料を100とした場合の各試料の感度の相対値を
算出しS1.5 とした。値が大きいほど高感度である。 (4) 写真性の現像液pH依存性 現像液B、Cで現像した時の感度値を用いて、次式で感
度の現像液pH依存性を算出した。 感度のpH依存性(△S1.5 )=S1.5 (現像液C)−
S1.5 (現像液B) 値が小さいほど、現像液pH依存性が小さい、すなわち
処理安定性が高いことを示す。 (5) 乳剤層(EM層)塗布液の経時安定性 乳剤層(EM層)塗布液の経時安定性を評価するため、
乳剤層塗布液を調整後直ちに塗布した感材と、乳剤層塗
布液を調整後40℃で10時間経時した後に塗布した感
材を同一処方で作成し、感度を測定した。感度変動を次
式で表した。 経時による感度変動(△S1.5 )=S1.5 (40℃10
時間経時乳剤を用いた感材)−S1.5 (調整直後の乳剤
を用いた感材) 値が大きいほど、増感幅が大きいことを示す。結果を表
11に示す。
剤として用いた場合のみ、低pHの現像液で超硬調で処
理安定性が高く、かつ塗布液の経時安定性に優れたアル
ゴンレーザー用スキャナー感材を得ることができた。
下記構造式のセレン増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウム
および4mgの塩化金酸を加えて60℃で最適感度になる
ように化学増感すること以外は乳剤Aと同様に調整し
た。
(S−3)を銀1モルあたり2.1×10-4モル添加す
ること、EM層の乳剤として乳剤Bを使用したこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
介し、ステップウェッジを通して発光時間10-6sec の
キセノンフラッシュ光で露光した。実施例2に記載の現
像液A、B、Cを用いて富士写真フイルム社製FG−6
80AG自動現像機で35℃、20秒間現像をした後、
定着(実施例2と同じ)、水洗、乾燥処理を行った。な
お処理時の現像液、定着液の補充液量は試料1m2あた
り、それぞれ100mlとした。
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
ラジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの
現像液で超硬調で処理安定性が高く、かつ塗布液の経時
安定性に優れたヘリウムネオンレーザースキャナー用感
材を得ることができた。
の増感色素を下記の化合物(S−4)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
持つ干渉フィルターを介し、ステップウェッジを通して
発光時間10-6sec のキセノンフラッシュ光で露光し
た。実施例2に記載の現像液A、B、Cを用いて富士写
真フイルム社製FG−680AG自動現像機で35℃、
20秒間現像をした後、定着(実施例2と同じ)、水
洗、乾燥処理を行った。なお処理時の現像液、定着液の
補充液量は試料1m2あたり、それぞれ100mlとした。
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
ジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの現
像液で超硬調で処理安定性が高く、かつ塗布液の経時安
定性に優れた半導体レーザースキャナー用感材を得るこ
とができた。
の増感色素を下記の化合物(S−5)に変えたこと以外
は実施例2と同様にして試料を作成した。
通して3200°Kのタングステン光で露光した。実施
例2に記載の現像液A、B、Cを用いて富士写真フイル
ム社製FG−680AG自動現像機で35℃、20秒間
現像をした後、定着(実施例2と同じ)、水洗、乾燥処
理を行った。なお処理時の現像液、定着液の補充液量は
試料1m2あたり、それぞれ100mlとした。
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
ラジン化合物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの
現像液で超硬調で処理安定性が高く、かつ塗布液の経時
安定性に優れた撮影感材を得ることができた。
10-5モルのベンゼンチオスルホン酸ナトリウム、5×
10-3モルの4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを含むpH=2.0の1.5
%ゼラチン水溶液中に、硝酸銀と銀1モル当り5×10
-5モルのK2Ru(NO)Cl5 を含む塩化ナトリウム水溶液をダ
ブルジェット法により電位95mVにおいて3分30秒間
で最終粒子の銀量の半分を同時添加し、芯部の粒子0.
12μm を調製した。その後、硝酸銀水溶液と銀1モル
当り5×10-5モルのK2Ru(NO)Cl5 を含む塩化ナトリウ
ム水溶液を前述と同様に7分間で添加し、平均粒子サイ
ズ0.13μm の塩化銀立方体粒子を調製した。(変動
係数12%)。その後、当業界でよく知られたフロキュ
レーション法により水洗し、可溶性塩を除去したのちゼ
ラチンを加え、防腐剤として化合物−Fとフェノキシエ
タノールを銀1モル当たり各60mg加えた後、pH5.
5、pAg=7.5に調整し、さらに銀1モル当たり、
4×10-5モルの塩化金酸、1×10-5モルのセレン化
合物SE及び1×10-5モルのチオ硫酸ナトリウムを加
え、60℃で60分間加熱し、化学増感を施した後、安
定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり1×10-3
モル添加した(最終粒子として、pH=5.7、pAg
=7.5、Ru=5×10-5モル/Agモルを含有する塩
化銀となった)。
塗層を含む後述の支持体上にゼラチン塗布量が0.9/
m2、塗布銀量が2.75g/m2となる様にハロゲン化銀
乳剤層を塗布した。 N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩 19mg/m2 表12に示す、実施例1と同様の方法で調整したヒドラジン化合物の固体分散 物あるいはヒドラジン化合物のメタノール溶液 15mg/m2(ヒドラジン化合物として) 造核促進際Z 20mg/m2 3−(5−メルカプトテトラゾール)−ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 11mg/m2 化合物A 13mg/m2 アスコルビン酸 1mg/m2 化合物B 15mg/m2 化合物C 70mg/m2 酢酸 膜面pHが5.2〜6.0になる量 化合物D 950mg/m2 リボラン−1400(ライオン油脂製) 47mg/m2 化合物E(硬膜剤) 水での膨潤率が80%になる量
層を塗布した。
合物を添加し、ゼラチン塗布量が0.8g/m2となる様
に塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.8g/m2 化合物F 1mg/m2 1,5−ジヒドロキシ−2−ベンズアルドキシム 14mg/m2 C2H5SO2SNa 3mg/m2 化合物C 3mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 7mg/m2
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.45g/m2となる様に塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.45g/m2 不定形シリカマット剤(平均粒径4.4μm ) 40mg/m2 不定形シリカマット剤(平均粒径3.6μm ) 10mg/m2 化合物F 1mg/m2 化合物C 8mg/m2 固体分散染料−G1 68mg/m2 流動パラフィン 21mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 5mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 29mg/m2
す導電層及びバック層を同時塗布した。
添加し、ゼラチン塗布量が0.06g/m2となる様に塗
布した。 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μm ) 186mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量2700ppm) 0.06g/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 13mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 12mg/m2 化合物C 12mg/m2 化合物F 1mg/m2
を添加し、ゼラチン塗布量が1.94g/m2となるよう
に塗布した。 ゼラチン(Ca++含有量30ppm) 1.94g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.7μ) 7mg/m2 化合物H 233mg/m2 化合物I 21mg/m2 化合物G 146mg/m2 化合物F 3mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 68mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 21mg/m2 C8F17SO3Li 4mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 6mg/m2 硫酸ナトリウム 177mg/m2 化合物−E(硬膜剤) 水での膨潤率が90%になる量
レンテレフタレート支持体(厚味100μm )の両面の
下記組成の下塗層第1層及び第2層を塗布した。 (下塗層第1層) コア−シェル型塩化ビニリデン共重合体 15g 2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μ) 0.05g コロイダルシリカ(スノーテックスZL:粒径70〜100μm 、 日産化学(株)製) 0.12g 水を加えて 100g さらに、10重量%KOHを加え、pH=6に調整した
塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.9
μになる様に塗布した。
0.1μになる様に塗布し、下塗層付の支持体を作製し
た。
行った。 <塗布方法>上記下塗層を施した支持体上に、まず乳剤
面側として支持体に近い側より乳剤層、乳剤保護下層、
乳剤保護上層の順に、35℃に保ちながらスライドホッ
パー方式により硬膜剤液を加えながら同時重層塗布し、
冷風セットゾーン(5℃)を通過させた後、乳剤面とは
反対側に支持体に近い側より導電層、バック層の順に、
同様にスライドホッパー方式により硬膜剤液を加えなが
ら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)した。各
々のセットゾーンを通過した時点では、塗布液は充分な
セット性を示した。引き続き乾燥ゾーンにて両面を同時
に下記乾燥条件にて乾燥した。なお、バック面側を塗布
した後、巻き取りまではローラー、その他には一切無接
触の状態で搬送した。この時の塗布速度は120m/mi
n であった。
量比が800%となるまで30℃の乾燥風で乾燥し、8
00〜200%を35℃30%の乾燥風で乾燥させ、そ
のまま風を当て、表面温度34℃となった時点(乾燥終
了と見なす)より30秒後に、48℃2%の空気で1分
乾燥した。この時、乾燥時間は乾燥開始〜水/ゼラチン
比800%までが50秒、800〜200%までが35
秒、200%〜乾燥終了までが5秒である。
で同環境下で裁断し、6時間調湿したバリアー袋に、4
0℃10%で8時間調湿した後、23℃40%で2時間
調湿してある厚紙と共に密閉し、試料を作成した。バリ
アー袋内の湿度を測定したところ40%であった。
製した。
通して大日本スクリーン社製p−627FMプリンター
で露光した。実施例2に記載の現像液A、B、Cを用い
て富士写真フイルム社製FG−680AG自動現像機で
35℃、20秒間現像をした後、定着(実施例2と同
じ)、水洗、乾燥処理を行った。なお処理時の現像液、
定着液の補充液量は試料1m2あたり、それぞれ100ml
とした。
経時安定性の評価を実施例2と同様に行った。
剤として用いた場合のみ、低pHの現像液で超硬調で処
理安定性が高く、かつ塗布液の経時安定性に優れた明室
返し感材を得ることができた。
下記組成の現像液Dあるいは現像液Eを用い、また定着
液Aにかえて下記組成の定着液Bを用いても、実施例
2、3、4、5、6と同様に、本発明のヒドラジン化合
物を造核剤として用いた場合のみ、低pHの現像液で超
硬調で処理安定性が高く、かつ塗布液の経時安定性に優
れた感材を得ることができた。但し、その効果は現像液
Aを用いた時より小さかった。尚、写真性の現像液pH
依存性を調べるためには、各現像液について、酢酸でp
Hを0.3下げた液、水酸化ナトリウムでpHを0.3
上げた液を用いた。
のものを水を加えて1リットルになる様にして、使用液
とした。
のままで使用し、アルカリ金属塩のビーズは市販品を用
いた。原料形態がブリケットであるものは、ブリケッテ
ィングマシンを用いて加圧圧縮し、不定形の長さ4〜6
mm程度のラグビーボール型の形状を作成し、破砕して用
いた。少量成分に関しては、各成分をブレンドしてから
ブリケットにした。
えて10リットルとなる様にして使用液とした。定着液
は、下記処方を固形剤部分と液剤部分共に高密度ポリエ
チレン製(肉厚平均=500μm 、巾としては200〜
1000μm )の容器に充填したものを用いた。溶解後
の液量が10リットルとし、pH=4.85であった。
Claims (5)
- 【請求項1】 支持体上に、少なくとも一層の感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料に
おいて、該ハロゲン化銀乳剤層もしくは他の親水性コロ
イド層の少なくとも一層に、少なくとも一種の一般式
(NB)で表されるヒドラジン誘導体を固体微粒子分散
状態で含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料。 一般式(NB) 【化1】 式中Aは連結基を表し、Bは以下の一般式(B−1)で
表される基を表し、mは2から6の整数を表す。 一般式(B−1) 【化2】 式中Ar1 、Ar2 は芳香族基または芳香族ヘテロ環基
を表し、L1 、L2 は連結基を表し、nは0または1を
表す。R1 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテ
ロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基ま
たはヒドラジノ基を表し、G1 は−CO−基、−SO2 −
基、−SO−基、 【化3】 −CO−CO−基、チオカルボニル基、またはイミノメチレ
ン基を表す。R2 はR1に定義した基と同じ範囲内より
選ばれ、R1 と異なっていてもよい。 - 【請求項2】 請求項1に記載のハロゲン化銀写真感光
材料において、該ハロゲン化銀乳剤が、塩化銀含有率5
0モル%以上であることを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料。 - 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載のハロゲン
化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤が化学
増感されていることを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料。 - 【請求項4】 請求項1、請求項2又は請求項3に記載
のハロゲン化銀写真感光材料を、画像露光後、pH9.
0以上11.0未満の現像液を用いて現像処理すること
を特徴とする、ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方
法。 - 【請求項5】 請求項1、請求項2又は請求項3に記載
のハロゲン化銀写真感光材料を、画像露光後、現像液を
補充しながら現像する方法において、該現像液が実質的
にジヒドロキシベンゼン系現像主薬を含有せず、一般式
(1)で表される現像主薬を含有する現像液で現像処理
することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の現像
処理方法。 一般式(1) 【化4】 式中、R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ基、アミノ基、
アシルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリー
ルスルホニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ
基、メルカプト基、アルキルチオ基を表す。P、Qはヒ
ドロキシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、
カルボキシアルキル基、スルホ基、スルホアルキル基、
アミノ基、アミノアルキル基、アルキル基、アルコキシ
基、メルカプト基を表すほか、または、PとQは互いに
結合して、R1 、R2 が置換している二つのビニル炭素
原子とYが置換している炭素原子と共に5〜7員環を形
成する原子群を表す。Yは=0、または=N−R3 を表
す。R3 は水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、ア
シル基、ヒドロキシアルキル基、スルホアルキル基、カ
ルボキシアルキル基を表す。
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|---|---|---|---|
| JP15741096A JP3836910B2 (ja) | 1996-01-19 | 1996-05-30 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
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| JP8-24881 | 1996-01-19 | ||
| JP15741096A JP3836910B2 (ja) | 1996-01-19 | 1996-05-30 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
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| JP15741096A Expired - Fee Related JP3836910B2 (ja) | 1996-01-19 | 1996-05-30 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3836910B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1061415A1 (de) * | 1999-06-19 | 2000-12-20 | Agfa-Gevaert naamloze vennootschap | Schwarz-Weiss-Entwickler |
| WO2002020464A3 (en) * | 2000-09-07 | 2002-06-20 | Telik Inc | Benzene tricarboxylic acid amides as insulin receptor activators |
-
1996
- 1996-05-30 JP JP15741096A patent/JP3836910B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1061415A1 (de) * | 1999-06-19 | 2000-12-20 | Agfa-Gevaert naamloze vennootschap | Schwarz-Weiss-Entwickler |
| WO2002020464A3 (en) * | 2000-09-07 | 2002-06-20 | Telik Inc | Benzene tricarboxylic acid amides as insulin receptor activators |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3836910B2 (ja) | 2006-10-25 |
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